【課題】複雑な調整機構を用いることなく安定したビームの照射を図ること。
【解決手段】針状のチップ１と、チップ１にガスを供給するイオン源用ガスノズル２とイオン源用ガス供給源３からなるガス供給部と、チップ１との間で電圧を印加し、チップ１の表面に吸着したガスをイオン化してイオンを引き出す引出電極４と、イオンを試料１３に向けて加速させるカソード電極５からなるイオン銃部１９を備え、イオン銃部１９より試料１３側に位置し、イオン銃部１９から放出されたイオンビーム１１の照射方向を調整するガンアライメント電極９と、試料１３にイオンビーム１１を集束させる集束レンズ電極６と対物レンズ電極８からなるレンズ系を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

イオン注入システムのイオン源の性能および寿命が向上する、イオン注入システムおよび方法であって、そのような向上を得るために有効な、同位体濃縮されたドーパント材料を使用することによる、またはドーパント材料と補給ガスとを使用することによるイオン注入システムおよび方法。 （もっと読む）

【課題】複雑な調整機構を用いることなく安定したビームの照射を図ること。
【解決手段】針状のチップ１と、チップ１にガスを供給するイオン源用ガスノズル２とイオン源用ガス供給源３からなるガス供給部と、チップ１との間で電圧を印加し、チップ１の表面に吸着したガスをイオン化してイオンを引き出す引出電極４と、イオンを試料１３に向けて加速させるカソード電極５からなるイオン銃部１９を備え、イオン銃部１９とレンズ系の間に配置された第二のアパーチャ１０と、試料１３にイオンビーム１１を集束させる集束レンズ電極６と対物レンズ電極８からなるレンズ系を備えている集束イオンビーム装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】装置全体を大きくすることなく、基板への入射イオンビームの均一性を図ったイオンビーム発生装置を提供する。
【解決手段】放電槽２でプラズマを発生させ、引き出し電極７より環状のイオンビームを引き出し、偏向電極３０によって、該イオンビームを環状の中心方向に屈曲させて基板Ｗに対して、傾斜した方向から入射させる。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビーム装置に用いられる誘導結合型プラズマイオン源において、プラズマ室を冷却する手段と方法、並びにプラズマ室と接地電位の間の異常放電を防止する手段と方法を提供する。
【解決手段】プラズマ室１０２の外壁１０６に沿って絶縁性液体１２６を流すことによってプラズマ室を冷却する。プラズマ源ガスは接地電位にあるタンク１５０からレギュレータ１５２、調整弁１５６、および流量制限器１５８を介してプラズマ室１０２に供給される。前記流量制限器を前記プラズマ室の近傍に設けて、プラズマ電位と接地電位との間の電圧が比較的ガス圧力の高いところに加わるようにすることによって、プラズマ室と接地電位の間の異常放電を防止する。 （もっと読む）

【課題】イオンビーム発生装置の第２電極と、第２電極と接続される電源との間に、並列接続してバイパス回路を設けることにより、電源の焼損を防ぐことができる。
【解決手段】イオンビーム発生装置は、プラズマ発生源５と、プラズマ発生源１により発生されたプラズマを閉じ込めるための放電槽１０と、放電槽の前面に設けられた引出し電極２０とを備え、該引出し電極２０は、放電槽１０側に設けられ、かつ正極直流電源７と接続するための第１電極２と、第１電極２の前面に設けられ、かつ負極直流電源８と接続するための第２電極３と、第２電極３の前面に設けられ、接地された第３電極４と、第２電極２と接続され、かつ該負極直流電源８と並列接続されたバイパス回路１４とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ビーム引出開始時の加速電源の電圧低下を抑制し、質の高いビームを放出できるイオン粒子電源を提供する。
【解決手段】フィラメント電源２と、アーク電源３と、イオン源の壁１と電極６間に直流電圧を印加してイオン粒子を加速するための加速電源４とから構成する。加速電源４は、
商用交流電源に接続された交流スイッチ７と、交流スイッチ７の出力を整流して直流に変換する整流器９と、整流器９の出力を平滑して直流電圧を得るためのコンデンサ１０と、
加速電源出力指令値を交流スイッチ７に与えてその出力電圧を制御するための制御手段２０を備える。制御手段２０は、直流電圧と電圧設定値との偏差に応じて加速電源出力基準を得る電圧制御手段２２と、加速電源４とアーク電源３が共にオンしたとき、所定の関数を発生する関数発生器２２とを有し、加速電源出力基準と関数発生器２２の出力を加算して加速電源出力指令値を得る。 （もっと読む）

【課題】グリッド・アセンブリ内の熱ひずみが小さいイオンビーム発生器を提供すること。
【解決手段】放電チャンバの側壁（１Ａ）、取付けプラットホーム（４０）および抽出グリッド電極アセンブリ（２０）の熱膨張係数α_Ｐ、α_Ｍおよびα_Ｇが、α_Ｐ＞α_Ｍ≧α_Ｇの関係を有するように選択される。たとえば、放電チャンバ側壁の材料はステンレス鋼またはアルミニウムであり、グリッドの材料はＭｏ、ＷまたはＣであり、また、プラットホームの材料はＴｉまたはＭｏである。 （もっと読む）

【課題】ターゲット表面に入射する正のイオン流による急速な帯電に起因するアーク放電を生じることなく、絶縁材料の堆積にも使用できるイオンビーム源を提供する。
【解決手段】非導電ターゲットとともに使用するイオンビーム源であって、イオンを抽出するグリッド１〜４と、このグリッドにパルス電力を供給する電源（直流電源１６およびビーム制御装置１７）とからなり、前記電源は、グリッド１電源〜グリッド３電源と、前記グリッドに対する電力の供給を接続および遮断するスイッチのセット１９と、このスイッチを制御する電力スイッチング装置２１と、スイッチの切替を行うためのパルス発生器２０とを有する。 （もっと読む）

【課題】被スパッタ面の面積を可及的に大きくすると同時に、被スパッタ部材の取り付け構造を簡単化するだけでなく反射電極構造体をコンパクトにしつつ、陰極から射出される電子の反射効率を向上させる。
【解決手段】プラズマ生成容器２内に設けられ、陰極３に対向配置されて電子を陰極３側に反射する反射電極構造体４であって、プラズマによりスパッタリングされて所定のイオンを放出するものであり、被スパッタ面４１Ａとその裏面とを貫通する貫通孔４１１を有する被スパッタ部材４１と、被スパッタ部材４１の貫通孔４１１に挿入されて被スパッタ部材４１を支持するとともに、貫通孔４１１を介して被スパッタ面４１Ａ側に露出した反射電極面４２Ｘを有する電極本体４２とを備える。 （もっと読む）