二座Ｃ，Ｐ−キラルホスフィン配位子
本発明は、式Ｉ（式中、Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールであり、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールは、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；Ｒ３は、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールであり；Ｒ４’およびＲ４は、互いに独立して、水素、アルキルもしくは場合により置換されているアリールを表すか、またはＲ４’およびＲ４は、それらが結合するＣ原子と一緒になって、３〜８員炭素環を形成しており；点線は、存在しないか、または存在して二重結合を形成しており；Ｒ５およびＲ６は、互いに独立して、水素、アルキルもしくはアリールであるか、または一緒に結合して、３〜８員炭素環もしくは芳香族環を形成しており；Ｒ７は、アルキル、アリールまたはＮＲ８Ｒ８’であり；Ｒ８およびＲ８’は、互いに独立して、水素、アルキルまたはアリールである）で示される新規なホスフィン配位子、そのような配位子の金属錯体、および不斉反応における触媒としてのそのような金属錯体の使用に関する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なホスフィン配位子、そのような配位子を製造する方法、そのような配位子の金属錯体、および不斉反応における触媒としてのそのような金属錯体の使用に関する。
【０００２】
炭素およびリン原子上にキラル中心を有するホスフィン配位子は、当該技術分野で公知である。特定の分類のホスフィン配位子は、炭素原子３個の架橋により結合したもの、例えば、１，３−ジホスフィン配位子である。架橋の炭素原子上にキラル中心を１または２個有する１，３−ジホスフィン配位子の例は、ＳＫＥＷＰＨＯＳ（Ａ)およびＣＨＡＩＲＰＨＯＳ（Ｂ）である（J. Am. Chem. Soc. 1981, 103, 2273参照）。別のタイプのキラルホスフィン配位子の例は、Ｐ原子がホスホラン環（例えば、Tetrahedron Asymmetry, 1991, 2,(7), 569に記載されたＢＰＥ配位子（Ｃ）、またはAngew. Chem. Int. Ed. 2002, 41(9), 1612に記載された化合物（Ｄ））に含まれるものである。
【０００３】
【化２９】
【０００４】
本発明の目的は、架橋の炭素原子上にキラル中心を１または２個有し、リン原子上にキラル中心を１個有する更なるキラル１，３−ジホスフィン配位子、即ち、かなり硬直なビシクロ［４．３．０］ノナン型キレートを遷移金属と共に形成する新規な二座Ｃ，Ｐ−キラル１，３−ジホスフィン配位子系を提供することである。そのような新規な配位子を合成する方法は、本発明の一部であり、それは、スキーム１に示したとおり非常に短いという利点を有する。
【０００５】
それゆえ本発明は、式Ｉ：
【０００６】
【化３０】
【０００７】
（式中、
Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールであり、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールは、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；
Ｒ３は、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールであり；
Ｒ４’およびＲ４は、互いに独立して、水素、アルキルもしくはアリールを表すか、または
Ｒ４’およびＲ４は、それらが結合するＣ原子と一緒になって、３〜８員炭素環を形成しており；
点線は、存在しないか、または存在して二重結合を形成しており；
Ｒ５およびＲ６は、互いに独立して、水素、アルキルもしくはアリールであるか、または一緒に結合して、３〜８員炭素環もしくは芳香族環を形成しており；
Ｒ７は、アルキル、アリールまたはＮＲ８Ｒ８’であり；
Ｒ８およびＲ８’は、互いに独立して、水素、アルキルまたはアリールである）で示される新規なホスフィン配位子に関する。
【０００８】
式Ｉで示される化合物は、式Ｉａ、Ｉｂ、ＩｃおよびＩｄに示されるとおり、少なくとも２個（ホスホラン環のＰ原子上の１個およびホスホラン環のＣ２原子上の１個）のキラル中心を有する。
【０００９】
【化３１】
【００１０】
残基：Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５およびＲ６は、それらが結合するＣ原子上に更なるキラル中心を形成していてもよく、残基：Ｒ１およびＲ２は、それらが結合するリン原子上に更なるキラル中心を形成していてもよい。
【００１１】
該当する用語が単独または組み合わされて表されているかに関わらず、本明細書で使用される一般的用語の以下の定義が適用される。
【００１２】
本明細書で用いられる用語「アルキル」は、炭素原子が１〜８個、好ましくは１〜４個の直鎖または分枝状炭化水素基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチルおよびtert−ブチルを表す。
【００１３】
好ましくはＲ１、Ｒ２およびＲ３に関するアルキル基は、分枝状アルキル基、例えば、イソプロピル、イソブチルおよびtert−ブチルである。
【００１４】
用語「アルコキシ」は、アルキル残基が先に定義されたとおりで、酸素原子を介して結合した基を示す。
【００１５】
用語「シクロアルキル」は、３〜８員環、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチル、特にシクロペンチルまたはシクロヘキシルを表す。
【００１６】
前記「アルキル」および「シクロアルキル」基は、アルキル（シクロアルキル基の場合）、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、またはアリールにより置換されていてもよい。
【００１７】
用語「アリール」は、非置換であるか、またはオルト−、メタ−もしくはパラ−位で置換されていてもよい、または多置換されていてもよい芳香族炭化水素残基、特にフェニル残基を表す。考慮される置換基は、例えば、フェニル、アルキルまたはアルコキシ基（好ましくはメチルまたはメトキシ基）、またはアミノ、モノアルキルもしくはジアルキルアミノ（好ましくはジメチルアミノまたはジエチルアミノ）、またはヒドロキシ、またはハロゲン（例えば、塩素）、またはトリアルキルシリル（例えば、トリメチルシリル）である。その上、用語「アリール」は、ナフチルを表すことができる。好ましいアリール残基は、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、ジ−tert−ブチルフェニルまたはアニシルである。
【００１８】
用語「ヘテロアリール」は、ヘテロ原子（例えば、Ｓ、Ｏおよび／またはＮ）を１個以上含む５または６員芳香族環を表す。そのようなヘテロアリール基の例は、フリル、チエニル、ベンゾフラニルまたはベンゾチエニルである。
【００１９】
略語：
ＢＡＲＦ テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボラート
ｃ 濃度
ｃｏｄ （Ｚ，Ｚ）−１，５−シクロオクタジエン
ｃｏｎｖ． 変換
ＤＡＢＣＯ １，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン
ＤＢＵ １，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデカ−７−エン
ＤＥＡＤ ジエチルアゾジカルボキシラート
ＤＩＡＤ ジイソプロピルアゾジカルボキシラート
ｅｅ 鏡像体過剰率
ＥＩ−ＭＳ 電子衝撃質量分析法
ＥｔＯＡＣ 酢酸エチル
ＥｔＯＨ エタノール
ＧＣ ガスクロマトグラフィー
ｈ 時間
ＨＰＬＣ 高速液体クロマトグラフィー
ＨＶ 高真空
ｍ．ｐ． 融点
ＭＳ 質量分析法
Ｍｅ−ＰＥＰ ２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン
ＰＥＰ ２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン
ＰＭＰ５ ２−［（ジフェニルホスフィノ）メチル］−１−フェニルホスホラン
Ｓ／Ｃ 触媒に対する基質のモル比
ＴＢＭＥ tert−ブチルメチルエーテル
ＴＦＡ トリフルオロ酢酸
ＴＨＦ テトラヒドロフラン
【００２０】
本発明の化合物におけるcis−およびtrans−配置ならびに関連の化合物の表示については、以下に示した約束を厳守する：
【００２１】
【化３２】
【００２２】
好ましい式Ｉで示される化合物は、式ＩａおよびＩｂ：
【００２３】
【化３３】
【００２４】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ４’は、先に定義されたとおりである）で示されるものである。
【００２５】
別の好ましい化合物は、式ＩｃおよびＩｄ：
【００２６】
【化３４】
【００２７】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ４’は、先に定義されたとおりである）を有する。
【００２８】
更に別の好ましい化合物は、式ＩｅおよびＩｆ：
【００２９】
【化３５】
【００３０】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ４’は、先に定義されたとおりである）を有する。
【００３１】
本発明の一つの実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールを表し、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールが、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；
Ｒ３が、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ４’およびＲ４が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ５およびＲ６が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはフェニルであり；
点線が、存在せず、
Ｒ７、Ｒ８およびＲ８’が、先に定義されたとおりである、式Ｉで示される化合物である。
【００３２】
本発明の別の実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アリールを表し；
Ｒ３が、tert−ブチルまたはフェニルであり；
Ｒ４およびＲ４’が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、式Ｉで示される化合物である。
【００３３】
本発明の別の実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アリールを表し；
Ｒ３が、フェニルであり；
Ｒ４、Ｒ４’が、互いに独立して、水素、メチルまたはフェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、式Ｉで示される化合物である。
【００３４】
本発明の別の実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、フェニルを表し；
Ｒ３が、フェニルであり；
Ｒ４、Ｒ４’が、互いに独立して、水素、メチルまたはフェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、式Ｉで示される化合物である。
【００３５】
本発明の別の実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールを表し、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールが、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；
Ｒ３が、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ５およびＲ６が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはフェニルを表し；
点線が、存在せず、
Ｒ７、Ｒ８およびＲ８’が、先に定義されたとおりである、式ＩｅまたはＩｆで示される化合物である。
【００３６】
本発明の別の実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アリールを表し；
Ｒ３が、tert−ブチルまたはフェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、式ＩｅまたはＩｆで示される化合物である。
【００３７】
本発明の別の実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、フェニルを表し；
Ｒ３が、フェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、式ＩｅまたはＩｆで示される化合物である。
【００３８】
本発明の更に別の実施形態は、化合物が、
（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＲＰ，Ｒ，Ｒ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＲＰ，Ｒ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＲＰ，Ｒ，Ｒ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；または
（ＲＰ，Ｒ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；
である式Ｉで示される化合物、またはこれらの鏡像異性体である。
【００３９】
式Ｉで示される配位子は、以下の反応スキームにより製造される。
【００４０】
【化３６】
【００４１】
工程１
ホスホランボラン錯体：１を、金属化試薬（例えば、アリールもしくはアルキルリチウム試薬、またはリチウムアミド試薬）で金属化し、次に非キラルエポキシド：ＥＰ（例えば、エチレンオキシドまたはイソブチレンオキシド）または光学活性エポキシド（例えば、（Ｒ）−もしくは（Ｓ）−プロピレンオキシド、（Ｒ）−もしくは（Ｓ）−スチレンオキシド、または同様のエポキシド）と反応させて、trans−２−ヒドロキシエチルホスホランを異性体：２ａと２ｂとの混合物として得る。金属化試薬は、フェニル−、ブチル−、sec−およびtert−ブチルリチウムなど、またはリチウムジイソプロピルアミド、リチウム−２，２，６，６−テトラメチルピペリジドなどであってもよい。金属化は、錯化剤（例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、スパルテインなど）の存在下で行ってもよい。好ましい例では、sec−ブチルリチウムを、（−）−スパルテインの存在下で金属化試薬として用いる。
【００４２】
工程２
異性体trans−２−ヒドロキシエチルホスホラン：２ａと２ｂとの混合物を、文献で周知の一般的手順により（例えば、Ｒ＝ＣＨ３の場合、有機溶媒中での無水メシル酸または塩化メシルおよび塩基との反応により）、対応するスルホナート：３ａと３ｂとの混合物に変換する。Ｒ＝アルキル（例えば、メチルまたはエチル）およびＲ＝アリール（例えば、ｐ−トリル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−ブロモフェニル）などを有するスルホナートを、この方法で製造する。好ましい例では、無水メシル酸を、ジクロロメタン中、Hunig塩基の存在下で試薬として用い、スルホナート：３ａと３ｂ（Ｒ＝ＣＨ３）との混合物を得る。
【００４３】
工程３
ジアステレオ異性体的に、そして鏡像異性体的に純粋なスルホナート：３ａおよび３ｂを、結晶化手順または別の分離法（例えば、分取ＨＰＬＣ）のいずれかにより単離する。その後、化合物：３ａおよび３ｂのそれぞれを、スキーム１に示し以下に記載するとおり、工程４〜工程６で別々に実行する。
【００４４】
工程４
スルホナート：３ａおよび３ｂを、それぞれ別個に、有機溶媒中、塩基（例えば、ｔ−ＢｕＯＫ、ｔ−ＢｕＯＮａ、ｎ−ＢｕＬｉ、ＮａＨなど）の存在下でホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨで処理する。ホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨ中の残基は、式Ｉに関して先に定義されたとおりである。その後、反応混合物をボラン誘導剤（例えば、ボラン−テトラヒドロフラン錯体、ボラン−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン錯体、ボラン−ジメチルスルフィド錯体など）で処理して、所望のジスルフィンをビス−ボラン錯体：４ａおよび４ｂとして得る。好ましい例では、スルホナート：３ａまたは３ｂ（Ｒ＝ＣＨ３）を、溶媒としてのテトラヒドロフラン中、塩基としてのｔ−ＢｕＯＫの存在下で、ホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨと反応させ、次にボラン−テトラヒドロフラン錯体で処理して、ビス（ボラン）錯体：４ａまたは４ｂを得る。
【００４５】
工程５
ビス（ボラン）添加剤：４ａおよび４ｂを、有機溶媒中、アミン塩基（例えば、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、ピロリジン、ジエチルアミンなど）で処理して、または酸（例えば、ＨＢＦ４など）で処理して、脱ホウ素化を実行し、遊離１，３−ジホスフィン：ＩａおよびＩｂを得る。好ましい例では、ビス（ボラン）添加剤：４ａおよび４ｂをトルエン中、ＤＡＢＣＯで処理することにより、ジホスフィン：ＩａおよびＩｂを得る。
【００４６】
工程６
trans−配置ジホスフィン：ＩａおよびＩｂを有機溶媒中、高温で処理することにより、cis−配置ジホスフィン：ＩｃおよびＩｄを得る。
【００４７】
好ましい例は、ＩａまたはＩｂをキシレン中で１８０〜２５０℃、好ましくは２１０℃に加熱する。
【００４８】
異性体の分離は、工程３でスルホナートの段階で起こることが記載されている。本発明の範囲内では、異性体の分離が、従来の方法（例えば、結晶化、フラッシュクロマトグラフィーまたは分取クロマトグラフィーなど）を用いて合成の別の段階でも起こり得ることを理解すべきである。この方法では、例えば、異性体：２ａおよび２ｂを、工程１で記載された反応を実行した後に分離することができ、または異性体：４ａおよび４ｂを、工程４で記載された反応を実行した後に分離することができる。これらの例では、工程３に記載された手順を省略できることは明白である。
【００４９】
スキーム１に示した合成の変法では、工程１〜３を、スキーム１ａに示したとおりホスホラン−１−スルフィドから出発する類似の反応系列に置き換えることができる。ホスホラン−１−スルフィド化合物：１’は公知であり、Baccolini, B.; Boga C.; Negri, U. Synlett 2000, 1685により製造することができる。
【００５０】
【化３７】
【００５１】
工程１’
ホスホラン−１−スルフィド：１’を、Tang W.; Zhang, X. Angew. Chem. Int. Ed. 2002, 41, 1612に記載されたとおり、金属化試薬（例えば、アリールもしくアルキルリチウム試薬、またはリチウムアミド試薬）で金属化し、次に非キラルのエポキシド：ＥＰ（例えば、エチレンオキシドまたはイソブチレンオキシド）または光学活性エポキシド（例えば、（Ｒ）−もしくは（Ｓ）−プロピレンオキシド、（Ｒ）−もしくは（Ｓ）−スチレンオキシド、または同様のエポキシド）と反応させて、trans−２−ヒドロキシエチルホスホランを異性体：２ａと２ｂとの混合物として得る。金属化試薬は、フェニル−、ブチル−、sec−およびtert−ブチルリチウムなど、またはリチウムジイソプロピルアミド、リチウム−２，２，６，６−テトラメチルピペリジドなどであってもよい。金属化を、錯化剤（例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、スパルテインなど）の存在下で行ってもよい。好ましい例では、sec−ブチルリチウムを、（−）−スパルテインの存在下で金属化試薬として用いる。
【００５２】
工程２’
ジアステレオ異性体的に純粋なアルコール：２’ａおよび２’ｂを、結晶化手順または別の分離法（例えば、分取ＨＰＬＣ）のいずれかにより単離する。その後、化合物：２’ａおよび２’ｂのそれぞれを、スキーム１ａに示し以下に記載するとおり、次の工程により別々に実行する。
【００５３】
工程３’
異性体trans−２−ヒドロキシエチルホスホラン：２’ａおよび２’ｂを、それぞれ別個に、文献で周知の一般的手順により（例えば、Ｒ＝ＣＨ３の場合、有機溶媒中での無水メシル酸または塩化メシルおよび塩基との反応により）、対応するスルホナート：３’ａおよび３’ｂに変換する。Ｒ＝アルキル（例えば、メチルまたはエチル）およびＲ＝アリール（例えば、ｐ−トリル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−ブロモフェニル）などを有するスルホナートは、この方法で製造する。好ましい例では、ジエチルエーテル中、トリエチルアミンの存在下で、塩化メシルを試薬として用い、スルホナート：３’ａおよび３’ｂ（Ｒ＝ＣＨ３）を得る。この方法で得られたスルホナートを、直接分離するか、または直接分離せずに工程４’に記載されるホスフィンで処理することができる。
【００５４】
工程４’
スルホナート：３’ａおよび３’ｂを、それぞれ別個に、有機溶媒中、塩基（例えば、ｔ−ＢｕＯＫ、ｔ−ＢｕＯＮａ、ｎ−ＢｕＬｉ、ＮａＨなど）の存在下、ホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨで処理する。ホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨ中の残基は、式Ｉに関して先に定義されたとおりである。その後、反応混合物をボラン誘導剤（例えば、ボラン−テトラヒドロフラン錯体、ボラン−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン錯体、ボラン−ジメチルスルフィド錯体など）で処理して、所望のボラン錯体：４’ａおよび４’ｂを得る。好ましい例では、スルホナート：３’ａまたは３’ｂ（Ｒ＝ＣＨ３）を、溶媒混合物としてのジエチルエーテル／テトラヒドロフラン中、塩基としてのｔ−ＢｕＬｉを用いて予め脱プロトン化したホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨと反応させ、次にボラン−テトラヒドロフラン錯体で処理して、ボラン錯体：４’ａおよび４’ｂを得る。
【００５５】
工程５’
ボラン錯体：４’ａおよび４’ｂを、それぞれ別個に、硫黄基を除去するために、有機溶媒中、還元剤（例えば、ＬｉＡｌＨ４、Ｎａ、Ｌｉ、ＰＢｕ３、Ｓｉ２Ｃｌ６など）で処理する。その後、得られたジホスフィン−モノボラン錯体を、先に述べたタイプのボラン誘導剤を用いてビス−ボラン錯体：４ａおよび４ｂに変換する。好ましい例では、試薬としてＳｉ２Ｃｌ６を用いて４’ａおよび４’ｂ中の硫黄基を除去し、試薬としてボラン−テトラヒドロフラン錯体を用いてビス−ボラン：４ａおよび４ｂを形成させる。
【００５６】
その後、ビス−ボラン：４ａおよび４ｂを、それぞれ別個に、スキーム１に示されたとおりジホスフィン：ＩａおよびＩｂに変換する。
【００５７】
スキーム１に示された合成の更なる例では、工程１〜３を、スキーム１’に記載された方法と同様に置き換えることができるが、金属化してエポキシドと反応させる化合物：１’は、ホスホラン−１−スルフィドではなく、ホスホラン−１−オキシドとする。このタイプのホスフィンオキシドの金属化は、US2004/0110975に記載されている。４’ａおよび４’ｂに対応する化合物中のホスフィンオキシド基を変換して、スキーム２、工程７の化合物１１から１２への変換について下記に記載された条件を用いて、ビス−ボラン：４ａおよび４ｂを得ることができる。
