【課題】共通基準システム（４）上に振動隔離機構（２、３、５）を介して搭載され、該共通基準システムに対して変動する位置をとる、リソグラフィ・デバイス（１）及びワークステーション・デバイス（６）を含む装置において、両デバイス間の相対位置の変動を監視して該装置が誤動作しないように調整する。
【解決手段】前記共通基準システムに対する前記リソグラフィ・デバイス及び前記ワークステーション・デバイスの個々の位置を測定する手段と、測定された両デバイスの個々の位置から算出される両デバイス間の相対位置（ｄ、７ｂ）が所定の公差範囲内（７ａ−７ｃ）にあるかどうかを評価する手段を含む装置。 （もっと読む）

【課題】塗布液の粘性やぬれ性を制御して膜厚を制御する。
【解決手段】塗布装置１は、基板Ｗを支持するステージ２と、前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に塗布材料を吐出する材料吐出ノズル７と、前記材料吐出ノズルとともに前記ステージに対して相対移動可能であり、前記ステージ上の基板に気体を噴射する気体噴射ノズル８と、を一体に備える塗布ヘッド４を備えた。 （もっと読む）

【課題】少ない応力で基板テーブル上に基板を配置することのできるリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、基板を保持する基板テーブルと、基板を基板テーブル上に位置決めするグリッパとを備える。グリッパは、基板をその上側でクランプする静電クランプを含む。静電クランプは、基板の上面の周縁外側域の少なくとも一部をクランプする。本発明は、グリッパによってリソグラフィ装置の基板テーブル上に基板を位置決めすることを含む基板ハンドリング方法を提供する。基板は、グリッパの静電クランプを用いてその上側でクランプされる。 （もっと読む）

【課題】マルチプローブリソグラフィ技術におけるパターン描画精度を向上させる。
【解決手段】実施形態に係わるパターン形成装置は、ステージ１１、複数のプローブＡ〜Ｅ、駆動ユニット１４，１５、描画ユニット１６及び制御ユニット１８を備える。制御ユニット１８は、複数のプローブＡ〜Ｅを用いて同一パターンを同一条件でテスト描画し、テスト描画された複数のパターンの位置及びサイズの目標値に対するずれを位置ずれ及びサイズずれとして求め、位置ずれ及びサイズずれが許容範囲内にある正常プローブを選択し、基板１２のメイン描画エリアのうち、正常プローブが描画するサブ描画エリアを調整する補正処理を実行し、かつ、正常プローブを用いてサブ描画エリアの描画を実行する。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で、極めて高い精度で光学素子を移動させることのできる光学素子保持装置を提供する。
【解決手段】光軸ＰＡを鉛直方向に規定する鏡筒３１を有する光学素子保持装置３０である。可動光学素子を保持する可動光学素子保持部材と、その保持位置を光軸方向に変位可能なガイド機構部４０と、可動光学素子保持部材を移動させる駆動機構部５０と、を備える。ガイド機構部４０は、鏡筒３１と可動光学素子保持部材とを、光軸方向で掛け渡す軸方向弾性部材４１と、径方向で掛け渡す径方向弾性部材と、を有し、各駆動機構部５０は押当箇所５１ｂを軸方向に移動可能とする駆動部５１を有し、各駆動機構部５０では、各駆動部５１による押下力が、各軸方向弾性部材と各径方向弾性部材とによる鉛直方向上方への押上力から、可動光学素子を保持した可動光学素子保持部材の重量を減算したものよりも大きく設定されている。 （もっと読む）

【課題】液体を良好に回収できる液体回収システムを提供する。
【解決手段】液体回収システムは、液浸露光装置で用いられる。液体回収システムは、第１開口部３３と、第１開口部３３と対向する物体上の液体が第１開口部３３を介して流入可能に設けられた空隙部１５と、空隙部１５に流入した液体の少なくとも一部を多孔部材を介して吸引する液体回収部４０と、第１開口部３３と異なる第２開口部３４とを備える。空隙部１５が第２開口部３４を介して大気開放されている。 （もっと読む）

【課題】
熱によるフィルムの変形を抑制することができる露光装置を提供する。
【解決手段】
ディスプレイ用のフィルム７を、搬送しながらフォトマスク３，４を介して露光する露光装置であって、開口部３１を有する第１フォトマスク部３と、前記フィルム７の搬送方向Ａと垂直な方向において、前記開口部３１よりも細幅に形成され、前記開口部３１の全幅に渡って所定間隔で配置された複数の小開口部４１を有する第２フォトマスク部４と、を含んで構成されたものである。 （もっと読む）

【課題】基板とマスクの密着性能を向上することができる密着露光装置及び密着露光方法を提供する。
【解決手段】基板保持部１１の保持面１１ａには、ワークＷの裏面に向けて開口する、複数の第１エア流通孔３１、及び該複数の第１エア流通孔３１よりも外側に設けられた複数の第２エア流通孔３２と、を備え、複数の第２エア流通孔３２が開口する領域Ｅの内周側及び外周側には、ワークＷの裏面と接触可能な環状の内周側弾性部材３３及び外周側弾性部材３４がそれぞれ配置される。マスク保持部４と基板保持部１１との間には、マスクＭ及びワークＷを囲む、弾性の密封部材３５が設けられ、マスクＭ、マスク保持部４、基板保持部１１、及び密封部材３５によって密封空間Ｓを画成する。制御手段３０は、複数の第１エア流通孔３１を大気開放し、複数の第２エア流通孔３２からエアを吸引し、且つ、密封空間Ｓ内のエアを吸引して密封空間Ｓ内を負圧にし、密封空間Ｓ内の圧力が所定の基準負圧に達したとき、複数の第２エア流通孔３２を大気開放する。 （もっと読む）

【課題】基板の露光領域を連続する複数の区画に分けて露光する際、各区画の境界でパターンの段差が発生するのを効果的に防止する。
【解決手段】マスクホルダ２０に保持されたマスク２の上方に露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを設け、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂを基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近で移動させて、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ照射される露光光の光量を調節する。基板１の露光領域の各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの露光時に、露光量調節板４２ａ，４２ｂ，４３ａ，４３ｂにより光量を調節した露光光を、各区画Ａ，Ｂ，Ｃ，Ｄの境界付近へ重ねて照射する。 （もっと読む）

【課題】 エンコーダで位置を計測しつつ、移動体を所望の方向へ精度良く駆動する。
【解決手段】 駆動装置により、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置情報を計測するエンコーダ６２Ａの計測値とそのエンコーダによって計測されるスケール３９Ｙ₁の平面度に関する情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴがＹ軸方向に駆動される。この場合、駆動装置は、そのエンコーダの計測値に含まれるスケールの平面度に起因する計測誤差をスケールの平面度に関する情報に基づいて補正した補正後の計測値に基づいて、ウエハステージを所定方向に駆動することが可能である。従って、スケールの凹凸に影響を受けることなく、エンコーダを用いてウエハステージを精度良く所定方向に駆動することが可能となる。 （もっと読む）