【課題】溶射プロセスにおいて液体前駆体をプラズマ・トーチのプラズマ・ガス流内に完全に浸透させること。
【解決手段】プラズマ溶射デバイス１は、加熱区域６内でプラズマ・ガス５を加熱するためのプラズマ・トーチ４を含み、このプラズマ・トーチ４は、プラズマ・ガス流８を生成するためのノズル本体７を含み、且つこのノズル本体７を通って中心長手方向軸線１０に沿って延びるアパーチャ９を有している。アパーチャ９は、プラズマ・ガス５用の入口１２を有する収束セクション１１と、アパーチャの最小断面領域を含むスロート・セクション１３と、プラズマ・ガス流８用の出口１５を有する発散セクション１４とを有し、導入管１６が、プラズマ・ガス流８内に液体前駆体１７を導入するために提供される。本発明によれば、浸透手段１８、１８２が、プラズマ・ガス流８内部に液体前駆体１７を浸透させるために提供される。 （もっと読む）

大気圧又は低真空条件で作動する誘電体バリア放電トーチを使用した粉末のインフライト表面処理の方法をここで説明する。前記方法は、減少した粉末凝集特性を示す粉末粒子を生成する誘電体バリア放電トーチへと粉末材料を供給する段階と、粒子の表面特性をインフライト修飾する段階と、被覆された粉末粒子を回収する段階と、を含む。大気圧又は低真空条件で作動する誘電体バリア放電トーチを備えるマイクロ粒子及びナノ粒子の表面処理のための装置もここで説明する。
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有機材料を水素リッチガスおよび灰に変換するガス化ユニットと、該ガス化ユニットとの連通において、該ガス化ユニット内で形成された灰をガラスに変換するジュール加熱されたガラス化ユニットと、元素としての炭素およびガス化ユニット内の不完全燃焼により形成された産物を水素リッチガスに変換するプラズマとを有する、最適化されたガス化／ガラス化処理システム。該ガス化ユニットは、１つ以上の酸化剤注入ポートをさらに備え、該１つ以上の酸化剤注入ポートを通じて、酸素、蒸気、二酸化炭素、空気、およびそれらの組み合わせの流れを制御し、該有機成分の水素リッチガスへの該変換を最適化する、フィードバック制御デバイスをさらに備える。
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【課題】プラズマ熱エネルギーを利用したシステム及び装置を提供する。
【解決手段】プラズマトーチ１のプラス電極２とマイナス電極３との間に形成された窒素ガスまたは水などの供給通路４に窒素ガスや空気、水などの原料を供給しつつ、プラス電極２とマイナス電極３の間に放電させることによって、プラズマ熱エネルギー５を取り出す。取り出したプラズマ熱エネルギーを利用してはんだ付けを行う。 （もっと読む）

本発明は、６５％を超える効率で可燃性流体を生成するための方法および装置に関する。装置１０は、電解水溶液を電気分解させるための電解セル１２と、可燃性流体と溶液を分離するセパレータ１６と、１Ｖから６Ｖまでの直流電圧を供給するための電源１４と、溶液を装置１０の中を循環させるためのポンプとを備えている。電解セル１２は、第１の電極１８および第１の電極１８から間隔を隔てて配置された第２の電極２０を備えており、また、それぞれ第１の電極１８と第２の電極２０の間に配置された複数の中間電極２２を備えている。電源１４は、溶液が装置１０の中を循環している間、溶液を電気分解させるために電極１８、２０および２２の両端間に直流電圧を印加する。
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【課題】プラズマトーチの電極の寿命を延長させると共に寿命の安定化をはかる。
【解決手段】プラズマトーチ用の電極Ａは、銅又は銅合金からなるホルダー１と、ハフニウム、ハフニウム合金、ジルコニウム、ジルコニウム合金のグループから選択された金属からなる電極材２と、を有し、ホルダー１の軸心に穴１ｃを形成して電極材２を挿入固定し、且つ電極材２の先端面２ａに深さ方向に曲面状の窪み５、又は深さ方向への断面が電極材２の軸心２ｂに略一致した頂点６ａを有し且つ該頂点６ａと先端面２ａとを結ぶ線上に少なくとも１個の突起点６ｃを有するに形状の窪み６を形成する。 （もっと読む）

本発明は実質的に大気圧でガス流出物をプラズマ処理する方法に関し、処理される流出物をプラズマトーチに注入し、プラズマの上流または下流で水蒸気を注入することを含む。 （もっと読む）

【課題】プラズマトーチにおけるコリメータの損耗を抑制し、耐久性を向上させることができるプラズマ式溶融炉を提供する。
【解決手段】プラズマ式溶融炉は、炉本体と、焼却灰と焼却飛灰のうち少なくとも一方を炉本体の内部に供給する灰供給装置と、炉本体の内部でプラズマを発生させるためのプラズマトーチ２０と、プラズマトーチ２０に電力を供給する電源とを備えている。プラズマトーチ２０は、表面に被膜が形成されたコリメータ５４を有している。 （もっと読む）

【課題】マイクロ波プラズマを信頼性高く起動できるようにすること。
【解決手段】半導体製造プロセスツールからの排ガス流を処理するための装置が開示されている。この装置は不活性のイオン化可能なガスからグロー放電を発生させるためのプラズマトーチを含み、ガス流はプラズマを点弧するためのガス放電へ送られる。プラズマを持続させるよう、排ガス流に電磁波ソースによって電磁波が印加される。この装置は特に排ガス流内の過フッ素化化合物およびハイドロフルオロカーボン化合物を処理するのに特に適す。
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【課題】 同軸磁化プラズマ生成装置において、プラズマ塊を連続的に安定して生成すること。
【解決手段】 外部導体２３と内部導体２４を同軸状に配置し、外部導体２３のリング状凸部２３１の付近にバイアス磁界発生用の円筒状の電磁コイル２７を配置してある。外部導体２３と内部導体２４には、パワークローバ回路２５（容量の小さいコンデンサＣ１と容量の大きいコンデンサＣ２からなる）を接続してある。コンデンサＣ１の充電電圧は、コンデンサＣ２の充電電圧よりも高く充電してある。ガス供給管２２からプラズマ生成ガスを供給し、パワークローバ回路２５の充電電圧を外部導体２３と内部導体２４に印加すると、リング状凸部２３１と内部導体２４の間に放電が発生してプラズマＰが生成する。プラズマＰは、ローレンツ力により加速されて開放端へ移動し、プラズマ塊ＰＭとなって放出される。パワークローバ回路２５は、コンデンサＣ１，Ｃ２を組み合わせることにより、立ち上りが急峻で減衰が緩やかな負荷電流を発生することができる。 （もっと読む）