【００５８】
またはＲ４および４’が水素である式Ｉで示される化合物を、反応スキーム２および３により製造することができる。
【００５９】
スキーム２に示された合成を、以下に記載する。出発原料：cis−ヒドロキシ化合物：５を、Bodalski, R.; Janecki, T.; Glowka, M. Phosphorus and Sulfur 1982, 14, 15により合成する。
【００６０】
【化３８】
【００６１】
工程１
trans−ヒドロキシ中間体（６）を、カルビノール中心のMitsunobu反転によりcis体から合成する（Mitsunobu, O.; Yamada, M.Bull. Chem. Soc., Jpn., 1967, 40, 2380）。ジイソプロピルアザジカルボキシラート（ＤＩＡＤ）をジエチルアゾジカルボキシラート（ＤＥＡＤ）の代わりに用い、エステル中間体の加水分解の後、化合物：６を得る。好ましい例では、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート（ＤＩＡＤ）を、３，５−ジニトロ安息香酸の存在下で用い、中間体：３，５−ジニトロベンゾアートを、アルコール（例えば、メタノールまたはエタノール）中でＫ２ＣＯ３を用いて、化合物：６に開裂する。
【００６２】
工程２
ヒドロキシホスホラン：６を基質として用い、６を弱酸（例えば、プロピオン酸）の存在下で過剰のオルト酢酸エチルと共に加熱することを含む転位（Claisen-Johnson）のオルトエステル変法を利用して、化合物：７をラセミ体として合成する（Johnson, W. S; Brocksom, T.J.; Loew, P.; Rich, D. H.; Werthermann, R. A.; Arnold, R. A.; Li, T.; Faulkner, D. J. J. Am. Chem. Soc. 1970, 92, 4463）。
【００６３】
工程２ａ
酵素（例えば、エステラーゼ）を用いたラセミ化合物：７の酵素分解により、光学活性化合物：７ａを得る。好ましい例では、rac−７を、ThermoCat Esterase E020(ThermoGen, USA)の存在下、pH７．０で酵素により加水分解して、約５０％変換した後で所望のエステル：７ａを残留させ、（Ｒ，Ｒ）鏡像異性体として＞９９．５％ｅｅで単離する。同時に生成された対応する（Ｓ，Ｓ）−酸（＞９９．５％ｅｅ）を、当該技術分野で公知の方法を用いて、アルキルエステルに転換することができる。こうして製造されたエステルを用いて、スキーム２に示されかつ（Ｒ，Ｒ）−シリーズに関して後に記載されるとおり、（Ｓ，Ｓ）シリーズでの類似の合成（工程３〜８）を完了させることができる。
【００６４】
工程３
７の５−員環中の二重結合を、水素化触媒（例えば、Ｐｄ／Ｃ触媒）で水素化して、エステル：８を得る。
【００６５】
工程４
エステル：８を、有機溶媒（例えば、ＴＨＦ）中、還元剤（例えば、水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化アルミニウムリチウム）で処理することにより、対応するアルコール：９に還元する。好ましい例では、エステル：８を、ＴＨＦ−ＭｅＯＨ中、水素化ホウ素ナトリウムで還元する。
【００６６】
工程５
９中のヒドロキシル基を、塩基の存在下で無水メタンスルホン酸で処理して、メシルオキシ基に変換する。好ましい例では、塩基としてのＮ−エチルジイソプロピルアミンの存在下で反応を実施すれば、純粋なtrans−ジアステレオ異性体：１０を得ることができる。
【００６７】
工程６
リチウムジフェニルホスフィドにより１０中のメシルオキシ基を求核置換し、その後、ＢＨ３の有機溶液（例えば、ＴＨＦ中のＢＨ３）を添加して、対応するボラン保護添加剤：１１を得る。
【００６８】
工程７
化合物：１１のホスフィンオキシド基をフェニルシランで立体保持的還元（stereoretentive reduction）に供し、得られたホスフィンをＢＨ３の有機溶液（例えば、ＴＨＦ中の１Ｍ ＢＨ３）で処理して、ジアステレオマー的に純粋なジホスフィンジボラン付加物：１２を得る。
【００６９】
工程８
最後に、ジホスフィンジボラン：１２から所望のジホスフィン：Ｉｅへの変換は、ベンゼン中のＤＡＢＣＯを用いることにより、容易にかつ立体選択的に実行することができる（Imamoto, T.; Tsuruta, H.; Wada, Y.; Masuda, H.; Yamaguchi, K. Tetrahedron Lett. 1995, 36, 8271参照）。
【００７０】
スキーム３で示される合成では、光学活性の出発原料：２−メチレンホスホラン−１−オキシド（１３）を、WO2004/050669により製造する。他の出発原料であるホスフィノチオイル酢酸tert−ブチルエステル（１４）を、以下のとおり、そして本願の実験部分に記載されたとおり製造する。
【００７１】
【化３９】
【００７２】
スキーム３に示された合成を、以下に記載する。
【００７３】
【化４０】
【００７４】
工程１
２−メチレンホスホラン−１−オキシド：１３およびホスフィノチオイルアセタート：１４を、有機溶媒（例えば、ベンゼン）に溶解する。得られた混合物を塩基（例えば、ＮａＨ）で処理して、所望の付加物：１５を得る。
【００７５】
工程２
付加物：１５を酸（例えば、ギ酸）で処理してtert−ブチル基を除去し、酸：１６を得る。
【００７６】
工程３
Ｃｕ２Ｏおよび有機塩基（例えば、ピリジン）の存在下で酸：１６を脱炭酸して、モノオキシド−モノスルフィド：１７を得る。
【００７７】
工程４
モノオキシド−モノスルフィド：１７中のホスフィンオキシド基を、還元剤（例えば、フェニルシラン）により配置を保持しながら還元し、硫黄で処理することにより対応するジホスフィン−ジスルフィド：１８に変換する。
【００７８】
工程５
ジスルフィド：１８をヘキサクロロジシラン（Ｓｉ２Ｃｌ６）で配置を保持しながら脱硫して（Zon, G.; DeBuin, K. E.; Naumann, K.; Mislow, K. J. Am. Chem. Soc. 1969, 91, 7023参照）、対応するジホスフィンを得、ＢＨ３の有機溶液（例えば、ＴＨＦ中の１Ｍ ＢＨ３）を用いてインサイチューで対応するジホスフィンジボラン：１９に転換する。
【００７９】
工程６
ジホスフィンジボラン：１９から所望のジホスフィン：Ｉｆへの変換は、有機溶媒（例えば、トルエン）中でＤＡＢＣＯを用いることにより、立体選択的に実行する（Imamoto, T.; Tsuruta, H.; Wada, Y.; Masuda, H.; Yamaguchi, K. Tetrahedron Lett. 1995, 36, 8271参照）。
【００８０】
式Ｉで示される光学活性配位子は、遷移金族、特にVIII群の遷移金属（例えば、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、パラジウムおよびニッケル）と錯体を形成する。これらの錯体は、不斉反応（例えばプロキラルアリル系での水素化およびエナンチオ選択性水素置換）において触媒として用いることができる。好ましくは金属錯体は、水素化では単離された形態で用いられる。またはその錯体を、インサイチューで製造してもよい。
【００８１】
これらの触媒（即ち遷移金属と式Ｉで示されるキラルジホスフィン配位子との錯体）は、新規であり、同じく本発明の目的である。
【００８２】
前述の遷移金属錯体、特にVIII族の金属との錯体は、例えば、以下に示した式IIおよびIIIで表すことができる。
【００８３】
【化４１】
【００８４】
（式中、
Ｍは、遷移金属を表し、
Ｌは、式Ｉで示されるジホスフィン化合物を表すが、
ここで、
Ｘは、例えば、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩなどの配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｐは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｒｈであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、アセトキシ、トリフルオロアセトキシもしくはピバロイルオキシなどのアシルオキシであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌであり、
ｍおよびｎは、それぞれ２であり、
ｐは、４であり、
ｑは、１であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、Ａは、トリエチルアミンであるか、
または
Ｘは、π−メタリル基であり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩなどの配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｐは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｉｒであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｐｄであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｎｉであれば、ｑは、０である）。
【００８５】
【化４２】
【００８６】
（式中、
Ｍは、遷移金属を表し、
Ｌは、式Ｉで示されるジホスフィン化合物を表し、
ここで
Ｘは、ｃｏｄもしくｎｂｄなどのジエン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｒｈであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、シクロオクテンもしくエチレンなどのオレフィン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｒは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｒｈであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、
Ａは、ベンゼンもしくはｐ−シメンであり、
Ｄは、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｍ、ｎ、ｐ、ｑおよびｒは、それぞれ１であるか、
または
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐおよびｑは、それぞれ０であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｒは、２であるか、
または
Ｘは、ｃｏｄもしくｎｂｄなどのジエン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｉｒであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、シクロオクテンもしくエチレンなどのオレフィン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
ｎは、２であり、
Ｍが、Ｉｒであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、π−アリル基であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｐｄであれば、ｑは、０である）。
【００８７】
Ｐｈは、フェニル基を表し、ｃｏｄは、（Ｚ，Ｚ）−１，５−シクロオクタジエンを表し、ｎｂｄは、ノルボルナジエンを表し、ＢＡＲＦは、テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボラートを表す。
【００８８】
π−メタリルおよびπ−アリルは、構造：Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｍｅ）−ＣＨ２およびＨ２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ２のアニオン性配位子を表す。
【００８９】
好ましい遷移金属錯体およびそのような錯体を製造する方法を、以下に記載する。
【００９０】
ルテニウム錯体は、例えば、文献（B. Heiser, E. A. Broger, Y. Crameri, Tetrahedron: Asymmetry 1991, 2, 51）に記載されたとおり、エーテル（例えば、テトラヒドロフランもしくはジエチルエーテルまたはそれらの混合物など）またはジクロロメタンなどの不活性溶媒中で、Ｒｕ前駆体［Ｒｕ（ｃｏｄ）（ＯＣＯＣＦ３）２］２、［Ｒｕ（ｃｏｄ）（ＯＣＯＣＦ３）２］２Ｈ２Ｏ、［Ｒｕ（ｃｏｄ）（ＯＣＯＣＨ３）２］または［Ｒｕ２（ｃｏｄ）２Ｃｌ４（ＣＨ３ＣＮ）］と、式Ｉで示される配位子とを反応させることにより製造することができる。ルテニウム錯体を製造する別の方法は、例えば、J. P. Genet, S. Mallart, C. Pinel, S. Juge, J. A. Laffitte, Tetrahedron: Asymmetry, 1991, 2, 43に記載されたとおり、非極性溶媒（例えば、ヘキサンもしくはトルエンまたはその混合物）中でのルテニウム前駆体［Ｒｕ（ｃｏｄ）（メタリル）２］と式Ｉで示される配位子との反応を含む。
【００９１】
ルテニウム錯体のインサイチューでの製造は、例えば、文献（B. Heiser, E. A. Broger, Y. Crameri, Tetrahedron: Asymmetry 1991, 2, 51）に記載されたとおり、メタノール中、トリフルオロ酢酸の存在下で、ルテニウム前駆体［Ｒｕ（ｃｏｄ）（メタリル）２］を式Ｉで示される配位子と反応させることにより実施することができる。
【００９２】
ルテニウム錯体は、例えば、文献（T. Ikariya, Y. Ishii, H. Kawano, T. Arai, M. Saburi, and S. Akutagawa, J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1985, 922）に記載されたとおり、トリエチルアミンの存在下、溶媒としてトルエンを用いて、［Ｒｕ（ｃｏｄ）Ｃｌ２］ｎおよび式Ｉで示される配位子を還流加熱することにより製造することもできる。更に、ルテニウム錯体は、例えば、文献（K. Mashima, K. Kusano, T. Ohta, R. Noyori, H. Takaya, J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1989, 1208）に記載された方法により、塩化メチレン／エタノール混合物中で、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｉ２］２および式Ｉで示される配位子を撹拌しながら加熱することにより製造することができる。
【００９３】
好ましいルテニウム錯体は、
Ｒｕ（ＯＡｃ）２（Ｌ）、［Ｒｕ（ＯＣＯＣＦ３）２（Ｌ）］２、Ｒｕ２Ｃｌ４（Ｌ）２ＮＥｔ３、［ＲｕＣｌ（ベンゼン）（Ｌ）］Ｃｌ、［ＲｕＢｒ（ベンゼン）（Ｌ）］Ｂｒ、［ＲｕＩ（ベンゼン）（Ｌ）］Ｉ、［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）（Ｌ）］Ｃｌ、［ＲｕＢｒ（ｐ−シメン）（Ｌ）］Ｂｒ、［ＲｕＩ（ｐ−シメン）（Ｌ）］Ｉ、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＢＦ４）２、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＣｌＯ４）２、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＰＦ６）２、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＢＰｈ４）２である。
【００９４】
ロジウム錯体は、例えば、“Experimental Chemistry, 4th edition”Vol.18, Organometallic Complexes, pp339-344, Ed. Chemical Society of Japan, 1991, Maruzenに記載された方法により、ロジウム前駆体（例えば、［Ｒｈ（ｃｏｄ）Ｃｌ］２、［Ｒｈ（ｎｂｄ）Ｃｌ］２、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＳｂＦ６、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＣｌＯ４）を式Ｉで示される配位子と反応させることにより製造することができる。
【００９５】
好ましいロジウム錯体は、
Ｒｈ（Ｌ）Ｃｌ、Ｒｈ（Ｌ）Ｂｒ、Ｒｈ（Ｌ）Ｉ、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＳｂＦ６、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＰｈ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＡＲＦ、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＳｂＦ６、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＢＰｈ４である。
【００９６】
イリジウム錯体は、例えば、文献（K. Mashima, T. Akutagawa, X. Zhang, H. TaKaya, T. Taketomi, H. Kumobayashi, S. Akutagawa, J. Organomet., Chem. 1992, 428, 213）に記載された方法により、式Ｉで示される配位子を［Ｉｒ（ｃｏｄ）（ＣＨ３ＣＮ）２］ＢＦ４または［Ｉｒ（ｃｏｄ）Ｃｌ］２と反応させることにより製造することができる。
【００９７】
好ましいイリジウム錯体は、Ｉｒ（Ｌ）Ｃｌ、Ｉｒ（Ｌ）Ｂｒ、Ｉｒ（Ｌ）Ｉ、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＰｈ４、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＢＰｈ４である。
【００９８】
パラジウム錯体は、例えば、文献（Y. Uozumi and T. Hayashi, J. Am., Chem. Soc. 1991, 113, 9887）に記載された方法により、式Ｉで示される配位子をπ−アリルパラジウムクロリドと反応させることにより製造することができる。
【００９９】
好ましいパラジウム錯体は、
ＰｄＣｌ２（Ｌ）、［Ｐｄ（π−アリル）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｐｄ（π−アリル）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｐｄ（π−アリル）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｐｄ（π−アリル）（Ｌ）］ＢＰｈ４である。
【０１００】
ニッケル錯体は、例えば、“Experimental Chemistry, 4th edition”Vol.18, Organometallic Complexes, pp376, Ed. Chemical Society of Japan, 1991, Maruzenに記載された方法により、式Ｉで示される配位子および塩化ニッケルをアルコール（例えば、イソプロパノールもしくはエタノールまたはそれらの混合物）に溶解し、その溶液を撹拌しながら加熱することにより製造することができる。
【０１０１】
ニッケル錯体の好ましい例は、ＮｉＣｌ２（Ｌ）、ＮｉＢｒ２（Ｌ）およびＮｉＩ２（Ｌ）である。
【０１０２】
先に記載されたとおり製造された遷移金属錯体は、不斉反応、例えば、不斉水素化反応のための触媒として用いることができる。
【０１０３】
以下の実施例は、本発明を例示するためのものであり、限定を表すものではない。
【０１０４】
実験は全て、脱酸素化アルゴンの雰囲気下で実施した。使用前に、溶媒を乾燥させてアルゴン下で蒸留した。金属ジホスフィン錯体は、Schlenk法を用いて製造した。
【０１０５】
実施例１
rac−トランス−４−ヒドロキシ−１−フェニル−２−ホスホレン１−オキシドの調製
【０１０６】
【化４３】
【０１０７】
ＤＩＡＤ（６．２mL、３０．９mmol）を、ジエチルエーテル（３００mL）中のＴＰＰ（７．８７ｇ、３０．９mmol）、３，５−ジニトロ安息香酸（６．３６ｇ、３０．９mmol）及びシス−４−ヒドロキシ−１−フェニル−２−ホスホレン１−オキシド（３．９６ｇ、２０．４mmol）の撹拌溶液に０℃で滴下した。得られた混合物を０℃で１時間撹拌し、室温に温め、室温で２日間撹拌した。その時間の後、白色の沈殿物を濾過し、ジエチルエーテルで洗浄した。洗浄した沈殿物をメタノールに溶解し、Ｋ２ＣＯ３ ０．３ｇを得られた懸濁液に加えた。反応混合物を、加水分解が完了するまで室温で撹拌した。溶媒を蒸発し、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：１）により精製した。rac−トランス−４−ヒドロキシ−１−フェニル−２−ホスホレン１−オキシドの総収量３．３１ｇ（８４％）、白色の結晶、融点＝１１５〜１１６℃（酢酸エチル／ヘキサン）：
【０１０８】
【表１】
【０１０９】
実施例２
rac−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシドの合成
【０１１０】
【化４４】
【０１１１】
rac−トランス−４−ヒドロキシ−１−フェニル−２−ホスホレン１−オキシド（３．８ｇ、１９．６mmol）をトルエン中でオルト酢酸トリエチル（４０mL、２２２mmol）及びプロピオン酸（０．２６mL）を用いて還流した。５日後、溶液を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：０．５）により精製した。rac−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシドの収量４．４３ｇ（８５％）、黄色の油状物：
【０１１２】
【表２】
【０１１３】
実施例２ａ
rac−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシドの酵素的分割
【０１１４】
【化４５】
【０１１５】
rac−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシド（９８％）２１．００ｇ（７７．８８mmol）を、激しく撹拌して、０．１Ｍ塩化ナトリウム６．７５Ｌ、４mMリン酸ナトリウムｐＨ７．０に乳化した。ThermoCat Esterase E020 (ThermoGen; Chicago, USA)２６０mgを加え、激しく撹拌しながら、水酸化ナトリウム溶液１．０Ｍを制御して添加（ｐＨスタット）し、ｐＨを一定に保持した。ほぼ５０％の変換の後（２１時間）、反応混合物をジクロロメタン３×８Ｌで抽出し、合わせた有機相を乾燥し（硫酸ナトリウム）、蒸発して、９７％eeの保持されたエステルを得た。水相をｐＨ１．９に酸性化し（濃塩酸）、酢酸エチル４×６Ｌで抽出した。合わせた有機相を乾燥し（硫酸ナトリウム）、蒸発し、残留物を高真空下で乾燥して、（Ｓ，Ｓ）−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシド８．８５g（４８．１％）を白色の固体として得た：分析: MS: 235.1 (M-H); 99.4% (HPLC; 226nm); 99.7% ee (メチル化; BGB-172上のGC; 30m x 0.25mm; H2 150kPa;2℃/分で 130-240℃ ; 注入 220℃; 検出 240℃).
