【課題】紫外線ランプ表面温度を規定温度範囲内に収める管理を可能としたことでランプの長寿命化を実現する。
【解決手段】ランプハウス１０内に、紫外線を放射される紫外線ランプ１３を主に構成するランプユニット部１１とランプユニット部１１から放射される紫外線が照射される照射部１２が構成される。さらに、紫外線ランプ１３と反射板１７１，１７２との間には耐熱性の紫外線透過ガラス板２７２，２７２を設置した。紫外線透過ガラス板２７１，２７２が紫外線ランプ１３に対して風量を増やす作用を生かしてランプ温度の管理を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】パターンのエッジのぎざぎざを目立たなくし、またモアレの発生を抑制して、描画品質を向上させる。
【解決手段】光ビーム照射装置２０の空間的光変調器（ＤＭＤ２５）は、複数のミラーを直交する二方向に配列して構成されている。描画制御部７１は、露光領域の同じ位置の描画データを、光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ複数回供給し、複数回供給する描画データの一部を、露光領域の隣接する位置の描画データとして、光ビーム照射装置２０の駆動回路（ＤＭＤ駆動回路２７）へ供給する。光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの一部が露光領域の隣接する位置へずれ、描画されるパターンのエッジがぼやけて、エッジのぎざぎざが目立たなくなる。また、パターンの繰り返し模様の規則性が乱れ、モアレの発生が抑制される。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶ光源におけるＥＵＶコレクタの反射表面からデブリを除去するための方法および装置を提供する。
【解決手段】電流源（ＤＣ電圧源）２２０は、コレクタミラー１５０、ミラー１５０のための金属製バッキング材（アルミニウムまたはニッケル）に接続されてよい。ミラー１５０は、チャンバ２６の内側を満たす周囲ガス（ヘリウムガス）の温度よりも高い温度に加熱されてよい。デブリ洗浄のもう一つの側面、ＲＦ周波数電圧２３０およびチャンバ２６内の２３２で模式的に示すアンテナからの、ＲＦの導入が組込まれてもよい。ＲＦは、ミラー１５０または金属製バッキング材に接続されてもよく、この場合、適切な導電性材料製で且つアース電位に接続された暗シールドが、コレクタミラー１５０の背面を覆って形成されてよく、これは絶縁体（空気ギャップ）および電圧（ミラー１５０にも接続されたＤＣ電源２２０からのＤＣ）によってミラーから分離される。 （もっと読む）

【課題】ブランカを用いない光スイッチング電子源及びそれを用いた電子線描画装置を提供する。
【解決手段】光スイッチング電子源１は、光源２と、光源２からの断続光が照射されることで電子を発生する電子発生部３と、を備え、電子発生部３は、光励起によって電子を発生する電子源９と、電子源から電子を引き出す電極７と、電子を引き出す電源８と、を備えている。電子源９は、ｐｎ接合又はｐｉｎ接合９ａ等を用いることができ、ｐｎ接合９ａｐ層６ａ又はｎ層６ｂが突起形状を有していてもよい。ｐｎ接合９ａがアレイ状に配設されていれば、複数の電子線１２を発生することができる。さらに、電子発生部３の電子出射側に電子線整形部４が配設されていてもよい。電子線整形部４は、アインツェルレンズ４１と、アインツェルレンズ用電源１１と、から構成することができる。 （もっと読む）

【課題】測定用レーザー光の遮断に影響されることなく、マスクステージと基板ステージの位置及び水平面内での姿勢を高精度で測定可能であるとともに、マスクステージと基板ステージを近接して配置して、環境温度を略同じにしてマスクと基板の熱膨張の差を抑制することができ、高精度な露光を実現する露光装置を提供する。
【解決手段】マスクステージ位置測定装置６６は、基板ステージ１１,１２の移動方向と直交する方向に離間し、マスクステージ１０の側面に配置された２箇所のマスクステージ測長ミラー７１Ａ,７１Ｂによりマスクステージ１０の位置及び水平面内での姿勢を測定する。また、基板ステージ位置測定装置６３，６４は、基板ステージ１１,１２の側面に配置される基板ステージ測長ミラー６１の２つの測定点７２Ａ,７２Ｂにより、基板ステージ１１,１２の位置及び水平面内での姿勢を測定する。 （もっと読む）

パターン発生器は、書込ツールと校正システムとを有する。書込ツールは、ステージ上に配列されたワークピース上にパターンを発生させるように構成される。校正システムは、書込ツールの座標系と、ステージおよびワークピースのうちの１つ上の校正プレートの座標系との間の相関を決定するように構成される。校正システムはまた、校正プレートの表面上の少なくとも１つの反射パターンから反射した少なくとも１つの光ビーム状の光相関信号、またはパターンに少なくとも部分的に基づき相関を決定するように構成される。
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【課題】配向膜の光配向処理を効率的に行うことができる近接走査露光装置及び基板の製造方法を提供する。
【解決手段】近接走査露光装置１の照射部１４は、光源４１から照射された露光用光ＥＬを反射部４６、４７で２方向に分岐させ、それぞれ異なる２方向から、１枚のマスクＭに形成された第１のパターンＰ１、及び第２のパターンＰ２に照射して基板Ｗを露光する。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム露光が必要な部分にのみ電子ビーム露光を適用し、残りの部分に対してはレチクル露光を適用する露光方法を提供する。
【解決手段】露光方法は、レチクル露光パターンに基づいてリソグラフィーシミュレーションを実行することにより、レチクル露光により形成されるレジストのパターンを模擬計算により求めたシミュレーションパターンを生成し、目標パターンとシミュレーションパターンとの差分データを生成し、差分データに基づいて第１の電子ビーム露光パターンを生成し、レチクル露光パターンに基づいてレチクルを生成し、レチクルを用いて光による露光処理を行ない、第１の電子ビーム露光パターンに基づいて電子ビームによる露光処理を行なう各段階を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィツールから多相流体の流れを抽出し、それによってツール内の流体に付与されたあらゆる圧力変動を最小にする装置を提供する。
【解決手段】フォトリソグラフィツールと、該フォトリソグラフィツールから多相流体を抽出する抽出システム３０とを備えた装置を提供する。前記抽出システム３０は、前記フォトリソグラフィツールから引き出された前記多相流体を気体相及び液体相に分離する分離手段と、前記フォトリソグラフィツールから前記多相流体を引き出すポンプ装置であって、前記分離手段から気体を抽出する第１のポンプユニット３６及び前記分離手段から液体を抽出する第２のポンプユニット３８を含むポンプ装置と、前記分離手段内の圧力をその中の気体及び液体の量を調節することによって制御する圧力制御システムとを含む。 （もっと読む）