プラズマディスプレイパネルの成膜装置及び製造方法
【課題】 プラズマディスプレイパネルの基板の表面に薄膜を形成する成膜装置において、長期間に亘って安定的な成膜条件を得る。
【解決手段】 成膜装置は、薄膜材料容器５と、電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段とを備える。成膜装置は、更に、偏向手段に薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材２０を備える。防着部材２０の表面には複数の突起２３が形成されている。これにより、防着部材２０から薄膜材料容器５への薄膜１２の落下を抑制することができ、長期間に亘って安定的な成膜条件を得ることが可能となる。
【解決手段】 成膜装置は、薄膜材料容器５と、電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段とを備える。成膜装置は、更に、偏向手段に薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材２０を備える。防着部材２０の表面には複数の突起２３が形成されている。これにより、防着部材２０から薄膜材料容器５への薄膜１２の落下を抑制することができ、長期間に亘って安定的な成膜条件を得ることが可能となる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの成膜装置及びプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プラズマディスプレイパネルの製造工程には、該プラズマディスプレイパネルを構成する基板の表面に、例えばＭｇＯなどの薄膜を形成する工程が含まれている。
【０００３】
このように薄膜を形成する成膜装置としては、真空蒸着装置、スパッタリング装置或いはその他の各種タイプのものが知られている。
【０００４】
これらの装置では、基板をトレイに載せて搬送しながら成膜室と呼ばれる真空雰囲気（低圧雰囲気）の室内にて所定の膜を形成するトレイ搬送式成膜装置が従来より知られている。
【０００５】
図１は従来の成膜装置が備える成膜室の構造の一例を示す正面断面図である。
【０００６】
図１に示すように、従来の成膜装置の成膜室１０００は、薄膜としてのＭｇＯ（酸化マグネシウム）の材料（図１中の蒸発源６）を貯留したＭｇＯ材料容器５と、電子ビーム２を照射する電子銃１と、この電子銃１に設けられ、電子銃１より照射される電子ビーム２を集束させる集束コイル３と、電子ビーム２をＭｇＯ材料容器５に向かうように偏向する偏向コイル４と、偏向コイル４に薄膜が付着することを防止するため該偏向コイル４を覆うように配設された偏向コイル防着板９と、プラズマディスプレイパネルの基板７を搬送する図示しない搬送機構と、を備えて構成されている。
【０００７】
電子銃１より出力された電子ビーム２は、集束コイル３により絞られた後、偏向コイル４により進行方向が曲げられて、ＭｇＯ材料容器５に照射される。
【０００８】
ＭｇＯ材料容器５内の蒸発源６は、電子ビーム２の照射により加熱されて蒸発し、蒸発成分８となって基板７の表面に到達する。
【０００９】
これにより、基板７の表面上にＭｇＯ膜が成膜される。
【００１０】
なお、このような成膜は、成膜室１０００内を真空にした状態で、基板７を搬送機構により搬送しながら、順次、複数の基板７に対して連続的に行われる。
【００１１】
また、ＭｇＯ材料容器５は、図示しない回転機構を備え、成膜中、水平面内において回転する。
【００１２】
図２は従来の偏向コイル防着板９の構造を示す上面図である。
【００１３】
図２に示すように、従来の偏向コイル防着板９は、平面視が略コ字状のブロック状の形状となっており、その表面が平坦に形成されていた。
【００１４】
なお、ＭｇＯ材料容器５は、図２に示すように、偏向コイル防着板９のほぼ真下に配設されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
ところで、成膜時間の経過とともに成膜室１０００内の部品へ蒸着成分８による着膜が進行する。
【００１６】
特に、偏向コイル防着板９の直下には蒸発源６（ＭｇＯ材料容器５）が位置しているため、該偏向コイル防着板９には他の部分よりも着膜が進行してしまう。
【００１７】
図２に示すように、偏向コイル防着板９への着膜が進行し、着膜量が許容量を超えると薄膜１２がその自重に耐えられなくなって剥離し、落下片１０となってＭｇＯ材料容器５内に落下してしまう。
【００１８】
ＭｇＯ材料容器５は回転機構を有するため、落下片１０が、ＭｇＯ材料容器５内に充填された材料（蒸発源６）に溝１１を掘ってしまう。
【００１９】
溝１１が掘られた部分は材料（蒸発源６）が少ないため、蒸着成分８の蒸発量が少なくなってしまう。
【００２０】
このため、蒸発成分８の蒸発量の分布が基板７の面内において不均一となり、基板７上の薄膜の膜厚が不均一となってしまう。
【００２１】
特に、溝１１が深い場合は、溝１１の部分においては電子ビーム２がＭｇＯ材料容器５を貫通してしまい、溝１１の部分からは蒸着成分８が蒸発しなくなってしまうため、基板７上の薄膜の膜厚が極めて不均一となってしまう。
【００２２】
このため、落下片１０が落下した場合には、偏向コイル防着板９を着膜していないものへと交換する一方で、着膜した偏向コイル防着板９は洗浄する必要があるので、それらの分の作業ロスが増加する。
【００２３】
本発明が解決しようとする課題には、上述したような問題が一例として挙げられる。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
請求項１に記載の発明は、プラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、前記薄膜の材料を貯留した薄膜材料容器と、電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、前記電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを前記薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段と、前記偏向手段に前記薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材と、を備え、前記防着部材の表面には複数の突起が形成されていることを特徴としている。