【０１１６】
保持された（Ｒ，Ｒ）−エステルを、上記手順と同様にして、＞９９．５％eeを達成するまで、更なる加水分解に付した。高真空下で乾燥した後、エチル（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシド１０．６２ｇ（５１．６％）を黄褐色を帯びた油状物として得た：分析：EI-MS: 265.1 (48%), 264.1 (88%), 235.1 (36%), 219.1 (100%); 97.5% (HPLC; 226nm); >99.8% ee（上記参照）。（Ｓ，Ｓ）−酸の絶対配置をＸ線測定で決定した。
【０１１７】
実施例３
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシドの水素化
【０１１８】
【化４６】
【０１１９】
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシド（１７mmol）４．５ｇをメタノール１００mLに溶解し、混合物をParr瓶に注いだ。アルゴンを１０分間Parr瓶に通し、Ｐｄ／Ｃ ０．１５ｇを注意深く加えた。Parr瓶をParr装置に取り付け、４気圧の水素圧力を加え、続いて反応混合物を一晩振とうした。その後、混合物をセライトを通して濾過し、濃縮し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：１）により精製した。（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニルホスホラン１−オキシドの総収量４．２８ｇ（９５％）、黄色の油状物：
【０１２０】
【表３】
【０１２１】
実施例４
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシドの調製
【０１２２】
【化４７】
【０１２３】
メタノール（１４mL）を、ＴＨＦ（１０mL）中の（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニルホスホラン１−オキシド（４．８ｇ、１８．１mmol）及びＮａＢＨ４（１．４１ｇ、３６．２mmol）の還流混合物に１時間かけて加えた。ＭｅＯＨを加えた後、反応混合物を１時間還流した。この時間の後、溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：１）により精製した。（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシドの総収量３．９７ｇ（９８％）、白色の結晶、融点＝１２６〜１２６．５℃（酢酸エチル／ヘキサン／メタノール）：
【０１２４】
【表４】
【０１２５】
実施例５
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−メチルスルホニルオキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシドの調製
【０１２６】
【化４８】
【０１２７】
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシド１．５２ｇ（６．７９mmol）を、乾燥ＣＨ２Ｃｌ２ ５０mLに溶解し、０℃に冷却した。次に、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン１０．６mL及びメタンスルホン酸無水物１．７８ｇ（１０．２mmol）を加えた。反応混合物を０℃で１時間撹拌し、室温に温め、室温で一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物を、フラッシュクロマトグラフィー（イソプロパノール：ヘキサン １：１）により精製した。（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−メチルスルホニルオキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシドの総収量１．９１ｇ（９３％）、黄色の油状物：
【０１２８】
【表５】
【０１２９】
実施例６
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−［（２−ジフェニルホスフィノボラン）エチル］−１−フェニルホスホラン１−オキシドの調製
【０１３０】
【化４９】
【０１３１】
Ｐｈ２ＰＨ １．６８mL（９．７６mmol）を乾燥ＴＨＦ ２０mLに溶解し、−７８℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬi ７．３mL（９．１２mmol）を加えた。得られた濃赤色の混合物に、１５mL中の（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−メチルスルホニルオキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシド２．１２g（７．０mmol）の溶液を加えた。反応混合物を−７８℃で１時間撹拌し、室温に温め、室温で２時間撹拌した。この時間の後、ＴＨＦ（１Ｍ）中のボラン１４mLを加え、この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：０．５）により精製した。（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−［（２−ジフェニルホスフィノボラン）エチル］−１−フェニルホスホラン１−オキシドの収量３．８７ｇ（８０％）、無色の油状物：
【０１３２】
【表６】
【０１３３】
実施例７
（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの合成
【０１３４】
【化５０】
【０１３５】
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−［（２−ジフェニルホスフィノボラン）エチル］−１−フェニル−ホスホラン１−オキシド２．１７ｇ（５．３５mmol）をトルエン８mLに溶解し、ＰｈＳｉＨ３ ３．８mL（２６．７mmol）を加えた。反応混合物を４５℃で２日間加熱した。次に、ＴＨＦ（１Ｍ）中のボラン１０mLを加え、この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの総収量１．６２ｇ（７５％）、白色の結晶、融点＝１１４〜１１４．５℃（酢酸エチル／ヘキサン）：
【０１３６】
【表７】
【０１３７】
実施例８
（ＳＰ，Ｒ）−トランス'−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン｛（ＳＰ，Ｒ）−トランス−ＰＥＰ｝の調製
【０１３８】
【化５１】
【０１３９】
（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボラン１９０mgをベンゼン６mLに溶解し、ＤＡＢＣＯ ３２３mgを加えた。混合物を室温で一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をＡｌ２Ｏ３上のフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル ２０：１）により精製して、（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン１４１mg（８０％）を得た。無色の油状物：
【０１４０】
【表８】
【０１４１】
実施例９
（ＳＰ，Ｒ）−シス−２−［（２−ジフェニルチオホスフィノイル）エチル］−１−フェニルホスホラン１−オキシドの調製
【０１４２】
【化５２】
【０１４３】
(Ｒ）−２−メチレン−１−フェニルホスホラン１−オキシド１ｇ（５．２mmol）及び（ジフェニルホスフィノチオイル）−酢酸terｔ−ブチルエステル２ｇ（６．２４mmol）をベンゼン１６mLに溶解した。混合物を０℃に冷却し、ＮａＨ １５６mg（７．７２mmol）を加えた。混合物を０℃で３０分間撹拌し、室温に温め、室温で２４時間撹拌した。その時間の後、溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：１）により精製した。得られたジアステレオ異性体の混合物をギ酸２０mLに溶解し、室温で一晩撹拌した。次に、ギ酸を蒸発し、残留物をピリジン１５mLに溶解し、Ｃｕ２Ｏ １０４mgを加えた。得られた混合物を１２時間還流した。その時間の後、溶液を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：１）により精製した。（ＲＰ，Ｓ）−シス−２−［（２−ジフェニルチオホスフィノイル）エチル］−１−フェニルホスホラン１−オキシドの総収量０．９６ｇ（４２％）、白色の結晶、融点＝１７３〜１７３．５℃（酢酸エチル／ヘキサン／メタノール）：
【０１４４】
【表９】
【０１４５】
実施例１０
（ＲＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジスルフィドの調製
【０１４６】
【化５３】
【０１４７】
（ＲＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）スルフィド−１−フェニル−ホスホラン１−オキシド２．８ｇ（６．６mmol）をトルエン８mLに溶解し、ＰｈＳｉＨ３ ５．０mL（３５．１mmol）を加えた。反応混合物を４５℃で２日間加熱した。次に、溶媒を蒸発し、残留物をベンゼン５mLに溶解し、Ｓ８ １ｇを加えた。この混合物を室温で一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。（ＲＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジスルフィドの収量２．４５ｇ（８４％）、白色の結晶、融点＝１３９〜１４０℃（酢酸エチル／ヘキサン）：
【０１４８】
【表１０】
【０１４９】
実施例１１
（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの調製
【０１５０】
【化５４】
【０１５１】
（ＲＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジスルフィド２．２４ｇ（５．０９mmol）をトルエン３５mLに溶解し、Ｓｉ２Ｃｌ６ ７mL（４０．７mmol）を加えた。反応混合物を６０℃で４時間加熱した。その時間の後、溶液を室温に冷却し、３０％ＮａＯＨ水溶液４０mLをゆっくりと氷水浴中の反応混合物に加えた。次に、得られた混合物を、室温で、水層が清澄となるまで撹拌した。２相を分離した。水相をトルエン（２×３０mL）で２回洗浄した。合わせたトルエン層をＭｇＳＯ４で乾燥し、濃縮した。残留物をベンゼン１０mLに再溶解し、ＴＨＦ（１Ｍ）中のボラン１５mLを加え、この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの収量１．９８ｇ（８８．８％）、白色の結晶、融点＝１２３〜１２４℃（酢酸エチル／ヘキサン）：
【０１５２】
【表１１】
【０１５３】
実施例１２
（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン｛（ＳＰ，Ｓ）−シス−ＰＥＰ｝の調製
【０１５４】
【化５５】
【０１５５】
このリガンドを、実施例８の（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホランについて記載したのと同様に調製した。収率９６％、無色の油状物：
【０１５６】
【表１２】
【０１５７】
実施例１３
トランス−２−［（２−ヒドロキシ−メチル）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランの調製
【０１５８】
【化５６】
【０１５９】
１−フェニルホスホラン１−ボラン１ｇ（５．６mmol）及び（−）−スパルテイン１．５７ｇ（６．７２mmol）を乾燥Ｅｔ２Ｏ ３５mLに溶解した。この混合物を−７８℃に冷却し、sec−ＢｕＬｉ ６．１mL（６．７２mmol）を加えた。この混合物を−７８℃で０．５時間撹拌し、次に（Ｓ）−プロピレンオキシド５mLを加えた。得られた黄色の混合物を−７８℃で４．５時間撹拌し、室温に温め、その後溶媒を蒸発した。残留物をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、１Ｍ ＨＣｌで２回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。２つのジアステレオ異性体の混合物（２：１）の収量１ｇ（７３％）、無色の油状物：
【０１６０】
【表１３】
【０１６１】
実施例１４
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランの調製
【０１６２】
【化５７】
【０１６３】
トランス−２−［（２−ヒドロキシ−メチル）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボラン（２つのジアステレオマー）１．３３ｇ（５．６mmol）を乾燥ＣＨ２Ｃｌ２ ３７mLに溶解し、０℃に冷却した。次に、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン８．５mL及びメタンスルホン酸無水物１．４６ｇ（８．４mmol）を加えた。反応混合物を０℃で１時間撹拌し、室温に温め、室温で一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：１）により精製した。２つのジアステレオ異性体の結晶質の混合物を酢酸エチル／ヘキサンから再結晶化した。一晩放置した後、白色の結晶が形成された。１Ｈ ＮＭＲモニタリングは、得られた結晶が単一のジアステレオ異性体を含有することを示した。
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランの収量０．８２ｇ（４６％、de＝１００％）、白色の結晶、融点＝１１４〜１１５℃（酢酸エチル／ヘキサン）：
【０１６４】
【表１４】
【０１６５】
実施例１５
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの調製
【０１６６】
【化５８】
【０１６７】
Ｐｈ２ＰＨ ０．３２mL（１．９１mmol）をＴＨＦ ６mLに溶解し、−７８℃に冷却し、ｔ−ＢｕＯＫ ２１２mg（１．９１mmol）を加えた。この混合物をこの温度で１０分間撹拌した。得られた橙色の混合物に、ＴＨＦ ６mL中の（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボラン０．５ｇ（１．５９mmol）の溶液を加えた。反応混合物を−７８℃で２時間撹拌し、室温に温め、室温で１時間撹拌した。この時間の後、ＴＨＦ（１Ｍ）中のボラン３mLを加え、この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの収量３３９mg（５１％、１００％ de）、白色の結晶、融点＝１７５．５〜１７６℃（酢酸エチル／ヘキサン）：
【０１６８】
【表１５】
【０１６９】
実施例１６
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン｛（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−Ｍｅ−ＰＥＰ｝の調製
【０１７０】
【化５９】
【０１７１】
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボラン１．６６ｇをトルエン７０mLに溶解し、ＤＡＢＣＯ ３ｇを加えた。混合物を室温で２日間撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をＡｌ２Ｏ３上のフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２０：１）により精製して、（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン１．４８ｇ（９５．７％）を得た。白色の固体：
【０１７２】
【表１６】
【０１７３】
実施例１７
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランの調製
【０１７４】
【化６０】
【０１７５】
本化合物を、（Ｒ）−プロピレンオキシドから出発することを除いて、実施例１３〜１４の（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランについて記載したのと同様に調製した。酢酸エチル／ヘキサンからの結晶化により（ＲＰ，Ｓ，Ｒ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボラン（ジアステレオマーＡ）を除去した後、（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニル−ホスホラン１−ボラン（ジアステレオマーＢ）を黄色の油状物として得た（収率＝８０％、de＝８０％）。
【０１７６】
実施例１８
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの調製
【０１７７】
【化６１】
【０１７８】
本化合物を、実施例１５の（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランの変換について記載したのと同様に調製した。収率３２％（de＝１００％）、白色の結晶、融点＝１４９〜１４９．５℃；
【０１７９】
【表１７】
【０１８０】
実施例１９
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン｛（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−Ｍｅ−ＰＥＰの調製
【０１８１】
【化６２】
本化合物を、実施例１６の（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランの変換について記載したのと同様に調製した。収率９８％、無色の油状物：
【０１８２】
【表１８】
【０１８３】
実施例２０
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニル−ホスホランのエピマー化
【０１８４】
【化６３】
【０１８５】
キシレン７mL中の（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニル−ホスホラン１５０mgの溶液を２１０℃で２０時間加熱した（閉管中）。次に、混合物を室温に冷却し、Ｈ２Ｏ２ １mL（１５％）を加え、得られた混合物を室温で一晩撹拌した。有機相を分離し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を蒸発して、（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−Ｍｅ−ＰＥＰジオキシド（31P NMR: δ 37.74, 63.46; 85%)及び（ＲＰ，Ｒ，Ｒ）−シス−Ｍｅ−ＰＥＰジオキシド(31P NMR: δ 37.93, 63.46; 15%)の混合物を得た。
【０１８６】
実施例２１
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン｛（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−Ｍｅ−ＰＥＰ｝のエピマー化
【０１８７】
【化６４】
【０１８８】
キシレン７mL中の（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニル−ホスホラン１４０mgの溶液を２１０℃で２０時間加熱した（閉管中）。次に、混合物を室温に冷却し、ＢＨ３−ＴＨＦ試薬（Aldrich）１mLを加え、得られた混合物を室温で一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−Ｍｅ−ＰＥＰビス（ボラン）(31P NMR: δ 29.05 (vbs), 25.2 (vbs)、及び（ＲＰ，Ｒ，Ｓ）−シス−Ｍｅ−ＰＥＰビス（ボラン）(31P NMR: δ 32.35 (vbs), 33.95 (vbs)の混合物を得た。
【０１８９】
実施例２２
rac−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−ボランの調製
【０１９０】
【化６５】
【０１９１】
１−フェニルホスホラン１−ボラン１ｇ（５．６mmol）及び（−）−スパルテイン１．５７ｇ（６．７２mmol）を乾燥Ｅｔ２Ｏ ３５mLに溶解した。混合物を−７８℃に冷却し、sec−ＢｕＬｉ ６．１mL（６．７２mmol）を加えた。この混合物を−７８℃で０．５時間撹拌し、次にエチレンオキシド５mLを加えた。得られた黄色の混合物を−７８℃で４．５時間撹拌し、室温に温め、蒸発した。残留物をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、１Ｍ ＨＣｌで２回洗浄し、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、減圧下で濃縮した。残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。収量０．５６ｇ（４５％）、無色の油状物：
【０１９２】
【表１９】
【０１９３】
実施例２３
rac−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシドの調製
【０１９４】
【化６６】
【０１９５】
２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−ボラン０．５ｇ（２．２５mmol）をトルエン１０mLに溶解し、ＤＡＢＣＯ ０．８５ｇを加えた。溶媒を蒸発し、残留物をＣＨ２Ｃｌ２ ３０mLに溶解し、Ｈ２Ｏ２ ５mL（１５％）を加えた。この混合物を室温で一晩撹拌し、有機相を分離し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ２：３：１）により精製した。収量０．４５ｇ（９０％）、白色の結晶融点＝１２６〜１２６．５℃（酢酸エチル／ヘキサン／メタノール）：
【０１９６】
【表２０】
【０１９７】
実施例２４
rac−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシドの酵素的分割：
【０１９８】
【化６７】
【０１９９】
rac−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシド７２０mg（３．２１mmol）をＴＢＭＥ ６５０mL及び酢酸ビニル７５mLに溶解し、溶液を４℃に冷却した。lipase MAP-10 (Amano Enzyme Inc., Nagoya, Jpn.)７２０mgを撹拌下で加え、懸濁液を４℃で穏やかに撹拌した。保持されたアルコールの鏡像体過剰率が＞９８％に達した後（６日後）酵素を濾別し、濾液を減圧下で濃縮した。残留油状物をアセトニトリル／水 ５：２（廃棄した白色の沈殿物）７mLに取り、Supelco ABZ+ 上のクロマトグラフィー（１２μm，５０×２５０mm；勾配：Ａ中の１０％〜５０％Ｂ、２５分間以内（Ａ：水中の０．１％ＴＦＡ；Ｂ：アセトニトリル中の０．１％ＴＦＡ）；１００mL／分；２７０nm）に付した。保持されたアルコールを含有する画分をプールし、蒸発し、高真空下で乾燥して、（Ｒ，Ｒ）−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシド１９７mg（２７．４％）を白色の固体として得た。分析：ＥＩ−ＭＳ：２２５．３（３．５％）、２２３．２（１０％）、１９４．２（２２％）、１８０．２（１００％）；９６．６％（ＨＰＬＣ；２７０nm）；９８．５％ ee(Chiralpak-ADH上のHPLC; 25cm x 4.6mm; 90% ヘプタン/10% ＥｔＯＨ; 0.8ml/分; 25℃; 220nm); [α]D = +23.10°(ＣＨＣｌ３中c= 1.134)。絶対配置を化学相関により決定した。
【０２００】
実施例２５
２−［（２−ヒドロキシ−フェニル）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランの調製
【０２０１】
【化６８】
【０２０２】
１−フェニルホスホラン１−ボラン１７８mg（１．０mmol）及び（−）−スパルテイン０．２８ｇ（１．２mmol）を乾燥Ｅｔ２Ｏ ８mLに溶解した。この混合物を−７８℃に冷却し、sec−ＢｕＬｉ １．０mL（１．２mmol）を加えた。この混合物を−７８℃で０．５時間撹拌し、次に（Ｒ）−スチレンオキシド１mLを加えた。得られた黄色の混合物を−７８℃で２時間撹拌し、室温に温め、更に２時間撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、１Ｍ ＨＣｌで２回洗浄し、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、減圧下で濃縮した。残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。収量０．１１ｇ（３７．５％）、無色の油状物：31P NMR (121 MHz) δ: 31.9 (vbs); MS (ESI): m/z = 316.5 (M+NH4+, C18H28BNOP).
【０２０３】
実施例２５Ａ
１−フェニルホスホラン−１−スルフィドの調製
【０２０４】
【化６９】
【０２０５】
１−フェニルホスホラン１−ボラン１ｇ（５．６mmol）をベンゼン２５mLに溶解し、ＤＡＢＣＯ ２．２ｇを加えた。混合物を室温で一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をトルエン４０mLに溶解し、Ｓ８ １．４ｇを加えた。この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。収量１．０６５ｇ（９７％）、白色の結晶、融点＝７４℃（メタノール）：
【０２０６】
【表２１】
【０２０７】
実施例２５Ｂ
２−［（２−ヒドロキシ−２−フェニル）エチル］−１−フェニルホスホラン−１−スルフィドの調製
【０２０８】
【化７０】
【０２０９】
１−フェニルホスホラン１−スルフィド０．３８ｇ（１．９４mmol）及び（−）−スパルテイン０．５４ｇ（２．３３mmol）を乾燥ＴＨＦ ８mLに溶解した。この混合物を−７８℃に冷却し、sec−ＢｕＬｉ ５．１mL（７mmol）を加えた。この混合物を−７８℃で０．５時間撹拌し、次に（Ｒ）−スチレンオキシド０．４６mL（３．８８mmol）を加えた。得られた褐色の混合物を−７８℃で２．５時間撹拌し、温め、その後溶媒を蒸発した。残留物をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、１Ｍ ＨＣｌで２回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。無色の油状物及び白色の結晶としての２つのジアステレオ異性体（１．２５：１）の混合物の収量０．３１５ｇ（５１．５％）。
【０２１０】
【表２２】
【０２１１】
実施例２５Ｃ
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル］エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオマーＡ）の調製
【０２１２】
【化７１】
【０２１３】
２−［（２−ヒドロキシ−２−フェニル）エチル］−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオマーＡ）９４mg（０．２９７mmol）を乾燥Ｅｔ２Ｏ ５mLに溶解し、−２０℃に冷却した。次に、トリエチルアミン０．３４mL及びメタンスルホン酸クロリド０．０２８mL（０．３５mmol）を加えた。反応混合物を−２０℃で２時間撹拌した。次に、混合物を−７８℃に冷却し、沈殿物なしにシリンジに取り、ＴＨＦ ４mL中のＰｈ２ＰＨ ０．１５３mL（０．８９mmol）及びｎ−ＢｕＬｉ ０．７３mL（０．９１mmol）から−７８℃で調製したＰｈ２ＰＬｉ溶液に加えた。得られた混合物を−７８℃で２時間撹拌し、次に室温に温め、室温で１時間撹拌した。この時間の後、ＴＨＦ（１Ｍ）中のボラン２mLを加え、この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル］エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−スルフィドの収量１９mg（１２．８％）、白色の結晶、融点＝１６５℃（メタノール）；[α]D = + 72.04 (c 0.825, ＣＨＣｌ３). 31P NMR (121 MHz) δ: 24.55-26.05 (m), 58.15, 58.16 (d, J= 1.85).
【０２１４】
実施例２５Ｄ
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル］エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオマーＢ）の調製
【０２１５】
【化７２】
【０２１６】
本化合物を、２−［（２−ヒドロキシ−２−フェニル）エチル］−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオマーＢ）から出発することを除いて、２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル］エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオマーＡ）について記載したのと同様に調製した。２−［（２−ジフェニルホスフィノボラン−２−フェニル）エチル］−１−フェニルホスホラン−１−スルフィドの収率（４．５％）、白色の結晶、融点１９３℃（メタノール）；[α]D = + 75.01 (c 0.765, ＣＨＣｌ３).
【０２１７】
【表２３】
【０２１８】
実施例２５Ｅ
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−ボラン（ジアステレオマーＡ）の調製
【０２１９】
【化７３】
【０２２０】
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル］エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオ異性体Ａ）１５mg（０．０３mmol）をベンゼン０．３mLに溶解し、Ｓｉ２Ｃｌ６ ０．０３２mL（０．１８mmol）を加えた。反応混合物を６０℃で１．５時間加熱した。溶液を室温に冷却し、３０％ＮａＯＨ水溶液５mLを、氷水浴に浸漬した反応混合物にゆっくりと加えた。次に、得られた混合物を、室温で、水層が清澄となるまで撹拌した。２相を分離した。水相をトルエン（２×３０mL）で２回洗浄した。合わせたトルエン層をＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、濃縮した。残留物をベンゼン４mLに再溶解し、ＴＨＦ（１Ｍ）中のボラン０．２mLを加え、この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィーにより精製した。収率１０．８mg、（７５％）。融点＝１６９℃（メタノール）；[α]D = + 110.5 (c 0.265, ＣＨＣｌ３). 31P NMR (121 MHz) δ: 23.31-26.2 (m), 27.32-29-65 (m).
【０２２１】
実施例２５Ｆ
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−ボラン（ジアステレオマーＢ）の調製
【０２２２】
【化７４】
【０２２３】
本化合物を、２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル］エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオ異性体Ｂ）から出発することを除いて、２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−ボラン（ジアステレオマーＡ）の調製について記載したのと同様に調製した。収率：８２％。融点＝１８９℃（メタノール）；[α]D = + 58.67 (c 0.375, ＣＨＣｌ３). 31P NMR ( 121 MHz) δ: 23.5-26.0 (m), 33.84-36.08 (m).
