【課題】電子ビーム発生装置及びこれを製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明による電子ビーム発生装置方法は、カソード；カソードが一側開口部に結合されて内側に共振空洞が設けられたハウジング；及び、カソードとハウジングとの間に設けられ、カソードとハウジングとの間の結合強度に応じて圧縮され、共振空洞を外部と遮断するガスケット；を含む。前記共振空洞は、互いに連結されている第１の共振空洞と第２の共振空洞を含み、前記第１の共振空洞と前記第２の共振空洞は、前記カソードで発生された電子ビームが放出される方向に配列される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、信号にノイズが入力された場合、測定した線量値が変化して差動増幅器に治療計画に適うビーム強度値との正確な差分値を出力することができないという問題を解消できるフィードバックシステムを提供することを課題とする。
【解決手段】本発明のフィードバックシステム１は、イオンビーム照射装置１００から照射されるイオンビームの線量を測定する線量測定部１０と、線量測定部１０から出力される信号が入力され、線量の値に対応する周波数に変換して出力する周波数変換部２０と、周波数変換部２０から入力される所定時間あたりの周波数をカウントし、そのカウントされた所定時間あたりの周波数に対応するカウント値を出力するカウンタ部３０と、ビーム強度値と指令値との差分値を求めて、差分値をＲＦ―ＫＯ電極間の印加電圧を制御するＲＦ―ＫＯ電極コントローラに出力する差動増幅部４０と、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】スポットスキャン法による粒子線治療において、照射時間を短縮可能な荷電粒子ビーム照射システムを提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム照射システム１００は荷電粒子発生装置２００とビーム輸送系３００と照射装置５００から構成される。制御装置６００は、照射装置５００内のビーム位置計測装置５３から得られた出力から照射区画の照射完了毎にビーム位置・幅を演算する。制御装置６００はその演算中にも次の照射区画への照射を続行する。 （もっと読む）

【課題】治療用放射線を曝射する放射線照射装置を移動させる駆動装置のモータトリップを防止し、かつ、その放射線照射装置を高精度に移動させること。
【解決手段】被検体の内部の特定部位が配置される特定部位位置に基づいて目標位置１３１を算出する照射対象検出部と、治療用放射線を曝射する放射線照射装置が補正後目標位置１３２に向くように、その放射線照射装置を移動させる駆動装置を制御する首振り位置制御部とを備えている。補正後目標位置１３２は、治療期間の前の準備期間９６に、目標位置１３１より放射線照射装置１６が向いている位置に近い位置を示し、その治療期間９７に、目標位置１３１を示している。 （もっと読む）

【課題】高い信頼性でビーム毎の線量を計測すると共に、瞬間的なビーム出射による漏れ線量に対しても高い感度で計測することができる粒子線ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る粒子線ビーム照射装置は、粒子線ビームの出射と停止を制御する出射制御部と、患部に対する前記粒子線ビームの照射位置を順次変更する制御部と、患部に向けて照射される粒子線ビームの線量率を測定する第１、及び第２の線量計と、第１、及び第２の線量計から出力される線量率を所定の判定期間毎に累積して第１、及び第２の区間線量測定値を夫々求め、第１の区間線量測定値が予め定められた第１の基準範囲を超えた場合、及び、前記第２の区間線量測定値が予め定められた第２の基準範囲を超えた場合の少なくとも何れかの場合に、異常有りと判定する第２の異常判定を行い、粒子線ビームの出射を停止させるインターロック信号を出力する異常判定部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】粒子線ビーム形状の劣化を低く抑えつつ、簡素な構成でスキャン時の線量２次元分布を測定し表示することができる粒子線ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る粒子線ビーム照射装置は、粒子線ビームを生成するビーム生成部と、粒子線ビームの出射を制御するビーム出射制御部と、粒子線ビームを２次元走査するビーム走査部と、複数の第１の線状電極が第１の方向に並列配置され、複数の第２の線状電極が第１の方向と直交する第２の方向に並列配置されるセンサ部と、各第１の線状電極から出力される第１の信号と、各第２の線状電極から出力される第２の信号とから粒子線ビームの重心位置を算出し、重心位置の周辺の粒子線ビームの２次元ビーム形状を求めるビーム形状算出部と、２次元ビーム形状を累積記憶する記憶部と、２次元ビーム形状を線量の２次元分布として表示する表示部と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】走査電磁石のヒステリシスの影響を低減し、高精度なビーム照射を実現する粒子線治療装置を得ることを目的とする。
【解決手段】荷電粒子ビーム１ｂの目標照射位置座標Ｐｉに基づいて走査電磁石３を制御する照射管理装置３２と、荷電粒子ビーム１ｂの測定位置座標Ｐｓを測定する位置モニタ７とを備え、照射管理装置３２は、走査電磁石の励磁パターンが本照射の計画と同一である事前照射において位置モニタ７により測定された測定位置座標Ｐｓ及び目標照射位置座標Ｐｉに基づいて生成された補正データＩａと、補正データＩａを保存するメモリと、メモリに保存された補正データＩａと目標照射位置座標Ｐｉとに基づいて走査電磁石３への制御入力Ｉｏ（Ｉｒ）を出力する指令値生成器２５を有する。 （もっと読む）

本発明は、電子ビーム生成装置で使用するための、支持プレート２２と、出口窓金属箔２０との組立体に関する。前記支持プレート２２は、前記金属箔２０での皺を減らすように設計されている。金属箔２０は、閉じた接合線に沿って支持プレート２２に接合されており、この接合線は、支持プレート２２に開口部及び金属箔支持部分のパターンが交互に設けられている領域を囲んでいる。筐体内を真空にしたとき、前記パターンは、金属箔２０のトポグラフィカル・プロファイルを形成し、すべての余分な金属箔を実質的に吸引するようになされている。本発明は、方法に関するものでもあり、一方法は、充填機械において包装資材のウェブを殺菌するための方法である。
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本発明は、電子ビーム装置において使用するための、支持プレート２２と出口窓金属箔２０の組立体であって、前記支持プレート２２は前記金属箔２０における皺を減らすように設計されており、皺は組立過程において生じる余分な金属箔に起因して生じうるものである組立体に関する。金属箔２０は、閉じた接合線２６に沿って支持プレート２２に接合されており、接合線は、支持プレート２２に開口部及び金属箔支持部分が設けられている実質的に円形の領域を囲んでおり、この領域では、金属箔が電子ビーム装置の真空気密な筐体の壁部の一部としての役割を果たすようにしてある。本発明はまた、その組立体を充填機械で使用するための方法、及び、皺を減らす方法に関する。
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【課題】処理対象に電子ビームを照射することによって、処理対象の洗浄や研磨、処理対象からの付着物の除去等を行う電子ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射装置１は、負電圧を周期的に発生させる電圧生成器６と、電圧生成器６に接続され、表面が接地された処理対象２に対してインパルスである電子ビーム３を照射するカソード１と、カソード１と処理対象２とを収容可能であり、内部雰囲気を真空に保持可能である真空チャンバ５０とを備える。 （もっと読む）