本発明は、切り換え可能な疑中性ビームシステムを用いてリアルタイムで基板を処理して、フォトレジスト層のエッチング耐性を改善する装置及び方法を供してよい。それに加えて、前記の改善されたフォトレジスト層は、エッチング処理において、ゲート及び/又はスペーサの限界寸法(CD)のより正確な制御、ゲート及び/又はスペーサのCD均一性の正確な制御、並びに、ライン端部粗さ(LER)及びライン幅粗さ(LWR)の除去に用いられてよい。
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【課題】 カーテン状に電子線を照射できる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】 エミッタ１４とゲート電極１５間の電圧を数ｋＶ、グリッド電極１９と金属膜（陽極）１８間の電圧を約４０ｋＶとすると、エミッタ１４から電子線１６が発生し、発生した電子線１６は電極１５によって方向が定められ、グリッド電極１９によって範囲が絞られ、窓部１７から外部に向かってカーテン状に照射される。 （もっと読む）

【課題】患部の移動に合わせて精度よく照射野を追従させ、患部組織に正確に粒子線ビームを照射できる粒子線治装置を得ることを目的とする。
【解決手段】呼吸に伴う患部の変位を測定する患部変位測定装置９と、加速器１から供給された荷電粒子ビームの軌道を偏向させるステアリング電磁石６と、ステアリング電磁石６を経由して入射した荷電粒子ビームを所定の照射形状に加工して患部に照射する照射装置４と、ステアリング電磁石６と照射装置４との間に設置され、照射装置４に入射する荷電粒子ビームのビーム位置を測定するビーム位置モニタ５と、測定したビーム位置に基づくフィードバック制御機能を有し、測定した患部の変位に対応して荷電粒子ビームの軌道を偏向するように、ステアリング電磁石６の励磁量を制御するステアリング電磁石制御部１０と、患部の変位に対応して照射装置４を移動させる照射装置位置制御部４_Ｍと、を備える （もっと読む）

【課題】装置内に持ち込まれる菌や酸素を低減することを簡易な構成で実現し、かつ低エネルギー電子線を用いた開口容器用電子線照射装置を実現する。
【解決手段】容器搬入領域１と、電子線照射領域２と、電子線源１１と、容器排出領域３とで開口容器用電子線照射装置を構成し、前記各領域が大気圧よりもわずかに高い圧力のヘリウムまたはネオン雰囲気を保持するようヘリウムまたはネオンを注入する気体注入口を設け、容器搬入領域１と電子線照射領域２との接続部４を容器入口６より高位置に設け、電子線照射領域２と容器排出領域３の接続部５を、容器出口より高位置に設け、電子線照射領域２をヘリウムまたはネオンで実質的に満たされるようにした。 （もっと読む）

【課題】粒子線ビームの走査範囲や照射時間を拡大することなく患部の深さ方向の全域に渡って所望の線量分布平坦度を確保することができる粒子線ビーム照射装置を提供する。
【解決手段】粒子線ビーム照射装置は、ビーム走査部と、粒子線ビームのビーム幅を所定のビーム幅に拡大する散乱体と、粒子線ビームの体内飛程を、患部のビーム進行方向の大きさに合わせて分散し拡大するビーム飛程拡大装置と、粒子線ビームの最深体内飛程を、患部の奥側の外郭形状に合致させる補償フィルタと、ビーム進行方向と直交する面における患部の外周形状の外側へのビーム照射を遮蔽するコリメータと、ビーム進行方向と直交する面における線量分布の平坦度を測定する平坦度モニタと、を備え、各構成品は、患部に近い方から、補償フィルタ、コリメータ、ビーム飛程拡大装置、平坦度モニタ、散乱体、ビーム走査部、の順に配置される。 （もっと読む）