【０２２４】
実施例２５Ｇ
２−［（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン（ジアステレオマーＡ）の調製
【０２２５】
【化７５】
【０２２６】
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−ボラン（ジアステレオ異性体Ａ）５．３mg（０．０１２mmol）をトルエン０．５mLに溶解し、ＤＡＢＣＯ ３５mgを加えた。混合物を室温で１日間撹拌した。混合物を蒸発して、遊離したジホスフィンを得た。収率：１００％。31P NMR (121 MHz) δ:1.29, -6.49.
【０２２７】
実施例２５Ｈ
２−［（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン（ジアステレオマーＢ）の調製
【０２２８】
【化７６】
【０２２９】
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−ボラン（ジアステレオ異性体Ｂ）１１mg（０．０２２mmol）をトルエン０．６mLに溶解し、ＤＡＢＣＯ ３５mgを加えた。混合物を室温で１日間撹拌した。混合物を蒸発して、遊離したジホスフィンを得た。収率：１００％。31P NMR (121 MHz) δ: 0.29 (d, J= 1.88), 0.01 (d, J= 1.88).
【０２３０】
実施例２６
ａ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）（（ＳＰ，Ｒ）−トランス−ＰＥＰ）］］ＳｂＦ６｝の調製
【０２３１】
【化７７】
【０２３２】
２５mL Schlenk管中のＴＨＦ（６mL）中の［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＳｂＦ６（１４８．０mg、０．２７mmol）の懸濁液に、ＴＨＦ（２mL）中の（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニル−ホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン（１００．５mg、０．２７mmol）の溶液を−７８℃で滴下した。混合物を温め、室温で２時間の間撹拌した。この時間の後、溶媒を蒸発した。黄色の粉末をヘキサンで２回洗浄し、高真空下で１２時間乾燥して、［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩２１０mg（９４％）を得た。黄色の粉末：
【０２３３】
【表２４】
【０２３４】
ｂ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）（（ＳＰ，Ｓ）−シス−ＰＥＰ）］ＳｂＦ６）の調製
【０２３５】
【化７８】
【０２３６】
［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩を、実施例２６ａ）に記載した手順に従って、（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホランから出発して調製した。収率９２％、黄色の粉末；
【０２３７】
【表２５】
【０２３８】
ｃ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル−エチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）−（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）（トランス−Ｍｅ−ＰＥＰ）］ＳｂＦ６｝の調製
【０２３９】
【化７９】
【０２４０】
［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル−エチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩を、実施例２６ａ）に記載した手順に従って、（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランから出発して調製した。収率９４％、橙色の粉末：
【０２４１】
【表２６】
【０２４２】
ｄ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル−エチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）（（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−Ｍｅ−ＰＥＰ）］ＳｂＦ６｝の調製
【０２４３】
【化８０】
【０２４４】
［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル−エチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩を、実施例２６ａ）に記載した手順に従って、（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランから出発して調製した。収率９４％、橙色の粉末：
【０２４５】
【表２７】
【０２４６】
ｅ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）テトラフルオロホウ素酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）（（ＳＰ，Ｒ）−トランス−ＰＥＰ）］ＢＦ４｝の調製
【０２４７】
【化８１】
【０２４８】
［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）テトラフルオロホウ素酸塩を、前駆体として［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＦ４を用いることを除いて、実施例２６ａ）に記載した手順に従って調製した。収率９５％、黄色の粉末：
【０２４９】
【表２８】
【０２５０】
ｆ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）テトラフルオロホウ素酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）（（ＳＰ，Ｓ）−シス−ＰＥＰ）］ＢＦ４｝の調製
【０２５１】
【化８２】
【０２５２】
［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）テトラフルオロホウ素酸塩を、実施例２６ａ）に記載した手順に従って、リガンドとしての（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン及び前駆体としての［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＦ４から出発して調製した。収率９４％、橙色の粉末：
【０２５３】
【表２９】
【０２５４】
ｇ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ素酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）（（ＳＰ，Ｒ）−トランス−ＰＥＰ）］ＢＡＲＦ｝の調製
【０２５５】
【化８３】
【０２５６】
［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ素酸塩を、前駆体として［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＡＲＦ及び溶媒としてトルエンを用いることを除いて、実施例２６ａ）に記載した手順に従って調製した。収率９５％、黄色の粉末：
【０２５７】
【表３０】
【０２５８】
水素化の実施例
水素化実験を、以下のとおり実施した。
【０２５９】
グローブボックス内で、磁気撹拌棒を備えた２０mLガラス管インサートを含むオートクレーブに、水素化基質（１mmol）、無水脱気溶媒（７mL）および金属錯体触媒前駆体（０．０１mmol）を加えた。排気および水素の充填を１０サイクル行った後、オートクレーブをほぼ最初の水素圧まで加圧した。反応混合物を室温で撹拌し、適切な時間の後、オートクレーブを開口し、反応混合物をシリカゲルでろ過して濃縮し、残渣をエナンチオ選択性ＧＣにより分析した。
【０２６０】
実施例Ａ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＳｂＦ６を（配位子としてのcis−ＰＥＰ、trans−ＰＥＰ、（Ｓｐ，Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＰＥＰおよび（Ｓｐ，Ｒ，Ｓ）−Ｍｅ−ＰＥＰと共に）用いたα−アセトアミドアクリル酸およびα−アセトアミドアクリル酸メチルそれぞれの水素化
【０２６１】
【表３１】
【０２６２】
反応は全て、基質濃度０．１４Ｍおよび触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣ（enantiodiscriminating GC）により測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２６３】
実施例Ｂ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＳｂＦ６を（配位子としてのcis−ＰＥＰ、trans−ＰＥＰ、（Ｓｐ，Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＰＥＰおよび（Ｓｐ，Ｒ，Ｓ）−Ｍｅ−ＰＥＰと共に）用いたα−アセトアミド桂皮酸およびα−アセトアミド桂皮酸メチルそれぞれの水素化
【０２６４】
【表３２】
【０２６５】
反応は全て、基質濃度０．１４Ｍおよび触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２６６】
実施例Ｃ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＳｂＦ６を（配位子としてのcis−ＰＥＰ、trans−ＰＥＰ、（Ｓｐ，Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＰＥＰおよび（Ｓｐ，Ｒ，Ｓ）−Ｍｅ−ＰＥＰと共に）用いたイタコン酸およびイタコン酸ジメチルそれぞれの水素化
【０２６７】
【表３３】
【０２６８】
反応は全て、基質濃度０．１４Ｍおよび触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２６９】
実施例Ｄ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＳｂＦ６を（配位子としてのcis−ＰＥＰ、trans−ＰＥＰ、（Ｓｐ，Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＰＥＰおよび（Ｓｐ，Ｒ，Ｓ）−Ｍｅ−ＰＥＰと共に）用いたα−アセトキシアクリル酸エチルおよび１−ベンジルアミノ−１−エタンホスホン酸ジエチルそれぞれの水素化
【０２７０】
【表３４】
【０２７１】
反応は全て、基質濃度０．１４Ｍおよび触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２７２】
実施例Ｅ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＳｂＦ６を（配位子としてのcis−ＰＥＰ、trans−ＰＥＰ、（Ｓｐ，Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＰＥＰおよび（Ｓｐ，Ｒ，Ｓ）−Ｍｅ−ＰＥＰと共に）用いたアセトフェノンＮ−ベンゾイルヒドラゾンおよびα−（アセチルアミノ）−β，β−ジメチルアクリル酸それぞれの水素化
【０２７３】
【表３５】
【０２７４】
反応は全て、基質濃度０．１４Ｍおよび触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。Λエナンチオ識別ＨＰＬＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２７５】
実施例Ｆ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＢＦ４を（配位子としてのcis−ＰＥＰおよびtrans−ＰＥＰと共に）用いたα−アセトアミドアクリル酸およびα−アセトアミドアクリル酸メチルそれぞれの水素化
【０２７６】
【表３６】
【０２７７】
反応は全て、メタノール中の基質濃度０．１４Ｍ、および触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２７８】
実施例Ｇ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＢＦ４を（配位子としてのcis−ＰＥＰおよびtrans−ＰＥＰと共に）用いたα−アセトアミド桂皮酸メチルおよびα−アセトキシアクリル酸エチルそれぞれの水素化
【０２７９】
【表３７】
【０２８０】
反応は全て、メタノール中の基質濃度０．１４Ｍ、および触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２８１】
実施例Ｈ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＳｂＦ４を（配位子としてのcis−ＰＥＰおよびtrans−ＰＥＰと共に）用いたイタコン酸およびイタコン酸ジメチルそれぞれの水素化
【０２８２】
【表３８】
【０２８３】
反応は全て、メタノール中の基質濃度０．１４Ｍ、および触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２８４】
実施例Ｉ
［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｓｐ，Ｒ）−（trans−ＰＥＰ）］ＢＡＲＦを触媒前駆体として用いたイタコン酸ジメチルの水素化
【０２８５】
【表３９】
【０２８６】
反応は全て、基質濃度０．１４Ｍおよび触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なホスフィン配位子、そのような配位子を製造する方法、そのような配位子の金属錯体、および不斉反応における触媒としてのそのような金属錯体の使用に関する。
【０００２】
炭素およびリン原子上にキラル中心を有するホスフィン配位子は、当該技術分野で公知である。特定の分類のホスフィン配位子は、炭素原子３個の架橋により結合したもの、例えば、１，３−ジホスフィン配位子である。架橋の炭素原子上にキラル中心を１または２個有する１，３−ジホスフィン配位子の例は、ＳＫＥＷＰＨＯＳ（Ａ)およびＣＨＡＩＲＰＨＯＳ（Ｂ）である（J. Am. Chem. Soc. 1981, 103, 2273参照）。別のタイプのキラルホスフィン配位子の例は、Ｐ原子がホスホラン環（例えば、Tetrahedron Asymmetry, 1991, 2,(7), 569に記載されたＢＰＥ配位子（Ｃ）、またはAngew. Chem. Int. Ed. 2002, 41(9), 1612に記載された化合物（Ｄ））に含まれるものである。
【０００３】
【化２９】
【０００４】
本発明の目的は、架橋の炭素原子上にキラル中心を１または２個有し、リン原子上にキラル中心を１個有する更なるキラル１，３−ジホスフィン配位子、即ち、かなり硬直なビシクロ［４．３．０］ノナン型キレートを遷移金属と共に形成する新規な二座Ｃ，Ｐ−キラル１，３−ジホスフィン配位子系を提供することである。そのような新規な配位子を合成する方法は、本発明の一部であり、それは、スキーム１に示したとおり非常に短いという利点を有する。
【０００５】
それゆえ本発明は、式Ｉ：
【０００６】
【化３０】
【０００７】
（式中、
Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールであり、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールは、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；
Ｒ３は、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールであり；
Ｒ４’およびＲ４は、互いに独立して、水素、アルキルもしくはアリールを表すか、または
Ｒ４’およびＲ４は、それらが結合するＣ原子と一緒になって、３〜８員炭素環を形成しており；
点線は、存在しないか、または存在して二重結合を形成しており；
Ｒ５およびＲ６は、互いに独立して、水素、アルキルもしくはアリールであるか、または一緒に結合して、３〜８員炭素環もしくは芳香族環を形成しており；
Ｒ７は、アルキル、アリールまたはＮＲ８Ｒ８’であり；
Ｒ８およびＲ８’は、互いに独立して、水素、アルキルまたはアリールである）で示される新規なホスフィン配位子に関する。
【０００８】
式Ｉで示される化合物は、式Ｉａ、Ｉｂ、ＩｃおよびＩｄに示されるとおり、少なくとも２個（ホスホラン環のＰ原子上の１個およびホスホラン環のＣ２原子上の１個）のキラル中心を有する。
【０００９】
【化３１】
【００１０】
残基：Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５およびＲ６は、それらが結合するＣ原子上に更なるキラル中心を形成していてもよく、残基：Ｒ１およびＲ２は、それらが結合するリン原子上に更なるキラル中心を形成していてもよい。
【００１１】
該当する用語が単独または組み合わされて表されているかに関わらず、本明細書で使用される一般的用語の以下の定義が適用される。
【００１２】
本明細書で用いられる用語「アルキル」は、炭素原子が１〜８個、好ましくは１〜４個の直鎖または分枝状炭化水素基、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチルおよびtert−ブチルを表す。
【００１３】
好ましくはＲ１、Ｒ２およびＲ３に関するアルキル基は、分枝状アルキル基、例えば、イソプロピル、イソブチルおよびtert−ブチルである。
【００１４】
用語「アルコキシ」は、アルキル残基が先に定義されたとおりで、酸素原子を介して結合した基を示す。
【００１５】
用語「シクロアルキル」は、３〜８員環、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルおよびシクロヘプチル、特にシクロペンチルまたはシクロヘキシルを表す。
【００１６】
前記「アルキル」および「シクロアルキル」基は、アルキル（シクロアルキル基の場合）、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、またはアリールにより置換されていてもよい。
【００１７】
用語「アリール」は、非置換であるか、またはオルト−、メタ−もしくはパラ−位で置換されていてもよい、または多置換されていてもよい芳香族炭化水素残基、特にフェニル残基を表す。考慮される置換基は、例えば、フェニル、アルキルまたはアルコキシ基（好ましくはメチルまたはメトキシ基）、またはアミノ、モノアルキルもしくはジアルキルアミノ（好ましくはジメチルアミノまたはジエチルアミノ）、またはヒドロキシ、またはハロゲン（例えば、塩素）、またはトリアルキルシリル（例えば、トリメチルシリル）である。その上、用語「アリール」は、ナフチルを表すことができる。好ましいアリール残基は、フェニル、トリル、ジメチルフェニル、ジ−tert−ブチルフェニルまたはアニシルである。
【００１８】
用語「ヘテロアリール」は、ヘテロ原子（例えば、Ｓ、Ｏおよび／またはＮ）を１個以上含む５または６員芳香族環を表す。そのようなヘテロアリール基の例は、フリル、チエニル、ベンゾフラニルまたはベンゾチエニルである。
【００１９】
略語：
ＢＡＲＦ テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボラート
ｃ 濃度
ｃｏｄ （Ｚ，Ｚ）−１，５−シクロオクタジエン
ｃｏｎｖ． 変換
ＤＡＢＣＯ １，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン
ＤＢＵ １，８−ジアザビシクロ（５，４，０）ウンデカ−７−エン
ＤＥＡＤ ジエチルアゾジカルボキシラート
ＤＩＡＤ ジイソプロピルアゾジカルボキシラート
ｅｅ 鏡像体過剰率
ＥＩ−ＭＳ 電子衝撃質量分析法
ＥｔＯＡＣ 酢酸エチル
ＥｔＯＨ エタノール
ＧＣ ガスクロマトグラフィー
ｈ 時間
ＨＰＬＣ 高速液体クロマトグラフィー
ＨＶ 高真空
ｍ．ｐ． 融点
ＭＳ 質量分析法
Ｍｅ−ＰＥＰ ２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン
ＰＥＰ ２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン
ＰＭＰ５ ２−［（ジフェニルホスフィノ）メチル］−１−フェニルホスホラン
Ｓ／Ｃ 触媒に対する基質のモル比
ＴＢＭＥ tert−ブチルメチルエーテル
ＴＦＡ トリフルオロ酢酸
ＴＨＦ テトラヒドロフラン
【００２０】
本発明の化合物におけるcis−およびtrans−配置ならびに関連の化合物の表示については、以下に示した約束を厳守する：
【００２１】
【化３２】
【００２２】
好ましい式Ｉで示される化合物は、式ＩａおよびＩｂ：
【００２３】
【化３３】
【００２４】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ４’は、先に定義されたとおりである）で示されるものである。
【００２５】
別の好ましい化合物は、式ＩｃおよびＩｄ：
【００２６】
【化３４】
【００２７】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ４’は、先に定義されたとおりである）を有する。
【００２８】
更に別の好ましい化合物は、式ＩｅおよびＩｆ：
【００２９】
【化３５】
【００３０】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ４’は、先に定義されたとおりである）を有する。
【００３１】
本発明の一つの実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールを表し、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールが、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；
Ｒ３が、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ４’およびＲ４が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ５およびＲ６が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはフェニルであり；
点線が、存在せず、
Ｒ７、Ｒ８およびＲ８’が、先に定義されたとおりである、式Ｉで示される化合物である。
【００３２】
本発明の別の実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アリールを表し；
Ｒ３が、tert−ブチルまたはフェニルであり；
Ｒ４およびＲ４’が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、式Ｉで示される化合物である。
【００３３】
本発明の別の実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アリールを表し；
Ｒ３が、フェニルであり；
Ｒ４、Ｒ４’が、互いに独立して、水素、メチルまたはフェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、式Ｉで示される化合物である。
【００３４】
本発明の別の実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、フェニルを表し；
Ｒ３が、フェニルであり；
Ｒ４、Ｒ４’が、互いに独立して、水素、メチルまたはフェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、式Ｉで示される化合物である。
【００３５】
本発明の別の実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールを表し、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールが、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；
Ｒ３が、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ５およびＲ６が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはフェニルを表し；
点線が、存在せず、
Ｒ７、Ｒ８およびＲ８’が、先に定義されたとおりである、式ＩｅまたはＩｆで示される化合物である。
【００３６】
本発明の別の実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アリールを表し；
Ｒ３が、tert−ブチルまたはフェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、式ＩｅまたはＩｆで示される化合物である。
【００３７】
本発明の別の実施形態は、
Ｒ１およびＲ２が、等しく、フェニルを表し；
Ｒ３が、フェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、式ＩｅまたはＩｆで示される化合物である。
【００３８】
本発明の更に別の実施形態は、化合物が、
（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＲＰ，Ｒ，Ｒ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＲＰ，Ｒ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＲＰ，Ｒ，Ｒ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；または
（ＲＰ，Ｒ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；
である式Ｉで示される化合物、またはこれらの鏡像異性体である。
【００３９】
式Ｉで示される配位子は、以下の反応スキームにより製造される。
【００４０】
【化３６】
【００４１】
工程１
ホスホランボラン錯体：１を、金属化試薬（例えば、アリールもしくはアルキルリチウム試薬、またはリチウムアミド試薬）で金属化し、次に非キラルエポキシド：ＥＰ（例えば、エチレンオキシドまたはイソブチレンオキシド）または光学活性エポキシド（例えば、（Ｒ）−もしくは（Ｓ）−プロピレンオキシド、（Ｒ）−もしくは（Ｓ）−スチレンオキシド、または同様のエポキシド）と反応させて、trans−２−ヒドロキシエチルホスホランを異性体：２ａと２ｂとの混合物として得る。金属化試薬は、フェニル−、ブチル−、sec−およびtert−ブチルリチウムなど、またはリチウムジイソプロピルアミド、リチウム−２，２，６，６−テトラメチルピペリジドなどであってもよい。金属化は、錯化剤（例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、スパルテインなど）の存在下で行ってもよい。好ましい例では、sec−ブチルリチウムを、（−）−スパルテインの存在下で金属化試薬として用いる。
【００４２】
工程２
異性体trans−２−ヒドロキシエチルホスホラン：２ａと２ｂとの混合物を、文献で周知の一般的手順により（例えば、Ｒ＝ＣＨ３の場合、有機溶媒中での無水メシル酸または塩化メシルおよび塩基との反応により）、対応するスルホナート：３ａと３ｂとの混合物に変換する。Ｒ＝アルキル（例えば、メチルまたはエチル）およびＲ＝アリール（例えば、ｐ−トリル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−ブロモフェニル）などを有するスルホナートを、この方法で製造する。好ましい例では、無水メシル酸を、ジクロロメタン中、Hunig塩基の存在下で試薬として用い、スルホナート：３ａと３ｂ（Ｒ＝ＣＨ３）との混合物を得る。
【００４３】
工程３
ジアステレオ異性体的に、そして鏡像異性体的に純粋なスルホナート：３ａおよび３ｂを、結晶化手順または別の分離法（例えば、分取ＨＰＬＣ）のいずれかにより単離する。その後、化合物：３ａおよび３ｂのそれぞれを、スキーム１に示し以下に記載するとおり、工程４〜工程６で別々に実行する。
【００４４】
工程４
スルホナート：３ａおよび３ｂを、それぞれ別個に、有機溶媒中、塩基（例えば、ｔ−ＢｕＯＫ、ｔ−ＢｕＯＮａ、ｎ−ＢｕＬｉ、ＮａＨなど）の存在下でホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨで処理する。ホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨ中の残基は、式Ｉに関して先に定義されたとおりである。その後、反応混合物をボラン誘導剤（例えば、ボラン−テトラヒドロフラン錯体、ボラン−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン錯体、ボラン−ジメチルスルフィド錯体など）で処理して、所望のジスルフィンをビス−ボラン錯体：４ａおよび４ｂとして得る。好ましい例では、スルホナート：３ａまたは３ｂ（Ｒ＝ＣＨ３）を、溶媒としてのテトラヒドロフラン中、塩基としてのｔ−ＢｕＯＫの存在下で、ホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨと反応させ、次にボラン−テトラヒドロフラン錯体で処理して、ビス（ボラン）錯体：４ａまたは４ｂを得る。
【００４５】
工程５
