【課題】投影露光装置において、広い露光エリアを確保しながら、高精度のパターンを形成する。
【解決手段】投影露光装置の投影光学系３０において、第１レンズ群３２、第２レンズ群３４、第３レンズ群３６、第４レンズ群３８を備え、第１レンズ群３２と第２、３レンズ群３４、３６との間に、偏光ビームスプリッタ４０を配置する。そして、マスクＰＭの光軸上点からのマージナル光線ＭＬ１、ＭＬ２が偏光ビームスプリッタ４０の入射面に対し垂直入射するように、第１レンズ群３２の光学特性が定められている。 （もっと読む）

【課題】 投影光学系の結像特性の変動量をより正確に求める。
【解決手段】 単位露光エネルギー当たりの結像特性の変動量を露光係数として、基板を露光するための露光光が第１波長帯域である場合の投影光学系の光学特性の変動量のデータを用いて第１波長帯域の露光係数を算出し、第２波長帯域の露光係数を第１波長帯域の露光係数を用いて算出し、第２波長帯域の露光係数を用いて第２波長帯域の露光光を用いて基板を露光する場合の投影光学系の結像特性の変動量を算出する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】プレートステージを駆動する、高帯域でロバストな駆動システムを設計する。
【解決手段】 操作量に従って駆動されるプレートステージＰＳＴの位置（第１制御量）Ｘ_１を計測する干渉計１８Ｘが設置されたプレートテーブルＰＴＢが示す共振モードに対して逆相の共振モードを示すキャリッジ３０に、プレートステージＰＳＴの位置（第２制御量）Ｘ_２を計測する干渉計１８Ｘ_１が設置される。干渉計１８Ｘ及び干渉計１８Ｘ_１を用いることにより、プレートステージＰＳＴの駆動する、高帯域でロバストな駆動システムを設計することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】支持する被照射体の数を調節でき、被照射体同士の接触を防止できる光照射装置および光照射方法を提供すること。
【解決手段】光に反応する被照射体ＩＲに光を照射する光照射装置１は、前記被照射体ＩＲを支持する支持手段３と、前記支持手段３に支持された被照射体ＩＲに光を照射する発光手段２とを備え、前記支持手段３は、単数および複数の被照射体ＩＲを選択的に支持可能、かつ当該被照射体ＩＲを移動不能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】フォトマスク６の変形を高精度かつ短時間に測定できるプロキシミティ露光装置を提供する。
【解決手段】透明基板６ｂの一方の表面６ｃに転写パターン６ａが形成されたフォトマスク６と、ガラス基板５とのギャップＧを狭めるギャップ狭小手段と、透明基板６ｂの第１端面６ｅから、転写パターン６ａが形成されていない側の透明基板６ｂの表面６ｄで全反射し、第１端面６ｅとは異なる透明基板６ｂの第２端面６ｆへ達する光路を含むレーザ光線２８の光路の光路長を測定する測長手段２４とを有する。レーザ光線２８は、第１端面６ｅから透明基板６ｂ内に入射し、透明基板６ｂ内を、転写パターン６ａが形成されていない側の透明基板６ｂの表面６ｄに向かって進行する。レーザ光線２８は、透明基板６ｂの内部から、表面６ｄに、臨界角より大きな入射角で入射し、全反射する。 （もっと読む）

【課題】スキャン移動の効率を向上させることができるレチクルアセンブリを備えるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】第１イメージフィールドおよび第２イメージフィールドが基板上の第１ターゲット部分および第２ターゲット部分上に投影されるリソグラフィプロセスにおいて使用されるレチクルアセンブリＭＴであって、第１イメージフィールドと第２イメージフィールドとの距離が第１ターゲット部分と第２ターゲット部分との距離に対応するように、第１イメージフィールドを有する第１レチクルＭＡ１および第２イメージフィールドを有する第２レチクルＭＡ２を保持するように配置される、レチクルアセンブリＭＴである。 （もっと読む）

【課題】洗浄によるパターンの劣化を抑制することができるテンプレート処理方法を提供すること。
【解決手段】実施形態のテンプレート処理方法は、主面を有する基板と、前記主面上に形成され、凹部を含む第１のパターンと、前記第１のパターンとは異なる位置に前記主面上に形成され、凹部を含む第２のパターンとを具備し、かつ、前記第１のパターンは第１の材料を含み、前記第２のパターンは前記第１の材料とは異なる第２の材料を含むテンプレート１を処理する。実施形態のテンプレート処理方法は、前記第１および第２の材料とは異なる第３の材料を含む被覆部材１１で前記第２のパターンを被覆する。次に、被覆部材１１で前記第２のパターンを被覆した状態で、テンプレート１を洗浄する。次に、被覆部材１１を除去して前記第２のパターンを露出させる。 （もっと読む）

【課題】照射位置の各所における照度が均一なライン状光を出射することのできる露光用光源を提供する。
【解決手段】露光用光源を、露光対象物Ｔに向けて一列に並べて配設され、露光用の光を出射する複数のランプユニット１８で構成されたランプアレイ２４と、露光対象物Ｔおよび各ランプユニット１８の間にそれぞれ配設された複数のレンズ２０とで構成する。さらに、レンズ２０で、対応するランプユニット１８から出射された光の内、露光対象物Ｔに向かう光を、ランプユニット１８の光軸Ｌを通りかつランプユニット１８が並べられた方向Ｈ１に平行な中心線ＣＬに向けて屈折させ、中心線ＣＬを中心として露光対象物Ｔにおける照射範囲を狭めるとともに照度を高めることにより、上記課題を解決することができる。 （もっと読む）

【課題】離型力が小さく、発泡による欠陥が少なく、かつ生産性に優れた膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板２上に、重合性モノマーと、光刺激によりガスを発生する感光性ガス発生剤と、を含む光硬化性組成物を塗布して塗布膜（被形状転写層１）を形成する工程と、前記塗布膜にモールド３を接触させる工程と、モールド３を介して前記塗布膜に光を照射して前記塗布膜を硬化させると共に前記塗布膜内にガスを発生させる工程と、前記塗布膜に光を照射した後、前記塗布膜からモールド３を離し、基板２上に所定のパターン形状を有する膜（硬化膜１１）を形成する工程と、を含み、前記塗布膜に光を照射する工程において、前記塗布膜に含まれる重合性モノマーの重合反応の反応速度が、前記塗布膜に含まれる感光性ガス発生剤のガス発生反応の反応速度よりも速いことを特徴とする、膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板面内で細かく設定したエリア毎の露光量を調整し、現像処理後のレジスト残膜の均一性を向上し、配線パターンの線幅及びピッチのばらつきを抑制する。
【解決手段】基板ステージ２上の基板Ｇと原版ステージ３上の原版Ｍとを同期移動させながら前記原版のパターンを前記基板上に露光する露光装置１であって、前記基板ステージの上方に設けられ、前記基板に対し局所的に光を照射する局所露光部２０と、前記局所露光部の発光駆動を制御する制御部４０とを備え、前記局所露光部は、基板幅方向にライン状に配列され、前記基板ステージによって移動される前記基板に対し光照射可能な複数の発光素子Ｌと、前記複数の発光素子のうち、１つまたは複数の発光素子を発光制御単位として選択的に発光駆動可能な発光駆動部２５とを有する。 （もっと読む）