【課題】被処理物に電子線照射処理を施す際に、簡易な構成で被処理物の帯電を低減することができる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】電子線を照射する際には、中空状の被処理物の口部を導電性支持具で支持することにより、被処理物をアースに繋げた状態とする。被処理物を搬送するとき、その搬送方向は帯状電子線束に対して垂直となる方向とし、被処理物の向きは、被処理物の中心軸が帯状電子線束と平行になるように、或いは、被処理物の中心軸が帯状電子線束に対して垂直になるようにし、かつ被処理物の搬送方向において被処理物の底部が前でアースされた口部が後となるようにする。照射室内において被処理物を搬送し、中空状の被処理物内にガス供給部からのアルゴンガスを流しながら被処理物に電子線を照射して、被処理物に対して滅菌処理を行う。 （もっと読む）

【課題】樹脂製ボトル２に照射される電子線量が適正であるか否かを、電子線照射ゾーンＡで判断する。
【解決手段】照射窓１８から電子線を照射する電子線照射装置１６と、樹脂製ボトル２を搬送するボトル搬送装置２０を備えており、照射窓１８の前面に搬送されてきた樹脂製ボトル２に電子線を照射して殺菌する。照射窓１８の前方にこの照射窓１８と対向させてビームコレクタ４６が設置されている。ビームコレクタ４６は絶縁体４８により電気的に絶縁した状態で支持されている。このビームコレクタ４６に電子線が照射されて流れる電流を電流計測手段５２で計測し、比較手段５４によって所定の基準値と比較し、判定手段５６によって照射量が適正か否か判定する。適正でないときは指令手段５８の指示により、リジェクト手段２４がその樹脂製ボトル２および前後の樹脂製ボトル２を取り除く。 （もっと読む）

【課題】照射装置が設置される建屋の小型化を図ることができ、設備コストの低減を図ることが可能な加速粒子照射設備を提供すること。
【解決手段】本発明の加速粒子照射設備１は、回転軸Ｐ周りに回転可能な回転部３４を有すると共に粒子加速器で生成された加速粒子を照射する照射装置３と、照射装置３を収納する収納室８と、を備え、照射装置３の回転部は、回転部本体３４から径方向の外側に張り出す張出部３３ｂ，３８を有する構成とする。そして、収納室８の放射線遮蔽壁８６，８７は、照射装置３の回転部の周縁部分となる張出部３３ｂ，３８を収容可能な収容凹部９２，９１を有する構成とする。これにより、照射装置３の形状に対応した収納室８を実現することができ、収納室８の寸法を抑えることが可能となり、建屋６の小型化を図る。 （もっと読む）

【課題】指向性が高く、安定して高強度のイオンビームを得る。
【解決手段】このイオンビーム照射装置１０は、レーザー駆動型のイオン・電子発生装置２０と、イオン輸送装置３０とを組み合わせた構成と考えることができ、イオン・電子発生装置２０から発した指向性の低いイオンビームを、イオン輸送装置３０において指向性を高め、あるいは集束して末端まで導く。このイオン輸送装置３０においては、多重極磁石３２よりもイオンビームの流れにおける上流側のビームライン３１の周囲に、電子吸収体３３が設置される。電子吸収体３３は、高エネルギー電子を有効に吸収できる材料（例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等）で構成される。電子吸収体３３の周囲は、例えば鉛等の重金属で構成されたＸ線遮蔽体３４で覆われている。 （もっと読む）

【課題】照射装置が設置される建屋の小型化を図ることができ、設備コストの低減に有効である加速粒子照射設備を提供すること。
【解決手段】本発明の加速粒子照射設備１は、回転軸周りに回転可能な回転部を有すると共に粒子加速器２で生成された加速粒子を照射する照射装置３と、照射装置３を設置する設置スペース８を有する建屋６と、を備える構成とする。そして、照射装置３は、回転軸Ｐ線方向での長さが短い薄型とし、照射装置３の最大幅となる部分を設置スペース８の最大幅に沿って配置する。例えば、照射装置３の回転軸Ｐを建屋６の長辺方向Ｘに対して傾斜して配置する。これにより、設定スペース８を有効活用し、建屋６の小型化を図る。 （もっと読む）