【課題】レジスト層から適正量の溶媒を揮発させて、露光後の正確なレジストパターンを実現するレジスト膜形成装置並びに方法を提供する。
【解決手段】基板を回転させながらレジスト４を滴下して回転延伸させ、基板２にレジスト４が塗布された試料を加熱する。このとき、計量部４２により加熱されている試料の重量を計量する。そして、計量された試料の重量に基づいて、試料に塗布されたレジスト４から一定量の溶媒が揮発するまで加熱を行い基板２上にレジスト層Ｒｎを成膜する工程を実行する。さらに、試料に成膜されたレジスト層Ｒｎ上にさらにレジスト層を成膜する工程を所定回数繰り返し実行し、試料に複数のレジスト層を積層する。 （もっと読む）

【課題】 液晶ディスプレイの配向層の形成装置および配向層の形成方法を提供する。
【解決手段】 光配向装置であって、非偏光を照射する光源、前記非偏光を受け、前記非偏光を偏光に変換する偏光板、および前記偏光を受け、前記偏光を第１光線と第２光線に分割する多層膜分光器を含む露光機、光線をそこに通過させる少なくとも２つの透過部を含み、前記第１光線と前記第２光線が前記２つの透過部をそれぞれ通過するマスク、および前記マスクに対応し、前記２つの透過部を通過する前記第１光線と前記第２光線がそこに照射される光配向領域を含む光配向装置。 （もっと読む）

【課題】改善された検査装置、反射屈折対物系および屈折対物系を提供する。
【解決手段】検査装置５００は、第１ビーム５２２を受け、第１ビーム５２４をウェーハ５０８から反射するべく誘導するように構成された反射屈折対物系５０４と、反射したビームによって作り出された第１の像を検出する第１センサ５１０、第２ビーム５２４をウェーハ５０８から反射するべく誘導するように構成された屈折対物系５０６と、反射したビームによって作り出された第２の像を検出する第２センサ５１２を備える。検査装置５００は、ウェーハから反射されたビームによって作り出された第３の像を検出するように構成される第３センサ５１４も備えることができ、第１および第２の像は、ＣＤ測定に使用され、第３の像は、ＯＶ測定に使用され得る。第２ビームは、約２００ｎｍ〜約４２５ｎｍのスペクトル範囲を、第３ビームは約４２５ｎｍ〜約８５０ｎｍのスペクトル範囲を有する。 （もっと読む）

【課題】レーザ描画装置を用いて被描画基板上の感光性レジストに露光し、所望のパターンをレーザ描画するパターン描画方法において、レーザの消費電力を削減した省エネルギーのパターン描画方法及びパターン描画プログラムを提供する。
【解決手段】レーザ描画装置を用いて複数の被描画基板上の感光性レジストに順次露光し、所望のパターンをレーザ描画するパターン描画方法であって、前記被描画基板にレーザ描画をしていない待機中は、前記レーザ描画装置のレーザの励起電流値を、前記レーザの出力調整が可能な範囲内での許容最低値に下げて消費電力を低減させ、前記被描画基板にレーザ描画をするときに、前記レーザの励起電流値を所定の電流値に立ち上げてから所望のパターンをレーザ描画することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属層の下方に配置されたレジストが、種々の要因によって劣化する。
【解決手段】半導体装置形成方法は、基板上に、第１波長の光で感光する下層レジストおよび第１波長と異なる第２波長の光で感光する上層レジストがこの順序で配された加工対象を準備する段階と、第２波長の光によるフォトリソグラフィを用いて、上層レジストにパターンを形成する段階と、上層レジストのパターンを用いて金属層のパターンを形成する段階と、第１波長の光を金属層のパターンに照射して、近接場光を発生させることにより、金属層のパターンよりも微細なパターンを下層レジストに形成する段階と、下層レジストのパターンを基板上に転写する段階とを備える。 （もっと読む）

【課題】プラズモンが伝播して隣接する開口のプラズモンに影響を及ぼす。
【解決手段】半導体装置形成方法は、半導体装置を形成する基板上にレジストが配された加工対象を準備する準備段階と、前記レジスト上に、露光の波長よりも小さい開口を含むパターンを有する、プラズモンを生成するプラズモン発生層、および、前記プラズモン発生層で発生したプラズモンの伝播距離を短くするプラズモン抑制層を形成するパターン形成段階と、前記プラズモン発生層およびプラズモン抑制層のパターンを露光して近接場光を発生させることにより、前記パターンよりも微細なパターンを前記レジストに形成する露光段階と、前記レジストの前記パターンを前記基板上に転写する基板転写段階とを備える。 （もっと読む）

【課題】記録ディスク媒体の原盤パターン露光のための露光システムのコストを抑制する。
【解決手段】原盤に電子線を照射してディスク状記録媒体の原盤パターンを描画する露光装置とその制御装置を含む露光システムにおいて、原盤パターンを描画するための描画データ信号が、複数の波形パターンの組合せからなるものであるとき、制御装置５０に、複数の波形パターンのうち互いに異なる波形パターンを個々の波形データ列として記憶する波形データ記憶部５１、５２と、互いに異なる波形パターンを示す波形データ列により描画データ信号を構成するための波形データ列の出力順序を記憶する出力順記憶部５３、５４とを個別に備え、さらに、波形データ列を出力順序に従って順次、露光装置に送出するデータ処理部５６を備える。 （もっと読む）

【課題】サポート構造体は光学素子ユニットをサポートし、且つ該サポート器具に設置された接触器具を備える。
【解決手段】接触器具の第１の接触面１０９．５を介して第１方向に光学素子ユニット１０８上に生じた保持力を作用し、前記第１の接触面は前記光学素子ユニットの第２の接触面に接触している。接触器具は、第１方向に対して横断方向の第２方向に沿って延在する第１リンク部及び第２リンク部を有する。 （もっと読む）

【課題】１ショット当たりのチップパターン数を増やすと共に、ステップ送りが複雑にならずにレチクルパターン同士が隙間なく互いに嵌まり込んで、高解像度領域を最大限有効に利用することができてスループットの向上を図る。
【解決手段】ステッパ装置１０の円形の有効露光領域２３内に複数のチップパターン２１からなるレチクルパターン２２を収めた露光用レチクル２において、４×４の１６個のチップパターン２１から４角のチップパターンを取った１２個のチップパターン２１を有するか、または別の見方で、２×２の４個のチップパターン２１からなるレチクルパターン２２の４辺の辺全部から上下に突き出たチップパターン２１が２個づつで、左右に突き出たチップパターン２１も２個づつである。 （もっと読む）

【課題】比較的大きな減衰力と同時に振動絶縁を向上させる実用的な減衰システムを提供する。
【解決手段】ペイロードからの静的な力に対処する支持ばねと、ペイロードと振動源との間に並列に配置された独立した能動絶縁ダンパーとを有す能動振動減衰システムにおいて、能動絶縁ダンパーは、ペイロードのマスと切り離された小さな中間マスと、絶縁台座の小さな中間マスへの動的な結合のための受動絶縁要素を含む。小さな中間マスは、ペイロードからの動的な力を減衰できる。さらに能動ダンパーは、一方の表面で小さな中間マスに接続され、他方の表面で振動するベース台座に接続された少なくとも１つのアクチュエータを含む。さらに、運動センサを設け、小さな中間マスの運動の関数としてフィードバック信号を生成してもよい。運動センサが補償／増幅器モジュールおよびアクチュエータとともに、振動を最小化するフィードバック補償ループの一部として機能する。 （もっと読む）