【課題】イオンビーム照射装置において、安価かつ簡単な構成で、広範囲に渡って基板割れの検出を行う。
【解決手段】基板８の裏面と対向する面に１つ以上の開口部を有する基板支持部材９と、基板８を搭載した基板支持部材９を駆動させて、イオンビーム３の少なくとも一部が基板８上に照射される照射領域とイオンビーム３が基板８上に照射されない非照射領域に基板８を搬送する基板駆動機構と、基板８の下流側でイオンビーム３が照射される位置に配置されたビーム電流計測器１１を備えたイオンビーム照射装置１で、照射領域内に基板８が搬送されているときに、ビーム電流計測器１１によって計測されたビーム電流の計測値に基づいて、基板割れの有無を検出する。 （もっと読む）

【課題】長尺体が巻回されかつデータキャリアが設けられた軸芯部材を支持軸で支持する際に、データキャリアに対するデータの通信を適切に行うための正確な位置合わせが不要な長尺体の支持装置および支持方法を提供する。
【解決手段】基端部２２１Ｅと先端部２２１Ｔとを有し、軸芯部材２３の一端側から挿入することで当該軸芯部材２３を支持する支持軸２２１と、支持軸２２１を基端部２２１Ｅ側から支えるフレームと、支持軸２２１の先端部２２１Ｃに固定することにより軸芯部材２３の位置決めが可能なガイド手段２６とを備え、軸芯部材２３には、中空部の他端側であって、軸芯部材２３の軸線ＣＦに直交する面内に所定のデータの記憶および送信の少なくとも一方が可能なデータキャリア２９が設けられ、支持軸２２１の軸線ＣＥに直交する外ガイド板２６４には、支持軸２２１の軸線ＣＥを囲むループ状に巻かれたループアンテナ２７が設けられている。 （もっと読む）

【課題】１つの層でガス流路が形成された静電チャック及びその製造方法、並びに前記静電チャックを有する基板温調固定装置。
【解決手段】基板載置する基体の内部に電極と環状のガス流路を有する静電チャックの製造方法であって、第１のグリーンシート１０２に隣接する複数の貫通孔１８０と連結部１９０を形成する貫通孔形成工程と、第２のグリーンシート１０１上に第１のグリーンシート１０２を仮接着し、複数の貫通孔１８０の一方の側を塞ぐ仮接着工程と、前記仮接着工程の後に、連結部１９０を除去し複数の貫通孔１８０を一体化して環状の貫通孔１８１を形成する連結部除去工程と、第１のグリーンシート１０２上に第３のグリーンシートを仮接着し、環状の貫通孔１８１の他方の側を塞ぎ、第１のグリーンシート１０２のみに環状のガス流路を形成するガス流路形成工程と、仮接着された各グリーンシートを焼成して前記基体を形成する基体形成工程と、を有する。 （もっと読む）

【課題】サセプタに複数枚の基板を設置して一度に複数枚の基板に薄膜を成長させる気相成長装置において、ゴミ等の介在やサセプタの設置不良を原因とする膜厚の不均一が生じない気相成長装置を得る。
【解決手段】本発明の気相成長装置１は、回転可能でかつ着脱可能なサセプタ５に複数の基板を載置して各基板に化合物半導体薄膜を成長させる気相成長装置１であって、
サセプタ５の載置状態を判定するサセプタ載置判定装置３を有し、サセプタ載置判定装置３は、回転するサセプタ５における少なくとも2カ所の高さ位置を計測する位置測定装置２２と、位置測定装置２２の計測値を入力してサセプタ５の高さ位置と傾斜が予め定めた許容値の範囲内かどうかを判定する判定手段４７とを備えたことを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】被処理基板と支持基板を適切に接合する。
【解決手段】接合装置の接合部１１３は、被処理ウェハＷを保持する第１の保持部２００と、第１の保持部２００に対向配置され、支持ウェハＳを保持する第２の保持部２０１と、第２の保持部２０１に保持された支持ウェハＳを覆うように設けられた鉛直方向に伸縮自在の圧力容器２７１を備え、当該圧力容器２７１内に気体を流入出させることで第２の保持部２０１を第１の保持部２００側に押圧する加圧機構２７０と、第１の保持部２００、第２の保持部２０１及び圧力容器２７１を内部に収容し、内部を密閉可能な処理容器２９０と、処理容器２９０内の雰囲気を減圧する減圧機構３００と、を有している。 （もっと読む）

