【課題】彫刻により発生するガス、アブレーションカスを吸込フードに誘導し、回収効率を上げることができる。
【解決手段】吹付ノズル８０は、一列に並んだ吹き出し口８０ａからの空気を吹き出し、略四角錐台形のエアーフローＡ１を形成する。吹付ノズル８０は、エアーフロー中心面ＡＭ１が、光軸Ｌと露光面ＦＡとの交点Ｉにおけるドラム５０の接線と平行となるように、かつエアーフローＡ１の方向がドラムの回転方向Ｒと同方向となるように配設される。エアーフローＡ１の延長上には、エアーフローＡ１を覆う大きさで形成された吸込フード８１が配設される。これにより、ガス、アブレーションカスを含むエアーフローＡ１を吸込フード８１から確実に吸い込むことができる。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのアクチュエータを用いて光学素子を特定の増分量で増分移動させることにより、操作されるべき少なくとも１つの光学素子の位置の設定を行う、投影照明システムの光学装置の製造及び／又は調整方法を提供する。
【解決手段】本発明による方法では、移動増分の増分量は、所望位置からの光学素子の距離の関数として、距離値として表される距離によって設定され、この距離値が第１の閾値を上回る場合、略一定の増分量が設定され、他方、この距離値が前記第１の閾値を下回る場合、所望位置からの距離が減少することに伴って、特定の増分量が減じられるステップ、及び／または、特定の増分量及び／又は事前に特定された増分量変化率からの、事前に特定された逸脱により、警告信号が発せられ及び／又は移動が中止されるステップ、を含む。 （もっと読む）

【課題】基板の高さマップを決定するために使用する時間を短縮する。
【解決手段】測定位置に配置された基板の高さレベルを測定するように構成されたレベルセンサ１が開示される。レベルセンサ１は、基板２の複数の測定位置に複数の測定ビームを投影する投影ユニット３と、基板２で反射した後に測定ビームを受ける検出ユニット４と、検出ユニット４が受けた反射測定ビームに基づいて高さレベルを計算する処理ユニット５とを備え、基板２が測定位置に配置されると、投影ユニット３及び検出ユニット４は基板２に隣接して配置される。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージを高精度駆動する。
【解決手段】平面モータ３０により駆動されるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をエンコーダシステムを用いて計測し、エンコーダシステムからのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれについての位置計測情報と、ウエハステージＷＳＴ２の位置に依存するウエハステージＷＳＴ１についての位置計測情報に対する補正情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴ１を駆動する。これにより、ウエハステージＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に主として起因するウエハステージＷＳＴ１の位置計測誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】工程が煩雑でなく、基板の表裏で金属酸化物膜の材質や膜厚が異なる場合でも、適切なパターンを形成できる金属酸化物膜パターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板の片面に、金属錯体Ａを含む膜αを形成する第１の膜形成工程と、反対側の面に、金属錯体Ｂを含む膜βを形成する第２の膜形成工程と、前記膜αを、波長領域λ₁を含む光を用い露光する第１の露光工程と、前記膜βを、波長領域λ₂の光を用い露光する第２の露光工程と、前記膜αを現像する第１の現像工程と、前記膜βを現像する第２の現像工程と、前記金属錯体Ａ及び前記金属錯体Ｂを、それぞれ、金属酸化物に転化する転化工程と、を備え、前記金属錯体Ｂは、前記波長領域λ₂の光を照射したとき、前記金属錯体Ａに前記波長領域λ₂の光を照射した場合よりも、前記現像液に対する溶解性が大きく変化することを特徴とする金属酸化物膜パターンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】チャックの開口を塞ぐ蓋の高低により発生する露光むらを効果的に抑制する。
【解決手段】チャックに、少なくとも１つの開口と、開口を塞ぐ蓋１４と、チャックに対する蓋１４の取り付け高さを調整する高さ調整機構とを設ける。チャックの開口の周囲に非真空区画を形成し、非真空区画からチャックの裏面へ通じる空気通路を設け、非真空区画の周囲に真空区画を形成する。高さ調整機構により、チャックに対する蓋１４の取り付け高さを調整して、蓋１４の上面の高さをチャックの上面の高さより低くし、真空区画により基板を真空吸着して、基板をチャックに固定し、空気通路により非真空区画を大気開放して、基板が非真空区画に吸着されるのを防止する。 （もっと読む）

【課題】投影光学系と基板との間に液体を良好に保持して、精度良い露光処理を行うことができる露光装置を提供する。
【解決手段】投影光学系ＰＬと基板Ｐとの間に液体ＬＱの液浸領域を形成し、投影光学系ＰＬと液浸領域の液体ＬＱとを介して基板Ｐを露光するものである。露光装置は、液体ＬＱを供給する供給口１２及び液体ＬＱを回収する回収口２２のうち少なくともいずれか一方を有するノズル部材７０と、基板Ｐの位置又は姿勢に応じて、ノズル部材７０の位置及び姿勢のうち少なくともいずれか一方を調整するノズル調整機構８０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】プラスチック基材上に、パターニングされた感光性材料層を精度良くかつ迅速に形成することができるパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本発明によるパターン形成方法は、まず、プラスチック基材２を準備し、このプラスチック基材２に対して感光性材料を塗布して乾燥させて、感光性材料層３ａが形成される。次に、感光性材料層３ａが形成されたプラスチック基材２の含水率が含水率測定装置１４により測定される。その後、プラスチック基材２上の感光性材料層３ａが露光装置１５により所定のパターンで露光され、露光された感光性材料層３ａが現像されてパターニングされる。プラスチック基材２上の感光性材料層３ａを露光する際、含水率測定装置１４により測定された含水率に基づいて、制御装置１６により露光装置１５が制御されて、露光されるパターンが拡大または縮小される。 （もっと読む）

【課題】液浸露光された基板上に残留する液体に起因するデバイスの劣化を防止できる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板搬送装置は、投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する。基板搬送装置は、基板に残留した液体を検出可能な液体検出器を備え、液体検出器は、基板の露光前における基板表面に関する第１情報と、基板の露光後における基板表面に関する第２情報とを比較して、残留液体を検出する。 （もっと読む）

【課題】 描画手段の描画位置と基板との相対位置に基づいて、高精度なパターン描画を実現する技術を提供することを目的とする。
【解決手段】 ベースプレート２４の主走査方向の位置情報を検出するための移動位置検出手段７０と、主走査方向に移動するベースプレート２４が所定の位置を通過したことを検出するための通過検出手段４０が配設されている。通過検出手段４０で検出される通過位置情報と、通過検出手段４０でベースプレート２４が特定の位置を通過したことが検出された時に移動位置検出手段７０で検出される測定位置情報とから、移動位置検出手段７０の検出に係る位置情報の遅れを補正するための補正量を算出し、補正量と測定位置情報とからベースプレート２４の修正位置情報を算出し、修正位置情報に基づいて描画手段３０の描画タイミングの動作を制御し、高精度にパターンを描画することができる。 （もっと読む）