【００２５】
また、請求項３に記載の発明は、プラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、前記薄膜の材料を貯留した薄膜材料容器と、電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、前記電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを前記薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段と、前記偏向手段に前記薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材と、を備え、前記防着部材の表面が凹凸構造とされていることを特徴としている。
【００２６】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３の何れか一項に記載の成膜装置を用いてプラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する工程を備えることを特徴としている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
次に、実施形態を説明する。
【００２８】
また、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置は、プラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、前記薄膜の材料を貯留した薄膜材料容器と、電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、前記電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを前記薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段と、前記偏向手段に前記薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材と、を備え、前記防着部材の表面には複数の突起が形成されていることを特徴としている。
【００２９】
本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置によれば、防着部材の表面には複数の突起が形成されているので、防着部材に付着した薄膜が落下しにくくなる。よって、従来よりも長期に亘って安定した成膜条件を維持することが可能となるため、プラズマディスプレイパネルの品質を向上させることができるとともに、防着部材の交換頻度及び洗浄頻度を減少させることができるので、工程削減及び低コスト化が図れる。
【００３０】
本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置においては、前記突起の表面が凹凸構造とされていることが好ましく、これにより、防着部材に付着した薄膜が一層落下しにくくなるので、より一層長期に亘って安定した成膜条件を維持することが可能となる。
【００３１】
本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置は、プラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、前記薄膜の材料を貯留した薄膜材料容器と、電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、前記電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを前記薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段と、前記偏向手段に前記薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材と、を備え、前記防着部材の表面が凹凸構造とされていることを特徴としている。
【００３２】
本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置によれば、防着部材の表面が凹凸構造とされているので、防着部材に付着した薄膜が落下しにくくなる。よって、従来よりも長期に亘って安定した成膜条件を維持することが可能となるため、プラズマディスプレイパネルの品質を向上させることができるとともに、防着部材の交換頻度及び洗浄頻度を減少させることができるので、工程削減及び低コスト化が図れる。
【００３３】
また、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法は、本実施形態に係る成膜装置を用いてプラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する工程を備えることを特徴としている。
【００３４】
本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置によれば、本実施形態に係る成膜装置を用いてプラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する工程を備えるので、基板上の薄膜を均一なものとすることができ、プラズマディスプレイパネルの品質向上を図ることができるとともに、プラズマディスプレイパネルの低コスト化が図れる。
【実施例１】
【００３５】
図３は実施例１に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置の成膜室１００の構造を示す正面断面図である。
【００３６】
図３に示すように、実施例１に係る成膜装置の成膜室１００は、薄膜としてのＭｇＯ（酸化マグネシウム）の材料（図３中の蒸発源６）を貯留したＭｇＯ材料容器５と、電子ビーム２を照射する電子銃（電子ビーム照射手段）１と、この電子銃１に設けられ、電子銃１より照射される電子ビーム２を集束させる集束コイル３と、電子ビーム２をＭｇＯ材料容器５に向かうように偏向する偏向コイル（偏向手段）４と、偏向コイル４に薄膜が付着することを防止するため該偏向コイル４を覆うように配設された偏向コイル防着板（防着部材）２０と、プラズマディスプレイパネルの基板７を搬送する図示しない搬送機構と、を備えて構成されている。