ビス（ボラン）添加剤：４ａおよび４ｂを、有機溶媒中、アミン塩基（例えば、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、ピロリジン、ジエチルアミンなど）で処理して、または酸（例えば、ＨＢＦ４など）で処理して、脱ホウ素化を実行し、遊離１，３−ジホスフィン：ＩａおよびＩｂを得る。好ましい例では、ビス（ボラン）添加剤：４ａおよび４ｂをトルエン中、ＤＡＢＣＯで処理することにより、ジホスフィン：ＩａおよびＩｂを得る。
【００４６】
工程６
trans−配置ジホスフィン：ＩａおよびＩｂを有機溶媒中、高温で処理することにより、cis−配置ジホスフィン：ＩｃおよびＩｄを得る。
【００４７】
好ましい例は、ＩａまたはＩｂをキシレン中で１８０〜２５０℃、好ましくは２１０℃に加熱する。
【００４８】
異性体の分離は、工程３でスルホナートの段階で起こることが記載されている。本発明の範囲内では、異性体の分離が、従来の方法（例えば、結晶化、フラッシュクロマトグラフィーまたは分取クロマトグラフィーなど）を用いて合成の別の段階でも起こり得ることを理解すべきである。この方法では、例えば、異性体：２ａおよび２ｂを、工程１で記載された反応を実行した後に分離することができ、または異性体：４ａおよび４ｂを、工程４で記載された反応を実行した後に分離することができる。これらの例では、工程３に記載された手順を省略できることは明白である。
【００４９】
スキーム１に示した合成の変法では、工程１〜３を、スキーム１ａに示したとおりホスホラン−１−スルフィドから出発する類似の反応系列に置き換えることができる。ホスホラン−１−スルフィド化合物：１’は公知であり、Baccolini, B.; Boga C.; Negri, U. Synlett 2000, 1685により製造することができる。
【００５０】
【化３７】
【００５１】
工程１’
ホスホラン−１−スルフィド：１’を、Tang W.; Zhang, X. Angew. Chem. Int. Ed. 2002, 41, 1612に記載されたとおり、金属化試薬（例えば、アリールもしくアルキルリチウム試薬、またはリチウムアミド試薬）で金属化し、次に非キラルのエポキシド：ＥＰ（例えば、エチレンオキシドまたはイソブチレンオキシド）または光学活性エポキシド（例えば、（Ｒ）−もしくは（Ｓ）−プロピレンオキシド、（Ｒ）−もしくは（Ｓ）−スチレンオキシド、または同様のエポキシド）と反応させて、trans−２−ヒドロキシエチルホスホランを異性体：２ａと２ｂとの混合物として得る。金属化試薬は、フェニル−、ブチル−、sec−およびtert−ブチルリチウムなど、またはリチウムジイソプロピルアミド、リチウム−２，２，６，６−テトラメチルピペリジドなどであってもよい。金属化を、錯化剤（例えば、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、スパルテインなど）の存在下で行ってもよい。好ましい例では、sec−ブチルリチウムを、（−）−スパルテインの存在下で金属化試薬として用いる。
【００５２】
工程２’
ジアステレオ異性体的に純粋なアルコール：２’ａおよび２’ｂを、結晶化手順または別の分離法（例えば、分取ＨＰＬＣ）のいずれかにより単離する。その後、化合物：２’ａおよび２’ｂのそれぞれを、スキーム１ａに示し以下に記載するとおり、次の工程により別々に実行する。
【００５３】
工程３’
異性体trans−２−ヒドロキシエチルホスホラン：２’ａおよび２’ｂを、それぞれ別個に、文献で周知の一般的手順により（例えば、Ｒ＝ＣＨ３の場合、有機溶媒中での無水メシル酸または塩化メシルおよび塩基との反応により）、対応するスルホナート：３’ａおよび３’ｂに変換する。Ｒ＝アルキル（例えば、メチルまたはエチル）およびＲ＝アリール（例えば、ｐ−トリル、ｐ−ニトロフェニル、ｐ−ブロモフェニル）などを有するスルホナートは、この方法で製造する。好ましい例では、ジエチルエーテル中、トリエチルアミンの存在下で、塩化メシルを試薬として用い、スルホナート：３’ａおよび３’ｂ（Ｒ＝ＣＨ３）を得る。この方法で得られたスルホナートを、直接分離するか、または直接分離せずに工程４’に記載されるホスフィンで処理することができる。
【００５４】
工程４’
スルホナート：３’ａおよび３’ｂを、それぞれ別個に、有機溶媒中、塩基（例えば、ｔ−ＢｕＯＫ、ｔ−ＢｕＯＮａ、ｎ−ＢｕＬｉ、ＮａＨなど）の存在下、ホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨで処理する。ホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨ中の残基は、式Ｉに関して先に定義されたとおりである。その後、反応混合物をボラン誘導剤（例えば、ボラン−テトラヒドロフラン錯体、ボラン−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン錯体、ボラン−ジメチルスルフィド錯体など）で処理して、所望のボラン錯体：４’ａおよび４’ｂを得る。好ましい例では、スルホナート：３’ａまたは３’ｂ（Ｒ＝ＣＨ３）を、溶媒混合物としてのジエチルエーテル／テトラヒドロフラン中、塩基としてのｔ−ＢｕＬｉを用いて予め脱プロトン化したホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨと反応させ、次にボラン−テトラヒドロフラン錯体で処理して、ボラン錯体：４’ａおよび４’ｂを得る。
【００５５】
工程５’
ボラン錯体：４’ａおよび４’ｂを、それぞれ別個に、硫黄基を除去するために、有機溶媒中、還元剤（例えば、ＬｉＡｌＨ４、Ｎａ、Ｌｉ、ＰＢｕ３、Ｓｉ２Ｃｌ６など）で処理する。その後、得られたジホスフィン−モノボラン錯体を、先に述べたタイプのボラン誘導剤を用いてビス−ボラン錯体：４ａおよび４ｂに変換する。好ましい例では、試薬としてＳｉ２Ｃｌ６を用いて４’ａおよび４’ｂ中の硫黄基を除去し、試薬としてボラン−テトラヒドロフラン錯体を用いてビス−ボラン：４ａおよび４ｂを形成させる。
【００５６】
その後、ビス−ボラン：４ａおよび４ｂを、それぞれ別個に、スキーム１に示されたとおりジホスフィン：ＩａおよびＩｂに変換する。
【００５７】
スキーム１に示された合成の更なる例では、工程１〜３を、スキーム１’に記載された方法と同様に置き換えることができるが、金属化してエポキシドと反応させる化合物：１’は、ホスホラン−１−スルフィドではなく、ホスホラン−１−オキシドとする。このタイプのホスフィンオキシドの金属化は、US2004/0110975に記載されている。４’ａおよび４’ｂに対応する化合物中のホスフィンオキシド基を変換して、スキーム２、工程７の化合物１１から１２への変換について下記に記載された条件を用いて、ビス−ボラン：４ａおよび４ｂを得ることができる。
【００５８】
またはＲ４および４’が水素である式Ｉで示される化合物を、反応スキーム２および３により製造することができる。
【００５９】
スキーム２に示された合成を、以下に記載する。出発原料：cis−ヒドロキシ化合物：５を、Bodalski, R.; Janecki, T.; Glowka, M. Phosphorus and Sulfur 1982, 14, 15により合成する。
【００６０】
【化３８】
【００６１】
工程１
trans−ヒドロキシ中間体（６）を、カルビノール中心のMitsunobu反転によりcis体から合成する（Mitsunobu, O.; Yamada, M.Bull. Chem. Soc., Jpn., 1967, 40, 2380）。ジイソプロピルアザジカルボキシラート（ＤＩＡＤ）をジエチルアゾジカルボキシラート（ＤＥＡＤ）の代わりに用い、エステル中間体の加水分解の後、化合物：６を得る。好ましい例では、ジイソプロピルアゾジカルボキシラート（ＤＩＡＤ）を、３，５−ジニトロ安息香酸の存在下で用い、中間体：３，５−ジニトロベンゾアートを、アルコール（例えば、メタノールまたはエタノール）中でＫ２ＣＯ３を用いて、化合物：６に開裂する。
【００６２】
工程２
ヒドロキシホスホラン：６を基質として用い、６を弱酸（例えば、プロピオン酸）の存在下で過剰のオルト酢酸エチルと共に加熱することを含む転位（Claisen-Johnson）のオルトエステル変法を利用して、化合物：７をラセミ体として合成する（Johnson, W. S; Brocksom, T.J.; Loew, P.; Rich, D. H.; Werthermann, R. A.; Arnold, R. A.; Li, T.; Faulkner, D. J. J. Am. Chem. Soc. 1970, 92, 4463）。
【００６３】
工程２ａ
酵素（例えば、エステラーゼ）を用いたラセミ化合物：７の酵素分解により、光学活性化合物：７ａを得る。好ましい例では、rac−７を、ThermoCat Esterase E020(ThermoGen, USA)の存在下、pH７．０で酵素により加水分解して、約５０％変換した後で所望のエステル：７ａを残留させ、（Ｒ，Ｒ）鏡像異性体として＞９９．５％ｅｅで単離する。同時に生成された対応する（Ｓ，Ｓ）−酸（＞９９．５％ｅｅ）を、当該技術分野で公知の方法を用いて、アルキルエステルに転換することができる。こうして製造されたエステルを用いて、スキーム２に示されかつ（Ｒ，Ｒ）−シリーズに関して後に記載されるとおり、（Ｓ，Ｓ）シリーズでの類似の合成（工程３〜８）を完了させることができる。
【００６４】
工程３
７の５−員環中の二重結合を、水素化触媒（例えば、Ｐｄ／Ｃ触媒）で水素化して、エステル：８を得る。
【００６５】
工程４
エステル：８を、有機溶媒（例えば、ＴＨＦ）中、還元剤（例えば、水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化アルミニウムリチウム）で処理することにより、対応するアルコール：９に還元する。好ましい例では、エステル：８を、ＴＨＦ−ＭｅＯＨ中、水素化ホウ素ナトリウムで還元する。
【００６６】
工程５
９中のヒドロキシル基を、塩基の存在下で無水メタンスルホン酸で処理して、メシルオキシ基に変換する。好ましい例では、塩基としてのＮ−エチルジイソプロピルアミンの存在下で反応を実施すれば、純粋なtrans−ジアステレオ異性体：１０を得ることができる。
【００６７】
工程６
リチウムジフェニルホスフィドにより１０中のメシルオキシ基を求核置換し、その後、ＢＨ３の有機溶液（例えば、ＴＨＦ中のＢＨ３）を添加して、対応するボラン保護添加剤：１１を得る。
【００６８】
工程７
化合物：１１のホスフィンオキシド基をフェニルシランで立体保持的還元（stereoretentive reduction）に供し、得られたホスフィンをＢＨ３の有機溶液（例えば、ＴＨＦ中の１Ｍ ＢＨ３）で処理して、ジアステレオマー的に純粋なジホスフィンジボラン付加物：１２を得る。
【００６９】
工程８
最後に、ジホスフィンジボラン：１２から所望のジホスフィン：Ｉｅへの変換は、ベンゼン中のＤＡＢＣＯを用いることにより、容易にかつ立体選択的に実行することができる（Imamoto, T.; Tsuruta, H.; Wada, Y.; Masuda, H.; Yamaguchi, K. Tetrahedron Lett. 1995, 36, 8271参照）。
【００７０】
スキーム３で示される合成では、光学活性の出発原料：２−メチレンホスホラン−１−オキシド（１３）を、WO2004/050669により製造する。他の出発原料であるホスフィノチオイル酢酸tert−ブチルエステル（１４）を、以下のとおり、そして本願の実験部分に記載されたとおり製造する。
【００７１】
【化３９】
【００７２】
スキーム３に示された合成を、以下に記載する。
【００７３】
【化４０】
【００７４】
工程１
２−メチレンホスホラン−１−オキシド：１３およびホスフィノチオイルアセタート：１４を、有機溶媒（例えば、ベンゼン）に溶解する。得られた混合物を塩基（例えば、ＮａＨ）で処理して、所望の付加物：１５を得る。
【００７５】
工程２
付加物：１５を酸（例えば、ギ酸）で処理してtert−ブチル基を除去し、酸：１６を得る。
【００７６】
工程３
Ｃｕ２Ｏおよび有機塩基（例えば、ピリジン）の存在下で酸：１６を脱炭酸して、モノオキシド−モノスルフィド：１７を得る。
【００７７】
工程４
モノオキシド−モノスルフィド：１７中のホスフィンオキシド基を、還元剤（例えば、フェニルシラン）により配置を保持しながら還元し、硫黄で処理することにより対応するジホスフィン−ジスルフィド：１８に変換する。
【００７８】
工程５
ジスルフィド：１８をヘキサクロロジシラン（Ｓｉ２Ｃｌ６）で配置を保持しながら脱硫して（Zon, G.; DeBuin, K. E.; Naumann, K.; Mislow, K. J. Am. Chem. Soc. 1969, 91, 7023参照）、対応するジホスフィンを得、ＢＨ３の有機溶液（例えば、ＴＨＦ中の１Ｍ ＢＨ３）を用いてインサイチューで対応するジホスフィンジボラン：１９に転換する。
【００７９】
工程６
ジホスフィンジボラン：１９から所望のジホスフィン：Ｉｆへの変換は、有機溶媒（例えば、トルエン）中でＤＡＢＣＯを用いることにより、立体選択的に実行する（Imamoto, T.; Tsuruta, H.; Wada, Y.; Masuda, H.; Yamaguchi, K. Tetrahedron Lett. 1995, 36, 8271参照）。
【００８０】
式Ｉで示される光学活性配位子は、遷移金族、特にVIII群の遷移金属（例えば、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、パラジウムおよびニッケル）と錯体を形成する。これらの錯体は、不斉反応（例えばプロキラルアリル系での水素化およびエナンチオ選択性水素置換）において触媒として用いることができる。好ましくは金属錯体は、水素化では単離された形態で用いられる。またはその錯体を、インサイチューで製造してもよい。
【００８１】
これらの触媒（即ち遷移金属と式Ｉで示されるキラルジホスフィン配位子との錯体）は、新規であり、同じく本発明の目的である。
【００８２】
前述の遷移金属錯体、特にVIII族の金属との錯体は、例えば、以下に示した式IIおよびIIIで表すことができる。
【００８３】
【化４１】
【００８４】
（式中、
Ｍは、遷移金属を表し、
Ｌは、式Ｉで示されるジホスフィン化合物を表すが、
ここで、
Ｘは、例えば、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩなどの配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｐは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｒｈであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、アセトキシ、トリフルオロアセトキシもしくはピバロイルオキシなどのアシルオキシであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌであり、
ｍおよびｎは、それぞれ２であり、
ｐは、４であり、
ｑは、１であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、Ａは、トリエチルアミンであるか、
または
Ｘは、π−メタリル基であり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩなどの配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｐは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｉｒであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｐｄであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｎｉであれば、ｑは、０である）。
【００８５】
【化４２】
【００８６】
（式中、
Ｍは、遷移金属を表し、
Ｌは、式Ｉで示されるジホスフィン化合物を表し、
ここで
Ｘは、ｃｏｄもしくｎｂｄなどのジエン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｒｈであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、シクロオクテンもしくエチレンなどのオレフィン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｒは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｒｈであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、
Ａは、ベンゼンもしくはｐ−シメンであり、
Ｄは、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｍ、ｎ、ｐ、ｑおよびｒは、それぞれ１であるか、
または
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐおよびｑは、それぞれ０であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｒは、２であるか、
または
Ｘは、ｃｏｄもしくｎｂｄなどのジエン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｉｒであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、シクロオクテンもしくエチレンなどのオレフィン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
ｎは、２であり、
Ｍが、Ｉｒであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、π−アリル基であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｐｄであれば、ｑは、０である）。
【００８７】
Ｐｈは、フェニル基を表し、ｃｏｄは、（Ｚ，Ｚ）−１，５−シクロオクタジエンを表し、ｎｂｄは、ノルボルナジエンを表し、ＢＡＲＦは、テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ボラートを表す。
【００８８】
π−メタリルおよびπ−アリルは、構造：Ｈ２Ｃ＝Ｃ（Ｍｅ）−ＣＨ２およびＨ２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ２のアニオン性配位子を表す。
【００８９】
好ましい遷移金属錯体およびそのような錯体を製造する方法を、以下に記載する。
【００９０】
ルテニウム錯体は、例えば、文献（B. Heiser, E. A. Broger, Y. Crameri, Tetrahedron: Asymmetry 1991, 2, 51）に記載されたとおり、エーテル（例えば、テトラヒドロフランもしくはジエチルエーテルまたはそれらの混合物など）またはジクロロメタンなどの不活性溶媒中で、Ｒｕ前駆体［Ｒｕ（ｃｏｄ）（ＯＣＯＣＦ３）２］２、［Ｒｕ（ｃｏｄ）（ＯＣＯＣＦ３）２］２Ｈ２Ｏ、［Ｒｕ（ｃｏｄ）（ＯＣＯＣＨ３）２］または［Ｒｕ２（ｃｏｄ）２Ｃｌ４（ＣＨ３ＣＮ）］と、式Ｉで示される配位子とを反応させることにより製造することができる。ルテニウム錯体を製造する別の方法は、例えば、J. P. Genet, S. Mallart, C. Pinel, S. Juge, J. A. Laffitte, Tetrahedron: Asymmetry, 1991, 2, 43に記載されたとおり、非極性溶媒（例えば、ヘキサンもしくはトルエンまたはその混合物）中でのルテニウム前駆体［Ｒｕ（ｃｏｄ）（メタリル）２］と式Ｉで示される配位子との反応を含む。
【００９１】
ルテニウム錯体のインサイチューでの製造は、例えば、文献（B. Heiser, E. A. Broger, Y. Crameri, Tetrahedron: Asymmetry 1991, 2, 51）に記載されたとおり、メタノール中、トリフルオロ酢酸の存在下で、ルテニウム前駆体［Ｒｕ（ｃｏｄ）（メタリル）２］を式Ｉで示される配位子と反応させることにより実施することができる。
【００９２】
ルテニウム錯体は、例えば、文献（T. Ikariya, Y. Ishii, H. Kawano, T. Arai, M. Saburi, and S. Akutagawa, J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1985, 922）に記載されたとおり、トリエチルアミンの存在下、溶媒としてトルエンを用いて、［Ｒｕ（ｃｏｄ）Ｃｌ２］ｎおよび式Ｉで示される配位子を還流加熱することにより製造することもできる。更に、ルテニウム錯体は、例えば、文献（K. Mashima, K. Kusano, T. Ohta, R. Noyori, H. Takaya, J. Chem. Soc., Chem. Commun. 1989, 1208）に記載された方法により、塩化メチレン／エタノール混合物中で、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｉ２］２および式Ｉで示される配位子を撹拌しながら加熱することにより製造することができる。
【００９３】
好ましいルテニウム錯体は、
Ｒｕ（ＯＡｃ）２（Ｌ）、［Ｒｕ（ＯＣＯＣＦ３）２（Ｌ）］２、Ｒｕ２Ｃｌ４（Ｌ）２ＮＥｔ３、［ＲｕＣｌ（ベンゼン）（Ｌ）］Ｃｌ、［ＲｕＢｒ（ベンゼン）（Ｌ）］Ｂｒ、［ＲｕＩ（ベンゼン）（Ｌ）］Ｉ、［ＲｕＣｌ（ｐ−シメン）（Ｌ）］Ｃｌ、［ＲｕＢｒ（ｐ−シメン）（Ｌ）］Ｂｒ、［ＲｕＩ（ｐ−シメン）（Ｌ）］Ｉ、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＢＦ４）２、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＣｌＯ４）２、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＰＦ６）２、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＢＰｈ４）２である。
【００９４】
ロジウム錯体は、例えば、“Experimental Chemistry, 4th edition”Vol.18, Organometallic Complexes, pp339-344, Ed. Chemical Society of Japan, 1991, Maruzenに記載された方法により、ロジウム前駆体（例えば、［Ｒｈ（ｃｏｄ）Ｃｌ］２、［Ｒｈ（ｎｂｄ）Ｃｌ］２、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＳｂＦ６、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＣｌＯ４）を式Ｉで示される配位子と反応させることにより製造することができる。
【００９５】
好ましいロジウム錯体は、
Ｒｈ（Ｌ）Ｃｌ、Ｒｈ（Ｌ）Ｂｒ、Ｒｈ（Ｌ）Ｉ、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＳｂＦ６、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＰｈ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＡＲＦ、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＳｂＦ６、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＢＰｈ４である。
【００９６】
イリジウム錯体は、例えば、文献（K. Mashima, T. Akutagawa, X. Zhang, H. TaKaya, T. Taketomi, H. Kumobayashi, S. Akutagawa, J. Organomet., Chem. 1992, 428, 213）に記載された方法により、式Ｉで示される配位子を［Ｉｒ（ｃｏｄ）（ＣＨ３ＣＮ）２］ＢＦ４または［Ｉｒ（ｃｏｄ）Ｃｌ］２と反応させることにより製造することができる。
【００９７】
好ましいイリジウム錯体は、Ｉｒ（Ｌ）Ｃｌ、Ｉｒ（Ｌ）Ｂｒ、Ｉｒ（Ｌ）Ｉ、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＰｈ４、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＢＰｈ４である。
【００９８】
パラジウム錯体は、例えば、文献（Y. Uozumi and T. Hayashi, J. Am., Chem. Soc. 1991, 113, 9887）に記載された方法により、式Ｉで示される配位子をπ−アリルパラジウムクロリドと反応させることにより製造することができる。
【００９９】
好ましいパラジウム錯体は、
ＰｄＣｌ２（Ｌ）、［Ｐｄ（π−アリル）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｐｄ（π−アリル）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｐｄ（π−アリル）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｐｄ（π−アリル）（Ｌ）］ＢＰｈ４である。
【０１００】
ニッケル錯体は、例えば、“Experimental Chemistry, 4th edition”Vol.18, Organometallic Complexes, pp376, Ed. Chemical Society of Japan, 1991, Maruzenに記載された方法により、式Ｉで示される配位子および塩化ニッケルをアルコール（例えば、イソプロパノールもしくはエタノールまたはそれらの混合物）に溶解し、その溶液を撹拌しながら加熱することにより製造することができる。
【０１０１】
ニッケル錯体の好ましい例は、ＮｉＣｌ２（Ｌ）、ＮｉＢｒ２（Ｌ）およびＮｉＩ２（Ｌ）である。
【０１０２】
先に記載されたとおり製造された遷移金属錯体は、不斉反応、例えば、不斉水素化反応のための触媒として用いることができる。
【０１０３】
以下の実施例は、本発明を例示するためのものであり、限定を表すものではない。
【０１０４】
実験は全て、脱酸素化アルゴンの雰囲気下で実施した。使用前に、溶媒を乾燥させてアルゴン下で蒸留した。金属ジホスフィン錯体は、Schlenk法を用いて製造した。
【０１０５】
実施例１
rac−トランス−４−ヒドロキシ−１−フェニル−２−ホスホレン１−オキシドの調製
【０１０６】
【化４３】
【０１０７】
ＤＩＡＤ（６．２mL、３０．９mmol）を、ジエチルエーテル（３００mL）中のＴＰＰ（７．８７ｇ、３０．９mmol）、３，５−ジニトロ安息香酸（６．３６ｇ、３０．９mmol）及びシス−４−ヒドロキシ−１−フェニル−２−ホスホレン１−オキシド（３．９６ｇ、２０．４mmol）の撹拌溶液に０℃で滴下した。得られた混合物を０℃で１時間撹拌し、室温に温め、室温で２日間撹拌した。その時間の後、白色の沈殿物を濾過し、ジエチルエーテルで洗浄した。洗浄した沈殿物をメタノールに溶解し、Ｋ２ＣＯ３ ０．３ｇを得られた懸濁液に加えた。反応混合物を、加水分解が完了するまで室温で撹拌した。溶媒を蒸発し、粗生成物をカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：１）により精製した。rac−トランス−４−ヒドロキシ−１−フェニル−２−ホスホレン１−オキシドの総収量３．３１ｇ（８４％）、白色の結晶、融点＝１１５〜１１６℃（酢酸エチル／ヘキサン）：
【０１０８】
【表１】
【０１０９】
実施例２
rac−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシドの合成
【０１１０】
【化４４】
【０１１１】
rac−トランス−４−ヒドロキシ−１−フェニル−２−ホスホレン１−オキシド（３．８ｇ、１９．６mmol）をトルエン中でオルト酢酸トリエチル（４０mL、２２２mmol）及びプロピオン酸（０．２６mL）を用いて還流した。５日後、溶液を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：０．５）により精製した。rac−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシドの収量４．４３ｇ（８５％）、黄色の油状物：
【０１１２】
【表２】
【０１１３】
実施例２ａ
rac−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシドの酵素的分割
【０１１４】
【化４５】
【０１１５】
rac−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシド（９８％）２１．００ｇ（７７．８８mmol）を、激しく撹拌して、０．１Ｍ塩化ナトリウム６．７５Ｌ、４mMリン酸ナトリウムｐＨ７．０に乳化した。ThermoCat Esterase E020 (ThermoGen; Chicago, USA)２６０mgを加え、激しく撹拌しながら、水酸化ナトリウム溶液１．０Ｍを制御して添加（ｐＨスタット）し、ｐＨを一定に保持した。ほぼ５０％の変換の後（２１時間）、反応混合物をジクロロメタン３×８Ｌで抽出し、合わせた有機相を乾燥し（硫酸ナトリウム）、蒸発して、９７％eeの保持されたエステルを得た。水相をｐＨ１．９に酸性化し（濃塩酸）、酢酸エチル４×６Ｌで抽出した。合わせた有機相を乾燥し（硫酸ナトリウム）、蒸発し、残留物を高真空下で乾燥して、（Ｓ，Ｓ）−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシド８．８５g（４８．１％）を白色の固体として得た：分析: MS: 235.1 (M-H); 99.4% (HPLC; 226nm); 99.7% ee (メチル化; BGB-172上のGC; 30m x 0.25mm; H2 150kPa;2℃/分で 130-240℃ ; 注入 220℃; 検出 240℃).
