【課題】比較的簡便な工程でドナー濃度の異なる領域を一度に形成することが可能な、ｎ型拡散層の製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン基板上に、パターニングされた平均厚み０．０１μｍ以上２μｍ以下のシリコン酸化膜を形成する工程と、前記シリコン酸化膜を形成したシリコン基板上に、ドナー元素を含むガラス層を形成する工程と、ガラス層を形成した後に、熱拡散処理を施す工程と、前記熱拡散処理の後に、前記シリコン酸化膜および前記ガラス層を除去する工程と、を有するｎ型拡散層の製造方法。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板を用いた太陽電池素子の製造工程において、不要なｎ型拡散層を形成することなく特定の部分に分散媒由来の残渣が少ないｎ型拡散層を形成する方法、及び太陽電池素子の製造方法の提供。
【解決手段】ドナー元素を含むガラス粉末及び分散媒を含有するｎ型拡散層形成組成物１１を用いてシリコン基板にｎ型拡散層を１２形成し、超音波洗浄を実施する。 （もっと読む）

【課題】リンを拡散した半導体デバイスの中心部の抵抗値と周辺時の抵抗値のバラツキを発生させずにリンを拡散させることができ、かつ常温保存が可能なリン拡散用塗布液を提供することを目的とする。
【解決手段】（ａ）リン化合物、（ｂ）平均重合度が１５０〜４０００のポリビニルエステル系樹脂、（ｃ）アルコキシシラン、及び（ｄ）沸点が７０℃以上の有機溶剤を含有することを特徴とするリン拡散用塗布液。 （もっと読む）

【課題】 スクリーン印刷に好適であり、長時間の連続印刷や休止期間をおいた印刷が可能であり、皮膜形成後の半導体基板を直立状態で焼成したとしても抵抗値の上下バラツキが小さい半導体が得られるリン拡散用塗布液を提供すること。
【解決手段】 ポリビニルアルコール系樹脂（Ａ）、不純物（Ｂ）、および沸点が１００℃以上の多価アルコール（Ｃ）を含有し、該多価アルコール（Ｃ）の含有量が塗布液中の７０重量％以上である。 （もっと読む）

【課題】高集積化することができる半導体装置、金属膜の製造方法及び半導体装置の製造方法を提供することである。
【解決手段】実施形態に係る半導体装置は、半導体基板と、前記半導体基板に形成され、ヒ素を含むヒ素拡散層と、前記ヒ素拡散層上に形成された金属膜と、を備える。前記金属膜は、タングステン、チタン、ルテニウム、ハフニウム及びタンタルからなる群より選択された少なくとも１種の金属、並びにヒ素を含む。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板を用いた太陽電池素子の製造工程において、不要なｎ型拡散層を形成させることなく特定の部分にｎ型拡散層を形成するｎ型拡散層形成組成物、ｎ型拡散層の製造方法、及び太陽電池素子の製造方法の提供。また結晶シリコン基板を用いた太陽電池素子の製造工程において、シリコン基板上にｎ型拡散層形成組成物を塗布した後、予備加熱を施すことで、塗膜表面を固め、熱拡散処理前に洗浄が可能となる、ｎ型拡散層形成組成物、ｎ型拡散層の製造方法、及び太陽電池素子の製造方法の提供。
【解決手段】本発明のｎ型拡散層形成組成物は、ドナー元素を含むガラス粉末と、硬化性樹脂と、を含有する。このｎ型拡散層形成組成物を塗布し熱拡散処理を施すことで、ｎ型拡散層、及びｎ型拡散層を有する太陽電池素子が製造される。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板を用いた太陽電池素子の製造工程において、シリコン基板中の内部応力、基板の反りを発生させることなくｐ型拡散層を形成するｐ型拡散層形成組成物、ｐ型拡散層の製造方法、及び太陽電池素子の製造方法の提供。また結晶シリコン基板を用いた太陽電池素子の製造工程において、シリコン基板上にｐ型拡散層形成組成物を塗布した後、予備加熱を施すことで、塗膜表面を固め、熱拡散処理前に洗浄が可能となる、ｐ型拡散層形成組成物、ｐ型拡散層の製造方法及び太陽電池素子の製造方法の提供。
【解決手段】本発明のｐ型拡散層形成組成物は、アクセプタ元素を含むガラス粉末と、硬化性樹脂と、を含有する。このｐ型拡散層形成組成物を塗布し熱拡散処理を施すことで、ｐ型拡散層、及びｐ型拡散層を有する太陽電池素子が製造される。 （もっと読む）

【課題】シリコン基板を用いた太陽電池素子の製造工程において、シリコン基板中の内部応力、基板の反りを発生させることなくｐ型拡散層を形成するｐ型拡散層形成組成物、ｐ型拡散層の製造方法、及び太陽電池素子の製造方法の提供。
【解決手段】本発明のｐ型拡散層形成組成物は、アクセプタ元素を含むガラス粉末と、溶解度パラメーターが１２（ＭＪ／ｍ^３）^１／２以下であるバインダーを含む分散媒と、を含有する。このｐ型拡散層形成組成物を塗布し熱拡散処理を施すことで、ｐ型拡散層及びｐ型拡散層を有する太陽電池素子が製造される。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、ホウ素化合物の溶解性に劣るプロピレングリコール系溶剤を用いながら、高濃度にホウ素を拡散させることができるホウ素拡散用塗布液を提供することである。
【解決手段】（ａ）ホウ素化合物、（ｂ）アルコール性水酸基含有高分子化合物、（ｃ）プロピレングリコール誘導体、（ｄ）エチレングリコール、及び（ｅ）水を含有し、前記（ａ）ホウ素化合物の含有量が、酸化ホウ素（Ｂ_２Ｏ_３）とした場合に５質量％以上２０質量％以下であることを特徴とするホウ素拡散用塗布液。 （もっと読む）

【課題】側鎖に極性基を持たないシロキサンポリマーを含有する組成物の親水性基板に対する密着性を向上させる。
【解決手段】実施の形態に係るケイ素含有膜形成組成物は、側鎖に環構造を持つシロキサンポリマー（Ａ）と、極性低分子化合物（Ｂ）と、溶剤（Ｃ）と、を含有する。シロキサンポリマ−（Ａ）は、下記式（ａ−２）で表される構成単位を有する。極性低分子化合物（Ｂ）として、２級または３級のアルコールアミンまたはアルキルアミンなどの塩基性を有するアミン類が挙げられる。溶剤（Ｃ）は、シロキサンポリマー（Ａ）を溶解できるものであればよい。
【化１】
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