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国際特許分類[H01L25/00]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 複数の個々の半導体または他の固体装置からなる組立体 (14,678)

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【課題】シンプルな構成で、放熱性に優れた電力増幅モジュールを提供する。
【解決手段】基板1と、半導体チップ3と、金属ブロック5とを含む。基板1は、面内に切り抜き部7を有している。金属ブロック5が基板1の切り抜き部7の内部に配置されている。半導体チップ3は、金属ブロック5の表面に実装されている。 (もっと読む)


【課題】 従来の電子回路モジュールの多層配線基板では放熱部材にサーマルビアホールを用いていたため、内部の回路配線の配置に制約があった。
【解決手段】 多層配線基板1の上面に、半導体素子搭載部2aおよび蓋体当接部2bを有する熱伝導層2が形成され、半導体素子3が半導体素子搭載部2aに搭載されるとともに、熱伝導材料から成り、内側に突出部5aを有する蓋体5が突出部5aを蓋体当接部2bに当接させて取着されている電子回路モジュールである。半導体素子3の発熱を熱伝導層2と突出部5aを介して蓋体5に効率よく伝えて放散させることができ、多層配線基板1内部の回路配線層は特に制約なく配置できるので、高密度化・小型化を図ることができる。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、耐圧の向上、熱抵抗の低減及び機械的信頼性の向上により、大容量化の実現を図る。
【解決手段】 Siチップ4の上面に、この面に接合された導電性熱緩衝板24を介して配線部材13を配置し、さらに配線部材13上に絶縁性熱緩衝板23、軟質金属部22及び補助放熱板15が積層され、両側の放熱板6,15を一対の冷却器11,21で圧接しながら挟み込む構成により、Siチップ4直上及び直下の位置において放熱板6,15と冷却器11,21を密着させたモジュール型半導体装置及びこれを用いた電力変換装置。 (もっと読む)


【課題】この発明は、内部データの保護に際して、不正に封止部材が開けられて内蔵部品の分解が試みられたとき、この封止部材の開口と同時に内蔵データを自動破壊するように分解不能に構成して、内部データの保護を図ったデータキャリアの提供を目的とする。
【解決手段】この発明は、データキャリアを製作する際、コイルを備えた封止部材とICを内蔵するモジュールとをキャリアケースに分解不能に固着して、内部データを改竄不能なデータキャリアを製作したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 小型で且つ放熱性の良好な信頼性の高いハイブリッドモジュールを提供する。
【解決手段】 回路基板11に形成された凹部14内に実装された発熱性を有する回路部品13のグランド端子に接続すると共に一部が回路基板11の外表面に露出した放熱用内部電極17Aを形成し、この内部電極17Aをサーマルビアホール17Bを介して放熱用外部電極17C等に接続したハイブリッドモジュールを構成する。これにより、回路部品13から発生された熱は、絶縁性樹脂16を介して放熱用内部電極17Aに熱伝導され、放熱用内部導体電極17Aの露出部分及び放熱用外部電極17Cから外部空間に放熱される。 (もっと読む)




【課題】 メモリチップを効率よく冷却することができるメモリモジュールおよびメモリシステムを提供すること。
【解決手段】 メモリモジュール10のSO−DIMM基板11との実装面にはメモリモジュール10の短辺とほぼ平行に複数の溝14が形成され、これらの溝14にはメモリ用ベアチップ1から発生した熱をメモリシステム20全体に拡散するための放熱部材15が取り付けられている。メモリ用ベアチップ1から発生した熱は、放熱部材15によってメモリシステム20全体に拡散されるので、放熱面積が拡大する。これによって外部への放熱の効率を上げることができ、メモリ用ベアチップ1の温度上昇を抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】 高周波信号を処理する半導体装置に関し、高周波半導体装置の小形化、高集積化を図ると共に、ミリ波領域まで良好な高周波特性を示す高周波半導体装置の実現を目的とする。
【解決手段】 半導体基板上に誘電体膜と電気回路層とを多層に形成して成る実装基板上に、半導体基板上に誘電体膜と配線層とを多層に形成して成り、その一方の面に接地導体を有する多層化高周波回路チップを、前記接地導体面が、実装基板の面と向き合うように、バンプを用いてフリップチップ実装することにより構成する。 (もっと読む)


【目的】 チップのサイズを小さくすることが可能な集積回路装置およびリードフレームを提供することである。
【構成】 マイクロ波増幅器の入力整合回路、ソースバイアス回路、ドレインバイアス回路および出力整合回路をインダクタンスとキャパシタンスとの直列接続あるいはインダクタンスのみで構成する。リード11A,11D,11F上に絶縁膜3および金属膜4を形成し、MIM構造を形成する。リード11A,11D,11F上のMIM構造およびリード11A,11D,11Fの寄生インダクタンスによりキャパシタンスとインダクタンスとの直列接続を構成し、リード11B,11Eの寄生インダクタンスによりインダクタンスを構成する。 (もっと読む)


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