【課題】被スパッタ面の面積を可及的に大きくすると同時に、被スパッタ部材の取り付け構造を簡単化するだけでなく反射電極構造体をコンパクトにしつつ、陰極から射出される電子の反射効率を向上させる。
【解決手段】プラズマ生成容器２内に設けられ、陰極３に対向配置されて電子を陰極３側に反射する反射電極構造体４であって、プラズマによりスパッタリングされて所定のイオンを放出するものであり、被スパッタ面４１Ａとその裏面とを貫通する貫通孔４１１を有する被スパッタ部材４１と、被スパッタ部材４１の貫通孔４１１に挿入されて被スパッタ部材４１を支持するとともに、貫通孔４１１を介して被スパッタ面４１Ａ側に露出した反射電極面４２Ｘを有する電極本体４２とを備える。 （もっと読む）

【課題】電界電離電極の先端部の損傷を抑えてその寿命の長期化を図ることができるイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源は、尖った先端１６を有する電界電離電極１０と、これを収容する容器２０と、対向電極３０と、例えば磁石３４，３６からなる磁場形成手段とを備える。容器２０は、微小開口２６を囲む先端部２４を有し、その微小開口２６から電界電離電極１０の先端１６が容器２０の外部に突出する位置に電界電離電極１０が配置される。対向電極３０は、容器２０の先端部と対向し、電界電離電極１０の先端１６の近傍に電界電離用の電界を形成する。磁場形成手段は、対向電極３０の面であって容器２０に対向する対向面３１の上に、微小開口２６の径方向と平行な方向に延びる磁力線を有するような磁場を形成して、電界電離電極１０と二次電子や負イオンとの衝突を抑止する。 （もっと読む）

プラズマ処理装置は、ワークピースに注入されるイオンを含むプラズマをプラズマチャンバ内に発生させるように構成されたプラズマ源を備える。本装置は、開孔構成を有する集束プレートも含み、該開孔構成は、該集束プレート近傍のプラズマのプラズマシースの形状を変更するように構成されている。本装置はさらに、ワークピースにおける集束イオンの静止時注入領域が開孔よりも実質的に狭くなるように集束プレートから離間されたワークピースを収容するプロセスチャンバも備える。本装置は、イオン注入中にワークピースを走査することによりワークピース内に複数のパターン化エリアを形成するように構成される。 （もっと読む）

【課題】誘導結合プラズマ・イオン源を使用した集束イオン・ビーム（ＦＩＢ）システムにおいてミリングおよび画像化を実行する方法を提供すること。
【解決手段】本方法では、ＦＩＢシステムをミリング・モードで動作させるための最適化されたパラメータを表す第１のセットと、画像化モードで動作させるための最適化されたパラメータを表す第２のセットの２つのＦＩＢシステム動作パラメータ・セットが利用される。これらの動作パラメータは、ＩＣＰ源内のガス圧、ＩＣＰ源へのＲＦ電力およびイオン抽出電圧を含むことができ、いくつかの実施形態では、レンズ電圧およびビーム画定アパーチャ直径を含むＦＩＢシステム・イオン・カラム内のさまざまなパラメータを含むことができる。最適化されたミリング・プロセスは、基板の表面から材料をバルク（低空間分解能）高速除去する最大ミリング速度を提供する。最適化された画像化プロセスは、ミリング中の基板領域の画像化を改善するため、最小化された材料除去およびより高い空間分解能を提供する。 （もっと読む）

ここに開示されたいくつかの技術は、分子ビーム部品から残留物を清浄することを促進する。例えば、典型的な方法では、分子ビームは、ビーム通路に沿って供給され、分子ビーム部品において残留物を増加させる。その残留物を減少させるために、分子ビーム部品は、フッ化炭化水素プラズマにさらされる。フッ化炭化水素プラズマへの接触は、第１の予め定められた条件が満たされたかどうかに基づいて終了し、第１の予め定められた条件は、残留物の除去の範囲を示している。他の方法およびシステムについても開示されている。
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【課題】本発明は、目的とする引出電圧を持つナノエミッタを容易に作製することができる集束イオンビーム装置におけるナノエミッタ作製方法を提供する。
【解決手段】集束イオンビーム装置におけるナノエミッタ作製方法であって、目的の引出電圧を引出電極に印加する工程と、エミッタ先端部でマイグレーションを起こさせるようなガス圧をガス供給手段に設定する工程と、エミッタ先端部のマイグレーションの発生を認識しその状態を維持するようなガス圧をガス供給手段に設定する工程と、ナノ突起物の形成が始まったことに基づいてマイグレーションを遅くするようなガス圧をガス供給手段に設定する工程と、ナノ突起物の形成が完了したことに基づいてマイグレーションを停止するようなガス圧をガス供給手段に設定する工程とから成る。 （もっと読む）

【課題】グリッド交換時の出力特性の再現性、温度変化に伴う形状安定性、及び保管性に優れるハーフパイプ型グリッドを備えるイオンガンを提供する。
【解決手段】イオンガンにおいて、内部にプラズマを発生させる本体、本体内部からプラズマを引き出すためのグリッド、及びグリッドを本体との間に挟みこむ枠状の加速電極を備え、本体のグリッドに対向する端面が谷折状の湾曲面を有し、グリッドが平板グリッドからなり、本体とグリッドとの接面において湾曲面に一致する曲面をなすように装着される構成とした。 （もっと読む）

【課題】金属材料をイオン注入する場合であっても、寿命が長く、高濃度のイオン注入を行うことが可能なイオンソースヘッド及びそれを用いたイオン注入装置を提供する。
【解決手段】本発明のイオンソースヘッド２００は、アークチャンバ２０２と、両端部がアークチャンバ２０２外に露出するようにアークチャンバ２０２内に配置されたフィラメント２０４と、フィラメント２０４の端部と電気的に接続するフィラメント電極２０６と、フィラメント電極２０６の少なくとも一部を覆う位置に配置された絶縁体２１４とを備える。 （もっと読む）

【課題】放電の開始（点火）を容易にする宇宙機用ホローカソードを提供すること。
【解決手段】キーパ電極板６に対面する先端部が、ナノカーボンの微小突起群構造、微細加工技術による微細突起（群）構造、電気伝導体と電気絶縁体が交互に隣接した複合部材、あるいは放電等の作用により自発的にナノカーボン構造が形成・維持されるカーボン系材料または熱電子放出特性に優れたカーボン系材料で構成された部材を放電開始促進板Ａ〜Ｅ３１,３２,３３,３４,３５としてオリフィス板４の下流側に取り付ける。
または、オリフィス板４自体を、キーパ電極板６に対面する先端部が上記微細突起（群）構造、電気伝導体と電気絶縁体が交互に隣接した上記複合部材、あるいは放電等の作用により自発的にナノカーボン構造が形成されるカーボン系材料または熱電子放出特性に優れたカーボン系材料によって成形する。 （もっと読む）

【課題】 タンタル製のフィラメントを有しており、しかも当該フィラメントの加熱時の自重による変形が少ないプラズマ源およびそれを備えるイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源を構成するプラズマ源２は、プラズマ生成容器４と、その内部に配置された複数のフィラメント１０とを有している。そして各フィラメント１０をタンタル製とし、かつ各フィラメント１０を沿直下向きに（即ち重力Ｇ方向に向けて）配置している。 （もっと読む）