【課題】 複数のミラー要素を経た光の過度な集光により光学部材が損傷を受けるのを確実に回避することのできる空間光変調ユニット。
【解決手段】 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調ユニット（３）は、所定面内に配列されて個別に制御される複数のミラー要素（３０ａ；ＳＥａ〜ＳＥｄ）を有し、該複数のミラー要素の反射面が凹面状（凸面状）に形成された空間光変調器（３０）と、入射した光束を発散光束（または収束光束）に変換して空間光変調器へ導く光束変換素子（３１）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】エレメント（光学素子）の汚染に起因する露光精度の劣化を防止でき、液浸領域の巨大化を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬと液体とを介して基板Ｐを露光する。投影光学系ＰＬは、その像面に最も近い第１光学素子ＬＳ１と、第１光学素子ＬＳ１に次いで像面に近い第２光学素子ＬＳ２とを有している。第１光学素子ＬＳ１は、基板Ｐの表面と対向するように配置された下面Ｔ１と、第２光学素子ＬＳ２と対向するように配置された上面Ｔ２とを有している。そして、上面Ｔ２のうち露光光ＥＬが通過する領域ＡＲ’を含む一部の領域のみが液浸領域となるように第１光学素子ＬＳ１の上面Ｔ２と第２光学素子ＬＳ２との間が第２液体ＬＱ２で満たされ、第１光学素子ＬＳ１の下面Ｔ１側の第１液体ＬＱ１と上面Ｔ２側の第２液体ＬＱ２とを介して基板Ｐ上に露光光ＥＬを照射することで基板Ｐが露光される。 （もっと読む）

【課題】コールドミラーである反射鏡を液体で効率よく冷却する手段を、簡便な構造により実現し、小型で安価な構成とすること
【解決手段】長尺なランプと、該ランプに沿って長手方向に配置される反射鏡を備え、該反射鏡の内面に紫外線を反射し赤外線を透過する反射膜を有する紫外線照射装置において、前記反射鏡の外面に近接して配置されるとともにこれを保持する反射鏡冷却保持体を備え、該反射鏡冷却保持体は内部に冷却液体が流通する流路を複数備え、該流路は該反射鏡冷却保持体の長手方向の両端部に開口を有し、該端部は蓋部材によって密閉されてなり、該蓋部材の内側に、溝状の折り返し流路部が形成されるとともに、一の流路と他の流路が折り返し流路部を介して空間的に連結されていること。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ集光能力を強化したＥＵＶ集光器システムを提供する。
【解決手段】極端紫外光（ＥＵＶ）の集光器システムは、集光器ミラーと、照明器の孔部材に隣接して配置される放射線集光強化装置（ＲＣＥＤ）１００とを備える。集光器ミラーは、ＥＵＶ光源からのＥＵＶを孔部材２２に導く。ＲＣＥＤ１００は、通常は孔部材の孔２４を通過しないか最適な角度分布を有しないＥＵＶの一部の進行方向を変える。これにより、ＥＵＶの一部は孔２４を通過し、照明器の入力仕様に好適に改善された角度分布を有する。したがって、集光器ミラー単体で得られる利用可能なＥＵＶ量よりも多くのＥＵＶ量が照明器に供給され、ＲＣＥＤ１００を有する集光器システムを利用したＥＵＶリソグラフィシステムの動作が向上する。 （もっと読む）

【課題】材料歩留まりの高いプリント配線板の製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】対となる所定位置にマスク側マーク２１が設けられたフォトマスク２０を保持するフォトマスク保持機構１２０と、主面に沿うＸＹ座標上の位置が一対の第１所定位置と共通する一対の第２所定位置に基材側マーク１１が予め形成された基材１０を保持する基材保持機構１１０と、露光処理を行うために、基材１０をフォトマスク２０に対向させたときのマスク側マーク２１と基材側マーク１１間のずれ量とマスク側マーク間２１の距離とに基づいて基材１０の伸縮指標である基材側マーク１１間の距離を算出し、この基材側マーク１１間の距離に応じたフォトマスク２０を選択するフォトマスク選択装置６０と、選択されたフォトマスク２０を用いて露光処理を行う照光装置１４０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】計測装置のうち光学系の像面側に配置する部分の構成を簡素化して、光学系の光学特性を計測する。
【解決手段】特性計測装置２０において、投影光学系ＰＬの物体面及び像面側に配置されるＬ＆Ｓパターン２１Ａ及びＬ＆Ｓパターン２３Ａと、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａ及び投影光学系ＰＬを介してＬ＆Ｓパターン２３Ａを照明する照明光学系ＩＬＳと、Ｌ＆Ｓパターン２３Ａからの反射光を投影光学系ＰＬ及びＬ＆Ｓパターン２１Ａを介して受光する受光系３０と、を備え、Ｌ＆Ｓパターン２１Ａの像とＬ＆Ｓパターン２３Ａとを相対移動したときに受光系３０から得られる検出信号に基づいて投影光学系ＰＬの結像特性を求める。 （もっと読む）

【課題】大型の無地の基板にパターンを精度良く且つ低コストで露光する。
【解決手段】基板を一定方向に移動しながら、前記基板上のパターン形成領域にフォトマスクを介して予め定められたパターンを順次露光する露光方法であって、前記基板上に前記パターンを露光する一方、基板移動方向と交差方向の前記パターン形成領域外にレーザ光を照射し、前記基板面に一定形状の傷を付けてアライメントマークを形成する段階と、前記基板移動方向後方位置で予め定められた基準位置に対する前記アライメントマークの基板移動方向と交差方向への位置ずれを検出する段階と、前記位置ずれを補正するように前記基板及び前記フォトマスクを相対移動する段階と、前記パターンの後続位置に次のパターンを露光する段階と、を実行するものである。 （もっと読む）

【課題】 所望の瞳強度分布を正確に形成することのできる空間光変調ユニット。
【解決手段】 光源からの光により被照射面を照明する照明光学系に用いられる空間光変調ユニット（３）は、二次元的に配列されて個別に制御される複数のミラー要素（３１ａ，３２ａ）を有する空間光変調装置（３１，３２）と、複数のミラー要素の配列面の向きを変化させる変更装置とを備えている。変更装置は、複数のミラー要素の基盤を保持して傾斜可能なステージ（３３，３４）を有する。 （もっと読む）

【課題】内部導体パターンを精度よく形成することのできる多層構造の電子部品の製造装置及び製造方法を得る。
【解決手段】ステージ１０上に保持されたマザー基板１にマスクを掛け、マザー基板１上に設けた感光性ペーストを該マスクを介して露光する電子部品の製造装置。この製造装置は、吸引ポンプ１３を動作させることでマザー基板１を気密に保持する縁部を有する開口部１１を形成したステージ１０と、開口部１１に負圧又は正圧を作用させる内圧調整ポンプ１５と、ステージ１０に保持されたマザー基板１に対して開口部１１側から押上げ力を作用させる押上げ手段２０と、を備えている。開口部１１に負圧又は正圧を作用させること、及び、押上げ手段２０にてマザー基板１を押し上げることにより、マザー基板１の反りを矯正する。 （もっと読む）

【課題】露光光の光路空間に満たされた液体の流出を抑え、露光精度及び計測精度を維持できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、露光光ＥＬの光路空間Ｋ１に対して所定位置に設けられ、液体ＬＱを回収する回収口２２と、光路空間Ｋ１に対して回収口２２の外側に設けられ、気体を吹き出す第１吹出口３２と、光路空間Ｋ１に対して第１吹出口３２の外側に設けられ、気体を吹き出す第２吹出口５２とを備えている。 （もっと読む）