【課題】浸漬式リソグラフィ投射装置を提供すること。
【解決手段】投射系の最終要素と基板の間に浸漬液を閉じ込めた浸漬式リソグラフィ投射装置を開示する。装置の様々な要素上に疎水性及び親水性の層をともに使用することを開示する。これらの使用は、浸漬液中の気泡形成が防止され、かつ浸漬液に浸漬された後、要素上に残る残渣が低減される助けとすることができる。 （もっと読む）

【課題】 半透光部と透光部との境界部分におけるレジストパターン形状をより正確に制御する。
【解決手段】 遮光部は、半透光膜、位相シフト調整膜、及び遮光膜が透明基板上に積層されてなり、半透光部は、半透光膜、及び位相シフト調整膜が透明基板上に積層されてなり、透光部は、透明基板が露出してなり、ｉ線〜ｇ線の範囲内の代表波長の光が半透光部を透過するときの位相シフト量が前記透光部に対して６０度以下となるように、半透光膜と位相シフト調整膜との材質及び厚さが設定されている。 （もっと読む）

【課題】液体洗浄後の乾燥工程においてにパターン倒壊が発生しないラインアンドスペース構造を形成することができる。
【解決手段】略平行な複数の凸条体を基板に形成し、該基板に形成された凸条体の表面に膜を形成し、成膜後に前記凸条体を除去するパターン形成方法であって、略平行な複数の第１凸条体と、該複数の第１凸条体の端部に接続した又は前記複数の第１凸条体に交差した複数の第２凸条体とを基板に形成し、該基板に形成された前記複数の第２凸条体における前記第１凸条体との接続箇所又は交差箇所を切断し、前記第１及び第２凸条体の表面にそれぞれ膜を形成し、成膜後に前記第１及び第２凸条体を除去する。 （もっと読む）

【課題】急峻な立ち上がりの形状を持つレジストパターンを被転写体上に形成する。
【解決手段】遮光部と透光部との境界、または遮光部と半透光部の境界には、半透光膜上の位相シフト調整膜が部分的に露出してなる位相シフタ部が形成され、遮光部と透光部の境界に位相シフタ部が形成されるとき、ｉ線〜ｇ線の範囲内の代表波長を有する露光光が、位相シフタ部を透過する時の位相シフト量と、露光光が、透光部を透過するときの位相シフト量と、の差が９０度以上２７０度以内となり、遮光部と半透光部の境界に位相シフタ部が形成されるとき、ｉ線〜ｇ線の範囲内の代表波長を有する露光光が、位相シフタ部を透過する時の位相シフト量と、露光光が、半透光部を透過するときの位相シフト量と、の差が９０度以上２７０度以内となる。 （もっと読む）

【課題】液浸露光された基板上に残留する液体に起因するデバイスの劣化を防止できる基板搬送装置を提供する。
【解決手段】基板搬送装置は、投影光学系と液体とを介したパターンの像によって露光された基板を搬送する。基板搬送装置は、基板に残留した液体を検出可能な液体検出器を備え、液体検出器は、基板の露光前における基板表面に関する第１情報と、基板の露光後における基板表面に関する第２情報とを比較して、残留液体を検出する。 （もっと読む）

【課題】 描画手段の描画位置と基板との相対位置に基づいて、高精度なパターン描画を実現する技術を提供することを目的とする。
【解決手段】 ベースプレート２４の主走査方向の位置情報を検出するための移動位置検出手段７０と、主走査方向に移動するベースプレート２４が所定の位置を通過したことを検出するための通過検出手段４０が配設されている。通過検出手段４０で検出される通過位置情報と、通過検出手段４０でベースプレート２４が特定の位置を通過したことが検出された時に移動位置検出手段７０で検出される測定位置情報とから、移動位置検出手段７０の検出に係る位置情報の遅れを補正するための補正量を算出し、補正量と測定位置情報とからベースプレート２４の修正位置情報を算出し、修正位置情報に基づいて描画手段３０の描画タイミングの動作を制御し、高精度にパターンを描画することができる。 （もっと読む）

【課題】ウエハステージを精度良く駆動する。
【解決手段】平面モータ３０により駆動されるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をエンコーダシステムを用いて計測し、エンコーダシステムからのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれについての位置計測情報と、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置に応じたエンコーダシステムの位置計測誤差の補正情報とに基づいて、ウエハステージＷＳＴ１を駆動する。これにより、主として両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動に伴う周辺磁場の変動に起因する誤差を補正することができる。 （もっと読む）

【課題】 回転精度が高いことに加えて、モータ等で発生した熱が主軸を経由してモータと反対側の回転テーブルへ伝わりにくく、かつ主軸の熱膨張を抑えることができ、さらに、不導体材料を使用しながら静電容量タイプの非接触計での測定を可能にした静圧気体軸受スピンドルを提供する。
【解決手段】 静圧気体軸受スピンドルは、主軸２と、この主軸２を回転自在に支持する静圧気体軸受３と、主軸２の一端がモータ軸と２ｃなり主軸２を回転駆動するモータ４と、主軸２の他端に固定された回転テーブル５とを備える。主軸２における静圧気体軸受３により回転自在に支持される部分である主軸被支持部２ａ、および主軸２における主軸被支持部２ａよりも回転テーブル５側の部分である主軸テーブル側部２ｂをセラミックス材で形成し、主軸被支持部２ａにおけるラジアル軸受部３ｂに導電性のメッキを施す。 （もっと読む）

【課題】システム全体の生産性を低下させず、各リソグラフィー装置の維持管理コストを削減し、特性及び精度を均一にする。
【解決手段】少なくとも２台のリソグラフィー装置と、該リソグラフィー装置に対して基板若しくは原版を搬送する搬送ユニットと、リソグラフィー装置と搬送ユニットとの動作を制御する制御モジュールとを備えるリソグラフィーシステムであって、少なくとも２台のリソグラフィー装置のいずれかが調整処理を実施する場合、制御モジュールは、調整処理を実施する際の基準となる基準部材を少なくとも２台のリソグラフィー装置で共用し、搬送ユニットにより、基準部材をリソグラフィー装置に対して搬送させる（ステップＳ５０９）。 （もっと読む）