【００３７】
電子銃１より出力された電子ビーム２は、集束コイル３により絞られた後、偏向コイル４により進行方向が曲げられて、ＭｇＯ材料容器５に照射される。
【００３８】
ＭｇＯ材料容器５内の蒸発源６は、電子ビーム２の照射により加熱されて蒸発し、蒸発成分８となって基板７の表面に到達する。
【００３９】
これにより、基板７の表面上にＭｇＯ膜が成膜される。
【００４０】
なお、このような成膜は、基板７を搬送機構により搬送しながら、順次、複数の基板７に対して連続的に行われる。
【００４１】
また、ＭｇＯ材料容器５は、図示しない回転機構を備え、成膜中、水平面内において回転する。
【００４２】
図４は偏向コイル防着板２０の構造を示す上面図である。
【００４３】
図４に示すように、偏向コイル防着板２０は、平面視が略コ字状のブロック状の形状となっている。
【００４４】
そして、偏向コイル防着板２０の表面、具体的には、例えば、相互に対向する一対の面２１、２２には、それぞれ複数のピン（突起）２３が形成されている。
【００４５】
このピン２３の突出高さは、例えば、５ｍｍ程度であることが好ましい。
【００４６】
なお、ＭｇＯ材料容器５は、図３に示すように、偏向コイル防着板２０のほぼ真下に配設されている。
【００４７】
次に、動作を説明する。
【００４８】
上記のような構造の成膜装置を用いてプラズマディスプレイパネルの基板７の表面にＭｇＯ膜を成膜するには、成膜室１００内を真空状態（低圧状態）とし、複数の基板７を搬送機構により順次搬送しながら、電子銃１より電子ビーム２を出力する。
【００４９】
電子銃１より出力された電子ビーム２は、集束コイル３により絞られた後、偏向コイル４により進行方向が曲げられて、ＭｇＯ材料容器５に照射される。
【００５０】
ＭｇＯ材料容器５内の蒸発源６は、電子ビーム２の照射により加熱されて蒸発し、蒸発成分８となって基板７の表面に到達する。
【００５１】
これにより、基板７の表面上にＭｇＯ膜が成膜される。
【００５２】
なお、ＭｇＯ材料容器５は、図示しない回転機構を備え、成膜中、水平面内において回転する。
【００５３】
ところで、成膜時間の経過とともに成膜室１００内の部品へ蒸着成分８による着膜が進行するが、特に、偏向コイル防着板２０の直下には蒸発源６（ＭｇＯ材料容器５）が位置しているため、該偏向コイル防着板２０には他の部分よりも着膜が進行する。
【００５４】
図５は偏向コイル防着板２０に薄膜１２が着膜した様子を示す上面図である。
【００５５】
実施例１の場合、偏向コイル防着板２０の表面には複数のピン２３が形成されているので、偏向コイル防着板２０の表面積が従来よりも増加している。
【００５６】
このため、偏向コイル防着板２０の表面に着膜可能な薄膜１２の量が従来よりも増加し、従来よりも薄膜１２が落下しにくいようにすることができる。
【００５７】
更に、着膜した薄膜１２をピン２３により好適に保持することができるので、このことによっても、従来よりも薄膜１２が落下しにくいようにすることができる。
【００５８】
よって、従来よりも長期に亘って安定した成膜条件を維持することが可能となるため、プラズマディスプレイパネルの品質を向上させることができるとともに、偏向コイル防着板２０の交換頻度及び洗浄頻度を減少させることができるので、工程削減及び低コスト化が図れる。
【００５９】
図６は偏向コイル防着板の使用時間と薄膜１２の落下（膜剥離）の発生との相関を示す図であり、横軸が使用時間（単位：時間（ｈ））、縦軸が着膜量（単位：ｍｍ）となっている。
【００６０】
図６には、従来の構造の偏向コイル防着板９を使用した場合と、実施例１の構造の偏向コイル防着板２０（ピン２３の突出高さが５ｍｍ及び２０ｍｍ）を使用した場合のデータをそれぞれ示す。
【００６１】
図６に示すように、従来の構造の偏向コイル防着板９を使用した場合、使用時間が３４時間となって着膜量が２８ｍｍ程度となった段階で膜剥離が発生し、薄膜１２が落下片となって落下した。
【００６２】
対して、実施例１（ピン２３の突出高さが５ｍｍ）の構造の偏向コイル防着板２０を使用した場合、使用時間が７０時間となって着膜量が５７ｍｍ程度となっても膜剥離が発生しなかった。
【００６３】
また、実施例１（ピン２３の突出高さが２０ｍｍ）の構造の偏向コイル防着板２０を使用した場合、使用時間が４６時間となって着膜量が３８ｍｍ程度となった段階で膜剥離が発生し、薄膜１２が落下片となって落下した。
【００６４】
これらの結果から、従来の構造の偏向コイル防着板２０よりも、実施例１の構造の偏向コイル防着板２０のほうが、膜剥離を抑制できることが分かる。
【００６５】
また、実施例１の構造の偏向コイル防着板２０においても、ピン２３の突出高さが５ｍｍ程度のものを用いた場合に、特に好適に膜剥離を抑制できることが分かる。
【００６６】
なお、ピン２３の突出高さが２０ｍｍの場合、ピン２３に着膜する薄膜１２の量が局所的に多くなることにより許容値を超えて膜剥離してしまうことが観察により分かった。
【００６７】
以上のような実施例１によれば、プラズマディスプレイパネルの基板７の表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、薄膜の材料を貯留したＭｇＯ材料容器５と、電子ビーム２を照射する電子銃１と、電子銃１より出力された電子ビーム２をＭｇＯ材料容器５に向かうように偏向する偏向コイル４と、偏向コイル４に薄膜が付着することを防止するため該偏向コイル４を覆うように配設された偏向コイル防着板２０と、を備え、偏向コイル防着板２０の表面には複数のピン２３が形成されているので、偏向コイル防着板２０に付着した薄膜が落下しにくくなる。よって、従来よりも長期に亘って安定した成膜条件を維持することが可能となるため、プラズマディスプレイパネルの品質を向上させることができるとともに、偏向コイル防着板２０の交換頻度及び洗浄頻度を減少させることができるので、工程削減及び低コスト化が図れる。
【実施例２】
【００６８】
