【課題】成膜処理において、従来に比べて大面積の成膜用基板を、効率よく成膜する。
【解決手段】プラズマを用いた成膜装置は、成膜用基板が配置される成膜空間を備える成膜チャンバと、前記成膜空間に導入された成膜用ガスを用いてプラズマを生成するプラズマ生成ユニットと、を有する。前記プラズマ生成ユニットは、プレートであって、前記プレートの厚さ方向に貫通する複数の貫通孔と、前記貫通孔それぞれの両側の開口の周りに設けられた電極対と、を備えたプラズマ生成プレートと、前記貫通孔それぞれの中でプラズマを生成するために、前記電極対にプラズマ生成電圧を供給する電源と、前記プラズマ生成電圧の供給を前記電極対毎に制御する制御ユニットと、を有する。 （もっと読む）

【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、あるいは、反応ガスによるプラズマまたはプラズマと反応ガス流を同時に基材へ照射して基材を低温プラズマ処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することができるプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】誘導結合型プラズマトーチユニットＴにおいて、全体としてコイルをなす銅棒３が、石英ブロック４に接合された石英管１２内に配置され、石英ブロック４は、石英管１２及び石英管１５内を流れる水によって冷却される。誘導結合型プラズマトーチユニットＴの最下部にプラズマ噴出口８が設けられる。長尺チャンバのチャンバ内部空間７にガスを供給しつつ、銅棒３に高周波電力を供給して、長尺チャンバのチャンバ内部空間７にプラズマを発生させ、基材２に照射する。 （もっと読む）

【課題】ターゲットの軌道を擾乱させることなく、ドロップレットターゲットをレーザ照射位置に高速に供給する機構と、プラズマから発生したイオン（帯電したデブリ）を磁場の作用によりトラップする機構とを両立させる。
【解決手段】極端紫外光源装置は、（ｉ）内部で極端紫外光が生成されるチャンバと、（ii）チャンバ内にターゲット物質を噴射するターゲットノズルと、（iii）ターゲットノズルから噴射されるターゲット物質を帯電させる電荷供給装置と、（iv）電磁石、超伝導磁石、及び、永久磁石の内のいずれかを含み、チャンバ内にミラー磁場を形成する１組の磁石と、ターゲット物質の軌道において該ミラー磁場の磁束線が略直線状且つターゲット物質の進入方向に対して略平行となるように、補助的な磁場を形成する少なくとも１つの補助磁場形成装置とを含む磁場形成装置とを有する。 （もっと読む）

【課題】低温プラズマで生成するプラズマジェットを、簡易な構成により、効率良く発生させる沿面放電型プラズマジェット生成装置の提供。
【解決手段】円筒状アルミナセラミック４の内表面に線状の放電電極３を設け、かつ、その内部または外表面に面状の誘導電極５を設けた円筒型沿面放電素子２において、一方の端面（ガス流入口１）からガスを供給し他方の端面（噴出口６）から噴出させ、放電電極３と誘導電極５の間に高周波高電圧を印加して沿面放電を発生させプラズマ（沿面放電励起プラズマ）を生成することで噴出口６からプラズマジェットを噴出させる。 （もっと読む）

【課題】大気圧下で窒化物生成ではなくＮ原子のみの拡散固溶処理を行って靭性を保ったまま硬度を向上させ，しかもこのＮ原子のみの固溶処理を連続ラインで処理することを可能にして，処理ラインの初期投資及びメンテナンスを低減させる方法を提供する
【解決手段】
容器内に原料ガスとして窒素ガスと共に水素ガスを添加しながら前記容器内を大気圧かそのプラス近傍の陽圧状態にして被処理物の表面にパルスアーク型プラズマジェットを照射することを特徴とするパルスアーク型プラズマジェットによる金属又は樹脂等の被処理材の表層硬化方法．
窒素ガス流量１〜１００Ｌ／ｍｉｎ，水素ガス／窒素ガス流量比０．１％〜２００％，被処理物の温度を室温〜１０００℃，処理時間を０．０１時間〜２４時間にする．被処理物を金属材料または絶縁体のいずれかにする． （もっと読む）

