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国際特許分類[H03H9/64]の内容

国際特許分類[H03H9/64]に分類される特許

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【課題】改善された挿入損失と品質の値を有するSAWデバイスの製造方法及びその製造方法により製造されたSAWデバイスを提供する。
【解決手段】圧電基板12の表面に金属電極16を有するSAWデバイス10は、表面に堆積した誘電体層18を含む。誘電体層18を堆積すると、基体の表面上に拡張する金属電極16から上方に拡張する縫い目20、22が得られる。誘電体層18内の隣接する金属電極16aから拡張する第二の縫い目20と結合する金属電極16bから拡張する第一の縫い目22からは別の縫い目が得られ、この縫い目は一般に金属電極16の高さより高く形成される。誘電体層18は、所望の金属電極16上に誘電体層18の厚さを提供するために、更に平坦化してよい。 (もっと読む)


【課題】小型化可能な弾性境界波フィルタ装置を提供する。
【解決手段】弾性境界波フィルタ装置1は、第1〜第3の媒質11〜13と、第1の媒質11と第2の媒質12との間に形成されている第1のIDT電極14と、第2の媒質12と第3の媒質13との間に形成されている第2のIDT電極15とを備えている。第1及び第2の媒質11,12のうちの少なくとも一方が圧電体により構成されていると共に、第2及び第3の媒質12,13のうちの少なくとも一方が圧電体により構成されている。第2の媒質12の音速は、第1及び第3の媒質11,13のそれぞれの音速よりも遅い。第1のIDT電極14により励振された弾性境界波が第2のIDT電極15により電気信号に変換される。 (もっと読む)


【課題】フィルタの低損失化及び広帯域化を行う。
【解決手段】入力側の並列共振器P11に対して並列にインダクタL11が接続され、出力側の直列共振器S12に対して並列にインダクタL12が接続されている。インダクタL11及びL12は、それぞれ異なる経路上(直列共振器と並列共振器との間の経路上)に接続されている。このような構成とすることにより、入出力間においてインピーダンス整合を行うことができるので、低損失かつ広帯域のラダー型フィルタを実現することができる。 (もっと読む)


【課題】所定の回路が構成された小型の半導体装置を実現する。
【解決手段】本発明に係る半導体装置100は、絶縁基板101と、絶縁基板101上に形成された絶縁膜103a〜103cと、絶縁膜103a上に島状に形成され、トランジスタTrが形成されたシリコン層であるシリコン島領域103と、シリコン島領域103外に形成されたキャパシターCを有する受動回路領域と、シリコン島領域103外かつ受動回路領域外に形成された電極パッドP1〜P5と、電極パッドP1〜P5上に搭載されたSAWフィルターSAWと、トランジスタTr、キャパシターC及び電極パッドP1〜P5を接続するための第2配線層104とを備え、トランジスタTr、キャパシターC、SAWフィルターSAW及び第2配線層104は、所定の回路を構成する。 (もっと読む)


【課題】振動空間の密閉性を向上できる弾性波装置を提供する。
【解決手段】SAW装置1は、基板3と、基板3の第1主面3aに設けられたSAW素子11と、カバー5とを有する。カバー5は、第1主面3aの平面視においてSAW素子11を囲む枠部35と、枠部35の開口を塞ぐ蓋部37とを有する。また、SAW装置1は、枠部35の内壁面35aから枠部35の枠内の第1主面3a上にかけて形成された絶縁膜43を有する。 (もっと読む)


【課題】複数の分割共振子の熱的ストレスを相対的に調整可能な弾性表面波装置を提供する。
【解決手段】SAW装置1は、第1、第2の分割共振子13E、13Fを含む共振子11を有する。第1、第2の分割共振子13E、13Fは、それぞれSAW共振子により構成され、両者の間に分岐回路を有しない状態で互いに直列に接続されている。第2の分割共振子13Fは第1の分割共振子13Eよりも静電容量が大きい。 (もっと読む)


第1および第2のコンバータを有するミクロ音響フィルタが提案され、第1および第2のコンバータの間で電磁性および容量性のクロストークが、追加の結合キャパシタンスと追加の電流ループとを設けることによって補償される。このとき追加の結合キャパシタンスと電流ループは、設計により設定される自然な結合に対して正負記号の点で反対向きに作用し、そのようにしてこれを完全に補償できるように配置される。 (もっと読む)


【課題】弾性表面波フィルタと誘電体フィルタとを備えつつ小型化することができるフィルタ装置を提供する。
【解決手段】一方の主面に弾性表面波フィルタ用凹部空間が設けられ他方の主面に誘電積層フィルタ用凹部空間が設けられた素子搭載部材と、前記弾性表面波フィルタ用凹部空間内に設けられる弾性表面波フィルタと、前記誘電体フィルタ用凹部空間内に設けられる誘電体フィルタと、前記素子搭載部材の一方の主面と接合されて前記弾性表面波フィルタを気密封止させる蓋部材と、前記誘電体フィルタを被覆する絶縁性樹脂と、から主に構成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】小型で、アイソレーションが良好なデュープレクサを実現する。
【解決手段】不平衡型の送信フィルタ31と、平衡型の受信フィルタ32と、送信フィルタ31に接続されている送信ポート33と、受信フィルタ32に接続されている主受信ポート34a及び副受信ポート34bとを備えたデュープレクサにおいて、送信ポート33と主受信ポート34a及び副受信ポート34bとの間に接続されている静電結合部36を備えている。静電結合部36は、送信ポート33から主受信ポート34aへ流れる電力と、送信ポート33から副受信ポート34bへ流れる電力との位相を調整する。 (もっと読む)


【課題】ウルツ鉱型結晶の面内配向薄膜の製造において、大面積で製造することができ、且つ装置に要するコストを抑えることができる方法及び装置を提供する。
【解決手段】真空容器11内にプラズマ生成ガスを導入し、真空容器11内に配置されたウルツ鉱型結晶のターゲットTをスパッタすることによる生成されたスパッタ粒子をターゲットTに対向して真空容器11内に配置された基板ホルダ15に取り付けられた基板Sに堆積させることにより薄膜を製造する際に、基板ホルダ15と真空容器11の壁の間に高周波電圧を印加する。これにより、基板Sの表面においてプラズマシースが形成され、プラズマ生成ガスが電離して生じる陽イオンの量を増加させると共に、このプラズマシースによって陽イオンが加速され、十分なエネルギーをもって成膜中の薄膜に入射するため、ウルツ鉱型結晶の最密面が基板に平行に成長しにくくなる。その結果、全体としてウルツ鉱型結晶のc軸が面内方向に配向した面内配向薄膜を得ることができる。 (もっと読む)


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