本発明は、目標体積の照射計画方法に関するものであり、この方法では、個別に走査可能な目標点を備える目標領域が設定され、目標領域が繰り返しスキャンされる再スキャン試行の数が、該目標領域の目標点が再スキャン試行中に異なる頻度で走査されるように設定され、これにより該目標点の少なくとも一部が各再スキャン試行の際に走査されないようにされ、ここで目標点の走査は、各再スキャン試行で走査されない少なくとも１つの目標点において、この目標点が走査される最後の再スキャン試行の前に、この目標点が走査されない少なくとも１つの別の再スキャン試行が行われるように分散される。本発明はさらに、対応する照射方法、対応する照射計画装置、照射装置を制御するための対応する制御装置、ならびにこの種の照射装置に関する。
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【課題】絶縁破壊が発生し難いと共に、容易で安価に製造でき、安定かつ良好な量の電子放出が可能な電子放出素子を提供する。
【解決手段】電子放出素子１は、電極基板２と薄膜電極３との間に、絶縁体微粒子５を含み、かつ導電微粒子を含まない電子加速層４を有する。電子放出素子１は、電極基板２と薄膜電極３との間に電圧を印加すると、電子加速層４で電子を加速させて、薄膜電極３から電子を放出する。 （もっと読む）

【課題】加速チャンバを囲繞するマグネットヨークを有するサイクロトロンを含むアイソトープ生成システムを提供する。
【解決手段】サイクロトロンは、加速チャンバからマグネットヨークを通じて粒子ビームを誘導するように構成される。また、アイソトープ生成システムは、マグネットヨークに近接して配置される対象システムを含む。対象システムは、対象材料を保持するように構成され、マグネットヨークと対象場所の間に延在する放射シールドを含む。放射シールドは、対象材料からマグネットヨークに向けて放出されたガンマ線および／または中性子を減衰させるようにサイズ設定され形作られる。また、アイソトープ生成システムは、加速チャンバから対象場所まで延在するビーム通路を含む。ビーム通路は、マグネットヨークおよび対象システムの放射シールドによって少なくとも部分的に形成される。 （もっと読む）

【課題】必要な照射線量の異なる被処理物を同時に搬送して処理を行うことが出来、また電子を加速する直流高圧電源の出力を有効に活用出来る電子線照射装置のカソード構造を提供する。
【解決手段】カソード部のグリッド電極あるいは引出電極の少なくともいずれか一方の開孔率を場所により異ならせる、あるいは必要によっては零とする。 （もっと読む）

【課題】実データに基づいたより実現象に近い高精度なビーム照射位置を実現できる粒子線照射装置を得る。
【解決手段】逆写像数式モデルは、目標照射位置座標を表す変数を含む多項式であり、前記多項式に含まれる未知の係数は、Ｘ方向とＹ方向スキャニング電磁石に予め設定した複数組のＸ方向とＹ方向指令値を入力すると共に、加速器に予め設定した複数の運動エネルギー指令値を入力して、荷電粒子ビームを制御し、実際に照射されたそれぞれの照射位置座標の実データに対して、一部のデータに低い重み付けをする重み付け最小二乗法により求める。 （もっと読む）

【課題】実データに基づいたより実現実に近い高精度なビーム照射位置を実現できる粒子線照射装置が得られる
【解決手段】Ｘ方向とＹ方向逆写像数式モデルは、それぞれ、荷電粒子ビームの照射位置平面における目標照射位置座標を２変数で表示したときの前記２変数のいずれも含んだ多項式であり、前記多項式に含まれる未知の係数は、前記Ｘ方向とＹ方向スキャニング電磁石に予め設定した複数組のＸ方向とＹ方向指令値を入力して、荷電粒子ビームを制御し、実際に照射されたそれぞれの照射位置座標の実データに対して、一部のデータに低い重み付けをする重み付け最小二乗法により求める。 （もっと読む）

【課題】粒子線の侵入位置や照射方向の自由度を高めつつ、かつ被検体から発生するガンマ線を検出するＰＥＴ検出部を備えることを課題とする。
【解決手段】粒子線照射部１０３は、天板１００に載置された被検体に向けて粒子線を照射する。すると、ＰＥＴ検出部２０１は、被検体から発生するガンマ線を検出素子にて検出する。また、天板１１０およびＰＥＴ検出部２０１は、照射に応じて移動する。このため、補正係数算出部３００は、減弱マップの原点とＰＥＴ検出部２０１の検出素子との相対的な位置関係を示す座標を、天板１１０およびＰＥＴ検出部２０１の移動量を用いて算出し、算出した座標を用いて吸収補正係数を算出する。そして、画像生成部２０２は、ＰＥＴ検出部２０１によって検出されたガンマ線と補正係数算出部３００によって算出された吸収補正係数とを用いて画像を生成する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームの最大利用可能飛程の減少を抑えながら、ビームスポットの線量分布を拡大する粒子線照射装置を得る。
【解決手段】照射制御手段１４は、複数の小領域のうち照射対象とする小領域を荷電粒子ビームが走査するように第一走査手段３を制御し、照射対象とする小領域を複数の小領域のうち別の小領域に変更するように第二走査手段４を制御し、かつ、第二走査手段４による標的領域における荷電粒子ビームの走査速度よりも、第一走査手段３による標的領域における荷電粒子ビームの走査速度の方が高速であるように制御する。 （もっと読む）

【課題】大気中で容易に製造することが可能であり、安定かつ良好に電子放出可能な電子放出素子の製造方法を提供する。
【解決手段】電子放出素子１の電子加速層４を、電極基板２上に、導電微粒子６が分散溶媒に分散された導電微粒子分散液を塗布した後、平均粒径が導電微粒子６のそれより大きい絶縁体微粒子５が分散溶媒に分散された絶縁体微粒子分散液を塗布することで、形成する。 （もっと読む）

【課題】薄膜電極を適度な厚みまで薄くでき、電子放出量の向上を図ることのできる電子放出素子を提供する。
【解決手段】電子放出素子１は、電極基板２と薄膜電極３との間に電子加速層４を備え、電子加速層４は、絶縁体微粒子５と、絶縁体微粒子５より平均粒径の小さい導電微粒子６および塩基性分散剤６０の少なくとも一方と、を含んでおり、電子加速層４の表面粗さは、中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．２μｍ以下となっている。さらに、薄膜電極３の層厚は、１００ｎｍ以下となっている。 （もっと読む）