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国際特許分類[H01L23/12]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 半導体または他の固体装置の細部 (40,832) | マウント,例.分離できない絶縁基板 (9,861)

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【課題】積層される半導体チップの個数を増加させて高機能化を果たすとともに、薄板化の要求を満すことができるだけでなく、キャビティの内部下面を平坦化してキャビティに挿入される半導体チップを容易に整列できるようにする効果を有し、多数の半導体チップを同時に収容することができ、容易に高機能化を果たすことができるプリント回路基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施例によるプリント回路基板100は、第1絶縁材110a及び第1絶縁材110a上に形成された第2絶縁材110bを含む絶縁層110と、絶縁層110の内層及び外層に形成された回路パターン120と、第1絶縁材110a又は第2絶縁材110bに複数個形成された半導体チップ挿入用キャビティ140と、を含む。 (もっと読む)


【課題】半導体メモリを搭載する基板上においてデータ信号の劣化を防止した半導体メモリカード及びその製造方法を提供する。
【解決手段】実施の形態によれば、半導体メモリと、通常モード及び通常モードよりもデータ転送速度が速い高速モードの両方での半導体メモリへのデータの読み書きを制御するメモリコントローラと、少なくとも一つの内層を有する多層プリント基板に半導体メモリ及びメモリコントローラを表裏に分けて実装した回路基板とを備える。回路基板は、メモリコントローラと外部機器との間での高速モードによるデータ入出力用としてメモリコントローラの実装面に設けられ、金めっき加工が施された高速モード用の金端子と、高速モード用の金端子とメモリコントローラの実装用のボンディングパッドとの間の高速差動信号配線と、高速差動信号配線から分岐し、回路基板の面内において分岐点の近傍で切断された金めっき加工用のめっきリードを有する。 (もっと読む)


【課題】封止樹脂により半導体チップの電極形成面が封止され、再配線基板と実装基板との対向領域に封止樹脂が充填された半導体装置を、安価で提供すること。
【解決手段】再配線基板は、第1ランド及び第2ランドを同一面に有するとともに、これらランドの形成面が半導体チップの一面に対向配置されている。第2ランドは、半導体チップとの対向領域を取り囲む外周領域内であって、半導体チップとの距離が第1ランドよりも遠い位置に設けられている。実装基板は、半導体チップに対して再配線基板と反対側に配置されており、第3ランドは、半導体チップとの対向面において、半導体チップとの対向領域を取り囲む外周領域内に設けられている。そして、封止樹脂は、再配線基板と実装基板との対向領域に充填されて、再配線基板と実装基板の両方に接触しつつ、半導体チップの電極形成面を封止している。 (もっと読む)


【課題】パッケージダイシングにおける切削バリの発生を抑制する。
【解決手段】パッケージダイシング工程で、第1段階の切削として、軟らかいレジンブレード11でリード2aを含む封止体4hの一部分を切削することで、切削バリの発生を抑制することができ、その後、第2段階の切削として、硬い電鋳ブレード12を用いて切断残存部4fである樹脂部のみを切断することでブレード本体の摩耗の進展も遅いため、切り残しの発生も低減でき、その結果、半導体装置の信頼性の向上を図れる。 (もっと読む)


【課題】絶縁基体を形成する絶縁層の外周部において、絶縁層の層間に形成された内部導体と、絶縁基体下面の外周に形成された端子電極との電気的な絶縁性が高い電子部品収納用パッケージを提供する。
【解決手段】絶縁層115が積層されてなる絶縁基体101の側面に切り欠き部103が設けられており、切り欠き部103の表面の中央部分に側面導体106が形成されているとともに、絶縁基体101の下面の外周部に端子電極109が形成された電子部品収納用パッケージであって、絶縁層115の層間に側面導体106の内周に沿って内部導体108が形成されており、内部導体108は、平面透視で端子電極109に近い側の端部が絶縁基体101の側面から離間するように形成されている電子部品収納用パッケージである。端部が離間するように形成されているため、絶縁基体101の側面における内部導体108と端子電極109との電気絶縁性の低下を抑制できる。 (もっと読む)