【０１１６】
保持された（Ｒ，Ｒ）−エステルを、上記手順と同様にして、＞９９．５％eeを達成するまで、更なる加水分解に付した。高真空下で乾燥した後、エチル（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシド１０．６２ｇ（５１．６％）を黄褐色を帯びた油状物として得た：分析：EI-MS: 265.1 (48%), 264.1 (88%), 235.1 (36%), 219.1 (100%); 97.5% (HPLC; 226nm); >99.8% ee（上記参照）。（Ｓ，Ｓ）−酸の絶対配置をＸ線測定で決定した。
【０１１７】
実施例３
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシドの水素化
【０１１８】
【化４６】
【０１１９】
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニル−３−ホスホレン１−オキシド（１７mmol）４．５ｇをメタノール１００mLに溶解し、混合物をParr瓶に注いだ。アルゴンを１０分間Parr瓶に通し、Ｐｄ／Ｃ ０．１５ｇを注意深く加えた。Parr瓶をParr装置に取り付け、４気圧の水素圧力を加え、続いて反応混合物を一晩振とうした。その後、混合物をセライトを通して濾過し、濃縮し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：１）により精製した。（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニルホスホラン１−オキシドの総収量４．２８ｇ（９５％）、黄色の油状物：
【０１２０】
【表３】
【０１２１】
実施例４
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシドの調製
【０１２２】
【化４７】
【０１２３】
メタノール（１４mL）を、ＴＨＦ（１０mL）中の（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−エトキシカルボニルメチル−１−フェニルホスホラン１−オキシド（４．８ｇ、１８．１mmol）及びＮａＢＨ４（１．４１ｇ、３６．２mmol）の還流混合物に１時間かけて加えた。ＭｅＯＨを加えた後、反応混合物を１時間還流した。この時間の後、溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：１）により精製した。（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシドの総収量３．９７ｇ（９８％）、白色の結晶、融点＝１２６〜１２６．５℃（酢酸エチル／ヘキサン／メタノール）：
【０１２４】
【表４】
【０１２５】
実施例５
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−メチルスルホニルオキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシドの調製
【０１２６】
【化４８】
【０１２７】
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシド１．５２ｇ（６．７９mmol）を、乾燥ＣＨ２Ｃｌ２ ５０mLに溶解し、０℃に冷却した。次に、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン１０．６mL及びメタンスルホン酸無水物１．７８ｇ（１０．２mmol）を加えた。反応混合物を０℃で１時間撹拌し、室温に温め、室温で一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物を、フラッシュクロマトグラフィー（イソプロパノール：ヘキサン １：１）により精製した。（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−メチルスルホニルオキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシドの総収量１．９１ｇ（９３％）、黄色の油状物：
【０１２８】
【表５】
【０１２９】
実施例６
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−［（２−ジフェニルホスフィノボラン）エチル］−１−フェニルホスホラン１−オキシドの調製
【０１３０】
【化４９】
【０１３１】
Ｐｈ２ＰＨ １．６８mL（９．７６mmol）を乾燥ＴＨＦ ２０mLに溶解し、−７８℃に冷却し、ｎ−ＢｕＬi ７．３mL（９．１２mmol）を加えた。得られた濃赤色の混合物に、１５mL中の（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−メチルスルホニルオキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシド２．１２g（７．０mmol）の溶液を加えた。反応混合物を−７８℃で１時間撹拌し、室温に温め、室温で２時間撹拌した。この時間の後、ＴＨＦ（１Ｍ）中のボラン１４mLを加え、この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：０．５）により精製した。（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−［（２−ジフェニルホスフィノボラン）エチル］−１−フェニルホスホラン１−オキシドの収量３．８７ｇ（８０％）、無色の油状物：
【０１３２】
【表６】
【０１３３】
実施例７
（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの合成
【０１３４】
【化５０】
【０１３５】
（Ｒ，Ｒ）−トランス−２−［（２−ジフェニルホスフィノボラン）エチル］−１−フェニル−ホスホラン１−オキシド２．１７ｇ（５．３５mmol）をトルエン８mLに溶解し、ＰｈＳｉＨ３ ３．８mL（２６．７mmol）を加えた。反応混合物を４５℃で２日間加熱した。次に、ＴＨＦ（１Ｍ）中のボラン１０mLを加え、この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの総収量１．６２ｇ（７５％）、白色の結晶、融点＝１１４〜１１４．５℃（酢酸エチル／ヘキサン）：
【０１３６】
【表７】
【０１３７】
実施例８
（ＳＰ，Ｒ）−トランス'−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン｛（ＳＰ，Ｒ）−トランス−ＰＥＰ｝の調製
【０１３８】
【化５１】
【０１３９】
（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボラン１９０mgをベンゼン６mLに溶解し、ＤＡＢＣＯ ３２３mgを加えた。混合物を室温で一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をＡｌ２Ｏ３上のフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル ２０：１）により精製して、（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン１４１mg（８０％）を得た。無色の油状物：
【０１４０】
【表８】
【０１４１】
実施例９
（ＳＰ，Ｒ）−シス−２−［（２−ジフェニルチオホスフィノイル）エチル］−１−フェニルホスホラン１−オキシドの調製
【０１４２】
【化５２】
【０１４３】
(Ｒ）−２−メチレン−１−フェニルホスホラン１−オキシド１ｇ（５．２mmol）及び（ジフェニルホスフィノチオイル）−酢酸terｔ−ブチルエステル２ｇ（６．２４mmol）をベンゼン１６mLに溶解した。混合物を０℃に冷却し、ＮａＨ １５６mg（７．７２mmol）を加えた。混合物を０℃で３０分間撹拌し、室温に温め、室温で２４時間撹拌した。その時間の後、溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：１）により精製した。得られたジアステレオ異性体の混合物をギ酸２０mLに溶解し、室温で一晩撹拌した。次に、ギ酸を蒸発し、残留物をピリジン１５mLに溶解し、Ｃｕ２Ｏ １０４mgを加えた。得られた混合物を１２時間還流した。その時間の後、溶液を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：１）により精製した。（ＲＰ，Ｓ）−シス−２−［（２−ジフェニルチオホスフィノイル）エチル］−１−フェニルホスホラン１−オキシドの総収量０．９６ｇ（４２％）、白色の結晶、融点＝１７３〜１７３．５℃（酢酸エチル／ヘキサン／メタノール）：
【０１４４】
【表９】
【０１４５】
実施例１０
（ＲＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジスルフィドの調製
【０１４６】
【化５３】
【０１４７】
（ＲＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）スルフィド−１−フェニル−ホスホラン１−オキシド２．８ｇ（６．６mmol）をトルエン８mLに溶解し、ＰｈＳｉＨ３ ５．０mL（３５．１mmol）を加えた。反応混合物を４５℃で２日間加熱した。次に、溶媒を蒸発し、残留物をベンゼン５mLに溶解し、Ｓ８ １ｇを加えた。この混合物を室温で一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。（ＲＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジスルフィドの収量２．４５ｇ（８４％）、白色の結晶、融点＝１３９〜１４０℃（酢酸エチル／ヘキサン）：
【０１４８】
【表１０】
【０１４９】
実施例１１
（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの調製
【０１５０】
【化５４】
【０１５１】
（ＲＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジスルフィド２．２４ｇ（５．０９mmol）をトルエン３５mLに溶解し、Ｓｉ２Ｃｌ６ ７mL（４０．７mmol）を加えた。反応混合物を６０℃で４時間加熱した。その時間の後、溶液を室温に冷却し、３０％ＮａＯＨ水溶液４０mLをゆっくりと氷水浴中の反応混合物に加えた。次に、得られた混合物を、室温で、水層が清澄となるまで撹拌した。２相を分離した。水相をトルエン（２×３０mL）で２回洗浄した。合わせたトルエン層をＭｇＳＯ４で乾燥し、濃縮した。残留物をベンゼン１０mLに再溶解し、ＴＨＦ（１Ｍ）中のボラン１５mLを加え、この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル）−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの収量１．９８ｇ（８８．８％）、白色の結晶、融点＝１２３〜１２４℃（酢酸エチル／ヘキサン）：
【０１５２】
【表１１】
【０１５３】
実施例１２
（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン｛（ＳＰ，Ｓ）−シス−ＰＥＰ｝の調製
【０１５４】
【化５５】
【０１５５】
このリガンドを、実施例８の（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホランについて記載したのと同様に調製した。収率９６％、無色の油状物：
【０１５６】
【表１２】
【０１５７】
実施例１３
トランス−２−［（２−ヒドロキシ−メチル）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランの調製
【０１５８】
【化５６】
【０１５９】
１−フェニルホスホラン１−ボラン１ｇ（５．６mmol）及び（−）−スパルテイン１．５７ｇ（６．７２mmol）を乾燥Ｅｔ２Ｏ ３５mLに溶解した。この混合物を−７８℃に冷却し、sec−ＢｕＬｉ ６．１mL（６．７２mmol）を加えた。この混合物を−７８℃で０．５時間撹拌し、次に（Ｓ）−プロピレンオキシド５mLを加えた。得られた黄色の混合物を−７８℃で４．５時間撹拌し、室温に温め、その後溶媒を蒸発した。残留物をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、１Ｍ ＨＣｌで２回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。２つのジアステレオ異性体の混合物（２：１）の収量１ｇ（７３％）、無色の油状物：
【０１６０】
【表１３】
【０１６１】
実施例１４
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランの調製
【０１６２】
【化５７】
【０１６３】
トランス−２−［（２−ヒドロキシ−メチル）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボラン（２つのジアステレオマー）１．３３ｇ（５．６mmol）を乾燥ＣＨ２Ｃｌ２ ３７mLに溶解し、０℃に冷却した。次に、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン８．５mL及びメタンスルホン酸無水物１．４６ｇ（８．４mmol）を加えた。反応混合物を０℃で１時間撹拌し、室温に温め、室温で一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ５：３：１）により精製した。２つのジアステレオ異性体の結晶質の混合物を酢酸エチル／ヘキサンから再結晶化した。一晩放置した後、白色の結晶が形成された。１Ｈ ＮＭＲモニタリングは、得られた結晶が単一のジアステレオ異性体を含有することを示した。
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランの収量０．８２ｇ（４６％、de＝１００％）、白色の結晶、融点＝１１４〜１１５℃（酢酸エチル／ヘキサン）：
【０１６４】
【表１４】
【０１６５】
実施例１５
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの調製
【０１６６】
【化５８】
【０１６７】
Ｐｈ２ＰＨ ０．３２mL（１．９１mmol）をＴＨＦ ６mLに溶解し、−７８℃に冷却し、ｔ−ＢｕＯＫ ２１２mg（１．９１mmol）を加えた。この混合物をこの温度で１０分間撹拌した。得られた橙色の混合物に、ＴＨＦ ６mL中の（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボラン０．５ｇ（１．５９mmol）の溶液を加えた。反応混合物を−７８℃で２時間撹拌し、室温に温め、室温で１時間撹拌した。この時間の後、ＴＨＦ（１Ｍ）中のボラン３mLを加え、この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの収量３３９mg（５１％、１００％ de）、白色の結晶、融点＝１７５．５〜１７６℃（酢酸エチル／ヘキサン）：
【０１６８】
【表１５】
【０１６９】
実施例１６
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン｛（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−Ｍｅ−ＰＥＰ｝の調製
【０１７０】
【化５９】
【０１７１】
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボラン１．６６ｇをトルエン７０mLに溶解し、ＤＡＢＣＯ ３ｇを加えた。混合物を室温で２日間撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をＡｌ２Ｏ３上のフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２０：１）により精製して、（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン１．４８ｇ（９５．７％）を得た。白色の固体：
【０１７２】
【表１６】
【０１７３】
実施例１７
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランの調製
【０１７４】
【化６０】
【０１７５】
本化合物を、（Ｒ）−プロピレンオキシドから出発することを除いて、実施例１３〜１４の（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランについて記載したのと同様に調製した。酢酸エチル／ヘキサンからの結晶化により（ＲＰ，Ｓ，Ｒ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボラン（ジアステレオマーＡ）を除去した後、（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニル−ホスホラン１−ボラン（ジアステレオマーＢ）を黄色の油状物として得た（収率＝８０％、de＝８０％）。
【０１７６】
実施例１８
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランＰ，Ｐ−ジボランの調製
【０１７７】
【化６１】
【０１７８】
本化合物を、実施例１５の（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−［（２−メチル−メチルスルホニルオキシ）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランの変換について記載したのと同様に調製した。収率３２％（de＝１００％）、白色の結晶、融点＝１４９〜１４９．５℃；
【０１７９】
【表１７】
【０１８０】
実施例１９
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン｛（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−Ｍｅ−ＰＥＰの調製
【０１８１】
【化６２】
本化合物を、実施例１６の（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランの変換について記載したのと同様に調製した。収率９８％、無色の油状物：
【０１８２】
【表１８】
【０１８３】
実施例２０
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニル−ホスホランのエピマー化
【０１８４】
【化６３】
【０１８５】
キシレン７mL中の（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニル−ホスホラン１５０mgの溶液を２１０℃で２０時間加熱した（閉管中）。次に、混合物を室温に冷却し、Ｈ２Ｏ２ １mL（１５％）を加え、得られた混合物を室温で一晩撹拌した。有機相を分離し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、溶媒を蒸発して、（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−Ｍｅ−ＰＥＰジオキシド（31P NMR: δ 37.74, 63.46; 85%)及び（ＲＰ，Ｒ，Ｒ）−シス−Ｍｅ−ＰＥＰジオキシド(31P NMR: δ 37.93, 63.46; 15%)の混合物を得た。
【０１８６】
実施例２１
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン｛（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−Ｍｅ−ＰＥＰ｝のエピマー化
【０１８７】
【化６４】
【０１８８】
キシレン７mL中の（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニル−ホスホラン１４０mgの溶液を２１０℃で２０時間加熱した（閉管中）。次に、混合物を室温に冷却し、ＢＨ３−ＴＨＦ試薬（Aldrich）１mLを加え、得られた混合物を室温で一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−Ｍｅ−ＰＥＰビス（ボラン）(31P NMR: δ 29.05 (vbs), 25.2 (vbs)、及び（ＲＰ，Ｒ，Ｓ）−シス−Ｍｅ−ＰＥＰビス（ボラン）(31P NMR: δ 32.35 (vbs), 33.95 (vbs)の混合物を得た。
【０１８９】
実施例２２
rac−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−ボランの調製
【０１９０】
【化６５】
【０１９１】
１−フェニルホスホラン１−ボラン１ｇ（５．６mmol）及び（−）−スパルテイン１．５７ｇ（６．７２mmol）を乾燥Ｅｔ２Ｏ ３５mLに溶解した。混合物を−７８℃に冷却し、sec−ＢｕＬｉ ６．１mL（６．７２mmol）を加えた。この混合物を−７８℃で０．５時間撹拌し、次にエチレンオキシド５mLを加えた。得られた黄色の混合物を−７８℃で４．５時間撹拌し、室温に温め、蒸発した。残留物をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、１Ｍ ＨＣｌで２回洗浄し、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、減圧下で濃縮した。残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。収量０．５６ｇ（４５％）、無色の油状物：
【０１９２】
【表１９】
【０１９３】
実施例２３
rac−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシドの調製
【０１９４】
【化６６】
【０１９５】
２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−ボラン０．５ｇ（２．２５mmol）をトルエン１０mLに溶解し、ＤＡＢＣＯ ０．８５ｇを加えた。溶媒を蒸発し、残留物をＣＨ２Ｃｌ２ ３０mLに溶解し、Ｈ２Ｏ２ ５mL（１５％）を加えた。この混合物を室温で一晩撹拌し、有機相を分離し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル：メタノール ２：３：１）により精製した。収量０．４５ｇ（９０％）、白色の結晶融点＝１２６〜１２６．５℃（酢酸エチル／ヘキサン／メタノール）：
【０１９６】
【表２０】
【０１９７】
実施例２４
rac−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシドの酵素的分割：
【０１９８】
【化６７】
【０１９９】
rac−トランス−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシド７２０mg（３．２１mmol）をＴＢＭＥ ６５０mL及び酢酸ビニル７５mLに溶解し、溶液を４℃に冷却した。lipase MAP-10 (Amano Enzyme Inc., Nagoya, Jpn.)７２０mgを撹拌下で加え、懸濁液を４℃で穏やかに撹拌した。保持されたアルコールの鏡像体過剰率が＞９８％に達した後（６日後）酵素を濾別し、濾液を減圧下で濃縮した。残留油状物をアセトニトリル／水 ５：２（廃棄した白色の沈殿物）７mLに取り、Supelco ABZ+ 上のクロマトグラフィー（１２μm，５０×２５０mm；勾配：Ａ中の１０％〜５０％Ｂ、２５分間以内（Ａ：水中の０．１％ＴＦＡ；Ｂ：アセトニトリル中の０．１％ＴＦＡ）；１００mL／分；２７０nm）に付した。保持されたアルコールを含有する画分をプールし、蒸発し、高真空下で乾燥して、（Ｒ，Ｒ）−２−（２−ヒドロキシエチル）−１−フェニルホスホラン１−オキシド１９７mg（２７．４％）を白色の固体として得た。分析：ＥＩ−ＭＳ：２２５．３（３．５％）、２２３．２（１０％）、１９４．２（２２％）、１８０．２（１００％）；９６．６％（ＨＰＬＣ；２７０nm）；９８．５％ ee(Chiralpak-ADH上のHPLC; 25cm x 4.6mm; 90% ヘプタン/10% ＥｔＯＨ; 0.8ml/分; 25℃; 220nm); [α]D = +23.10°(ＣＨＣｌ３中c= 1.134)。絶対配置を化学相関により決定した。
【０２００】
実施例２５
２−［（２−ヒドロキシ−フェニル）エチル］−１−フェニルホスホラン１−ボランの調製
【０２０１】
【化６８】
【０２０２】
１−フェニルホスホラン１−ボラン１７８mg（１．０mmol）及び（−）−スパルテイン０．２８ｇ（１．２mmol）を乾燥Ｅｔ２Ｏ ８mLに溶解した。この混合物を−７８℃に冷却し、sec−ＢｕＬｉ １．０mL（１．２mmol）を加えた。この混合物を−７８℃で０．５時間撹拌し、次に（Ｒ）−スチレンオキシド１mLを加えた。得られた黄色の混合物を−７８℃で２時間撹拌し、室温に温め、更に２時間撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、１Ｍ ＨＣｌで２回洗浄し、乾燥し（ＭｇＳＯ４）、減圧下で濃縮した。残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。収量０．１１ｇ（３７．５％）、無色の油状物：31P NMR (121 MHz) δ: 31.9 (vbs); MS (ESI): m/z = 316.5 (M+NH4+, C18H28BNOP).