【課題】長尺体が巻回されかつデータキャリアが設けられた軸芯部材を支持軸で支持する際に、軸芯部材の装着方向によらず、データキャリアに対するデータの通信を適切に行なうことができる長尺体の支持装置および支持方法を提供する。
【解決手段】基端部２２１Ｅと先端部２２１Ｔとを有し、軸芯部材２７における中空部の一端側を先端部２２１Ｔ側から挿入することで当該軸芯部材２７を支持する支持軸２２１と、支持軸２２１を基端部２２１Ｅ側から支えるフレームと、ループアンテナ２６とを備え、中空部の両端面２７１には、ループアンテナ２６を介して、所定のデータの記憶および送信の少なくとも一方が可能なデータキャリア２９が設けられ、支持軸２２１の先端部には、中空部の一端側に設けられたデータキャリア２９Ａを破断する破断手段２５が設けられている。 （もっと読む）

【課題】長尺体が巻回されかつデータキャリアが設けられた軸芯部材を支持軸で支持する際に、データキャリアに対するデータの通信を適切に行うための正確な位置合わせが不要な長尺体の支持装置および支持方法を提供する。
【解決手段】基端部２２１Ｅと先端部２２１Ｔとを有し、軸芯部材２７における中空部の一端側から挿入することで当該軸芯部材２７を支持する支持軸２２１と、支持軸２２１を基端部２２１Ｅ側から支えるフレームとを備え、軸芯部材２７には、中空部の他端側であって、軸芯部材２７の軸線ＣＦに直交する面２７１内に所定のデータの記憶および送信の少なくとも一方が可能なデータキャリア２９が設けられ、支持軸２２１の先端面２２１Ｃには、ループアンテナ２６が設けられている。 （もっと読む）

【課題】高速回転するスピンナーテーブルからフレームとともにウエーハが脱落しないようにすることを目的とする。
【解決手段】ウエーハＷを洗浄する洗浄装置２Ａに備えるフレーム保持手段３０は、フレーム４の下部４ｂを支持するフレーム支持部３１と、フレーム４の上部４ａを押さえスピンナーテーブル２０の回転中心に対して等角度に配設された複数のフレーム押さえ部３２とを備え、フレーム押さえ部３２は、アーム部３００と、上部３０１に形成されたフレーム４を押圧する爪部３１０と、下部３０２に形成された錘部３２０と、爪部３１０がフレーム４の上部４ａを押圧するようにアーム部３００を回転可能に支持する支点軸３３０と、を備え、錘部３２０にはスピンナーテーブル２０の回転時に遠心力に加え揚力が生じるように翼３２１が形成され、フレーム押さえ部３２がフレーム４を押さえてウエーハＷがスピンナーテーブル２０から脱落するのを防止する。 （もっと読む）

【課題】支持する被照射体の数を調節でき、被照射体同士の接触を防止できる光照射装置および光照射方法を提供すること。
【解決手段】光に反応する被照射体ＩＲに光を照射する光照射装置１は、前記被照射体ＩＲを支持する支持手段３と、前記支持手段３に支持された被照射体ＩＲに光を照射する発光手段２とを備え、前記支持手段３は、単数および複数の被照射体ＩＲを選択的に支持可能、かつ当該被照射体ＩＲを移動不能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】溶射皮膜の修理頻度を低減することができる載置台およびそのような載置台を用いたプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】基板Ｇにプラズマ処理を施す処理チャンバ内で基板を載置する載置台３であって、基材５と、基材の上に形成され、その上に基板が載置される載置部６′と、載置部６′の周囲に設けられた、分割式のシールド部材７′とを具備し、載置部６′は、シールド部材７′の分割部分に対応する部位を構成するセラミックス部材４３′と、それ以外の部分を構成する、表面にセラミックス溶射皮膜を有する溶射部とからなり、セラミックス部材４３′が交換可能である。 （もっと読む）