【課題】本発明の目的は、ガス電界電離イオン源の安定性向上に関する。
【解決手段】本発明は、ＧＦＩＳにおいて、固体窒素を利用して冷却することに関し、針状の陽極エミッタと、該エミッタ先端部にてガス分子をイオン化して引き出す電界を形成する引き出し電極とを有するガス電界電離イオン源であって、該エミッタを冷却する冷却剤が、常温且つ大気圧下ではガス状態である冷媒ガスを固体状態とした冷却剤であるガス電界電離イオン源を備える。本発明によると、冷却手段の機械振動が低減できる。その結果、高安定なＧＦＩＳとこれを搭載した走査荷電粒子顕微鏡を提供できる。 （もっと読む）

【課題】ＥＣＲイオン源の製造コストを低減させる。
【解決手段】ＥＣＲイオン源のミラー磁場発生装置１は、プラズマを生成し閉じ込めるプラズマチャンバー２と、正多角形または円形の複数の永久磁石３２がプラズマチャンバー２の周囲に配置され、該複数の永久磁石３２によりプラズマチャンバー２内のプラズマを閉じ込めるミラー磁場を生成するミラー磁場生成部３と、を備える。汎用性のある永久磁石を用いてプラズマチャンバーにミラー磁場を発生させることができるので、永久磁石の配置や個数を調整することでミラー磁場を簡便に調整することができる。つまり、ＥＣＲイオン源の仕様変更に対して、新たな仕様に応じたサイズや特性の異なる永久磁石を作成することなく、仕様変更に対応可能となる。この結果、プラズマチャンバーの大型化などＥＣＲイオン源の仕様変更に対して、製造コストを低減させることができる。 （もっと読む）

【課題】試料に照射するイオンビーム電流量を増大させ、試料加工のスループットが高い集束イオンビーム装置を提供すること。
【解決手段】エミッター１にガスを供給し、エミッター１先端に電界を形成し、供給したガスを電界電離させイオンビーム７を放出する電界電離型イオン源のエミッターにおいて、エミッター１先端は、原子レベルの突起部１ｃと、突起部を有する球状部と、球状部に続く傾斜角を有する円柱部と、からなり、球状部の曲率半径が１１０ｎｍ以上であり、かつ、傾斜角が、１５°以下である電界電離型イオン源のエミッターを有する集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】いわゆるバケット型イオン源においてプラズマ生成効率を向上させる。
【解決手段】直方体形状をなし、一の側壁２１ａにイオン引き出し口２１Ｈが形成されたプラズマ生成容器２１と、イオン引き出し口２１Ｈが形成された側壁２１ａ以外の他の側壁２１ｂ〜２１ｆの外面に沿って設けられ、プラズマ生成容器２１内部にカスプ磁場を形成する複数の磁石２２と、プラズマ生成容器２１の隣接する側壁間に形成される角部２１Ｋから内部に挿入して設けられた１以上のフィラメント２３とを備える。 （もっと読む）

【課題】イオンビームの放出電流値の安定性を向上させることの可能な液体金属イオン源、該液体金属イオン源を製造する方法、及び該液体金属イオン源を備えるイオンビーム照射装置を提供する。
【解決手段】
液体金属イオン源１０は、外周面が互いに接する並列に配置された２本の金属ワイヤ１１ａ，１１ｂで形成されたニードル電極１１を備え、ニードル電極１１は、金属ワイヤ１１ａ，１１ｂの位置関係が整合された案内流路および放出端Ｔを備え、案内流路は放出端Ｔまで連なって形成される。案内流路の底に向かって、案内流路の幅はゼロまで小さくなるため、案内流路に液体金属が供給されると、案内流路の底近傍において毛細管現象が発現し、通常のサーフェスフローではなくボリュームフローが発現する。また、放出端Ｔへの液体金属の流れは連続的になり、濡れ性の悪い液体金属を用いても放出端Ｔまで安定に供給され、イオンビーム放出電流値が安定する。 （もっと読む）

【課題】イオン源のイオン種切り替えを容易に行い、用途に合わせて適切なイオン種を用いること。
【解決手段】ガス種毎に、チップの設定温度と、イオン源ガスのガス圧力と、引出電極に印加する引出電圧と、コントラストの設定値と、ブライトネスの設定値と、を記憶する記憶部３０２と、ガス種を選択し入力する入力部１０６と、入力したガス種に対応する設定温度と、ガス圧力と、引出電圧と、コントラストの設定値と、ブライトネスの設定値と、を記憶部３０２から読み出し、それぞれヒーター１ｂと、ガス制御部１０４と、電圧制御部２７と、観察像の調整部３０３を設定する制御部３０１と、を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】誘導結合プラズマイオン源が高ｄｃ電圧にバイアスされた集束イオンビームシステムにおいて、イオン源内のプラズマに点火する方法を提供する。
【解決手段】バイアス電源９３０からの高ｄｃ電圧は、集束イオンビームカラムの近くでプラズマ点火装置９５０からの振動波形が結合（重畳）されて、プラズマ室９５４の一部を構成する源バイアス電極９０６に印加される。プラズマ点火装置９５０は論理回路９２４によって制御されるプラズマ点火装置電源９２５によって駆動される。電位の低いプラズマ点火装置９５０からの振動波形は、絶縁変圧器またはキャパシタ等を通して高ｄｃ電圧に結合（重畳）される。集束イオンビームカラムの近くにプラズマ点火装置９５０を取り付けることによって、高ｄｃ電圧を供給するケーブルの静電容量の影響が最小化される。 （もっと読む）

【課題】 マクロンの供給量を精確に制御することができ、かつ、マクロンにダイヤモンド等の絶縁性物質(半絶縁性物質を含む)を使用した場合でもターゲットに多量のマクロンを照射できるマクロン加速装置の電極構造を提供すること。
【解決手段】 マクロン加速装置のマクロン供給機構Ｓを、前記ベース板Ｂの裏側に固定され、かつ、筒壁に微粒子の投入口11を有する円筒電極１と；この円筒電極１の内側に固定され、かつ、投入口11の下方からベース板Ｂに向けて下方に傾斜した樋型のスロープ部21を有する浮遊電極２とを含んで構成し、
前記円筒電極１の投入口11から筒内部に投入された微粒子が、前記浮遊電極２のスロープ部21上を滑り落ちてベース板Ｂの近傍に落下するようにした。 （もっと読む）

【課題】周期構造を有する試料でも観察対象の構造の断面を観察可能な断面加工観察を図ること。
【解決手段】試料５に集束イオンビーム３を照射する集束イオンビーム照射系１と、試料５上の集束イオンビーム照射領域に荷電粒子ビーム４を照射する荷電粒子ビーム照射系２と、試料５から発生する二次荷電粒子を検出する二次荷電粒子検出器７ａと、異なる断面間隔の断面を作成する集束イオンビーム３の照射信号を集束イオンビーム照射系１に送信する処理を行う処理機構１１と、を有する集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）