【課題】メタンハイドレートを有効利用できるメタンハイドレートの処理方法及び処理装置を提供する。
【解決手段】本発明のメタンハイドレートの処理方法は、プラズマ用電極３２に高周波を供給し、プラズマ用電極３２によりメタンハイドレートに電磁波を照射してプラズマを発生させるプラズマ発生ステップと、プラズマによりメタンハイドレートを分解して水素を発生させる水素発生ステップと、を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置のステージ電極の表面が損傷したとき、上記表面部分だけを容易に交換できるようにする。
【解決手段】ステージ電極２０を電極本体２１と電極板２２とに分割する。電極本体２１の周端面２１ｅと電極板２２の周端面２２ｅとは互いに面一になっている。ステージ電極２０の外周に沿って複数の枠部材３０を設ける。これら枠部材３０を進退機構５によって退避位置と進出位置との間で進退させる。枠部材３０を進出位置に位置させると、枠部材３０の位置決め面３３が上記周端面２１ｅ，２２ｅに当接し、電極板２２が位置決めされる。また、枠部材３０の段差３１によって被処理物９が位置決めされる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理が効率よく行われ、電極の絶縁が容易になり、内壁に沿う沿面放電が抑制されるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１０００は、流路１０１８を持つチャンバ１０１０が絶縁体からなる。流路１０１８の軸方向に非平行な方向に延在する溝１０３６が流路１０１８を囲む内壁１０３４に刻まれる。第２の電極１０１４及び第３の電極１０１６は、それぞれ、第１の電極１０１２より流路１０１８の上流側及び下流側にある。第１の電極１０１２と第２の電極１０１４とは流路１０１８の軸方向に間隔を置いて対向する。第１の電極１０１２と第３の電極１０１６とは流路１０１８の軸方向に間隔を置いて対向する。第１の電極１０１２はパルス電源１００４の第１の極に電気的に接続され、第２の電極１０１４及び第３の電極１０１６はパルス電源１００４の第２の極に電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理装置のステージの表面が損傷したとき、上記表面部分だけを容易に交換できるようにする。
【解決手段】ステージ２０を、ステージ本体２１とその上側の表面板２２とに分割する。ステージ２０を挟んで両側には、処理ヘッド１０の移動に用いる一対のレール６１が設けられている。このレール６１上にステージ保守用クレーン３０を設置する。クレーン３０のフレーム３１の一対の支え部３２の下端部にスライダ３４をそれぞれ設け、これをレール６１にスライド可能に嵌合する。フレーム３１の天井部３３に吊具５１を昇降可能に垂下し、これに連結部５２を設ける。好ましくは、連結部５２をボルト５５にて表面板２２の端面に連結する。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波の損失を極力低減し、高密度プラズマを効率良く生成できるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置１００は、マイクロ波を発生させるマイクロ波発生装置２１と、マイクロ波発生装置２１に接続され、マイクロ波の伝送方向に長尺をなすとともに、該伝送方向に直交する方向の断面が矩形をした中空状の矩形導波管２２と、矩形導波管２２に接続されてその内部へ処理ガスを供給するガス供給装置２３と、矩形導波管２２の一部分であって、内部で生成したプラズマを外部で放出するアンテナ部４０とを備えている。アンテナ部４０は、その断面において短辺をなす壁４０ａに１又は複数のスロット孔４１を有しており、大気圧状態の矩形導波管２２内に供給された処理ガスをマイクロ波によってプラズマ化し、スロット孔４１から外部の被処理体へ向けて放出する。 （もっと読む）

【課題】安価で大面積化が可能な放電電極および液体をオゾンに曝気して効率よく処理する液体プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】液体プラズマ処理装置浮体１は、フロート１０により非処理液体２上に浮揚されている。太陽電池４から配線によって昇圧回路１２に給電され、放電電極７にプラズマ１１が形成される。プラズマ１１により空気中の酸素がオゾン化され、浮揚装置基体５内の非処理液体表面がオゾンに曝気される。尚、放電電極７はクロムを含有する合金もしくは最表面がクロム層からなる金属をガラスで挟み込み、１０００℃以下の酸素を含む雰囲気下で熱処理することで金属とガラスが固着されて形成された無声放電用もしくは沿面放電用電極である。 （もっと読む）

【課題】長時間に亘りプラズマの放電条件を安定させ、成膜処理の高い再現性を得ることができるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】被処理材１１の表面に被膜を成膜するプラズマＣＶＤ装置であって、ホルダー１２に保持された陰極としての被処理材１１の周囲に配置された金属シート２０からなる陽極を備え、金属シート２０が予め巻き取られたローラー２１と、ローラー２１から展開された金属シート２０を巻き取るローラー２２を有している。 （もっと読む）

【課題】厚みが大きく且つ略均等であり、しかも、表面粗さが小さい皮膜を、プラズマ成膜によって得る。
【解決手段】プラズマ発生装置１６と、基材１０の成膜部位との間に、整流用治具１２を配置する。この整流用治具１２に形成された成膜用通路２２に、プラズマ発生装置１６からプラズマ励起種を供給する。その一方で、液体供給装置１８から液相原材料Ｌを基材１０に供給し、付着させる。この液相原材料Ｌは、成膜用通路２２に到達したプラズマ励起種によってブローされることで展延し、厚みが低減した液膜となる。また、液膜は、プラズマ励起種によって活性化され、重合・固化して皮膜に変化する。 （もっと読む）

【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができ、かつ、小型で簡潔な構成のプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的としている。
【解決手段】プラズマトーチユニットＴにおいて、螺旋形の導体棒３が石英管４の内部に配置され、その周囲に真鍮ブロック５が配置されている。筒状チャンバ内にガスを供給しつつ、導体棒３に高周波電力を供給して、筒状チャンバ内にプラズマを発生させ、基材２に照射する。石英管４、真鍮ブロック５、蓋６には冷媒流路が設けられ、冷媒としての水が流れることによって各部材が冷却される。 （もっと読む）

【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的としている。
【解決手段】プラズマトーチユニットＴにおいて、コイルは複数の導体棒３を接続したもので、石英管４の内部に配置されており、石英管４の内側の半円柱部分が筒状チャンバ内部の空間７に露出する。導体棒３と石英管４の内部に水が流れることによって石英管４と導体棒３が冷却される。プラズマ噴出口１２からプラズマを基材２に照射することにより、基材２上の薄膜１６をプラズマ処理することができる。 （もっと読む）