【課題】集束イオン・ビーム・カラム用のプラズマ源内の処理ガスの迅速な変更または汚染の迅速な除去を可能にする方法および装置を提供すること。
【解決手段】開閉式ガス通路は、荷電粒子ビーム・システムの誘導結合プラズマ源内の処理ガスまたは焼出しガスの迅速な排出を提供する。一般に源電極またはガス入口の一部に配置された弁は、プラズマ室を排気するために開いているときにガスの導通を増大させ、プラズマ源の動作中は閉じる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成容器への防着板の取り付け、取り外しに係る作業効率を改善する。
【解決手段】プラズマ処理装置やイオンビーム照射装置で用いられるプラズマ生成容器４内に防着板２０を防着板支持部材１５により取り付ける。この防着板支持部材１５は、プラズマ生成容器４の内壁に少なくとも一部が当接する本体部と、本体部より延設された端部を有するとともに、プラズマ生成容器４に防着板支持部材１５を組み付けたとき、端部はプラズマ生成容器４の内壁より離間している。 （もっと読む）

【課題】一定の加速電圧で処理対象物の厚さ方向全長に亘って均一なイオン濃度分布を得ることができる生産性のよいイオン注入法を提供する。
【解決手段】本発明は、減圧下で所定の処理ガスを導入してプラズマを形成し、このプラズマ中のイオンを引き出し、引き出したイオンを加速して処理対象物Ｗ内に注入するイオン注入法であって、処理ガスとして、Ｘ_ｍＹ_ｎ（式中、Ｘ及びＹを互いに異なる元素であって、その質量数が１、５〜４０の原子とし、ｍ＝１〜４、ｎ＝１〜１０とする）で表される分子の中から選択されるものを用いる。 （もっと読む）

【課題】 イオン源の引出し電極系を構成する電極の広い領域に亘って高速で堆積物を除去することができるクリーニング方法を提供する。
【解決手段】 イオン源２のプラズマ生成部４にイオン化ガスを導入してイオンビームを引き出す代わりに、引出し電極系１０を構成する第１電極１１と第２電極１２との間にクリーニングガス４８を供給して、第１電極１１と第２電極１２との間のガス圧を、イオンビーム引き出し時のガス圧よりも高く保った状態で、第１電極１１と第２電極１２との間にグロー放電用電源６０から電圧を印加して、両電極１１、１２間にクリーニングガス４８のグロー放電８０を発生させる。 （もっと読む）

【課題】従来のイオン源に比べて、フィラメント（カソード）の断線が少なく、安定して、大型かつ大電流のイオンビームを生成する。
【解決手段】イオン源８は、スリット状開口部１１を有し、内部に突出した先端部がプラズマ３に接触しない位置に配置された少なくとも１つのカソード２を備えたプラズマ生成容器Ｕ１１〜Ｕ４２を複数備えている。さらに、スリット状開口部１１の長手方向に沿って各プラズマ生成用器内Ｕ１１〜Ｕ４２に磁場を発生させる磁場生成手段１２と、スリット状開口部１１を通して、断面形状が略長方形状のリボン状のイオンビーム１９を引き出す引出電極６とを備えている。そして、略長方形状断面の短手方向から見たとき、各プラズマ生成容器Ｕ１１〜Ｕ４２から引き出されたリボン状のイオンビーム１９の略長方形状断面の長手方向における一端部が互いに重なっている。 （もっと読む）

【課題】冷電極を用いてシート状のビームを発生させることのできる、シート状ビーム発生装置を提供する。
【解決手段】平板型電極１と、接地電極７と、平板型電極１と接地電極７との間に電圧を印加する電源３と、平板型電極１と接地電極７が収容される真空容器４と、真空容器４の外部に設けられ平板型電極１から発生する粒子ビームを誘導する磁場を発生させる磁場発生コイル６とを備えた。平板型電極１の表面に粒子ビームを発生させるための粒子ビーム発生部２を形成した。粒子ビーム発生部２は略均一の粗さを有する。 （もっと読む）

【課題】気体電界イオン源を用いて試料表面でスポットサイズ１０ｎｍ以下のイオンビームを有する汎用性、長器信頼性に優れたイオン顕微鏡を提供する。
【解決手段】気体と相互作用し、試料表面に10nm以下の寸法のスポットサイズ、1×109A/cm2sr以上の輝度、5×108A/cm2srV以上の還元輝度、5×10-21cm2sr以下のエタンデュ、1×10-16cm2srV以下の還元エタンデュ、を有するイオンビームを発生させることが可能な気体電界イオン源を含むシステムを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有機金属ガスを用いることなくガリウムイオンを含むイオンビームを発生させるとともに、被スパッタ面の面積を可及的に大きくすると同時に、被スパッタ部材の取り付け構造を簡単化するだけでなく、反射電極構造体をコンパクトにしつつ、陰極から射出される電子の反射効率を向上させる。
【解決手段】反射電極構造体４が、プラズマによりスパッタリングされて所定のイオンを放出するものであり、被スパッタ面４１Ａとその裏面とを貫通する貫通孔４１１を有する被スパッタ部材４１と、被スパッタ部材４１の貫通孔４１１に挿入されて被スパッタ部材４１を支持するとともに、貫通孔４１１を介して被スパッタ面側に露出した反射電極面４２Ｘを有する電極本体４２とを備えており、被スパッタ部材４１の材質が、酸化ガリウム、窒化ガリウム、リン化ガリウム、砒化ガリウム又はフッ化ガリウムである。 （もっと読む）

【課題】 イオン源において、加速器内部の真空を保ったまま真空容器内部のメンテナン
スをする。
【解決手段】 イオン源１は、開放または閉鎖できるメンテナンス開口部２とイオン取出
し口２ａ有する真空容器２、ターゲット２１をターゲット支持具６によって移動させるタ
ーゲット移動装置５と、ターゲット２１にレーザ光２２を照射するレーザ光源９と、イオ
ン導入口１１を有する加速器１１と、イオン取出し口２ａとイオン導入口１１ａとを接続
する連通管１２と、連通管１２を開放または閉鎖できるゲートバルブ１３とを備え、メン
テナンス開口部２ａを閉鎖し、連通管１２を開放し、さらに真空容器２および加速器１１
内を真空にした状態で、加速器１１は、イオン２３を連通管１２を介してイオン導入口部
１１ａから導入し加速する。 （もっと読む）

【課題】複数のフィラメントを有するイオンガンにおいて、イオンビームの電流密度を均一にする。
【解決手段】カソードが長手方向に延在する複数のフィラメントからなり、グリッドが長手方向に延在するイオンビーム引出し孔を有するイオンガンにおいて、イオンビーム引出し孔の周辺に配置された複数の主磁石であって、各々がＳ極をイオンビーム出射方向に、Ｎ極をその逆方向に向けて配置された主磁石、複数の主磁石の端部に長手方向及び幅方向に関して対称配置された少なくとも４個の第１の補助磁石であって、各々がＳ極を長手方向内向きに、Ｎ極をその逆方向に向けて配置された第１の補助磁石、及び複数のフィラメント間の離隔部分に対応する位置に幅方向に対称配置された第２の補助磁石であって、各々がＮ極をイオンビーム出射方向に、Ｓ極をその逆方向に向けて配置された第２の補助磁石を備える構成とした。 （もっと読む）