【課題】ＦＦ−ＭＯＤ法を用いた酸化物超電導薄膜の製造において、Ｉｃが高い酸化物超電導薄膜を安定して得ることが可能となる技術を提供する。
【解決手段】塗布熱分解法により酸化物超電導薄膜を製造する際に使用される酸化物超電導薄膜製造用の原料溶液であって、フッ素を含まない金属有機化合物を溶質とする溶液に、塩素が含有されている酸化物超電導薄膜製造用の原料溶液。純金属イオン濃度に対する前記塩素の含有率が、０．０５％〜５％である酸化物超電導薄膜製造用の原料溶液。金属有機化合物が、希土類元素、バリウムおよび銅のそれぞれのアセチルアセトン金属錯体である酸化物超電導薄膜製造用の原料溶液。酸化物超電導薄膜が、ＲＥＢａ_２Ｃｕ_３Ｏ_７−Ｘの薄膜である酸化物超電導薄膜製造用の原料溶液。 （もっと読む）

【課題】高Ｉｃの厚膜化ができ、再現良く高Ｉｃ値を得ることができる酸化物超電導薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】フッ素を含まない金属有機化合物を用いて塗布熱分解法により超電導線材用の酸化物超電導薄膜を製造する酸化物超電導薄膜の製造方法であって、金属有機化合物の有機成分を熱分解するための仮焼成を水蒸気を含む雰囲気中で行い、さらに、結晶化熱処理のための本焼成熱処理の前に、前記本焼成熱処理を施す薄膜に含まれる炭酸塩を熱分解するための中間熱処理を行う。前記の中間熱処理は、６５０〜７２０℃の温度範囲で、１０〜１８０分行う熱処理であり、酸化物超電導薄膜の厚さは０．３〜５μｍである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、優れた超電導特性を発揮する酸化物超電導導体用基材並びにその基材を用いた酸化物超電導導体として有用な技術の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、基材と、その上に、イオンビームアシスト法により成膜されて結晶配向性が整えられ、４回対称性が付与されたＮｉＯからなる中間層と、該中間層上に形成されたキャップ層とを具備してなり、該キャップ層はその上に酸化物超電導層が設けられるものであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】配向性の良好な超伝導結晶を連続的に形成できるＢｉ系ガラス材料及び及び超伝導材料の製造方法を提案する。
【解決手段】Ｂｉ系ガラスのガラス組成として、下記酸化物基準のモル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３１０〜５０％、ＳｒＯ３０〜６０％、ＣａＯ５〜３０％、ＣｕＯ０〜１０％を含有することを特徴とする。また、超伝導材料の製造方法は、銅又は銅合金の表面に、上記のＢｉ系ガラスを接触させた状態で熱処理し、超伝導結晶を析出させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】仮焼熱処理工程において発泡跡の生成が抑制された仮焼膜を得ることができ、その後の本焼熱処理工程において優れた超電導特性を有する酸化物超電導薄膜を得ることができる酸化物超電導薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】超電導線材の製造に用いる酸化物超電導薄膜を、金属有機化合物を原料とし、塗布熱分解法により製造する酸化物超電導薄膜の製造方法であって、基板上に金属有機化合物の溶液を塗布して塗膜を作製する塗膜作製工程と、塗膜の金属有機化合物に含有される有機成分を熱分解、除去して、仮焼膜を作製する仮焼熱処理工程と、仮焼膜を結晶化させて、酸化物超電導薄膜を作製する本焼熱処理工程とを備えており、仮焼熱処理工程が、無酸素雰囲気または酸素濃度が低い雰囲気下で行う熱処理工程である酸化物超電導薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】超伝導体の特性劣化を防ぎ、超伝導体の理想的な特性を実現する。
【解決手段】原子層堆積法を用いて超伝導体１２の表面に酸化膜１３を形成する。これにより、自然酸化膜１５を除去し、緻密で均一な酸化膜１３が形成されるので、超伝導体１２の電磁場照射環境での特性劣化を防ぎ、超伝導体１２の理想的な特性を実現することができる。また、緻密な酸化膜１３により、大気中の酸素による超伝導体１２の経年劣化を防止できる。 （もっと読む）

【課題】基材上に均一な超電導膜を形成すること。
【解決手段】排出口３０は、超電導原料溶液４０から基材１０が引き上げられる界面４１の面積を規定する。また、界面４１における、排出口３０と基材１０との位置関係は、基材１０が引き上げられるときに基材１０に付着する超電導原料溶液４０のメニスカスの形状が基材１０の幅方向でほぼ同一になるように設定されている。好ましくは、基材１０の幅方向の端部から排出口３０の壁面までの距離Ｌ１，Ｌ２が、０＜Ｌ１，Ｌ２≦１０［ｍｍ］の範囲内とされている。 （もっと読む）

【課題】基材の長手方向に均一な膜厚の超電導膜を形成すること。
【解決手段】基材１０が引き上げられるときに基材１０に付着する超電導原料溶液４０のメニスカス５０を、基材１０表面に付着する引き上げ方向のメニスカスの長さをｙ、基材１０表面に直交する方向のメニスカスの長さをｘとした場合、０＜ｙ／ｘ≦３の範囲にすることで、基材１０の引き上げ時のメニスカス５０の形状を安定させ、基材からの超電導原料溶液４０の液だれを抑制する。 （もっと読む）

【課題】印加される磁場の方向や膜の部位によらずに、量子化磁束の動きが効果的に抑制された酸化物超電導膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】レーザー蒸着法で酸化物超電導膜を製造する方法であって、エキシマレーザー光１８ａ及びＹＡＧレーザー光１８ｂを同時にターゲット１５に照射することで、基材１２上に常電導部分となる不純物の比率を０．３〜６質量％含む酸化物超電導膜を形成する工程を有することを特徴とする酸化物超電導膜の製造方法。 （もっと読む）