実施例２に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置は、偏向コイル防着板２０のピン２３の構造が上記の実施例１に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置と相違する点の他は、上記の実施例１に係る成膜装置と同様に構成されている。
【００６９】
図７は実施例２の場合の偏向コイル防着板２０の構造を示す上面図である。
【００７０】
図７に示すように、実施例２の場合、偏向コイル防着板２０のピン２３の表面には複数の凹凸が形成されている。
【００７１】
このため、実施例２の場合、実施例１の場合よりも更に偏向コイル防着板２０の表面積が増加し、着膜可能な薄膜１２の量が増加する。よって、実施例１の場合よりも一層好適に、薄膜１２の落下を抑制することが可能となる。
【００７２】
また、偏向コイル防着板２０に薄膜が着膜した場合、該薄膜がピン２３の凹凸に食い込むようになって保持されることとなり、このことによっても、薄膜１２の落下を好適に抑制することが可能となる。
【００７３】
以上のような実施例２によれば、ピン２３の表面が凹凸構造とされているので、実施例１の場合よりも一層好適に、薄膜１２の落下を抑制することが可能となる。
【実施例３】
【００７４】
実施例３に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置は、偏向コイル防着板２０の構造が上記の実施例１に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置と相違する点の他は、上記の実施例１に係る成膜装置と同様に構成されている。
【００７５】
図８は実施例３の場合の偏向コイル防着板２０の構造を示す上面図である。
【００７６】
図８に示すように、実施例３の場合、偏向コイル防着板２０の表面、具体的には、例えば、相互に対向する一対の面２１，２２には、それぞれ複数の凹凸が形成されている。
【００７７】
このため、実施例３の場合も、上記の各実施例の場合と同様に、従来技術よりも偏向コイル防着板２０の表面積が増加し、着膜可能な薄膜１２の量が増加する。よって、従来技術の場合よりも好適に、薄膜１２の落下を抑制することが可能となる。
【００７８】
以上のような実施例３によれば、プラズマディスプレイパネルの基板７の表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、薄膜の材料を貯留したＭｇＯ材料容器５と、電子ビーム２を照射する電子銃１と、電子銃１より出力された電子ビーム２をＭｇＯ材料容器５に向かうように偏向する偏向コイル４と、偏向コイル４に薄膜が付着することを防止するため該偏向コイル４を覆うように配設された偏向コイル防着板２０と、を備え、偏向コイル防着板２０の表面が凹凸構造とされているので、偏向コイル防着板２０に付着した薄膜が落下しにくくなる。よって、従来よりも長期に亘って安定した成膜条件を維持することが可能となるため、プラズマディスプレイパネルの品質を向上させることができるとともに、偏向コイル防着板２０の交換頻度及び洗浄頻度を減少させることができるので、工程削減及び低コスト化が図れる。
【００７９】
なお、上記の各実施例では、偏向コイル防着板２０において、相互に対向する一対の面２１、２２にのみピン２３或いは凹凸を形成した例を説明したが、偏向コイル防着板２０におけるその他の部位にピン２３或いは凹凸を形成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】従来の成膜装置の成膜室の構造を示す正面断面図である。
【図２】図１の成膜装置の偏向コイル防着板の構造を示す上面図である。
【図３】実施例１に係る成膜装置の成膜室の構造を示す正面断面図である。
【図４】実施例１に係る成膜装置が備える偏向コイル防着板の構造を示す上面図である。
【図５】図４の偏向コイル防着板に薄膜が着膜した様子を示す上面図である。
【図６】実施例１による効果を示す図である。
【図７】実施例２に係る成膜装置が備える偏向コイル防着板の構造を示す上面図である。
【図８】実施例３に係る成膜装置が備える偏向コイル防着板の構造を示す上面図である。
【符号の説明】
【００８１】
１ 電子銃（電子ビーム照射手段）
４ 偏向コイル（偏向手段）
５ ＭｇＯ材料容器（薄膜材料容器）
７ 基板
２０ 偏向コイル防着板（防着部材）
２３ ピン（突起）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの成膜装置及びプラズマディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プラズマディスプレイパネルの製造工程には、該プラズマディスプレイパネルを構成する基板の表面に、例えばＭｇＯなどの薄膜を形成する工程が含まれている。
【０００３】
このように薄膜を形成する成膜装置としては、真空蒸着装置、スパッタリング装置或いはその他の各種タイプのものが知られている。
【０００４】
これらの装置では、基板をトレイに載せて搬送しながら成膜室と呼ばれる真空雰囲気（低圧雰囲気）の室内にて所定の膜を形成するトレイ搬送式成膜装置が従来より知られている。
【０００５】
図１は従来の成膜装置が備える成膜室の構造の一例を示す正面断面図である。
【０００６】
図１に示すように、従来の成膜装置の成膜室１０００は、薄膜としてのＭｇＯ（酸化マグネシウム）の材料（図１中の蒸発源６）を貯留したＭｇＯ材料容器５と、電子ビーム２を照射する電子銃１と、この電子銃１に設けられ、電子銃１より照射される電子ビーム２を集束させる集束コイル３と、電子ビーム２をＭｇＯ材料容器５に向かうように偏向する偏向コイル４と、偏向コイル４に薄膜が付着することを防止するため該偏向コイル４を覆うように配設された偏向コイル防着板９と、プラズマディスプレイパネルの基板７を搬送する図示しない搬送機構と、を備えて構成されている。
【０００７】
電子銃１より出力された電子ビーム２は、集束コイル３により絞られた後、偏向コイル４により進行方向が曲げられて、ＭｇＯ材料容器５に照射される。
【０００８】
ＭｇＯ材料容器５内の蒸発源６は、電子ビーム２の照射により加熱されて蒸発し、蒸発成分８となって基板７の表面に到達する。
【０００９】
これにより、基板７の表面上にＭｇＯ膜が成膜される。
【００１０】
なお、このような成膜は、成膜室１０００内を真空にした状態で、基板７を搬送機構により搬送しながら、順次、複数の基板７に対して連続的に行われる。
