【課題】経年変化に伴ってレーザー測長系のレーザー光源の出力特性が変化しても、移動ステージの位置を精度良く検出して、基板の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】移動ステージに複数の反射手段３４ａ，３４ｂ，３５を取り付け、複数のレーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３により、レーザー光源３１ａ，３１ｂからのレーザー光と各反射手段３４ａ，３４ｂ，３５により反射されたレーザー光との干渉を複数箇所で測定する。各レーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３の測定結果から、移動ステージの位置を検出し、検出結果に基づき、移動ステージによりチャック１０ａ，１０ｂを移動して、基板１の位置決めを行う。各レーザー干渉計３２ａ，３２ｂ，３３が受光したレーザー光の強度の変化を検出し、検出したレーザー光の強度の変化を補う様に、レーザー光源３１ａ，３１ｂへ供給する駆動電流を制御する。 （もっと読む）

【課題】複数のＺヘッドを切り換えながら、移動体の高さと傾斜を継続的に計測することにより、移動体を高精度で駆動する。
【解決手段】制御装置は、テーブルＷＴＢの±Ｘ端部に設置された反射面３９Ｙ₁，３９Ｙ₂上に位置する２つのＺヘッドＺｓＲ，ＺｓＬを用いて、テーブルＷＴＢの高さと傾斜を計測する。テーブルＷＴＢのＸＹ位置に従って、使用するＺヘッドをＺｓＲ，ＺｓＬからＺｓＲ’，ＺｓＬ（あるいはＺｓＲ，ＺｓＬ’）に切り換える。制御装置は、切り換えの際、座標つなぎ法を適用して、新たに使用するＺヘッドＺｓＲ’（あるいはＺｓＬ’）の初期値を設定する。これにより、テーブルのＸＹ位置に応じて使用するＺヘッドが逐次切り換えられるにもかかわらず、切り換えの前後でテーブルの高さと傾斜の計測結果が保存され、テーブルを高精度で駆動することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】露光対象のフィルムが幅方向に変形した場合においても、マスクを取り替えることなく露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光対象のフィルム１は、例えば供給リール４１、搬送ローラ４２，４３、リール４４等の搬送装置により１方向に移動される。光源５Ａ，５Ｂから出射された露光光は、夫々、アパーチャ３Ａ及びマスク２Ａ，２Ｂを透過して、フィルム１に照射される。マスク２には、フィルム１の移動方向に直交する方向に複数本のスリット２ｂが設けられ、その幅は、フィルム移動方向に沿って線形的に変化するように設けられている。アパーチャ３には、フィルム移動方向に直交する方向に延びる開口３ｂが設けられており、制御装置は、マスク２とアパーチャ３とのフィルム移動方向における相対的な位置を制御するので、フィルム１の露光すべき幅が変化しても、マスク２を取り替えることなく露光できる。 （もっと読む）

【課題】安価な構成で、チャックのθ方向の傾きを精度良く検出して、基板のθ方向の位置決めを精度良く行う。
【解決手段】第１のステージに搭載されＹ方向（又はＸ方向）へ移動する第２のステージに第２の反射手段（３５）を取り付け、第２の反射手段（３５）のθ方向の位置ずれを検出する。チャック（１０ａ，１０ｂ）に複数の光学式変位計（４１）を設け、複数の光学式変位計（４１）により、第２のステージに取り付けた第２の反射手段（３５）までの距離を複数箇所で測定する。第２の反射手段のθ方向の位置ずれの検出結果に基づき、複数の光学式変位計（４１）の測定結果から、チャック（１０ａ，１０ｂ）のθ方向の傾きを検出し、検出結果に基づき、第３のステージによりチャック（１０ａ，１０ｂ）をθ方向へ回転して、基板（１）のθ方向の位置決めを行う。 （もっと読む）

