【課題】リソグラフィ装置における改良型測定システムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成できるパターニングデバイスを支持する支持体と、基板を支持する基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分上に投影する投影システムと、測定システムであって、測定放射ビームを提供する測定放射システムと、リフレクタ間で測定ビームの一部分を反射する少なくとも２つのリフレクタと、リフレクタの１つを通して伝送される測定ビームの少なくとも一部分の波長を検出するディテクタとを備える測定システムと、を含む。 （もっと読む）

【課題】移動体の位置情報を精度良く計測できる位置計測装置を提供する。
【解決手段】位置計測装置は、移動面内を移動する移動体の位置情報を計測する。位置計測装置は、移動体の第１面に配置された移動格子に光を照射する光源と、光源との位置関係が固定で、移動格子で回折された光が入射する第２面を有し、入射した光を回折又は反射して移動格子に戻す固定光学部材と、移動格子を再度介して干渉された光を検出する検出装置と、を備え、第１面と第２面とはほぼ平行である。 （もっと読む）

【課題】電極保護膜を有する静電レンズにおける荷電粒子線の軸ずれの抑制、または構成部材の高精度な位置決め状態の実現、維持を可能とした静電レンズを提供する。
【解決手段】静電レンズは、貫通孔３を有する複数の電極１と、電極間に設けられて電極間の間隔を規定する絶縁スペーサ２を有する。絶縁スペーサ２は、その両面が、夫々、対向する電極１と接合されて両電極１と一体化されている。各電極１の両表面には電極保護膜４が配置され、電極保護膜４は、貫通孔３の内壁とこれから連続的に端部まで繋がった貫通孔３の周りの領域の電極１の表面に存在し、電極１と絶縁スペーサ２との界面には存在しない。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、露光光を射出する光学部材と、光学部材から射出される露光光の照射位置を含む所定面内を移動可能な可動部材と、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置されたスケール部材と、可動部材に配置され、スケール部材と対向可能なエンコーダヘッドを含み、可動部材の位置情報を計測する計測システムと、光学部材とスケール部材との位置関係を検出する検出システムとを備えている。 （もっと読む）

【課題】
携帯機器向けのような小さい液晶製品の基板部品であっても、正確なマスクの位置を設定することができる。
【解決手段】
基板の画像情報を取得するために、マスク部に対して複数種の透過光を照射し、マスク部の透光窓を介して取得された透過光を画像情報に変換し、変換された画像情報において、マスク部の遮蔽線の幅は、所定の透過光を透過した、画面表示画面の隣り合う同一色の画素に対応するパターンの間に位置するパターンを覆うように設定されたものである。 （もっと読む）

【課題】オーバーレイエラーを小さくするための方法を提供すること。
【解決手段】アライメントマークと伴にウエハレベリングマップを用いてウエハを位置合わせするための方法が開示される。ウエハの再位置合わせを行うためのオーバーレイ補正パラメータを作成するための一組のアライメントマークを選択することができる。ウエハレベリングホットスポットに近いアライメントマーク、または再現性の低いアライメントマークは位置合わせの目的のためには選択されない。ウエハレベリングデータは、どのアライメントマークが低い再現性を有し、不安定なオフセットを作成するかを決定するために用いられる。ウエハレベリングデータは、ウエハ上の平らでない領域を特定する。安定なオフセットを有するアライメントマークだけが関連するオーバーレイ補正パラメータを算出するために使用される。 （もっと読む）

【課題】製品の精度向上と製作時間の短縮が可能な、位相シフトマスクを用いた非対称パターンの形成技術、さらには回折格子、半導体装置の製造技術を提供する。
【解決手段】位相シフトマスク３０（遮光部と透過部（位相シフトがない第１の透過部、位相シフトがある第２の透過部）が周期的に配置）を用いた回折格子の製造方法において、照明光源１０から放出された光を、位相シフトマスク３０を透過させ、この位相シフトマスク３０を透過させることにより生じる０次光と＋１次光とをＳｉウエハ５０の表面で干渉させて、このＳｉウエハ５０の表面のフォトレジスト６０を露光し、Ｓｉウエハ５０上にブレーズド状の断面形状を有する回折格子を形成する。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィ装置用に冷却システムを設けること。
【解決手段】リソグラフィ装置は、コンポーネントと、コンポーネントに局所冷却負荷を与える局所冷却器とを含む。局所冷却器は、コンポーネントの上流の流量制限器を含み且つ流量制限器から出るガスの流れを誘導してコンポーネントの表面を冷却するように構成されるガス通路、を有する。 （もっと読む）

【課題】水平方向へのレイアウトの拡大を抑制できる基板の搬送システムを提供する。
【解決手段】搬送システム１は、ロボット７Ａにて搬入及び搬出される基板Ｓが置かれる搬入用スペース１２Ａ及び搬出用スペース１３Ａが上下方向に配置された受け渡しステーション９Ａと、ロボット７Ｂにて搬入及び搬出される基板Ｓが置かれる搬入用スペース１２Ｂ及び搬出用スペース１３Ｂが上下方向に配置された受け渡しステーション９Ｂと、露光前の基板Ｓを各搬入用スペースへ移送する移送ロボット１０Ａと、搬出用スペース１３Ｂの基板Ｓを下流側セクションＳＣ２へ移送する移送ロボット１０Ｂとを備え、移送ロボット１０Ａは搬出用スペース１３Ａの基板Ｓを第２受け渡しステーション９Ｂに配置された中継スペース１４へ移送し、移送ロボット１０Ｂは中継スペース１４の基板Ｓを下流側セクションＳＣ２に移送する。 （もっと読む）

【課題】遮光性能の高い遮光領域を有する反射型マスク及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】基板表面に形成された多層反射層と、該多層反射層の上に形成され、回路パターンを有する吸収層とを具備する反射型マスク。前記回路パターンの領域の外側に、前記吸収層および前記多層反射層が除去された遮光領域が形成され、前記多層反射層に形成された前記遮光領域の底部の開口幅は、前記吸収層に形成された前記遮光領域の開口幅よりも広いことを特徴とする。 （もっと読む）