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国際特許分類[H01F41/18]の内容

国際特許分類[H01F41/18]に分類される特許

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【課題】 飽和磁束密度、非晶質性、結晶化温度および耐食性に優れた熱アシスト磁気記録媒体用軟磁性合金およびそのスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 at.%で、Fe:0〜70%を含み、かつ下記(A)群の各種元素の1種または2種以上を5〜20%、残部Coおよび不可避的不純物からなる磁気記録用軟磁性合金。また、上記に加えて、at.%で、Fe:0〜70%を含み、かつ下記(B)群元素の1種または2種以上を5〜30%含有し、かつ(A)群元素と(B)群元素との和を10〜35%とし、残部Coおよび不可避的不純物からなる磁気記録用軟磁性合金およびスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体。
(A)Ti,Zr,Hf、(B)Cr,Mo,W (もっと読む)


【課題】DCスパッタ法を用いて、MgO膜を有する磁気記録媒体を高い生産性で製造することができ、同時にMgO膜の酸素欠損を抑制して高い結晶性を有するMgO下地層を与える方法の提供。
【解決手段】酸素含有ガス中でMgおよびMgOを含むターゲットを用いる反応性DCスパッタ法によって、非磁性基体にMgOからなる中間層を形成する工程と、中間層の上に、L10系規則合金を含む磁気記録層を形成する工程とを少なくとも含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】対向ターゲット式スパッタ装置において、磁性体膜の成膜速度を高速化するとともに、長時間の成膜安定性を実現する。
【解決手段】スパッタ装置のターゲットモジュールは、スパッタされる表面を対向して設けられる一対のターゲット部材を交換可能に保持する一対のターゲット保持部と、一方のターゲット部材の表面から他方のターゲット部材の表面に向かう磁束を発生する磁場発生手段と、ターゲット部材の表面上で周辺部分よりも中央部分の磁束密度が低下するように磁束密度を分布させる磁束密度分布調整手段と、を有する。 (もっと読む)


【課題】グラニュラ構造の垂直磁性層をスパッタリング法で形成するに際し、形成する磁性粒子を微細化し、また磁性粒子の粒界幅を広げ、今まで以上に高記録密度化に対応可能な電磁変換特性に優れた磁性層を形成可能とするターゲットを提供する。
【解決手段】磁気記録媒体のCo系磁性層をスパッタリング法で形成するために用いるターゲットを、CrまたはCr合金を5モル%以上含み、CoOを5モル%以上含み、融点が800℃以下の酸化物を合計で3モル%〜20モル%の範囲内で含み、気孔率が7%以下とする。またターゲットに、SiO、TiO、TiO、ZrO、Cr、Ta、Nb、Al、CeO2からなる群から選ばれる何れか1種を含有させる。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターンで形成された記録層を有し記録密度が高く磁気信号の記録の信頼性が高い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体10は、基板12と、基板12の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素14を構成する記録層16と、を有し、記録層16の材料はCo、Cr及びPtを含む磁性粒子と、Crを含み磁性粒子の間に存在する非磁性材料と、を含む材料であり、記録要素14を構成するCo、Cr及びPtの原子数の合計値に対する記録要素14を構成するCrの原子数の比率が記録要素14の側壁部14Aにおいて記録要素14の中央部14Bにおけるよりも低くなるように記録要素14中にCrが偏って分布している。 (もっと読む)


【課題】従来よりいっそうの超高記録密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基板上に少なくとも、非晶質のセラミックスからなるシード層、結晶性の配向制御層及びFePt合金を主成分とする材料からなる磁性層をこの順に備える垂直磁気記録媒体である。この垂直磁気記録媒体は、基板上に少なくとも、上記シード層、上記配向制御層及びFePt合金を主成分とする材料からなる磁性層をこの順にスパッタ成膜し、前記磁性層を500℃以下の所定温度で成膜することによって好適に製造される。 (もっと読む)


【課題】 磁気記録層の磁性粒子の微細化と孤立化を促進するという本来の目的を達成しつつ、コロージョンも生じさせない下地層を備えた垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明にかかる垂直磁気記録媒体100の構成は、基体110上に少なくとも、信号を記録する磁気記録層122と、磁気記録層より下に設けられる下地層118と、下地層の結晶配向性を制御するための非磁性層116と、非磁性層より下に設けられる軟磁性層114とを備え、下地層118は下方から順に、ルテニウムを含む第1下地層118aおよび第2下地層118bと、金属を含む第3下地層118cとの3層で構成され、スパッタリングによる成膜時のガス圧は、上記の3層のうち第2下地層118bが最も高いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高いSNRを確保しつつ摺動耐久性を向上させることで、信頼性の向上および更なる高記録密度化の達成を図る。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気記録媒体の製造方法の構成は、基板上に少なくとも、CoCrPt合金を主成分とする磁性粒子と酸化物を主成分とする非磁性の粒界部とからなる主記録層を成膜する主記録層成膜工程と、主記録層上にRu合金またはCo合金を主成分とする分断層を成膜する分断層成膜工程と、分断層成膜工程の後に基板に加熱処理を施す第1加熱工程と、第1加熱工程の後にCoCrPtを主成分とする材料からなる補助記録層を成膜する補助記録層成膜工程と、補助記録層成膜工程の後に基板に加熱処理を施す第2加熱工程と、第2加熱工程の後にCVD法によりカーボンを主成分とする保護層を成膜する保護層成膜工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】低スパッタリング圧力にすることなく、簡便に平坦性の高い膜が得られるスパッタリング膜の成膜方法を提供すること。
【解決手段】本発明のスパッタリング膜の成膜方法は、基材上へのスパッタリング膜の成膜方法であって、スパッタリングターゲットのエロージョン位置における前記スパッタリング表面に対して垂直な方向の磁場強度(単位;ガウス[G])が下記関係式(1)を満足することを特徴とする。
磁場強度[G]≧スパッタリングターゲット表面の面積[cm]×14…式(1) (もっと読む)


【課題】従来の連続膜媒体の作製プロセスに近い簡便な方法を用い、磁気記録層において配向分散を抑制しつつ磁気クラスターサイズを減少させることができる下地層の分離構造を形成し、かつ下地層の薄膜化による記録性能の高性能化が可能な垂直媒体の提供。
【解決手段】非磁性基体上に少なくとも下地層および磁気記録層が順次積層されてなる垂直磁気記録媒体であって、前記下地層は結晶粒子と非晶質結晶粒界とからなり、該結晶粒子が、(成長初期の底面積)>(上部の面積)である形状を有することを特徴とする垂直磁気記録媒体。 (もっと読む)


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