【課題】パターンのムラ欠陥の生じない描画条件を導出し、製品の歩留まりを向上する。
【解決手段】基板上に描画するパターンのムラ欠陥が発生しない描画条件を導出する方法であって、基板上に形成するパターンを生成するパターン情報生成工程Ｓ１と、パターンに対して、複数の描画項目の組み合わせによる、２通り以上の描画条件を設定する描画条件設定工程Ｓ２と、前記生成されたパターンを抜き取り、補助基板上に、前記各描画条件のもとに、矩形領域をなす補助パターンを形成する補助パターン描画工程Ｓ３と、補助基板に対して照明光を入射し、補助パターンから生じる回折光を光電変換素子にて画像として取得し、ムラ欠陥に関するムラ評価値とムラ発生周期とを求めことにより、複数の描画条件の中からムラ欠陥が生じない描画条件を導出する描画条件判定工程Ｓ４とを含むパターンの描画条件導出方法である。 （もっと読む）

【課題】基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止する。
【解決手段】マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを設け、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近で移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を調節する。基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの露光時に、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂにより光量を調節した露光光を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ重ねて照射する。 （もっと読む）

【課題】 エンコーダで位置を計測しつつ、移動体を所望の方向へ精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動装置により、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置情報を計測するエンコーダ６２Ａの計測値とそのエンコーダによって計測されるスケール３９Ｙ₁の平面度に関する情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴがＹ軸方向に駆動される。この場合、駆動装置は、そのエンコーダの計測値に含まれるスケールの平面度に起因する計測誤差をスケールの平面度に関する情報に基づいて補正した補正後の計測値に基づいて、ウエハステージを所定方向に駆動することが可能である。従って、スケールの凹凸に影響を受けることなく、エンコーダを用いてウエハステージを精度良く所定方向に駆動することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】グレートーンマスクを使用するプロセスに有利な技術を提供する。
【解決手段】露光装置ＥＸは、第１方向に沿った第１グレートーンパターンおよびそれと直交する第２方向に沿った第２グレートーンパターンを含むマスクＭを位置決めするマスク位置決め機構２と、基板Ｓを位置決めする基板位置決め機構４と、前記パターンの像を前記基板に形成する投影光学系３と、前記第１及び第２グレートーンパターンによって露光および現像を通して形成される第１及びだ２レジストパターンの厚さと当該露光におけるデフォーカス量との関係である第１及び第２デフォーカス特性とに基づいて、前記第１及び第２レジストパターンの厚さの差が許容範囲に収まるデフォーカス量を決定し、該デフォーカス量で前記基板に前記パターンの像が形成されるように前記基板の露光処理を制御する制御部５とを備える。 （もっと読む）

【課題】 極紫外スペクトル範囲（ＥＵＶ）内の波長に向けて構成された反射投影レンズを用いてマスクを層上に結像するためのマイクロリソグラフィ投影露光装置を提供する。
【解決手段】 マイクロリソグラフィ投影露光装置は、投影光源（ＰＬＳ）と、加熱光源（ＨＬＳ）と、反射投影レンズ（２６）と、好ましくは投影レンズ（２６）の外側に配置され、ドライバ（１２４）を用いて第１の位置と第２の位置との間で変位させることができる反射スイッチング要素（１２２；２２２；３２２；４２２；１４；１４，１４０）とを含む。この場合、スイッチング要素の第１の位置では、投影光（ＰＬ）のみが投影レンズ（２６）に入射することができ、スイッチング要素の第２の位置では、加熱光（ＨＬ）のみがこの投影レンズに入射することができる。 （もっと読む）

【課題】多量の描画データを空間的光変調器の駆動回路へ高速に供給すると共に、光ビーム照射装置の照射光学系に含まれる光学部品の歪みによる露光量のばらつきを補正して、描画精度を向上させる。
【解決手段】描画データを、光ビームによる基板の走査方向と直交する方向において、光ビーム照射装置の空間的光変調器の隣接するミラーの中心点間の距離に応じた等間隔の座標毎に分けて、等間隔の座標毎にまとめてメモリ７２に記憶する。光ビームによる基板の走査に伴い、描画データを等間隔の座標毎にまとめてメモリ７２から読み出し、メモリ７２から読み出した描画データの座標を、光ビーム照射装置の照射光学系に含まれる光学部品の歪みに応じて補正し、補正後の描画データを、光ビーム照射装置の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給する。 （もっと読む）