【００１１】
また、ＭｇＯ材料容器５は、図示しない回転機構を備え、成膜中、水平面内において回転する。
【００１２】
図２は従来の偏向コイル防着板９の構造を示す上面図である。
【００１３】
図２に示すように、従来の偏向コイル防着板９は、平面視が略コ字状のブロック状の形状となっており、その表面が平坦に形成されていた。
【００１４】
なお、ＭｇＯ材料容器５は、図２に示すように、偏向コイル防着板９のほぼ真下に配設されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
ところで、成膜時間の経過とともに成膜室１０００内の部品へ蒸着成分８による着膜が進行する。
【００１６】
特に、偏向コイル防着板９の直下には蒸発源６（ＭｇＯ材料容器５）が位置しているため、該偏向コイル防着板９には他の部分よりも着膜が進行してしまう。
【００１７】
図２に示すように、偏向コイル防着板９への着膜が進行し、着膜量が許容量を超えると薄膜１２がその自重に耐えられなくなって剥離し、落下片１０となってＭｇＯ材料容器５内に落下してしまう。
【００１８】
ＭｇＯ材料容器５は回転機構を有するため、落下片１０が、ＭｇＯ材料容器５内に充填された材料（蒸発源６）に溝１１を掘ってしまう。
【００１９】
溝１１が掘られた部分は材料（蒸発源６）が少ないため、蒸着成分８の蒸発量が少なくなってしまう。
【００２０】
このため、蒸発成分８の蒸発量の分布が基板７の面内において不均一となり、基板７上の薄膜の膜厚が不均一となってしまう。
【００２１】
特に、溝１１が深い場合は、溝１１の部分においては電子ビーム２がＭｇＯ材料容器５を貫通してしまい、溝１１の部分からは蒸着成分８が蒸発しなくなってしまうため、基板７上の薄膜の膜厚が極めて不均一となってしまう。
【００２２】
このため、落下片１０が落下した場合には、偏向コイル防着板９を着膜していないものへと交換する一方で、着膜した偏向コイル防着板９は洗浄する必要があるので、それらの分の作業ロスが増加する。
【００２３】
本発明が解決しようとする課題には、上述したような問題が一例として挙げられる。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
請求項１に記載の発明は、プラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、前記薄膜の材料を貯留した薄膜材料容器と、電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、前記電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを前記薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段と、前記偏向手段に前記薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材と、を備え、前記防着部材の表面には複数の突起が形成されていることを特徴としている。
【００２５】
また、請求項３に記載の発明は、プラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、前記薄膜の材料を貯留した薄膜材料容器と、電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、前記電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを前記薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段と、前記偏向手段に前記薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材と、を備え、前記防着部材の表面が凹凸構造とされていることを特徴としている。
【００２６】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１乃至３の何れか一項に記載の成膜装置を用いてプラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する工程を備えることを特徴としている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
次に、実施形態を説明する。
【００２８】
また、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置は、プラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、前記薄膜の材料を貯留した薄膜材料容器と、電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、前記電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを前記薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段と、前記偏向手段に前記薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材と、を備え、前記防着部材の表面には複数の突起が形成されていることを特徴としている。
【００２９】
本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置によれば、防着部材の表面には複数の突起が形成されているので、防着部材に付着した薄膜が落下しにくくなる。よって、従来よりも長期に亘って安定した成膜条件を維持することが可能となるため、プラズマディスプレイパネルの品質を向上させることができるとともに、防着部材の交換頻度及び洗浄頻度を減少させることができるので、工程削減及び低コスト化が図れる。
【００３０】
本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置においては、前記突起の表面が凹凸構造とされていることが好ましく、これにより、防着部材に付着した薄膜が一層落下しにくくなるので、より一層長期に亘って安定した成膜条件を維持することが可能となる。
【００３１】
