【課題】本発明は、標本分析に関する。詳細には、本発明は、標本スライドを考察する、スライドを保持する装置を含む方法および装置に関する。また、本発明は、イメージングシステム用の自動照準法、および、イメージングシステムに
おける振動を調節する方法に関する。
【解決手段】本発明は特に、方法および装置は、細胞標本スライドの自動分析に適用され得る。本発明の装置は、光学機器と、光学機器に結合され、かつ、光学機器の視野外に配置されたマーカーと、標本を受け、かつ、光学機器の光学経路にある検査位置と該標本を該マーカーでマーキングするためのマーキング位置との間で標本を移動させるために光学機器に結合されたステージとを備える標本をマーキングする装置である。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
グローバルな焦点面を設定するステップを包含する、光学
システムのための自動的に焦点を合わせる方法であって、
（ａ）スライド上における３つの非同一線上の位置の各々に対応するインデッ
クス軸座標、走査軸座標、および、焦点軸座標を決定するステップと、
（ｂ）該インデックス軸座標、走査軸座標、および、焦点軸座標を用いて、該
グローバル焦点面の数値表示を決定するステップと
を包含する方法。
【請求項２】
前記グローバル焦点面を設定するステップは、
（ｃ）インデックス軸の傾斜および走査軸の傾斜を計算するステップと、
（ｄ）該インデックス軸の傾斜および該走査軸の傾斜の少なくとも一つがそれぞ
れに対応する興味ある値より小さいかどうかを判定するステップと、
（ｅ）該インデックス軸の傾斜および該走査軸の傾斜の少なくとも一つがそれぞ
れに対応する興味ある値より小さくない場合、該スライドにフラッギング（ｆｌ
ａｇｇｉｎｇ）するステップと
をさらに包含する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
光学システムのための自動的に焦点を合わせる方法であっ
て、走査パスを実施するステップは、
（ａ）スライド表面に実質的に対応する表面における第１の点に実質的に対応
するスライド上の第１の位置に対する最適な焦点値の興味ある範囲内の焦点値を
提供する第１の座標を決定するステップと、
（ｂ）該スライド表面に対する該光学システムの要素を該第１の座標に実質的
に対応する位置に移動させるステップと、
（ｃ）該第１の点に対応する該第１の座標を記録するステップと
を包含する、方法。
【請求項４】
前記走査パスを実施するステップは、
（ｄ）前記第１の点を囲む高精度焦点範囲の領域を決定するステップと、
（ｅ）前記第１の座標を該高精度焦点範囲の領域と相関させるステップと
をさらに包含する、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記高精度焦点範囲の領域は、概して、楕円形状である、
請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記高精度焦点範囲の領域は、前記光学システムの走査軸
に対して実質的に平行な主軸を有し、かつ、該光学システムのインデックス軸に
対して実質的に平行な副軸を有する、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記走査パスを実施するステップは、
（ｆ）前記スライド表面に実質的に対応する表面上の第２の点に実質的に対応す
る前記スライド上の第２の位置に対する最適な焦点値の興味ある範囲内にある焦
点値を提供する第２の座標を決定するステップであって、
（Ｉ）該第２の点が少なくとも一つの興味ある高精度焦点範囲の領域内にあるか
どうかを判定するステップと、
（ＩＩ）（Ｉ）における判定がネガティブである場合、該第２の点を囲む高精度
焦点範囲の領域を決定するステップと
を包含するステップをさらに包含する、請求項４に記載の方法。
【請求項８】
前記ステップ（ｆ）は、
（ＩＩＩ）グローバル焦点面を決定するステップと、
（ＩＶ）該グローバル焦点面の表示を用いて、前記第２の座標の第一の推定値を
決定するステップと
をさらに包含する、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記ステップ（ｆ）は、
（ＩＩＩ）前記第２の点が正確な高精度焦点範囲の一つの領域内にあるかどう
かを判定するステップと、
（ＩＶ）（ＩＩＩ）における判定がポジティブである場合、該高精度焦点範囲
の一つの領域と相関された座標を回収するステップと
をさらに包含する、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記ステップ（ｆ）は、
（Ｖ）グローバル焦点面を決定するステップと、
（ＶＩ）該グローバル焦点面に従ってステップ（ＩＶ）の座標を調節するステ
ップと、
（ＶＩＩ）前記スライド表面に対して、前記光学システムの要素を該ステップ
（ＶＩ）において調節された座標に実質的に対応する位置に移動させるステップ
と
を包含する、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記ステップ（ｆ）は、
（ＩＩＩ）前記第２の点が高精度焦点範囲の一つ以上の領域にあるかどうかを
判定するステップと、
（ＩＶ）（ＩＩＩ）における判定がポジティブである場合、該高精度焦点範囲
の一つ以上の各々に相関されたそれぞれの座標を回収するステップと
をさらに包含する、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
