本発明は、(ａ)支持構造体(１０８)の第１の面上に配置されている第１の材料層(１１０)であって、この第１の材料層はこれに入射荷電粒子(１０４)が当るのに応答して二次電子を発生するように構成されているとともに、開口(１１２)を有しており、この開口は入射荷電粒子の一部がこの開口を通過するように構成されている当該第１の材料層と、(ｂ)支持構造体の第２の面上に前記第１の材料層から例えば、０．５cm以上の距離だけ離間されて配置されている第２の材料層であって、この第２の材料層は、荷電粒子が前記開口を通過してこの第２の材料層に当るのに応答して二次電子を発生するように構成されている当該第２の材料層とを具える装置、システム及び方法を提供するものであり、装置は荷電粒子検出器とする。
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【課題】 加熱して温度を上げたときのフィラメントの腐食および自重による撓みを抑制する。
【解決手段】 このフィラメント４は、通電加熱されて熱電子を放出するフィラメント部６と、フィラメント部６が貫通していてそれからの熱によって加熱されて熱電子を放出する筒状の熱電子放出部８とを備えている。熱電子放出部８を構成する材料の方がフィラメント部６を構成する材料よりも熱電子放射電流密度が大きく、剛性率はフィラメント部６を構成する材料の方が大きい。 （もっと読む）

冷却式荷電粒子源及び方法を開示する。いくつかの実施形態では、荷電粒子源を、固体窒素等の固体クライオジェンに熱結合する。熱結合は、荷電粒子源を所望の低温で維持するための良好な熱伝導率を提供するよう設計することができる。 （もっと読む）

荷電粒子源、例えばガスイオン源の先端の頂部を加熱するシステム及び方法であって、先端頂部が発生させた光を検出するよう構成した検出器と、荷電粒子源及び検出器と結合したコントローラとを備え、コントローラを、検出器が検出光に基づき先端頂部の加熱を制御できるようにした、システム及び方法。 （もっと読む）

【課題】ＥＣＲイオン源を用いて、原子内包フラーレンを容易に形成し、かつイオンビームとして引き出し、分析するＥＣＲイオン源装置を提供する。
【解決手段】常温で気体の物質と、高融点の物質のガスのＥＣＲプラズマを生成可能なＥＣＲチェンバ部１ａと、フラーレンガス供給用の蒸発源１０８を有するプロセスチェンバ部１ｂと、イオン引き出しメッシュ電極１０４と、イオンアパーチャ１０７とを備え、イオン引き出しメッシュ電極１０４とイオンアパーチャ１０７への印加電圧を制御することにより、ＥＣＲプラズマのプラズマポテンシャルを制御し、ＥＣＲプラズマからイオンのみをプロセスチェンバ部１ｂへ抽出し、当該イオンをフラーレンにイオン注入し、フラーレン誘導体を生成すると同時に、イオンアパーチャ１０７よりイオンビーム９４として引き出し、分析するＥＣＲイオン源装置５０。 （もっと読む）

【課題】原材料の供給量を安定化することができ、ひいてはイオンを安定して発生させることができるイオン源装置およびイオン発生方法、ならびに前記イオン源装置を備えるイオン注入装置および前記イオン発生方法によってイオンを発生させるイオン注入方法を提供する。
【解決手段】原材料容器２２とアークチャンバ２３とを接続する配管２４の内部にオリフィス板３１を設け、原材料容器２２で発生した塩化アルミニウム気体８を、オリフィス板３１に形成される連通孔を通して流下させる。これによって、原材料容器２２内では、圧力が上昇して、塩化アルミニウムが液化する圧力以上の圧力になり、固体であった塩化アルミニウムが塩化アルミニウム液体２７になる。この塩化アルミニウム液体２７の蒸発によって発生した塩化アルミニウム気体８をアークチャンバ２３に供給する。 （もっと読む）

【課題】 小型化が可能であり、かつイオンビーム生成効率の高いイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源２は、プラズマ生成室２２と、その内部に配置された熱陰極１０と、その内部導体１４に原料ガス８を供給するガス供給パイプ２８と、プラズマ電極３８を有していてプラズマ２０からイオンビーム５０を引き出す引出し電極系３６とを備えている。熱陰極１０は、中空の外部導体１２と、その内側に同軸状に配置された中空の内部導体１４と、両導体１２、１４の先端部を電気的に接続する接続導体とを有しており、原料ガス８は内部導体１４の先端からプラズマ生成室２２内へ放出される。プラズマ電極３８は、陽極を兼ねていて、プラズマ生成室２２の一端部に、熱陰極１０の先端部に対向するように配置されており、かつ熱陰極１０の内部導体１４の先端の正面にイオン引出し孔を有している。 （もっと読む）

【課題】 同軸構造の熱陰極を備えているイオン源において、イオンビーム生成効率の向上および熱陰極の長寿命化を可能にする。
【解決手段】 このイオン源２は、中空の外部導体１２と、その内側に同軸状に配置された中空の内部導体１４と、両導体１２、１４の先端部を電気的に接続する環状の接続導体１６とを有する熱陰極１０を備えている。熱陰極１０は、細長いイオン引出し口６の長手方向に沿うようにプラズマ生成容器４内に挿入されている。このイオン源２は更に、熱陰極１０の内部導体１４内に原料ガス８を供給してそれを内部導体１４の先端からプラズマ生成容器４内へ放出させるガス供給機構を備えている。 （もっと読む）

【課題】高輝度で低エミッタンスのイオン供給源、加速／減速移動システム及び改善したイオン供給源を提供する。
【解決手段】イオン化チャンバー（８０，１７５）の出口開口部(４６，１７６)に近接の直進電子の衝撃イオン化により、例えば、二量体又はデカボランのガス又は蒸気をイオン化することによりイオン注入を行う。イオン供給源は、供給ガスを受け取るためのガス入口を有する囲まれた空間を規定する、長短軸を有するリボン状のビームとしてイオンを前記イオン化チャンバーから出させるための細長溝として形成された出口開口部を有するイオン化チャンバーと、前記イオン化チャンバーの前記供給ガスをイオン化するとともに分子イオンを形成するため電子を発生するための電子供給源と、前記リボン状のビームを加速するための前記細長溝の近くに配置された縮小レンズと、を備えていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、イオン電流不安定化の原因であるエミッタ先端への付着物を速やかに除去し、イオン電流を安定に供給することができるガス電界電離イオン源を搭載したイオンビーム装置を提供することに関する。
【解決手段】本発明におけるイオンビーム装置では、イオンを放出するエミッタに電子を照射する電子源を備え、イオン源のエミッタへ付着する不純物によりイオン電流が不安定となった際には、そのイオン電流の変動を感知してエミッタ先端に電子を照射する。本発明によれば、エミッタ先端に付着した不純物を、その吸着状態によらず除去することができ、付着物の時間経過による自然脱離を待たずにイオン電流の安定化が可能となる。 （もっと読む）