【０２０３】
実施例２５Ａ
１−フェニルホスホラン−１−スルフィドの調製
【０２０４】
【化６９】
【０２０５】
１−フェニルホスホラン１−ボラン１ｇ（５．６mmol）をベンゼン２５mLに溶解し、ＤＡＢＣＯ ２．２ｇを加えた。混合物を室温で一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をトルエン４０mLに溶解し、Ｓ８ １．４ｇを加えた。この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。収量１．０６５ｇ（９７％）、白色の結晶、融点＝７４℃（メタノール）：
【０２０６】
【表２１】
【０２０７】
実施例２５Ｂ
２−［（２−ヒドロキシ−２−フェニル）エチル］−１−フェニルホスホラン−１−スルフィドの調製
【０２０８】
【化７０】
【０２０９】
１−フェニルホスホラン１−スルフィド０．３８ｇ（１．９４mmol）及び（−）−スパルテイン０．５４ｇ（２．３３mmol）を乾燥ＴＨＦ ８mLに溶解した。この混合物を−７８℃に冷却し、sec−ＢｕＬｉ ５．１mL（７mmol）を加えた。この混合物を−７８℃で０．５時間撹拌し、次に（Ｒ）−スチレンオキシド０．４６mL（３．８８mmol）を加えた。得られた褐色の混合物を−７８℃で２．５時間撹拌し、温め、その後溶媒を蒸発した。残留物をＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、１Ｍ ＨＣｌで２回洗浄し、ＭｇＳＯ４で乾燥し、減圧下で濃縮した。残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。無色の油状物及び白色の結晶としての２つのジアステレオ異性体（１．２５：１）の混合物の収量０．３１５ｇ（５１．５％）。
【０２１０】
【表２２】
【０２１１】
実施例２５Ｃ
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル］エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオマーＡ）の調製
【０２１２】
【化７１】
【０２１３】
２−［（２−ヒドロキシ−２−フェニル）エチル］−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオマーＡ）９４mg（０．２９７mmol）を乾燥Ｅｔ２Ｏ ５mLに溶解し、−２０℃に冷却した。次に、トリエチルアミン０．３４mL及びメタンスルホン酸クロリド０．０２８mL（０．３５mmol）を加えた。反応混合物を−２０℃で２時間撹拌した。次に、混合物を−７８℃に冷却し、沈殿物なしにシリンジに取り、ＴＨＦ ４mL中のＰｈ２ＰＨ ０．１５３mL（０．８９mmol）及びｎ−ＢｕＬｉ ０．７３mL（０．９１mmol）から−７８℃で調製したＰｈ２ＰＬｉ溶液に加えた。得られた混合物を−７８℃で２時間撹拌し、次に室温に温め、室温で１時間撹拌した。この時間の後、ＴＨＦ（１Ｍ）中のボラン２mLを加え、この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル ２：１）により精製した。２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル］エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−スルフィドの収量１９mg（１２．８％）、白色の結晶、融点＝１６５℃（メタノール）；[α]D = + 72.04 (c 0.825, ＣＨＣｌ３). 31P NMR (121 MHz) δ: 24.55-26.05 (m), 58.15, 58.16 (d, J= 1.85).
【０２１４】
実施例２５Ｄ
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル］エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオマーＢ）の調製
【０２１５】
【化７２】
【０２１６】
本化合物を、２−［（２−ヒドロキシ−２−フェニル）エチル］−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオマーＢ）から出発することを除いて、２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル］エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオマーＡ）について記載したのと同様に調製した。２−［（２−ジフェニルホスフィノボラン−２−フェニル）エチル］−１−フェニルホスホラン−１−スルフィドの収率（４．５％）、白色の結晶、融点１９３℃（メタノール）；[α]D = + 75.01 (c 0.765, ＣＨＣｌ３).
【０２１７】
【表２３】
【０２１８】
実施例２５Ｅ
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−ボラン（ジアステレオマーＡ）の調製
【０２１９】
【化７３】
【０２２０】
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル］エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオ異性体Ａ）１５mg（０．０３mmol）をベンゼン０．３mLに溶解し、Ｓｉ２Ｃｌ６ ０．０３２mL（０．１８mmol）を加えた。反応混合物を６０℃で１．５時間加熱した。溶液を室温に冷却し、３０％ＮａＯＨ水溶液５mLを、氷水浴に浸漬した反応混合物にゆっくりと加えた。次に、得られた混合物を、室温で、水層が清澄となるまで撹拌した。２相を分離した。水相をトルエン（２×３０mL）で２回洗浄した。合わせたトルエン層をＭｇＳＯ４で乾燥し、濾過し、濃縮した。残留物をベンゼン４mLに再溶解し、ＴＨＦ（１Ｍ）中のボラン０．２mLを加え、この混合物を一晩撹拌した。溶媒を蒸発し、残留物をフラッシュクロマトグラフィーにより精製した。収率１０．８mg、（７５％）。融点＝１６９℃（メタノール）；[α]D = + 110.5 (c 0.265, ＣＨＣｌ３). 31P NMR (121 MHz) δ: 23.31-26.2 (m), 27.32-29-65 (m).
【０２２１】
実施例２５Ｆ
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−ボラン（ジアステレオマーＢ）の調製
【０２２２】
【化７４】
【０２２３】
本化合物を、２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル］エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−スルフィド（ジアステレオ異性体Ｂ）から出発することを除いて、２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−ボラン（ジアステレオマーＡ）の調製について記載したのと同様に調製した。収率：８２％。融点＝１８９℃（メタノール）；[α]D = + 58.67 (c 0.375, ＣＨＣｌ３). 31P NMR ( 121 MHz) δ: 23.5-26.0 (m), 33.84-36.08 (m).
【０２２４】
実施例２５Ｇ
２−［（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン（ジアステレオマーＡ）の調製
【０２２５】
【化７５】
【０２２６】
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−ボラン（ジアステレオ異性体Ａ）５．３mg（０．０１２mmol）をトルエン０．５mLに溶解し、ＤＡＢＣＯ ３５mgを加えた。混合物を室温で１日間撹拌した。混合物を蒸発して、遊離したジホスフィンを得た。収率：１００％。31P NMR (121 MHz) δ:1.29, -6.49.
【０２２７】
実施例２５Ｈ
２−［（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン（ジアステレオマーＢ）の調製
【０２２８】
【化７６】
【０２２９】
２−｛［２−ジフェニルホスフィノ（ボラン）−２−フェニル）エチル｝−１−フェニルホスホラン−１−ボラン（ジアステレオ異性体Ｂ）１１mg（０．０２２mmol）をトルエン０．６mLに溶解し、ＤＡＢＣＯ ３５mgを加えた。混合物を室温で１日間撹拌した。混合物を蒸発して、遊離したジホスフィンを得た。収率：１００％。31P NMR (121 MHz) δ: 0.29 (d, J= 1.88), 0.01 (d, J= 1.88).
【０２３０】
実施例２６
ａ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）（（ＳＰ，Ｒ）−トランス−ＰＥＰ）］］ＳｂＦ６｝の調製
【０２３１】
【化７７】
【０２３２】
２５mL Schlenk管中のＴＨＦ（６mL）中の［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＳｂＦ６（１４８．０mg、０．２７mmol）の懸濁液に、ＴＨＦ（２mL）中の（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニル−ホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン（１００．５mg、０．２７mmol）の溶液を−７８℃で滴下した。混合物を温め、室温で２時間の間撹拌した。この時間の後、溶媒を蒸発した。黄色の粉末をヘキサンで２回洗浄し、高真空下で１２時間乾燥して、［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩２１０mg（９４％）を得た。黄色の粉末：
【０２３３】
【表２４】
【０２３４】
ｂ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）（（ＳＰ，Ｓ）−シス−ＰＥＰ）］ＳｂＦ６）の調製
【０２３５】
【化７８】
【０２３６】
［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩を、実施例２６ａ）に記載した手順に従って、（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホランから出発して調製した。収率９２％、黄色の粉末；
【０２３７】
【表２５】
【０２３８】
ｃ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル−エチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）−（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）（トランス−Ｍｅ−ＰＥＰ）］ＳｂＦ６｝の調製
【０２３９】
【化７９】
【０２４０】
［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル−エチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩を、実施例２６ａ）に記載した手順に従って、（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランから出発して調製した。収率９４％、橙色の粉末：
【０２４１】
【表２６】
【０２４２】
ｄ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル−エチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）（（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−Ｍｅ−ＰＥＰ）］ＳｂＦ６｝の調製
【０２４３】
【化８０】
【０２４４】
［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル−エチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）ヘキサフルオロアンチモン酸塩を、実施例２６ａ）に記載した手順に従って、（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホランから出発して調製した。収率９４％、橙色の粉末：
【０２４５】
【表２７】
【０２４６】
ｅ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）テトラフルオロホウ素酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）（（ＳＰ，Ｒ）−トランス−ＰＥＰ）］ＢＦ４｝の調製
【０２４７】
【化８１】
【０２４８】
［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）テトラフルオロホウ素酸塩を、前駆体として［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＦ４を用いることを除いて、実施例２６ａ）に記載した手順に従って調製した。収率９５％、黄色の粉末：
【０２４９】
【表２８】
【０２５０】
ｆ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）テトラフルオロホウ素酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）（（ＳＰ，Ｓ）−シス−ＰＥＰ）］ＢＦ４｝の調製
【０２５１】
【化８２】
【０２５２】
［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）テトラフルオロホウ素酸塩を、実施例２６ａ）に記載した手順に従って、リガンドとしての（ＳＰ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン及び前駆体としての［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＦ４から出発して調製した。収率９４％、橙色の粉末：
【０２５３】
【表２９】
【０２５４】
ｇ）［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ素酸塩｛［Ｒｈ（ｃｏｄ）（（ＳＰ，Ｒ）−トランス−ＰＥＰ）］ＢＡＲＦ｝の調製
【０２５５】
【化８３】
【０２５６】
［（η２−１，２，５，６）−１，５−シクロオクタジエン］［（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノエチル−κＰ）−（１−フェニルホスホラン−κＰ）］ロジウム（Ｉ）テトラキス［３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル］ホウ素酸塩を、前駆体として［Ｒｈ（ｃｏｄ）２］ＢＡＲＦ及び溶媒としてトルエンを用いることを除いて、実施例２６ａ）に記載した手順に従って調製した。収率９５％、黄色の粉末：
【０２５７】
【表３０】
【０２５８】
水素化の実施例
水素化実験を、以下のとおり実施した。
【０２５９】
グローブボックス内で、磁気撹拌棒を備えた２０mLガラス管インサートを含むオートクレーブに、水素化基質（１mmol）、無水脱気溶媒（７mL）および金属錯体触媒前駆体（０．０１mmol）を加えた。排気および水素の充填を１０サイクル行った後、オートクレーブをほぼ最初の水素圧まで加圧した。反応混合物を室温で撹拌し、適切な時間の後、オートクレーブを開口し、反応混合物をシリカゲルでろ過して濃縮し、残渣をエナンチオ選択性ＧＣにより分析した。
【０２６０】
実施例Ａ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＳｂＦ６を（配位子としてのcis−ＰＥＰ、trans−ＰＥＰ、（Ｓｐ，Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＰＥＰおよび（Ｓｐ，Ｒ，Ｓ）−Ｍｅ−ＰＥＰと共に）用いたα−アセトアミドアクリル酸およびα−アセトアミドアクリル酸メチルそれぞれの水素化
【０２６１】
【表３１】
【０２６２】
反応は全て、基質濃度０．１４Ｍおよび触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣ（enantiodiscriminating GC）により測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２６３】
実施例Ｂ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＳｂＦ６を（配位子としてのcis−ＰＥＰ、trans−ＰＥＰ、（Ｓｐ，Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＰＥＰおよび（Ｓｐ，Ｒ，Ｓ）−Ｍｅ−ＰＥＰと共に）用いたα−アセトアミド桂皮酸およびα−アセトアミド桂皮酸メチルそれぞれの水素化
【０２６４】
【表３２】
【０２６５】
反応は全て、基質濃度０．１４Ｍおよび触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２６６】
実施例Ｃ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＳｂＦ６を（配位子としてのcis−ＰＥＰ、trans−ＰＥＰ、（Ｓｐ，Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＰＥＰおよび（Ｓｐ，Ｒ，Ｓ）−Ｍｅ−ＰＥＰと共に）用いたイタコン酸およびイタコン酸ジメチルそれぞれの水素化
【０２６７】
【表３３】
【０２６８】
反応は全て、基質濃度０．１４Ｍおよび触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２６９】
実施例Ｄ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＳｂＦ６を（配位子としてのcis−ＰＥＰ、trans−ＰＥＰ、（Ｓｐ，Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＰＥＰおよび（Ｓｐ，Ｒ，Ｓ）−Ｍｅ−ＰＥＰと共に）用いたα−アセトキシアクリル酸エチルおよび１−ベンジルアミノ−１−エタンホスホン酸ジエチルそれぞれの水素化
【０２７０】
【表３４】
【０２７１】
反応は全て、基質濃度０．１４Ｍおよび触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２７２】
実施例Ｅ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＳｂＦ６を（配位子としてのcis−ＰＥＰ、trans−ＰＥＰ、（Ｓｐ，Ｒ，Ｒ）−Ｍｅ−ＰＥＰおよび（Ｓｐ，Ｒ，Ｓ）−Ｍｅ−ＰＥＰと共に）用いたアセトフェノンＮ−ベンゾイルヒドラゾンおよびα−（アセチルアミノ）−β，β−ジメチルアクリル酸それぞれの水素化
【０２７３】
【表３５】
【０２７４】
反応は全て、基質濃度０．１４Ｍおよび触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。Λエナンチオ識別ＨＰＬＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２７５】
実施例Ｆ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＢＦ４を（配位子としてのcis−ＰＥＰおよびtrans−ＰＥＰと共に）用いたα−アセトアミドアクリル酸およびα−アセトアミドアクリル酸メチルそれぞれの水素化
【０２７６】
【表３６】
【０２７７】
反応は全て、メタノール中の基質濃度０．１４Ｍ、および触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２７８】
実施例Ｇ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＢＦ４を（配位子としてのcis−ＰＥＰおよびtrans−ＰＥＰと共に）用いたα−アセトアミド桂皮酸メチルおよびα−アセトキシアクリル酸エチルそれぞれの水素化
【０２７９】
【表３７】
【０２８０】
反応は全て、メタノール中の基質濃度０．１４Ｍ、および触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２８１】
実施例Ｈ
単離された触媒前駆体：［Ｒｈ（配位子）（ｃｏｄ）］ＳｂＦ４を（配位子としてのcis−ＰＥＰおよびtrans−ＰＥＰと共に）用いたイタコン酸およびイタコン酸ジメチルそれぞれの水素化
【０２８２】
【表３８】
【０２８３】
反応は全て、メタノール中の基質濃度０．１４Ｍ、および触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【０２８４】
実施例Ｉ
［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｓｐ，Ｒ）−（trans−ＰＥＰ）］ＢＡＲＦを触媒前駆体として用いたイタコン酸ジメチルの水素化
【０２８５】
【表３９】
【０２８６】
反応は全て、基質濃度０．１４Ｍおよび触媒１mol％で、室温で実施した。反応は、３時間で完了させた。＃エナンチオ識別ＧＣにより測定した。＊旋光のサインを報告されたデータと比較することにより、絶対配置を割当てた。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
（式中、
Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールであり、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールは、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；
Ｒ３は、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールであり；
Ｒ４’およびＲ４は、互いに独立して、水素、アルキルもしくはアリールを表すか、または
Ｒ４’およびＲ４は、それらが結合するＣ原子と一緒になって、３〜８員炭素環を形成しており；
点線は、存在しないか、または存在して二重結合を形成しており；
Ｒ５およびＲ６は、互いに独立して、水素、アルキルまたはアリールであり；
Ｒ７は、アルキル、アリールまたはＮＲ８Ｒ８’であり；
Ｒ８およびＲ８’は、互いに独立して、水素、アルキルまたはアリールである）で示される化合物。
【請求項２】
化合物が、式Ｉａ、Ｉｂ、ＩｃまたはＩｄ：
【化２】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、請求項１に定義されたとおりである）を有する、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
化合物が、式ＩｅまたはＩｆ：
【化３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ４’は、請求項１に定義されたとおりである）を有する、請求項１または２記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールを表し、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールが、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；
Ｒ３が、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ４’およびＲ４が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ５およびＲ６が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはフェニルであり；
点線が、存在せず、
Ｒ７、Ｒ８およびＲ８’が、請求項１に定義されたとおりである、請求項１または２記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アリールを表し；
Ｒ３が、tert−ブチルまたはフェニルであり；
Ｒ４’およびＲ４が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、請求項４記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アリールを表し；
Ｒ３が、フェニルであり；
Ｒ４、Ｒ４’が、互いに独立して、水素、メチルまたはフェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、請求項４記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、フェニルを表し；
Ｒ３が、フェニルであり；
Ｒ４、Ｒ４’が、互いに独立して、水素、メチルまたはフェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、請求項５記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールを表し、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールが、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；
Ｒ３が、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ５およびＲ６が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはフェニルであり；
点線が、存在せず、
Ｒ７、Ｒ８およびＲ８’が、請求項１に定義されたとおりである、請求項３記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アリールを表し；
Ｒ３が、tert−ブチルまたはフェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、請求項８記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、フェニルを表し；
Ｒ３が、フェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、請求項９記載の化合物。
【請求項１１】
化合物が、
（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン；
（Ｓ，Ｒ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＲＰ，Ｒ，Ｒ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＲＰ，Ｒ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＲＰ，Ｒ，Ｒ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；または
（ＲＰ，Ｒ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；
である、請求項１〜１０のいずれか１項記載の化合物、またはこれらの化合物の鏡像異性体。
【請求項１２】
式II：
【化４】
（式中、
Ｍは、遷移金属を表し、
Ｌは、式Ｉで示されるジホスフィン化合物を表すが、
ここで、
Ｘは、例えば、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩなどの配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｐは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｒｈであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、アセトキシ、トリフルオロアセトキシもしくはピバロイルオキシなどのアシルオキシであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌであり、
