【課題】ウエハステージを精密駆動する。
【解決手段】 ウエハステージＷＳＴは、粗動ステージ８２と、微動ステージ８３と、微動ステージ８３のＸ軸方向の一側と他側のそれぞれに設けられた一対のボイスコイルモータＭｂと、微動ステージ８３のＸ軸及びＹ軸のそれぞれに交差する軸Ｌｃ_１，Ｌｃ_２にそれぞれ平行な方向の一側と他側に設けられた二対のＥＩコアＭｃ_１、Ｍｃ_２、Ｍｃ_３、Ｍｃ_４とを備えている。これにより、ウエハＷを保持するウエハテーブルＷＴＢを精密に駆動することが可能となるとともに、ボイスコイルモータ及びＥＩコアを粗動ステージ８２内にコンパクトに配置することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】例えば、１つ又は複数の放射ビームの波長の公称値からのずれによってもたらされる１つ又は複数の問題を緩和し又は最小化することができるリソグラフィシステムを提供する。
【解決手段】リソグラフィ装置は、複数の放射ビームを基板に投影する投影系を有しており、複数の放射ビームは、第１波長範囲内の放射から形成される第１の１つ又は複数の放射ビームのグループと、第１波長範囲と異なる第２波長範囲内の放射から形成される第２の１つ又は複数の放射ビームのグループと、を備える。また、本装置は、第１のグループの１つ又は複数の放射ビームが第２のグループの１つ又は複数の放射ビームと異なる角度で分散素子に入射し、かつ分散素子から出力される第１及び第２のグループの１つ又は複数の放射ビームが実質的に平行であるように構成されている分散素子を備える。 （もっと読む）

【課題】波長が１３．５ｎｍ付近の極端紫外(Extreme Ultra Violet：ＥＵＶ)光を露光光源とする反射型マスクの欠陥修正技術を利用した半導体集積回路装置の製造技術を提供する。
【解決手段】位相欠陥２１１が生じている開口パターン２０４の近傍の吸収層２０３に、開口パターン２０４よりも微細な開口径を有する補助パターン３０１を形成する。この補助パターン３０１は、ウエハ上のフォトレジスト膜に開口パターン２０４を転写する際の露光光量を調整するためのパターンである。 （もっと読む）

【目的】マルチビーム形成アパーチャによって散乱した荷電粒子によるブランキング偏向器アレイへの帯電とコンタミ成長を抑制する装置を提供することを目的とする。
【構成】描画装置１００は、荷電粒子ビームを放出する電子銃２０１と、マルチビームを形成するマルチビーム形成アパーチャ部材２０３と、マルチビームのうち、それぞれ対応するビームのブランキング偏向を行う複数のブランカーが配置されたブランキングプレート２０４と、マルチビーム形成アパーチャ部材２０３とブランキングプレート２０４との間に配置された、電磁レンズ２１２，２１４と、電磁レンズ２１２，２１４の間であってマルチビームの集束点位置に配置され、集束点から外れた荷電粒子の通過を制限する制限アパーチャ部材２１６と、複数のブランカーによってビームｏｆｆの状態になるように偏向された各ビームを遮蔽する制限アパーチャ部材２０６と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 複数の加工機を備える加工機システムにおいて加工機間の振動伝達の抑制と設置スペースの低減とを両立させる。
【解決手段】少なくとも３台の加工機は、第１の加工機と、該第１の加工機を支持する梁の少なくとも１つによって支持されている第２の加工機と、前記第１の加工機を支持する梁のいずれによっても支持されず他の梁によって支持されている第３の加工機とを含む。前記第１の加工機から前記第２の加工機に伝達される振動量が所定量より低くなるように前記第１の加工機と前記第２の加工機との間隔を決定し、前記第１の加工機と前記第２の加工機とを前記間隔よりも隔てて配置する。 （もっと読む）

【課題】配線基板の外周部に異物の原因となるガラス繊維や樹脂を露出させない。
【解決手段】配線基板用パネルＡを載置するテーブル１と、配線基板用パネルＡの外周部を部分的にテーブル１上に押圧して固定する押圧板２と、配線基板用パネルＡ上に露光用のレーザ光を照射するレーザ照射装置３とを具備して成る露光装置１０であって、押圧板２は、レーザ光を透過する透明材料から成る。押圧板２の下の領域を露光することにより、配線基板用パネルＡの外周部に導体層１２を残すことができる。これにより、配線基板用パネルＡの外周部に異物の原因となるガラス繊維や樹脂を露出させない。 （もっと読む）

【課題】感光性フィルムで構成された絶縁層に露光及び現像工程によりチップ内臓のためのキャビティーが形成される埋め込み印刷回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は埋め込み印刷回路基板の製造方法に関するものであって、感光性組成物を含む絶縁層を提供する段階；前記絶縁層に露光及び現像工程によってキャビティーを形成する段階；キャビティーにチップを配置する段階；及びチップが配置された絶縁層上にメッキ層を形成し、メッキ層をエッチングしてパターンを形成する段階；を含む。 （もっと読む）

【課題】泡混入の可能性が少なくとも低減され、及び／又は、気体抗力原理を利用する流体ハンドリング構造内のガスのフローと比較して、ガスのフローを低減するリソグラフィ装置を提供する。
【解決手段】液体を空間に閉じ込めるリソグラフィ装置用の流体ハンドリング構造であって、空間を囲む下表面上において、流体ハンドリング構造の下表面上へと液体を供給する液体供給口を備えるとともに、液体供給口の空間に対して半径方向内側に、液体を空間から抽出し液体供給口から下表面上の液体を抽出する液体抽出口の二次元アレイを備える。 （もっと読む）

【課題】
露光工程のタクトタイムを短縮することができる露光装置を提供する。
【解決手段】
搬送中に露光される基板Ｐが載置されるステージ１と、前記ステージ１の中間に設けられ、前記基板Ｐを露光する露光手段２と、前記露光手段２より基板１の搬送方向の手前側のステージ１２と奥側のステージ１３との間を往復し、前記手前側のステージ１２上に載置された基板Ｐを前記奥側のステージ１３上に搬送する搬送手段３と、を含んで構成され、前記搬送方向の手前側のステージ１２上には複数枚の基板Ｐが搬送方向と平行な列を成して載置され、前記搬送手段３は、前記手前側のステージ１２上に載置された複数枚の基板Ｐを同時に搬送し、前記露光手段２は、搬送手段３により搬送中の基板Ｐを露光する露光装置である。 （もっと読む）

【課題】取出し時の膜材料の付着や、ガラス基板保持部に付着した膜材料のガラス基板への転写を抑制することができるＥＵＶマスクブランクの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板１０の裏面側を保持する基板保持部２０と、ガラス基板１０の側面全周、基板保持部２０の側面全周のうち、基板保持部２０の上端を含めた高さ方向における少なくとも一部、および、ガラス基板１０の成膜面の外縁部を覆うことができ、搬出入用の開口部を有し、搬出入時の位置と、成膜時の位置と、の間を上下方向に移動可能である遮蔽部３０と、ガラス基板１０または製造後のＥＵＶＬ用反射型マスクブランクの搬出入用のアームと、を有し、搬出入用の開口部、ガラス基板１０および搬出入用のアームが所定の条件を満たすスパッタリング装置を用いて、ガラス基板上に反射層および吸収層を成膜するＥＵＶＬ用反射型マスクブランクの製造方法。 （もっと読む）