【課題】荷電粒子ビーム発生装置運転時の電極支持枠の熱膨張を抑え、開口部の形状が変形し難いスリット電極を提供する。
【解決手段】スリット電極は、開口部３を有する電極枠体２と、電極枠体２に着脱可能に取り付けられた複数の電極ユニットＵから構成されており、前記複数の電極ユニットＵの各々は、開口部３内に並設された複数本の電極棒５と、開口部３を挟んで各電極棒５の長手方向の端部を支持する一組の電極棒支持部材６とから構成される。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム発生装置の運転時に、開口部の形状が熱変形し難いスリット電極を提供する。
【解決手段】スリット電極２０は、開口部２２を有する電極枠体２１と、長手方向において電極枠体２１に対して移動可能に支持されているとともに、長手方向と略直交する方向に沿って開口部２２に並設された複数本の電極棒２３とを備え、電極枠体２１には、少なくとも開口部２２の外周領域の一部に電極枠体２１に冷媒を流入する為の冷媒流入口Ｒ_ＩＮと電極枠体２１から冷媒を流出する為の冷媒流出口Ｒ_ОＵＴとを備えた冷媒流路Ｒが設けられている。 （もっと読む）

【課題】防着板への電子の衝突を低減し、プラズマの生成効率を向上させる。
【解決手段】イオン源１は、プラズマ生成容器４と、プラズマ生成容器４内に配置された少なくとも１つのフィラメント１０と、プラズマ生成容器４に対向配置され、当該プラズマ生成容器４よりイオンビーム３を引き出す少なくとも１つの電極５〜８と、プラズマ生成容器４の外側に設けられていて、当該プラズマ生成容器４の内側領域にカスプ磁場を形成する複数の永久磁石１２と、プラズマ生成容器４の内壁に沿って配置された防着板１３とを備える。そして、防着板１３には、プラズマ生成容器の壁面を介して永久磁石１２と対向する位置に凹部１４が形成されている。 （もっと読む）

【課題】 不要なイオンの放出を抑制することができ、不要なイオンによる下流の線形加速器側の汚染を低減する。
【解決手段】 レーザ光の照射によりイオンを発生させるレーザ・イオン源であって、真空排気される容器１０と、容器１０内に配置され、レーザ光の照射により多価イオンを発生するターゲット２１が収容された照射箱２０と、照射箱２０からイオンを静電的に引き出し、イオンビームとして容器１０の外部に導くイオンビーム引き出し部１２と、照射箱２０から引き出されたイオンビームを静電力により収束する静電レンズ５１と、静電レンズ５１の下流側の位置に設けられ、該位置で収束されたイオンビームを通過させるアパーチャ５２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】より高圧の真空領域での使用を可能とし、用途の拡大が図られた、イオンガン、及び成膜装置を提供する。
【解決手段】スリット状の開口部１１が形成された陰極２と、開口部１１の幅方向に磁場を発生させる磁石３と、磁場に対し略垂直方向に電界を生じさせるように陰極２の裏面から離間配置された陽極５とを備え、陰極２の表面の開口部１１からイオンビームが引き出されるイオンガン１である。磁石３は、ＳｍＣｏ合金を主成分として構成され、開口部１１は、陰極２の裏面から内部に向かって垂直に延びる隙間が略一定の垂直部と、垂直部に連続し、陰極２の表面に向かって隙間が漸次拡がる傾斜部とから構成され、垂直部の隙間が、０．７ｍｍ以上２．５ｍｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】同一のイオン源から引き出した複数のイオンビームを用いて、試料の加工と観察を可能にするイオンビーム装置を提供する。
【解決手段】ガスボンベ５３、５４、ガス配管、ガス量調整バルブ５９、６０およびストップバルブ５７、５８とを備えた導入系統を少なくとも２つ備え、各々のガス系統においてガス量調整バルブにより真空容器内のガス圧力条件を設定でき、各々のガス系統のストップバルブの操作により真空容器内に導入するガスを切り替えることが可能であるイオン源を用いて、質量数の異なる少なくとも２種類のガスイオンを生成して、試料の加工時と観察時でガスイオンビーム種の切り替えを可能とする。 （もっと読む）

【課題】イオン液体を含有する溶液をエレクトロスプレー法により気相中に放出させることを用いるイオンビーム発生装置において、イオン液体は蒸気圧がほとんど無いため、真空中でも揮発せず、真空容器中にイオン液体が蓄積してしまうという課題があり、また、二次イオン質量分析（ＳＩＭＳ）用の一次イオンビーム源として応用する場合には、二次イオンの生成量の増大が課題となっており、前記課題を解決できる装置及び方法を提供する。
【解決手段】不揮発性であるイオン液体とは別に、揮発性を有する別の液体をも、エレクトロスプレー用細管（キャピラリー）に供給し、両成分からなるイオンビームを生成することにより、真空容器中に蓄積するイオン液体の総量を低下させることができ、また、二次イオン生成量も増大できる。 （もっと読む）

【課題】従来のイオン源に比べて電極枚数が少ないにも関わらず、従来のイオン源と同等の機能を有する新規なイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源１は、下流側（Ｚ方向側）からの電子の流入を抑制する抑制電極を備えていないイオン源１である。そして、イオンビーム３の引出し方向（Ｚ方向）に沿って配置された複数枚の電極（５、６、７）と、それら電極（５、６、７）の下流側（Ｚ方向側）に配置され、イオン源１より引出されたイオンビーム３を横切る磁界を発生させる少なくとも一対の磁極１４を有する磁界発生手段１１とを備えている。 （もっと読む）

【課題】アパーチャの寿命を長くでき、カラムバルブを閉じた際にも、コンタミの増加を防止し、また、再起動も短時間で行える集束イオンビーム装置を提供することにある。
【解決手段】高圧電源制御器１８１は、カラムバルブ１４の閉動作時に、引出電極１７に印加する引出電圧を下げ、または、制御電極１６に印加する制御電圧を下げて、エミッションを０μＡにする。また、カラムバルブ１４の開動作時に、引出電極１７に印加する引出電圧を元に戻し、または、制御電極１６に印加する制御電圧を元の電圧に戻す。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、集束イオン・ビーム（ＦＩＢ）システムなどの集束粒子ビーム・システム用の荷電粒子源を提供すること。
【解決手段】この源は、荷電粒子システムの軸を中心とすることができる小さな領域内にある独立してアドレス指定可能な多数の放出器を使用する。１つのチップから放出させ、または２つ以上のチップから同時に放出させることを可能にするため、これらの放出器は全て、個別に制御することができる。１つの放出器だけが活動化されるモードは高輝度に対応し、複数の放出器が同時に活動化されるモードは、高い角強度およびより低い輝度を提供する。単一の放出器を逐次的に使用することによって源の寿命を延ばすことができる。全ての放出器に対する機械／電気組合せアラインメント手順が記載される。 （もっと読む）