【課題】放電発生終了後の気体通路の目詰まりを防止できるとともに、不安定な放電現象をも防止できるプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生装置１は、水を含む液体を収容する液体収容部３と、気体を収容する気体収容部４と、気体収容部４の気体を液体収容部３へ導く気体通路５ａを有し、液体収容部３と気体収容部４とを隔てる隔壁部５と、気体収容部４に配設された第１電極１０と、液体収容部３の液体と接触するように配設された第２電極１１と、気体通路５ａを介して気体収容部４の気体を液体収容部３へ圧送させる態様で、酸素を含む気体を気体収容部４に供給する気体供給部と、第１電極１０と第２電極１１との間に放電を発生させることにより、液体収容部３の液体内に圧送された気体をプラズマ化するプラズマ電源部と、気体通路５ａの付着物Ａを物理的に除去する付着物除去手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】使用者の誤使用や装置の誤動作に伴う非正常事象を回避することができるプラズマ発生装置及びこれを用いた洗浄浄化装置を提供する。
【解決手段】洗浄浄化装置４０は、プラズマ発生装置１の使用時に発生する非正常事象を検知し、その検知結果に基づいてプラズマ放電を制御する。 （もっと読む）

【課題】相対的により低い電力でも電場の集中を極大化させることができる新たな構造の導波管、及びそれを利用した常圧プラズマ装置を提供する。
【解決手段】導波管２００は、二重テーパ構造であって、導波管２００は、まず、マグネトロンで発生した電磁波が印加される第１高位部２１０と、第１高位部２１０の端部が連結されて、第１テーパ部２２０とを備え、第１テーパ部２２０を経つつ、電磁波は集中、密集される。第２高位部２３０の後段には、第２テーパ部２４０が備えられ、第２高位部２３０を経た電磁波は再び集中され、第２テーパ部２４０の後段に連結された低位部２５０で電磁波が集中され、最終の端部２５０ａから反射された電磁波と、二つの段差（第１高位部２１０と第１テーパ部２２０、第２高位部２３０と第２テーパ部２４０）を経つつ極大化された電磁波とは、低位部２５０で集中、極大化される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、生成されるプラズマの状態を調整可能なプラズマ生成ガスを提供し、プラズマを生成する際に大量の電力を印加しても安定なグロー放電を得ることを可能とするとともに、このプラズマ生成ガスを用いて、高密度で伸張距離の長いプラズマを提供することを目的とする。
【解決手段】放電することによってプラズマを生成するためのプラズマ生成ガスであって、前記プラズマの主成分となる物質を含んでいるプラズマ用ガスと、前記プラズマの状態を調整するプラズマ状態調整用ガスとの混合ガスとする。 （もっと読む）

【課題】実用性の高い大気圧プラズマ処理システムを提供することを課題とする。
【解決手段】大気圧下でプラズマ処理を行うシステムにおいて、(a)一列に並んで配置された複数のチャンバー３４と、(b)隣り合う２つのチャンバーを連通する１以上の連通路４２，４４と、(c)連通路を介しつつ、チャンバー内を通って基板５４を搬送する搬送装置５０と、(d)各チャンバー内で大気圧下においてプラズマを発生可能な複数のプラズマヘッド３８と、(e)各連通路を遮るようにガスを吹出し、その吹出されたガスの流れによって隣り合うチャンバー間を仕切る１以上の仕切装置６２，６４とを備え、搬送装置によって搬送される被処理物に複数のチャンバー内で順次プラズマ処理を施すように構成する。このような構成により、複数のプラズマ処理に要する時間を短縮するとともに、吹出されるガスの流れによって、各チャンバーで使用される反応ガスの混合を抑制することが可能となる。 （もっと読む）