本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置は、プラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、前記薄膜の材料を貯留した薄膜材料容器と、電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、前記電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを前記薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段と、前記偏向手段に前記薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材と、を備え、前記防着部材の表面が凹凸構造とされていることを特徴としている。
【００３２】
本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置によれば、防着部材の表面が凹凸構造とされているので、防着部材に付着した薄膜が落下しにくくなる。よって、従来よりも長期に亘って安定した成膜条件を維持することが可能となるため、プラズマディスプレイパネルの品質を向上させることができるとともに、防着部材の交換頻度及び洗浄頻度を減少させることができるので、工程削減及び低コスト化が図れる。
【００３３】
また、本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法は、本実施形態に係る成膜装置を用いてプラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する工程を備えることを特徴としている。
【００３４】
本実施形態に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置によれば、本実施形態に係る成膜装置を用いてプラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する工程を備えるので、基板上の薄膜を均一なものとすることができ、プラズマディスプレイパネルの品質向上を図ることができるとともに、プラズマディスプレイパネルの低コスト化が図れる。
【実施例１】
【００３５】
図３は実施例１に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置の成膜室１００の構造を示す正面断面図である。
【００３６】
図３に示すように、実施例１に係る成膜装置の成膜室１００は、薄膜としてのＭｇＯ（酸化マグネシウム）の材料（図３中の蒸発源６）を貯留したＭｇＯ材料容器５と、電子ビーム２を照射する電子銃（電子ビーム照射手段）１と、この電子銃１に設けられ、電子銃１より照射される電子ビーム２を集束させる集束コイル３と、電子ビーム２をＭｇＯ材料容器５に向かうように偏向する偏向コイル（偏向手段）４と、偏向コイル４に薄膜が付着することを防止するため該偏向コイル４を覆うように配設された偏向コイル防着板（防着部材）２０と、プラズマディスプレイパネルの基板７を搬送する図示しない搬送機構と、を備えて構成されている。
【００３７】
電子銃１より出力された電子ビーム２は、集束コイル３により絞られた後、偏向コイル４により進行方向が曲げられて、ＭｇＯ材料容器５に照射される。
【００３８】
ＭｇＯ材料容器５内の蒸発源６は、電子ビーム２の照射により加熱されて蒸発し、蒸発成分８となって基板７の表面に到達する。
【００３９】
これにより、基板７の表面上にＭｇＯ膜が成膜される。
【００４０】
なお、このような成膜は、基板７を搬送機構により搬送しながら、順次、複数の基板７に対して連続的に行われる。
【００４１】
また、ＭｇＯ材料容器５は、図示しない回転機構を備え、成膜中、水平面内において回転する。
【００４２】
図４は偏向コイル防着板２０の構造を示す上面図である。
【００４３】
図４に示すように、偏向コイル防着板２０は、平面視が略コ字状のブロック状の形状となっている。
【００４４】
そして、偏向コイル防着板２０の表面、具体的には、例えば、相互に対向する一対の面２１、２２には、それぞれ複数のピン（突起）２３が形成されている。
【００４５】
このピン２３の突出高さは、例えば、５ｍｍ程度であることが好ましい。
【００４６】
なお、ＭｇＯ材料容器５は、図３に示すように、偏向コイル防着板２０のほぼ真下に配設されている。
【００４７】
次に、動作を説明する。
【００４８】
上記のような構造の成膜装置を用いてプラズマディスプレイパネルの基板７の表面にＭｇＯ膜を成膜するには、成膜室１００内を真空状態（低圧状態）とし、複数の基板７を搬送機構により順次搬送しながら、電子銃１より電子ビーム２を出力する。
【００４９】
電子銃１より出力された電子ビーム２は、集束コイル３により絞られた後、偏向コイル４により進行方向が曲げられて、ＭｇＯ材料容器５に照射される。
【００５０】
ＭｇＯ材料容器５内の蒸発源６は、電子ビーム２の照射により加熱されて蒸発し、蒸発成分８となって基板７の表面に到達する。
【００５１】
これにより、基板７の表面上にＭｇＯ膜が成膜される。
【００５２】
なお、ＭｇＯ材料容器５は、図示しない回転機構を備え、成膜中、水平面内において回転する。
【００５３】
ところで、成膜時間の経過とともに成膜室１００内の部品へ蒸着成分８による着膜が進行するが、特に、偏向コイル防着板２０の直下には蒸発源６（ＭｇＯ材料容器５）が位置しているため、該偏向コイル防着板２０には他の部分よりも着膜が進行する。
【００５４】
図５は偏向コイル防着板２０に薄膜１２が着膜した様子を示す上面図である。
【００５５】
実施例１の場合、偏向コイル防着板２０の表面には複数のピン２３が形成されているので、偏向コイル防着板２０の表面積が従来よりも増加している。
【００５６】
このため、偏向コイル防着板２０の表面に着膜可能な薄膜１２の量が従来よりも増加し、従来よりも薄膜１２が落下しにくいようにすることができる。
【００５７】
更に、着膜した薄膜１２をピン２３により好適に保持することができるので、このことによっても、従来よりも薄膜１２が落下しにくいようにすることができる。
【００５８】
