【課題】ナノスケール導電性微粒子を長時間にわたって連続的に製造することができる、ナノスケール導電性微粒子の連続製造装置を提供する。
【解決手段】本装置は、導電性の液体を収容した第１の容器１０と、第１の容器に導電性の液体を供給する送液路２０と、第１の容器内の導電性の液体中に配置された導電性材料からなる陰極３０と、導電性の液体中において陰極から所定の距離を隔てて配置された陽極４０と、陰極の近傍にグロー放電プラズマを生じさせる電圧を陰極と陽極との間に印加する電源５０と、液体を収容した１つ又は複数の第２の容器６０と、第１の容器及び１つ又は複数の第２の容器を連通する液体流路７０とを備える。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構成でチャージアップ現象の発生を防止するプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】高周波信号が供給される第１電極（１１）と、プラズマを発生させるための第２電極（１２）と、第２電極の周囲にプラズマガスを供給するガス供給装置（１３、１０）と、を備え、第２電極（１２）は、所定の周波数成分を通過させ直流成分を遮断するフィルタ回路（１５）を介して接地されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができ、かつ、小型で簡潔な構成のプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的としている。
【解決手段】プラズマトーチユニットＴにおいて、螺旋形の導体棒３が石英管４の内部に配置され、その周囲に真鍮ブロック５が配置されている。筒状チャンバ内にガスを供給しつつ、導体棒３に高周波電力を供給して、筒状チャンバ内にプラズマを発生させ、基材２に照射する。石英管４、真鍮ブロック５、蓋６には冷媒流路が設けられ、冷媒としての水が流れることによって各部材が冷却される。 （もっと読む）

【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及び方法を提供することを目的としている。
【解決手段】プラズマトーチユニットＴにおいて、コイルは複数の導体棒３を接続したもので、石英管４の内部に配置されており、石英管４の内側の半円柱部分が筒状チャンバ内部の空間７に露出する。導体棒３と石英管４の内部に水が流れることによって石英管４と導体棒３が冷却される。プラズマ噴出口１２からプラズマを基材２に照射することにより、基材２上の薄膜１６をプラズマ処理することができる。 （もっと読む）

【課題】 二酸化炭素の処理効率が高く、処理コストが低い二酸化炭素分解処理装置及び二酸化炭素分解処理方法を実現する。
【解決手段】 二酸化炭素分解処理装置１は、マイクロ波を伝送する導波管１０と、マイクロ波発振器１１と、マイクロ波のマッチングを行うマッチング部１２と、同軸変換部１３と、を備えている。マッチング部１２の側面には、二酸化炭素を含む被処理ガスを内部に導入するためのガス導入口１２ｂが設けられている。マッチング部１２の内部に導入された被処理ガスは、同軸変換部１３に導入され、同軸変換部１３において励起されたマイクロ波プラズマＰにより二酸化炭素が分解される。 （もっと読む）

【課題】内包フラーレンの製造などに用いられる接触電離方式のプラズマ源は、タングステン製の平坦な円板状加熱金属体にイオン生成対象の金属蒸気を噴射して金属イオンを発生していたが、イオン化確率が小さく、十分なイオン電流がとれないという問題があった。
【解決手段】イオン生成対象の金属蒸気に加熱金属体上で光を照射し金属原子における電子を励起することにした。加熱金属体の材料として、仕事関数の大きいRe、Os、又はIrを用いることにした。さらに、加熱金属体の表面を凹凸状に加工することにより、イオン化確率を高め、大きなイオン電流の取り出しが可能になった。 （もっと読む）

【課題】より安定してラジカルを生成することのできるプラズマ発生装置、ラジカル生成方法、それらを用いた洗浄浄化装置および小型電器機器を得る。
【解決手段】プラズマ発生装置１は、気体収容部５に配設された第１電極１２と、少なくとも第１電極１２と対になる側の部分が液体収容部４中の液体１７と接触するように配設した第２電極１３と、を備えている。そして、第１電極１２と第２電極１３との間に放電を発生させることで、液体収容部４中の液体１７内における気体の領域においてプラズマを生成し、液体１７に含まれる水および気体に含まれる酸素からヒドロキシラジカルを生成するようにした。 （もっと読む）

【課題】 絶縁物、特に耐熱性の低い絶縁物に、短時間で効率的にプラズマ成膜、及び表面改質処理可能な方法及びそのための装置を提供する。
【解決手段】 真空排気された反応容器内にプラズマ生成源となる原料ガスを導入し、該反応容器内に設置されたカソード電極にマイナス電圧を印加して原料ガスを分解しプラズマを生成すると共に、上記反応容器内に設置された被処理基材上との間で反応を起こさせて、電圧印加による電界で生成されるプラズマイオン、ラジカルを前記被処理基材に照射または堆積させる、表面改質及び成膜方法において、カソード電極の少なくとも一部を、原料ガスが透過可能な電極とすると共に、被処理基材の改質や成膜など表面処理が必要な面と直接接触しないようカソード電極を配置し、且つ、カソード電極に−２ｋＶ〜−２０ｋＶのパルス状のＤＣ電圧を印加することを特徴とするプラズマ表面改質、成膜方法。 （もっと読む）

【課題】横幅が大きい材料を短時間且つ低コストで処理できる大気圧プラズマジェット装置を提供する。
【解決手段】単１のガス種、又はプラズマ中において相互に化学反応しにくい２以上のガス種から成る原料ガスを用いて大気圧プラズマジェットを発生させる大気圧プラズマジェット発生手段３と、大気圧プラズマジェットのプラズマプルームを噴出するノズル５と、を備え、ノズル５は、出口側開口部２５の断面形状が細長いスリット形状であるとともに、その内部に、プラズマプルームをスリット形状の長手方向に広げる拡散部材２９を有する。 （もっと読む）

【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することのできるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】プラズマトーチユニットの基幹部となる筒状チャンバは、内管１及び外管２からなる二重管と、蓋３、４と、カバー５と、ガスノズル６と、プラズマノズル７とからなる。冷媒流路１３、１４、１７には冷却水が流れる。基材載置台１９上に基材２０が載置された状態で、筒状チャンバ内にガスを供給しつつ、ソレノイドコイル１８に高周波電力を供給することにより、プラズマＰを発生させ、プラズマ噴出口２１から基材２０に照射する。プラズマトーチユニットと基材載置台１９とを相対的に移動しながら基材表面を熱処理することができる。 （もっと読む）