【課題】迅速かつ的確な診断を行うことが可能な極端紫外光発生装置の診断方法を提供する。
【解決手段】極端紫外光の光源部で生成された複数の光パルスの光強度値の時系列データを生成する工程Ｓ２と、時系列データから統計データを生成する工程Ｓ３と、統計データに基づいて光源部の発光状態を評価する工程Ｓ４とを備える。 （もっと読む）

【課題】１単位時間当たりの露光可能なダイの数を最適化するために、新たなドーズ制御方法を提供する。
【解決手段】対応する励起レーザ放射のパルスによってＥＵＶ放射のパルスが燃料材料の励起から生成される変換効率を変化させることによって、リソグラフィ装置のＥＵＶ露光ドーズをパルス毎に制御する。変換効率は、レーザビームと相互作用する燃料材料の割合を変化させることによって、および／または、相互作用の質を変化させることによって、いくつかの異なる方法で変化させることができる。変換効率を変化させるメカニズムは、レーザパルスタイミングを変化させること、プリパルスエネルギーを変化させること、および／または、１つ以上の方向でメインレーザビームを可変的にずらすことに基づくことができる。生成されたＥＵＶ放射の対称を維持する工程を含むことができる。 （もっと読む）

【課題】エレクトロウェッティングを用いて、高い解像度が得られるとともに、各画素を通過する光の位相を制御可能な空間光変調器を提供する。
【解決手段】配列面に入射する照明光ＩＬを変調する空間光変調器２８は、配列面を横切るＺ方向に沿った隔壁部３３ａを有するセル部３４と、セル部３４内にＺ方向に沿って配置された下部電極６０Ａ，６０Ｂ及び上部電極６４Ａ，６４Ｂと、セル部３４内の電極６０Ａ，６０Ｂ及び６４Ａ，６４Ｂ間に保持された液体Ｌｑと、を備え、電極６０Ａ，６０Ｂ及び６４Ａ，６４Ｂに与えられる電圧によって、セル部３４内の液体ＬｑのＺ方向の位置を制御して、セル部３４内で反射される照明光ＩＬの位相を制御する。 （もっと読む）

【課題】スループットの向上を図ることのできる荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。
【解決手段】制御計算機１９は、描画パタンを精度を要求される領域とそうでない領域に弁別し、入力部２０から基準値以上の描画精度を要求されるパターンの面積がパターン全体の面積に占める割合を取得し、この割合が所定値以上であるか否かによって描画条件を決定する。割合が所定値未満である場合、基準値未満の描画精度を要求されるパターンを、基準値以上の描画精度を要求されるパターンより高い電流密度で描画する。割合が所定値以上である場合、全てのパターンを同じ電流密度で描画する。電流密度の変化は、電子ビーム５４を透過させる開口部を備えた電流密度調整用アパーチャ１０１を鉛直方向に移動させることで行う。 （もっと読む）

【課題】高精度に調整可能な露光装置の調整方法を提供することにある。
【解決手段】本発明の露光装置の調整方法は、鏡面部に光散乱部位を有する鏡面部材を有する露光装置の上記鏡面部に対し、レーザー光を照射する工程と、上記鏡面部の上記光散乱部位からの上記レーザー光の散乱光に基づき、上記光散乱部位までの距離を演算する工程と、上記演算工程に基づき上記鏡面部の形状を判定する工程と、上記判定結果に基づき、上記鏡面部の形状を調整する工程と、を有する。かかる方法によれば、鏡面部であっても光散乱により鏡面部の形状認識が可能となり、これに基づき、鏡面部の表面形状を調整することで、露光光の平行度の補正を効果的に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、液体を介して露光光ＥＬで基板を露光する。露光装置ＥＸは、露光光が射出される射出面９を有し、射出面９側に液体の液浸空間が形成される光学部材と、計測光が照射される導電性の第１膜２３を有する計測部材Ｃと、光学部材の周囲の少なくとも一部において計測部材Ｃが対向可能に配置され、計測部材Ｃとの間で液体を保持可能な液浸部材４と、第１膜２３及び液浸部材４の少なくとも一方に交流電圧を加える電圧調整装置６０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 遮光位置のずれを低減する技術の提供。
【解決手段】 原版を光で照明する照明系、前記原版のパターンの像を基板に投影する投影系を有する光学系を備える露光装置で、前記光学系の光路上の前記投影系の物体面と共役な面かその近傍に配置され、前記像が前記基板上に投影される領域の外縁の一部を円弧状に規定する円弧状部を有する遮光板と、前記光学系の光路に沿った回転軸まわりに前記遮光板を回転駆動する回転駆動部と、前記回転軸と交わる方向に前記遮光板をシフトするシフト駆動部と、前記回転駆動部により前記遮光板を回転駆動させ、前記光学系により前記像を前記基板に投影する際の基準となる基準軸と前記回転軸との相対位置の情報を取得する取得部と、前記基板の周辺部に対して前記像を投影する場合、取得した前記相対位置に関する情報に基づき、前記遮光板が所定の位置になるように前記回転駆動部と前記シフト駆動部を制御する制御部を有する。 （もっと読む）

【課題】ＬＥＤ光源装置を用いた露光装置において、高照度化を図る。
【解決手段】露光装置などにおいて使用されるＬＥＤ光源装置２０は、ＬＥＤ４０Ａ〜４０Ｆを支持部材３２の各側面に配置したＬＥＤユニット３０と、リフレクター１２Ａ〜１２Ｆから構成される反射部１２とを備える。そして、リフレクター１２Ａ〜１２Ｆは一体的に形成されておらず、それぞれＬＥＤ４０Ａ〜４０Ｆの配置された側面に沿って個別に取り付け調整されている。 （もっと読む）

【課題】液浸リソグラフィーに適するとともに、浸液と長期的に接触しても安定した結像品質を有する投影対物レンズを提供する。
【解決手段】 自身の物体平面内に配置されるパターンを自身の像面に、光路上における自身の最後の光学素子と前記像面との間において配置される浸液媒体を利用して結像させる投影対物レンズにおいて、前記最後の光学素子は、透明な基板と、該基板に取り付けられるとともに、前記浸液媒体との接触用に設けられ、かつ前記浸液媒体によって引き起こされる劣化に対する前記最後の光学素子の耐性を高める役割を果たす保護層システムとを有する。 （もっと読む）

【課題】マルチビーム方式の描画装置で、異常な荷電粒子線が存在しても描画に有利な技術を提供する。
【解決手段】描画装置は、荷電粒子光学系と制限部と制御部とを備える。荷電粒子光学系は、第１方向に沿って第１ピッチで配置されたｎ以上のＮ本の荷電粒子線を含む行が、第１方向に直交する第２方向に沿って第２ピッチでｍ以上のＭ行存在し、Ｍ行のうち１番目からｍ番目の行は、各行の先頭の荷電粒子線の第１方向における位置が第１ピッチの（１／ｍ）ずつずれ、かつ、（ｍ＋ｉ）番目の行の先頭の荷電粒子線の第１方向における位置がｉ番目の行の先頭の荷電粒子線の第１方向における位置と同じに配列された（Ｍ×Ｎ）本の荷電粒子線を生成する。制御部は、（Ｍ×Ｎ）本の荷電粒子線の中に異常線が存在する場合、該異常線を含まず連続するｎ本の荷電粒子線を含む行が、ｍの約数分の行だけ第２方向に沿って連続して使用できるように、制限部を制御する。 （もっと読む）