よって、従来よりも長期に亘って安定した成膜条件を維持することが可能となるため、プラズマディスプレイパネルの品質を向上させることができるとともに、偏向コイル防着板２０の交換頻度及び洗浄頻度を減少させることができるので、工程削減及び低コスト化が図れる。
【００５９】
図６は偏向コイル防着板の使用時間と薄膜１２の落下（膜剥離）の発生との相関を示す図であり、横軸が使用時間（単位：時間（ｈ））、縦軸が着膜量（単位：ｍｍ）となっている。
【００６０】
図６には、従来の構造の偏向コイル防着板９を使用した場合と、実施例１の構造の偏向コイル防着板２０（ピン２３の突出高さが５ｍｍ及び２０ｍｍ）を使用した場合のデータをそれぞれ示す。
【００６１】
図６に示すように、従来の構造の偏向コイル防着板９を使用した場合、使用時間が３４時間となって着膜量が２８ｍｍ程度となった段階で膜剥離が発生し、薄膜１２が落下片となって落下した。
【００６２】
対して、実施例１（ピン２３の突出高さが５ｍｍ）の構造の偏向コイル防着板２０を使用した場合、使用時間が７０時間となって着膜量が５７ｍｍ程度となっても膜剥離が発生しなかった。
【００６３】
また、実施例１（ピン２３の突出高さが２０ｍｍ）の構造の偏向コイル防着板２０を使用した場合、使用時間が４６時間となって着膜量が３８ｍｍ程度となった段階で膜剥離が発生し、薄膜１２が落下片となって落下した。
【００６４】
これらの結果から、従来の構造の偏向コイル防着板２０よりも、実施例１の構造の偏向コイル防着板２０のほうが、膜剥離を抑制できることが分かる。
【００６５】
また、実施例１の構造の偏向コイル防着板２０においても、ピン２３の突出高さが５ｍｍ程度のものを用いた場合に、特に好適に膜剥離を抑制できることが分かる。
【００６６】
なお、ピン２３の突出高さが２０ｍｍの場合、ピン２３に着膜する薄膜１２の量が局所的に多くなることにより許容値を超えて膜剥離してしまうことが観察により分かった。
【００６７】
以上のような実施例１によれば、プラズマディスプレイパネルの基板７の表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、薄膜の材料を貯留したＭｇＯ材料容器５と、電子ビーム２を照射する電子銃１と、電子銃１より出力された電子ビーム２をＭｇＯ材料容器５に向かうように偏向する偏向コイル４と、偏向コイル４に薄膜が付着することを防止するため該偏向コイル４を覆うように配設された偏向コイル防着板２０と、を備え、偏向コイル防着板２０の表面には複数のピン２３が形成されているので、偏向コイル防着板２０に付着した薄膜が落下しにくくなる。よって、従来よりも長期に亘って安定した成膜条件を維持することが可能となるため、プラズマディスプレイパネルの品質を向上させることができるとともに、偏向コイル防着板２０の交換頻度及び洗浄頻度を減少させることができるので、工程削減及び低コスト化が図れる。
【実施例２】
【００６８】
実施例２に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置は、偏向コイル防着板２０のピン２３の構造が上記の実施例１に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置と相違する点の他は、上記の実施例１に係る成膜装置と同様に構成されている。
【００６９】
図７は実施例２の場合の偏向コイル防着板２０の構造を示す上面図である。
【００７０】
図７に示すように、実施例２の場合、偏向コイル防着板２０のピン２３の表面には複数の凹凸が形成されている。
【００７１】
このため、実施例２の場合、実施例１の場合よりも更に偏向コイル防着板２０の表面積が増加し、着膜可能な薄膜１２の量が増加する。よって、実施例１の場合よりも一層好適に、薄膜１２の落下を抑制することが可能となる。
【００７２】
また、偏向コイル防着板２０に薄膜が着膜した場合、該薄膜がピン２３の凹凸に食い込むようになって保持されることとなり、このことによっても、薄膜１２の落下を好適に抑制することが可能となる。
【００７３】
以上のような実施例２によれば、ピン２３の表面が凹凸構造とされているので、実施例１の場合よりも一層好適に、薄膜１２の落下を抑制することが可能となる。
【実施例３】
【００７４】
実施例３に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置は、偏向コイル防着板２０の構造が上記の実施例１に係るプラズマディスプレイパネルの成膜装置と相違する点の他は、上記の実施例１に係る成膜装置と同様に構成されている。
【００７５】
図８は実施例３の場合の偏向コイル防着板２０の構造を示す上面図である。
【００７６】
図８に示すように、実施例３の場合、偏向コイル防着板２０の表面、具体的には、例えば、相互に対向する一対の面２１，２２には、それぞれ複数の凹凸が形成されている。
【００７７】
このため、実施例３の場合も、上記の各実施例の場合と同様に、従来技術よりも偏向コイル防着板２０の表面積が増加し、着膜可能な薄膜１２の量が増加する。よって、従来技術の場合よりも好適に、薄膜１２の落下を抑制することが可能となる。
【００７８】
以上のような実施例３によれば、プラズマディスプレイパネルの基板７の表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、薄膜の材料を貯留したＭｇＯ材料容器５と、電子ビーム２を照射する電子銃１と、電子銃１より出力された電子ビーム２をＭｇＯ材料容器５に向かうように偏向する偏向コイル４と、偏向コイル４に薄膜が付着することを防止するため該偏向コイル４を覆うように配設された偏向コイル防着板２０と、を備え、偏向コイル防着板２０の表面が凹凸構造とされているので、偏向コイル防着板２０に付着した薄膜が落下しにくくなる。よって、従来よりも長期に亘って安定した成膜条件を維持することが可能となるため、プラズマディスプレイパネルの品質を向上させることができるとともに、偏向コイル防着板２０の交換頻度及び洗浄頻度を減少させることができるので、工程削減及び低コスト化が図れる。
【００７９】
なお、上記の各実施例では、偏向コイル防着板２０において、相互に対向する一対の面２１、２２にのみピン２３或いは凹凸を形成した例を説明したが、偏向コイル防着板２０におけるその他の部位にピン２３或いは凹凸を形成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】従来の成膜装置の成膜室の構造を示す正面断面図である。