【課題】放熱特性を維持しながらも、金属層及び素子に静電気や電圧ショックなどが伝達されることを防止する放熱基板の製造方法を提供する。
【解決手段】放熱基板100の製造方法は、(A)金属層111の一面に絶縁層112を形成し、前記絶縁層112に回路層113を形成することで、ベース基板110を準備する段階、(B)前記ベース基板110に厚さ方向に加工部140を形成する段階、(C)前記金属層111の他面及び側面の少なくとも一方に陽極酸化層150を形成する段階及び(D)前記加工部140に連結手段130を挿入し、前記金属層111の前記他面に放熱層120を連結する段階を含む。 (もっと読む)


【課題】 エレクトロマイグレーションによる接続パッドの空隙を抑制することが可能な配線基板を提供すること。
【解決手段】 上面に半導体素子4の搭載部1aを有する絶縁基板1と、ガラス成分を含む銅の多結晶体からなり、搭載部1aから絶縁基板1の内部にかけて形成された貫通導体3と、貫通導体3を形成している銅の結晶よりも平均粒径が大きい銅の多結晶体からなり、搭載部1aにおける貫通導体3の端面を覆うように形成された接続層2とを備えており、接続層2を形成している銅の結晶配向性が無配向であり、半導体素子4の電極5が接続層2にはんだ6を介して電気的に接続される配線基板である。 (もっと読む)


【課題】高圧モジュール内のゲル状絶縁物中で発生した部分放電などを検出し、高圧モジュールの主要機能回路における絶縁破壊を未然に防ぐための機構を備えた高圧モジュールを提供する。
【解決手段】半導体素子4が搭載される素子搭載用表面金属基板2aが絶縁基板1表面に接合されるとともに、接地電位とされる裏面金属基板3が絶縁基板1裏面に接合され、ゲル状絶縁物5で封止された高圧モジュールにおいて、絶縁基板1表面に素子搭載用表面金属基板2aとは分離して部分放電発生用表面金属基板21を設け、部分放電発生用表面金属基板21の電位は素子搭載用表面金属基板2aと同電位とし、部分放電発生用表面金属基板21の端部の位置は絶縁基板1を挟んで対向する裏面金属基板3の端部に対して絶縁基板端部側により突出した位置とし、裏面金属基板3側で発生する部分放電を検出する部分放電検出手段31を設ける。 (もっと読む)


【課題】反りの発生を抑制することができるヒートシンク付パワーモジュール用基板及びその製造方法、並びに、ヒートシンク付パワーモジュール、パワーモジュール用基板を提供する。
【解決手段】絶縁基板12の一方の面に回路層13が形成されるとともに他方の面に金属層14が形成されたパワーモジュール用基板11と、金属層14側に接合されてパワーモジュール用基板11を冷却するヒートシンク17とを備えたヒートシンク付パワーモジュール用基板10であって、金属層14とヒートシンク17とが直接接合されており、回路層13の厚さAと金属層14の厚さBとの比率B/Aが、2.167≦B/A≦20の範囲内に設定されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】めっき引出線のパッケージ外への露出を防止することができる半導体パッケージおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】多数品取りのパッケージ基板(ガラスエポキシ基板の連なったもの)を準備する。このパッケージ基板は、第1めっき引出線40、第2めっき引出線42、第3めっき引出線44が表面または/および内部を延び、かつ、表面に複数の半導体チップ搭載位置を有する。このパッケージ基板に対して、複数の半導体チップ搭載位置のそれぞれに半導体チップを搭載する。第1めっき引出線40、第2めっき引出線42、第3めっき引出線44が分断される程度の深さを有する溝を設けるハーフカット工程を行う。ハーフカット工程を行った後、溝内に樹脂が入り込むように、モールド樹脂封止を行う。封止工程の後、ダイシングを行い、モールド封止樹脂を複数の半導体パッケージに分ける。 (もっと読む)


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