【課題】光学素子の光が入射又は透過する面の変形を抑制した状態でその光学素子を保持する。
【解決手段】照明光ＩＬを反射するミラー２２を有するミラー保持装置５０であって、凹面鏡よりなるミラー２２の照明光ＩＬが入射する反射面２２ａの裏面２２ｂに設けられて、反射面２２ａよりも断面形状が小さい凸状の連結部２３と、連結部２３に設けられて、連結部２３よりも断面形状が大きい被保持部２４と、被保持部２４を支持するクランプ部２５と、クランプ部２５が設けられたカバー部材５５と、カバー部材５５が固定された分割鏡筒４７と、を備える。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で均一なパターンとなるレジストを形成可能な露光装置と、当該露光装置を用いることで製造される半導体素子の形状や特性のばらつきを抑制した半導体素子の製造方法と、を提供する。
【解決手段】 露光装置１は、上面にレジストＲが塗布されているウエハＷに対してその上方からレジストＲを感光させる所定の照射範囲の光を照射する光照射部１０と、中央に光が通過する開口部２１を有する遮光部２０と、を備える。この露光装置１において、平面視で、開口部２０の直径は、ウエハＷの直径以上である。 （もっと読む）

【課題】被照射体を傾ける必要がなく、通常の密着露光装置または近接露光装置に被照射体と平行に設置して、１度の露光で複数の異なる角度の斜め露光を、被照射体に対して行うことができるフォトマスクを提供すること。
【解決手段】露光装置より照射されたフォトマスクに垂直な平行光を、被照射体に傾斜させて出射するフォトマスクであって、透明基板の照射面側に、回折光学素子が形成され、透明基板の出射面側に、回折光学素子からの回折光を選択的に透過する光透過部のパターンが形成される。 （もっと読む）

【課題】光学系中の光学部材の位置関係を容易に効率的に調整できるようにする。
【解決手段】光学部材の位置調整装置であって、レンズ３６Ａを支持する第１支持部５４Ａ１と、第１支持部５４Ａ１に対して第１方向Ｒ１に沿って配置された弾性ヒンジ部５５Ａ，５５Ｂを介して連結された第２支持部５４Ａ２と、第２支持部５４Ａ２に対して第２方向Ｒ２に沿って配置された弾性ヒンジ部５５Ｃ，５５Ｄを介して連結された第３支持部５４Ａ３と、第３支持部５４Ａ３に対して第１支持部５４Ａ１及び第２支持部５４Ａ２をそれぞれ第１方向Ｒ１及び第２方向Ｒ２の回りに回転させる第１及び第２駆動機構と、を備える。 （もっと読む）

【課題】安定してＥＵＶ光を生成する。
【解決手段】極端紫外光生成装置は、ターゲット物質にレーザ光を照射して極端紫外光を生成する極端紫外光源装置であって、前記ターゲット物質に照射する前記レーザ光を出力するレーザ装置と、前記レーザ光の波面を調節する波面調節器と、前記ターゲット物質で反射された前記レーザ光を結像させる結像光学系と、結像された像を撮像する像検出器と、前記像に基づいて前記波面調節器を制御する制御部と、を備えてもよい。 （もっと読む）

【課題】外乱音波による振動の影響を抑えるのに有利なリソグラフィー装置を提供する。
【解決手段】リソグラフィー装置１は、基板６上にパターンを形成するためのパターニング手段５と、パターニング手段５を支持する支持構造体１１とを備える。さらに、このリソグラフィー装置１は、支持構造体１１と、基板６を保持し移動可能とする基板保持部７を載置する定盤１０とに囲まれた第１領域Ｒ１に温度調節された気体を放出する第１吹き出し口１７を、支持構造体１１に対して第１領域Ｒ１の側に含む空調装置１５と、支持構造体１１を基準として第１領域Ｒ１とは反対側に存在する第２領域Ｒ２にて、第１吹き出し口１７から発生する第１音波Ｓ１と同位相である第２音波Ｓ２を発生させる音波発生部２１とを備える。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、射出面１２からの露光光が照射可能な照射位置を含む所定面内を移動可能な第１可動部材と、所定面内を移動可能な第２可動部材と、光学部材と第１可動部材及び第２可動部材の少なくとも一方との間で移動可能な第３可動部材１０と、射出面側に液体を供給する供給口と、射出面側に液体の液浸空間ＬＳが形成され続けるように、射出面と対向する位置に第１可動部材、第２可動部材、及び第３可動部材の少なくとも一つを配置する駆動システム５０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系を提供する。
【解決手段】マイクロリソグラフィ投影露光装置（１）用の照明光学系は、光源（２、２’）からの照明光（３、３’）で物体表面（１９）を照明するのに用いられる。少なくとも二つの照明設定を照明光学系の瞳面（１２）に設定するために、少なくとも二つの個々の光学モジュール（２８、２９）を用いる。光学モジュールの上流にある光路には、第１の光学モジュール（２８）及び／又は第２の光学モジュール（２９）に照明光（３、３’）を任意に送る分離要素（９）がある。二つの光学モジュール（２８、２９）の下流にある光路には、第１の光学モジュール（２８）及び／又は第２の光学モジュール（２９）を通過した照明光（３、３’）を照明領域に送る結合要素（３５）がある。これにより、照明光学系と光源をも有する照明系とがもたらされ、異なる照明設定間の高速切り換えが可能となる。 （もっと読む）

【課題】フォトマスクの変形を補正することによって転写精度を向上させる液晶露光装置を提供する。
【解決手段】ステージ機構４２，４３と、フォトマスク７１を支持するフォトマスク支持フレームと、フォトマスク支持フレームの歪みを検出する歪み検出手段と、フォトマスク７１の変形を補正する補正手段と、フォトマスク７１の変形パターンと歪みの分布とが対応して記憶されている変形パターン記憶手段と、歪み検出手段によって検出された歪み分布と、変形パターン記憶手段から読み出した変形パターンの歪み分布とを比較して、フォトマスク７１の変形パターンを推定し、推定した変形パターン、及び、歪み検出手段によって検出された歪み量に基づいて、フォトマスク７１の変形を打ち消す補正量を算出し、当該補正量に対応する電圧を補正手段に対して出力する制御手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】回折格子を用いて計測を行う際に、相対位置を予め定められた相対位置からの絶対位置として容易に計測する。
【解決手段】エンコーダ１０Ｘは、第１部材６に設けられ、格子パターン１２Ｘａ及び基準パターン１３ＸＡが形成された回折格子１２Ｘと、計測光ＭＸ１，ＭＸ２を供給するレーザ光源１６と、第２部材７に設けられ、計測光ＭＸ１，ＭＸ２を格子パターン面１２Ｘｂにθｙ方向（Ｘ方向）に対称な角度で傾斜させて入射させる傾斜ミラー３２Ｘ，３４Ｘと、計測光ＭＸ１，ＭＸ２の回折格子１２Ｘによる回折光ＤＸ２，ＥＸ２を受光する光電センサ４０ＸＡ，４０ＸＢと、を有する。 （もっと読む）