【図２】図１の成膜装置の偏向コイル防着板の構造を示す上面図である。
【図３】実施例１に係る成膜装置の成膜室の構造を示す正面断面図である。
【図４】実施例１に係る成膜装置が備える偏向コイル防着板の構造を示す上面図である。
【図５】図４の偏向コイル防着板に薄膜が着膜した様子を示す上面図である。
【図６】実施例１による効果を示す図である。
【図７】実施例２に係る成膜装置が備える偏向コイル防着板の構造を示す上面図である。
【図８】実施例３に係る成膜装置が備える偏向コイル防着板の構造を示す上面図である。
【符号の説明】
【００８１】
１ 電子銃（電子ビーム照射手段）
４ 偏向コイル（偏向手段）
５ ＭｇＯ材料容器（薄膜材料容器）
７ 基板
２０ 偏向コイル防着板（防着部材）
２３ ピン（突起）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、
前記薄膜の材料を貯留した薄膜材料容器と、
電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、
前記電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを前記薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段と、
前記偏向手段に前記薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材と、
を備え、
前記防着部材の表面には複数の突起が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの成膜装置。
【請求項２】
前記突起の表面が凹凸構造とされていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの成膜装置。
【請求項３】
プラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、
前記薄膜の材料を貯留した薄膜材料容器と、
電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、
前記電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを前記薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段と、
前記偏向手段に前記薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材と、
を備え、
前記防着部材の表面が凹凸構造とされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの成膜装置。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか一項に記載の成膜装置を用いてプラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する工程を備えることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、
前記薄膜の材料を貯留した薄膜材料容器と、
電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、
前記電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを前記薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段と、
前記偏向手段に前記薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材と、
を備え、
前記防着部材の表面には複数の突起が形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの成膜装置。
【請求項２】
前記突起の表面が凹凸構造とされていることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの成膜装置。
【請求項３】
プラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する成膜装置において、
前記薄膜の材料を貯留した薄膜材料容器と、
電子ビームを照射する電子ビーム照射手段と、
前記電子ビーム照射手段より出力された電子ビームを前記薄膜材料容器に向かうように偏向する偏向手段と、
前記偏向手段に前記薄膜が付着することを防止するため該偏向手段を覆うように配設された防着部材と、
を備え、
前記防着部材の表面が凹凸構造とされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの成膜装置。
【請求項４】
請求項１乃至３の何れか一項に記載の成膜装置を用いてプラズマディスプレイパネルの基板表面に所定の薄膜を形成する工程を備えることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２００７−７３２２１（Ｐ２００７−７３２２１Ａ）
【公開日】平成１９年３月２２日（２００７．３．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２５６１５３（Ｐ２００５−２５６１５３）
【出願日】平成１７年９月５日（２００５．９．５）
【出願人】（０００００５０１６）パイオニア株式会社 (3,620)
【出願人】（０００２３２１５１）パイオニアプラズマディスプレイ株式会社 (27)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年３月２２日（２００７．３．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年９月５日（２００５．９．５）
【出願人】（０００００５０１６）パイオニア株式会社 (3,620)
【出願人】（０００２３２１５１）パイオニアプラズマディスプレイ株式会社 (27)
【Ｆターム（参考）】
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