前記ステップ（ｆ）は、
（Ｖ）結果的に座標を決定するために、高精度焦点範囲の一つ以上の各領域内
にある少なくとも一つの各点からの第２の点の各距離に基づく、回収された各座
標の重み付き平均を用いるステップをさらに包含する、請求項１１に記載の方法
。
【請求項１３】
前記ステップ（ｆ）は、
（Ｖ）グローバル焦点面を決定するステップと、
（ＶＩ）ステップ（ＩＶ）における回収された座標のうちの少なくとも一つに
基づいて合成座標を決定するステップと、
（ＶＩＩ）該グローバル焦点面に従って該合成座標を調節するステップと、
（ＶＩＩＩ）前記スライドの表面に対して、前記光学システムの要素をステッ
プ（ＶＩＩ）における調節された座標に実質的に対応する位置に移動させるステ
ップと
をさらに包含する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記走査パスを実施するステップは、
（ｅ）細かい焦点面を前記スライドの表面の領域に実質的に対応する領域を表
わすビンを相関させる、請求項４に記載の方法。
【請求項１５】
前記第２の点が前記高精度焦点範囲の少なくとも一つの予
め決定された領域内にあるかどうかに関するステップ（Ｉ）の判定は、該第２の
点を含むビンを少なくとも部分的に横断する、高精度焦点範囲のみを探索するこ
とによって行われる、請求項７に記載の方法。
【請求項１６】
走査パスを実施するステップは、
（ｆ）前記スライド上の第２の位置が該スライドの注目の領域内にあるかどう
かを判定するステップをさらに包含する、請求項４に記載の方法。
【請求項１７】
（ａ）グローバル焦点面を設定するステップと、
（ｂ）スライドの注目の領域における位置に位置決めされた実質的に対応する
ポイントは、少なくとも一つの予め決定された高精度焦点範囲の領域内にあるか
どうかを判定するステップと、
（ｃ）該スライド上の位置に対する最適焦点値の興味ある領域内の焦点値を提
供する座標を決定するステップと、
（ｄ）該位置を囲む領域をイメージングするステップと、
（ｅ）興味ある領域が実質的に全てイメージングされるまで、少なくともステ
ップ（ｂ）〜（ｄ）を繰り返すステップと
を包含する光学システムのために自動的に焦点を合わせる方法。
【請求項１８】
前記ステップ（ｂ）は、前記スライドの表面に対して光学
システムの要素を前記座標に実質的に対応する位置に移動させるステップをさら
に包含するステップと、該光学システムの要素の移動に対応する量の変化可能な
チェックサムを修正するステップとをさらに包含する、請求項３に記載の方法
。
【請求項１９】
アルゴリズムを用いて、スライド上の注目のフィールドを
示すための効果的なオーダーを決定するステップを包含する、光学システムのた
めに自動的に焦点を合わせる方法。
【請求項２０】
前記スライドの表面は、実質的に平面であり、該スライド
は、実質的に均一な厚さである、請求項１７に記載の方法。
【請求項２１】
（ａ）第１の点に実質的に対応する第１の位置に最初に粗
く焦点を合わせるステップと、
（ｂ）引き続き、異なる位置で複数の次の焦点を合わせるステップであって、
該各精密な焦点合わせは、該最初の粗い焦点合わせより速く行われる、ステップ
と
を包含する、自動的に焦点を合わせる方法。
【請求項２２】
ステップ（ａ）は、
（Ｉ）前記第１の位置で前記スライドをイメージングするステップと、
（ＩＩ）前記第１の位置で焦点スコアを決定するステップと、
（ＩＩＩ）前記スライドの表面に対して、前記光学システムの要素を第２の位
置に第１の量だけ引き続いて移動させるステップと、
（ＩＶ）該第２の位置で該スライドを引き続いてイメージングするステップと
、
（Ｖ）該第２の位置で焦点スコアを決定するステップと、
（ＶＩ）該スライドの表面に対して、該光学システムの要素を該第１の量より
小さい第２の量だけ移動させるステップと
を包含する、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
ステップ（ｂ）の精密な焦点合わせは、それぞれ、最大
でも５倍で、該スライドの表面上の点に実質的に対応する位置をイメージングす
ることによって実施される、請求項２１に記載の方法。

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

【図５Ａ】

【図５Ｂ】

【図５Ｃ】

【図５Ｄ】

【図５Ｅ】

【図６】

【図７】

【図８】

【図９】

【図１０】

【図１１】

【図１２】

【図１３】

【図１４】

【図１５Ａ】

【図１５Ｂ】

【図１６】

【図１７】

【図１８Ａ】

【図１８Ｂ】

【図１９】

【図２０】

【図２１】

【図２２】

【図２３】

【図２４】

【図２５】

【図２６Ａ】

【図２６Ｂ】

【図２７】

【図２８】

【図２９】

【図３０】

【図３１】

【図３２】

【図３３】

【図３４】

【図３５】

【図３６】

【公開番号】特開２００８−１１２１９０（Ｐ２００８−１１２１９０Ａ）
【公開日】平成２０年５月１５日（２００８．５．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１０８７３（Ｐ２００８−１０８７３）
【出願日】平成２０年１月２１日（２００８．１．２１）
【分割の表示】特願２００２−５３９８５９（Ｐ２００２−５３９８５９）の分割
【原出願日】平成１３年１１月５日（２００１．１１．５）
【出願人】（５０２１５３９６１）サイティック　コーポレイション (4)
【Ｆターム（参考）】