ｍおよびｎは、それぞれ２であり、
ｐは、４であり、
ｑは、１であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、Ａは、トリエチルアミンであるか、
または
Ｘは、π−メタリル基であり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩなどの配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｐは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｉｒであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｐｄであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｎｉであれば、ｑは、０である）で示される遷移金属錯体。
【請求項１３】
式II：
【化５】
（式中、Ｍは、Ｒｈを表し、
Ｌは、式Ｉで示されるジホスフィン化合物を表し、
ここで
Ｘは、例えば、Ｃｌ、ＢｒまたはＩなどの配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｐは、それぞれ１であり、
ｑは、０である）で示される遷移金属錯体。
【請求項１４】
式III：
【化６】
（式中、
Ｍは、遷移金属を表し、
Ｌは、式Ｉで示されるジホスフィン化合物を表し、
ここで
Ｘは、ｃｏｄもしくｎｂｄなどのジエン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｒｈであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、シクロオクテンもしくエチレンなどのオレフィン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｒは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｒｈであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、
Ａは、ベンゼンもしくはｐ−シメンであり、
Ｄは、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｍ、ｎ、ｐ、ｑおよびｒは、それぞれ１であるか、
または
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐおよびｑは、それぞれ０であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｒは、２であるか、
または
Ｘは、ｃｏｄもしくｎｂｄなどのジエン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｉｒであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、シクロオクテンもしくエチレンなどのオレフィン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
ｎは、２であり、
Ｍが、Ｉｒであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、π−アリル基であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｐｄであれば、ｑは、０である）で示される金属錯体。
【請求項１５】
式III：
【化７】
（式中、Ｍは、Ｒｈを表し、
Ｌは、式Ｉで示されるジホスフィン化合物を表し、
ここで、
Ｘは、ｃｏｄもしくはｎｂｄなどのジエン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、シクロオクテンもしくエチレンなどのオレフィン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｒは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
ｑは、０である）で示される金属錯体。
【請求項１６】
不斉反応、特にプロキラルアリル系における不斉水素化およびエナンチオ選択性水素置換における触媒としての、請求項１２、１３、１４または１５記載の金属錯体の使用。
【請求項１７】
反応が、請求項１２、１３、１４または１５記載の式IIまたはIIIで示される金属錯体の存在下で実施されることを特徴とする、プロキラルオレフィンまたはケトン化合物の不斉水素化の方法。
【請求項１８】
式Ｉａ、Ｉｂ、ＩｃまたはＩｄ：
【化８】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、請求項１に定義されたとおりである）で示される化合物の製造方法であって、
１）ホスホランボラン錯体：１を、非キラルまたは光学活性エポキシド：ＥＰと反応させて、trans−２−ヒドロキシエチルホスホランを異性体：２ａと２ｂとの混合物として生成させる工程、
【化９】
２）式：２ａおよび２ｂで示される化合物を式：３ａで示されるスルホナートと３ｂで示されるスルホナートとの混合物に変換する工程、
【化１０】
３）化合物：３ａおよび３ｂをホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨと反応させ、その後、ボラン誘導剤で処理して、ビス（ボラン）錯体：４ａおよび４ｂを生成させる工程、
【化１１】
４）ビス（ボラン）錯体：４ａおよび４ｂをアミンで脱ホウ素化して、遊離１，３−ジホスフィン：ＩａおよびＩｂを生成させる工程、
【化１２】
５）有機溶媒中、高温でtrans配置ジホスフィン：ＩａおよびＩｂを処理して、cis配置ジホスフィン：ＩｃおよびＩｄを得る工程、
【化１３】
を含む方法。
【請求項１９】
異性体化合物：ａとｂとの分離を、工程１）〜５）のいずれかで実行する、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
式Ｉａ、Ｉｂ、ＩｃまたはＩｄ：
【化１４】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、請求項１に定義されたとおりである）で示される化合物を製造するための請求項１８記載の方法であって、
１）ホスホランボラン錯体：１を、非キラルまたは光学活性エポキシド：ＥＰと反応させて、trans−２−ヒドロキシエチルホスホランを異性体：２ａと２ｂとの混合物として生成させる工程、
【化１５】
２）式２ａおよび２ｂで示される化合物を式：３ａで示されるスルホナートと３ｂで示されるスルホナートとの混合物に変換する工程、
【化１６】
３）化合物：３ａと３ｄとの混合物を分離して、ジアステレオマー的および鏡像異性的に純粋なスルホナート：３ａおよび３ｂを生成させる工程、
【化１７】
４）化合物：３ａおよび３ｂを別個にホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨと反応させ、その後、ボラン誘導剤で処理して、ビス（ボラン）錯体：４ａまたは４ｂを生成させる工程、
【化１８】
５）ビス（ボラン）錯体：４ａまたは４ｂをアミンで脱ホウ素化して、遊離１，３−ジホスフィン：ＩａまたはＩｂを生成させる工程、
【化１９】
６）有機溶媒中、高温でtrans配置ジホスフィン：ＩａまたはＩｂを処理して、cis配置ジホスフィン：ＩｃまたはＩｄを得る工程、
【化２０】
を含む方法。
【請求項２１】
置換基：Ｒ４およびＲ４’が水素であり、異性体化合物：ａとｂとの分離を、工程１）で、酵素分解工程を含む方法により実行する、請求項１８記載の方法。
【請求項２２】
式Ｉａ、Ｉｂ、ＩｃまたはＩｄ：
【化２１】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、請求項１に定義されたとおりである）で示される化合物の製造方法であって、
１）ホスホラン−１−スルフィド：１’を、非キラルまたは光学活性エポキシド：ＥＰと反応させて、trans−２−ヒドロキシエチルホスホランを異性体２’ａと２’ｂとの混合物として生成させる工程、
【化２２】
２）化合物：２’ａと２’ｂとの混合物を分離して、ジアステレオマー的および鏡像異性的に富化された化合物：２’ａおよび２’ｂを生成させる工程、
【化２３】
３）式：２’ａおよび２’ｂで示される化合物を別個に式３’ａおよび３’ｂで示されるスルホナートに変換する工程、
【化２４】
４）化合物３’ａおよび３’ｂを別個にホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨと反応させ、その後、ボラン誘導剤で処理して、ボラン錯体：４’ａまたは４’ｂを生成させる工程、
【化２５】
５）ボラン錯体：４’ａまたは４’ｂの硫黄基を還元剤で除去し、その後、ボラン誘導剤で処理して、ビス（ボラン）錯体：４ａまたは４ｂを生成させる工程、
【化２６】
６）ビス（ボラン）錯体：４ａまたは４ｂをアミンで脱ホウ素化して、遊離１，３−ジホスフィン：ＩａまたはＩｂを生成させる工程、
【化２７】
７）有機溶媒中、高温でtrans配置ジホスフィン：ＩａまたはＩｂを処理して、cis配置ジホスフィン：ＩｃまたはＩｄを得る工程、
【化２８】
を含む方法。
【請求項２３】
異性体化合物：ａとｂとの分離を、工程１）〜６）のいずれかで実行する、請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
本明細書の先に記載された発明。
【請求項１】
式Ｉ：
【化１】
（式中、
Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールであり、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールは、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；
Ｒ３は、アルキル、シクロアルキル、アリールまたはヘテロアリールであり；
Ｒ４’およびＲ４は、互いに独立して、水素、アルキルもしくはアリールを表すか、または
Ｒ４’およびＲ４は、それらが結合するＣ原子と一緒になって、３〜８員炭素環を形成しており；
点線は、存在しないか、または存在して二重結合を形成しており；
Ｒ５およびＲ６は、互いに独立して、水素、アルキルまたはアリールであり；
Ｒ７は、アルキル、アリールまたはＮＲ８Ｒ８’であり；
Ｒ８およびＲ８’は、互いに独立して、水素、アルキルまたはアリールである）で示される化合物。
【請求項２】
化合物が、式Ｉａ、Ｉｂ、ＩｃまたはＩｄ：
【化２】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、請求項１に定義されたとおりである）を有する、請求項１記載の化合物。
【請求項３】
化合物が、式ＩｅまたはＩｆ：
【化３】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ４’は、請求項１に定義されたとおりである）を有する、請求項１または２記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールを表し、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールが、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；
Ｒ３が、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ４’およびＲ４が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ５およびＲ６が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはフェニルであり；
点線が、存在せず、
Ｒ７、Ｒ８およびＲ８’が、請求項１に定義されたとおりである、請求項１または２記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アリールを表し；
Ｒ３が、tert−ブチルまたはフェニルであり；
Ｒ４’およびＲ４が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、請求項４記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アリールを表し；
Ｒ３が、フェニルであり；
Ｒ４、Ｒ４’が、互いに独立して、水素、メチルまたはフェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、請求項４記載の化合物。
【請求項７】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、フェニルを表し；
Ｒ３が、フェニルであり；
Ｒ４、Ｒ４’が、互いに独立して、水素、メチルまたはフェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、請求項５記載の化合物。
【請求項８】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールを表し、前記アルキル、アリール、シクロアルキルまたはヘテロアリールが、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ヒドロキシ、アミノ、モノ−もしくはジアルキルアミノ、アリール、−ＳＯ２−Ｒ７、−ＳＯ３−、−ＣＯ−ＮＲ８Ｒ８’、カルボキシ、アルコキシカルボニル、トリアルキルシリル、ジアリールアルキルシリル、ジアルキルアリールシリルまたはトリアリールシリルにより置換されていてもよく；
Ｒ３が、Ｃ１〜４アルキルまたはアリールであり；
Ｒ５およびＲ６が、互いに独立して、水素、Ｃ１〜４アルキルまたはフェニルであり；
点線が、存在せず、
Ｒ７、Ｒ８およびＲ８’が、請求項１に定義されたとおりである、請求項３記載の化合物。
【請求項９】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、アリールを表し；
Ｒ３が、tert−ブチルまたはフェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、請求項８記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ１およびＲ２が、等しく、フェニルを表し；
Ｒ３が、フェニルであり；
Ｒ５およびＲ６が、水素であり；点線が、存在しない、請求項９記載の化合物。
【請求項１１】
化合物が、
（ＳＰ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン；
（Ｓ，Ｒ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＲＰ，Ｒ，Ｒ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＲＰ，Ｒ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−メチル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｒ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＳＰ，Ｒ，Ｓ）−トランス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；
（ＲＰ，Ｒ，Ｒ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；または
（ＲＰ，Ｒ，Ｓ）−シス−２−（２−ジフェニルホスフィノ−２−フェニル）エチル−１−フェニルホスホラン；
である、請求項１〜１０のいずれか１項記載の化合物、またはこれらの化合物の鏡像異性体。
【請求項１２】
式II：
【化４】
（式中、
Ｍは、遷移金属を表し、
Ｌは、式Ｉで示されるジホスフィン化合物を表すが、
ここで、
Ｘは、例えば、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩなどの配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｐは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｒｈであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、アセトキシ、トリフルオロアセトキシもしくはピバロイルオキシなどのアシルオキシであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌであり、
ｍおよびｎは、それぞれ２であり、
ｐは、４であり、
ｑは、１であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、Ａは、トリエチルアミンであるか、
または
Ｘは、π−メタリル基であり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩなどの配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｐは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｉｒであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｐｄであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｎｉであれば、ｑは、０である）で示される遷移金属錯体。
【請求項１３】
式II：
【化５】
（式中、Ｍは、Ｒｈを表し、
Ｌは、式Ｉで示されるジホスフィン化合物を表し、
ここで
Ｘは、例えば、Ｃｌ、ＢｒまたはＩなどの配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｐは、それぞれ１であり、
ｑは、０である）で示される遷移金属錯体。
【請求項１４】
式III：
【化６】
（式中、
Ｍは、遷移金属を表し、
Ｌは、式Ｉで示されるジホスフィン化合物を表し、
ここで
Ｘは、ｃｏｄもしくｎｂｄなどのジエン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｒｈであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、シクロオクテンもしくエチレンなどのオレフィン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｒは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
Ｍが、Ｒｈであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、
Ａは、ベンゼンもしくはｐ−シメンであり、
Ｄは、Ｃｌ、ＢｒもしくはＩであり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｍ、ｎ、ｐ、ｑおよびｒは、それぞれ１であるか、
または
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍおよびｎは、それぞれ１であり、
ｐおよびｑは、それぞれ０であり、
Ｍが、Ｒｕであれば、ｒは、２であるか、
または
Ｘは、ｃｏｄもしくｎｂｄなどのジエン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｉｒであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、シクロオクテンもしくエチレンなどのオレフィン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
ｎは、２であり、
Ｍが、Ｉｒであれば、ｑは、０であるか、
または
Ｘは、π−アリル基であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
Ｍが、Ｐｄであれば、ｑは、０である）で示される金属錯体。
【請求項１５】
式III：
【化７】
（式中、Ｍは、Ｒｈを表し、
Ｌは、式Ｉで示されるジホスフィン化合物を表し、
ここで、
Ｘは、ｃｏｄもしくはｎｂｄなどのジエン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎ、ｐおよびｒは、それぞれ１であり、
ｑは、０であるか、
または
Ｘは、例えば、シクロオクテンもしくエチレンなどのオレフィン配位子であり、
Ｄは、例えば、ＢＦ４、ＣｌＯ４、ＰＦ６、ＳｂＦ６、ＣＦ３ＳＯ３、ＢＰｈ４、もしくはＢＡＲＦなどの非配位性アニオンであり、
ｍ、ｎおよびｒは、それぞれ１であり、
ｐは、２であり、
ｑは、０である）で示される金属錯体。
【請求項１６】
不斉反応、特にプロキラルアリル系における不斉水素化およびエナンチオ選択性水素置換における触媒としての、請求項１２、１３、１４または１５記載の金属錯体の使用。
【請求項１７】
反応が、請求項１２、１３、１４または１５記載の式IIまたはIIIで示される金属錯体の存在下で実施されることを特徴とする、プロキラルオレフィンまたはケトン化合物の不斉水素化の方法。
【請求項１８】
式Ｉａ、Ｉｂ、ＩｃまたはＩｄ：
【化８】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、請求項１に定義されたとおりである）で示される化合物の製造方法であって、
１）ホスホランボラン錯体：１を、非キラルまたは光学活性エポキシド：ＥＰと反応させて、trans−２−ヒドロキシエチルホスホランを異性体：２ａと２ｂとの混合物として生成させる工程、
【化９】
２）式：２ａおよび２ｂで示される化合物を式：３ａで示されるスルホナートと３ｂで示されるスルホナートとの混合物に変換する工程、
【化１０】
３）化合物：３ａおよび３ｂをホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨと反応させ、その後、ボラン誘導剤で処理して、ビス（ボラン）錯体：４ａおよび４ｂを生成させる工程、
【化１１】
４）ビス（ボラン）錯体：４ａおよび４ｂをアミンで脱ホウ素化して、遊離１，３−ジホスフィン：ＩａおよびＩｂを生成させる工程、
【化１２】
５）有機溶媒中、高温でtrans配置ジホスフィン：ＩａおよびＩｂを処理して、cis配置ジホスフィン：ＩｃおよびＩｄを得る工程、
【化１３】
を含む方法。
【請求項１９】
異性体化合物：ａとｂとの分離を、工程１）〜５）のいずれかで実行する、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
式Ｉａ、Ｉｂ、ＩｃまたはＩｄ：
【化１４】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、請求項１に定義されたとおりである）で示される化合物を製造するための請求項１８記載の方法であって、
１）ホスホランボラン錯体：１を、非キラルまたは光学活性エポキシド：ＥＰと反応させて、trans−２−ヒドロキシエチルホスホランを異性体：２ａと２ｂとの混合物として生成させる工程、
【化１５】
２）式２ａおよび２ｂで示される化合物を式：３ａで示されるスルホナートと３ｂで示されるスルホナートとの混合物に変換する工程、
【化１６】
３）化合物：３ａと３ｄとの混合物を分離して、ジアステレオマー的および鏡像異性的に純粋なスルホナート：３ａおよび３ｂを生成させる工程、
【化１７】
４）化合物：３ａおよび３ｂを別個にホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨと反応させ、その後、ボラン誘導剤で処理して、ビス（ボラン）錯体：４ａまたは４ｂを生成させる工程、
【化１８】
５）ビス（ボラン）錯体：４ａまたは４ｂをアミンで脱ホウ素化して、遊離１，３−ジホスフィン：ＩａまたはＩｂを生成させる工程、
【化１９】
６）有機溶媒中、高温でtrans配置ジホスフィン：ＩａまたはＩｂを処理して、cis配置ジホスフィン：ＩｃまたはＩｄを得る工程、
【化２０】
を含む方法。
【請求項２１】
置換基：Ｒ４およびＲ４’が水素であり、異性体化合物：ａとｂとの分離を、工程１）で、酵素分解工程を含む方法により実行する、請求項１８記載の方法。
【請求項２２】
式Ｉａ、Ｉｂ、ＩｃまたはＩｄ：
【化２１】
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ４’、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８は、請求項１に定義されたとおりである）で示される化合物の製造方法であって、
１）ホスホラン−１−スルフィド：１’を、非キラルまたは光学活性エポキシド：ＥＰと反応させて、trans−２−ヒドロキシエチルホスホランを異性体２’ａと２’ｂとの混合物として生成させる工程、
【化２２】
２）化合物：２’ａと２’ｂとの混合物を分離して、ジアステレオマー的および鏡像異性的に富化された化合物：２’ａおよび２’ｂを生成させる工程、
【化２３】
３）式：２’ａおよび２’ｂで示される化合物を別個に式３’ａおよび３’ｂで示されるスルホナートに変換する工程、
【化２４】
４）化合物３’ａおよび３’ｂを別個にホスフィン：Ｒ１Ｒ２ＰＨと反応させ、その後、ボラン誘導剤で処理して、ボラン錯体：４’ａまたは４’ｂを生成させる工程、
【化２５】
５）ボラン錯体：４’ａまたは４’ｂの硫黄基を還元剤で除去し、その後、ボラン誘導剤で処理して、ビス（ボラン）錯体：４ａまたは４ｂを生成させる工程、
【化２６】
６）ビス（ボラン）錯体：４ａまたは４ｂをアミンで脱ホウ素化して、遊離１，３−ジホスフィン：ＩａまたはＩｂを生成させる工程、
【化２７】
７）有機溶媒中、高温でtrans配置ジホスフィン：ＩａまたはＩｂを処理して、cis配置ジホスフィン：ＩｃまたはＩｄを得る工程、
【化２８】
を含む方法。
【請求項２３】
異性体化合物：ａとｂとの分離を、工程１）〜６）のいずれかで実行する、請求項２２記載の方法。
【請求項２４】
本明細書の先に記載された発明。
【公表番号】特表２００９−５１４８２７（Ｐ２００９−５１４８２７Ａ）
【公表日】平成２１年４月９日（２００９．４．９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５３８３２７（Ｐ２００８−５３８３２７）
【出願日】平成１８年１０月２３日（２００６．１０．２３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００６／０６７６７７
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０５１７２４
【国際公開日】平成１９年５月１０日（２００７．５．１０）
【出願人】（５９１００３０１３）エフ．ホフマン−ラ ロシュ アーゲー (1,754)
【氏名又は名称原語表記】Ｆ． ＨＯＦＦＭＡＮＮ−ＬＡ ＲＯＣＨＥ ＡＫＴＩＥＮＧＥＳＥＬＬＳＣＨＡＦＴ
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２１年４月９日（２００９．４．９）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１０月２３日（２００６．１０．２３）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００６／０６７６７７
【国際公開番号】ＷＯ２００７／０５１７２４
【国際公開日】平成１９年５月１０日（２００７．５．１０）
【出願人】（５９１００３０１３）エフ．ホフマン−ラ ロシュ アーゲー (1,754)
【氏名又は名称原語表記】Ｆ． ＨＯＦＦＭＡＮＮ−ＬＡ ＲＯＣＨＥ ＡＫＴＩＥＮＧＥＳＥＬＬＳＣＨＡＦＴ
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]