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国際特許分類[H01L39/24]の内容

電気 (1,674,590) | 基本的電気素子 (808,144) | 半導体装置,他に属さない電気的固体装置 (445,984) | 超電導性またはハイパーコンダクティビティを利用する装置;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (812) | 39/00に分類されている装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置 (152)

国際特許分類[H01L39/24]に分類される特許

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【課題】MOD溶液の塗膜を仮焼する際に、表面に発生する荒れが抑制された仮焼膜を形成して、その後の本焼により優れた超電導特性を有する酸化物超電導薄膜を作製することができる酸化物超電導薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】超電導線材の製造に用いる酸化物超電導薄膜を、金属有機化合物を原料とし、塗布熱分解法により製造する酸化物超電導薄膜の製造方法であって、基板上に金属有機化合物の溶液を塗布して塗膜を作製する塗膜作製工程と、塗膜の金属有機化合物に含有される有機成分を熱分解、除去して、仮焼膜を作製する仮焼熱処理工程と、仮焼膜を結晶化させて、酸化物超電導薄膜を作製する本焼熱処理工程とを備えており、仮焼熱処理工程において、仮焼熱処理温度に至るまでの昇温を大気圧より高い圧力雰囲気下で行う。 (もっと読む)


【課題】イオンビームアシスト法(IBAD法)により形成される中間層の結晶配向性を高め、かつ、中間層の成膜条件が広範囲となるよう促す特性を有するベッド層を備えた酸化物超電導体用基材及びそれを用いた酸化物超電導導体の提供。
【解決手段】本発明の酸化物超電導導体用基材は、金属基材21上に、X酸化物(Xは、Yb、Gd、Ho、LaまたはSmを示す。)、又は、前記X酸化物とYから選択される2種以上が混合された混合酸化物よりなるベッド層22と、ベッド層22上にイオンビームアシスト法により成膜された中間層23とを備えることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、スペイン特許第2259919号にこれまで説明されている解決手段を出発点として利用して、10%の最大のフッ素含有量を有している有機金属の前駆物質の溶液を得ることに言及する。この変更は、超伝導の分解層の熱処理(熱分解)、および結晶の成長を一段階において実施可能にする。さらに、低いフッ素含有量は毒性および腐食のリスクを低下させる。 (もっと読む)


【課題】鉄砒素系超伝導体の高品質な超伝導薄膜を備えた超伝導体構造、その製造方法、及び電子素子を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に形成され、III-V族半導体から成るバッファ層と、前記バッファ層上に形成され、下記式(1)で表される組成を有する超伝導薄膜と、を含み、前記超伝導薄膜におけるAs−As間隔は、前記III-V族半導体におけるV族原子間距離の約1倍であることを特徴とする超伝導体構造。式(1)LnFeAsO1-pq(式(1)において、Lnは1種以上のランタノイド元素であり、0<p<1、0≦q<1) (もっと読む)


ELR材料からなる極めて低い抵抗(「ELR」)フィルムの動作特性は、ELRフィルムの適切な表面上に変性材料を堆積して、変性ELRフィルムを生成することによって改善することができる。本発明のいくつかの実施態様では、ELRフィルムは、「c−フィルム」の形をとることができる。そのような動作特性は、高温でのELR状態での動作、追加の電荷の保持、改善された磁気的性質による動作、改善された機械的性質による動作、またはその他の改善された動作特性を含むことができる。本発明のいくつかの実施態様では、ELR材料は、YBCOなどであるがこれに限定されない混合原子価酸化銅ペロブスカイトである。本発明のいくつかの実施態様では、変性材料は、クロムなどであるがこれに限定することのない、酸素に容易に結合する伝導性材料である。
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【課題】磁束揺らぎに対して敏感な超伝導回路に使用される超伝導配線では、磁束雑音を抑制することが必要であり、超伝導磁気センサの測定雑音限界の改善や超伝導量子ビット回路における磁束雑音を抑制し、超伝導量子ビット回路の量子コヒーレンス向上に寄与する超伝導配線、磁束雑音の抑制方法、磁束センサ及び超伝導量子ビット回路を提供する。
【解決手段】超伝導配線の超伝導体層101の上下表面及び端面を磁気秩序層として機能する反強磁性絶縁体層102または強磁性絶縁体層で被覆した。 (もっと読む)


帯状基板(2)と少なくとも1つの超電導層(3)とを有するマルチフィラメント導体(1)であって、少なくとも1つの超電導層(3)が帯状基板(2)の少なくとも一方の表面に形成されて複数のフィラメント(20,20’)に分割されており、帯状基板(2)がそれの長手方向の延びに平行に第1方向(21)を有し、少なくとも1つのフィラメント(20,20’)がそれの長手方向の延びに平行に第2方向(22)を有するマルチフィラメント導体(1)において、帯状基板(2)の第1方向(21)と少なくとも1つのフィラメント(20,20’)の第2方向(22)とが零よりも大きい角度をなしていることを特徴とするマルチフィラメント導体(1)。 (もっと読む)


【課題】配向基板上に高速、安価で容易にエピタキシャル薄膜を成長させる。
【解決手段】配向基板上に、燃焼化学蒸着法(CCVD)などを用いてペロブスカイト系誘電層を形成する。CCVD装置100の供給端102に供給される前駆物質は、別の供給口106から供給される酸素と反応し、生成物を基板Sに堆積させる。コンデンサにおける誘電体としては、MgO単結晶基板を用い、有機金属化合物を前駆物質としてSrTiOを形成するほか、BaSrTiO形成技術などを得る。 (もっと読む)


各層が酸素アニオンによって取り囲まれたカチオンのネットワークを含む積層された第1の層および第2の層を含む材料を含む超伝導体。本発明によれば、この材料は、イルメナイト結晶構造およびABX型の基本組成を有し、式中、AおよびBは、この第1の層および第2の層のカチオン部位を主に占める元素であり、これに対応して、元素AおよびBのうちの少なくとも1つは遷移金属であり、Xは、アニオン部位を主に占めるアニオン元素である。 (もっと読む)


【課題】ホウ化マグネシウム超伝導体の微細パターンの作製方法において、超伝導特性の劣化を抑制すること。
【解決手段】結晶基板101の上に、電子線レジストからなる微細パターン102を形成する(図1(a))。次に、微細パターン102の上に、室温においてアモルファス状炭素103及びアモルファス状珪素104を蒸着する(図1(b))。その後、電子線レジストの微細パターン102をリフトオフして、炭素および珪素からなる微細パターン106を形成する(図1(c))。次に、微細パターン106を設けた基板101の上にホウ化マグネシウム105を蒸着する(図1(e))。ここで、蒸着時の基板温度は280℃であることが好ましい。最後に、ホウ化マグネシウム105が形成された基板101の超音波洗浄を行うことにより微細パターン106をリフトオフして、ホウ化マグネシウム105の微細パターンを得る(図1(f))。 (もっと読む)


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