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国際特許分類[C07C69/67]の内容

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【課題】 肌等に対する密着性が高く、耐水皮膜形成能、顔料分散性、抱水性、非染着性及び経時安定性に優れるエステル化反応生成物を製造する方法を提供すること。
【解決手段】 本発明のエステル化反応生成物の製造方法は、ジペンタエリスリトール1モルに対して、平均重合度が6〜12である12−ヒドロキシステアリン酸重合物2〜4モルとをエステル化することによって得られるエステル化反応生成物の製造方法であって、該エステル化反応生成物の水酸基価が20〜70mgKOH/gであり、酸価が3mgKOH/g以下である。 (もっと読む)


【課題】安全性が高く、皮膚に塗布した際に油性感を抑え、軽い感触で通気性があり、エモリエント性のある植物由来の油性成分並びに該油性成分を含有する化粧料、外用剤、塗料及びインキ組成物を提供することを課題とした。
【解決手段】植物由来原料である2−オクタノールを構成成分とするエステル誘導体が、石油由来の2−エチルヘキサノールのエステル誘導体と同程度に化学的に安定で極性があり、安全性が高く、且つ皮膚に塗布した際に油性感を抑え、軽い感触で通気性があり、エモリエント性のある独特の感触を持っていること、また、本発明の2−オクタノールのエステル誘導体は、化粧料、外用剤、塗料及びインキ組成物に利用できることを見出した。 (もっと読む)


【課題】優れた透明性を有し、現像欠陥の極めて少ない感放射線レジスト材料の添加剤用樹脂を製造するための単量体を提供する。
【解決手段】一般式(1)で示される含フッ素単量体。
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まずヒドロキシル化脂肪酸化合物を部分単独重合させること、該部分単独重合させたヒドロキシル化脂肪酸化合物とアルコールとを反応させて、中間生成物を形成すること、そして該中間生成物を酸、酸無水物またはエステルで末端封止すること、によって2級ヒドロキシ脂肪酸オリゴマーのエステルを製造する。2級ヒドロキシ脂肪酸オリゴマーのエステルは下記:(3)で表され、式中Rは6から12個の炭素原子を含有するアルキル基であり、R1は水素またはメチル基であり、xは8〜12の範囲の整数であり、nは1〜20の整数であり、R2は1〜20個の炭素原子を含有するアルキル基であり、そしてR3は1〜12個の炭素原子を含有するアルキル基である。

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【課題】300nm以下の波長の高エネルギー線又は電子線を用いてパターンを形成するレジスト組成物、および液浸リソグラフィーにおけるトップコート組成物に使用する樹脂であって、撥水性、特に後退接触角の大きい樹脂を提供する。
【解決手段】 下記一般式(2)で示される繰り返し単位(a)を含む質量平均分子量1,000〜1,000,000の含フッ素高分子化合物。
【化】


(式中、R1は、重合性二重結合含有基を表し、
2は、フッ素原子または含フッ素アルキル基を表し、
8は、置換もしくは非置換のアルキル基などを表し、
1は、単結合、非置換もしくは置換メチレン基などを表す。 (もっと読む)


【課題】本発明は、医薬品中間体として有用な光学活性3−ヒドロキシプロピオン酸エステル誘導体を安価な原料から簡便に製造できる方法を提供する。
【解決手段】本発明は、安価に入手可能な酢酸エステル誘導体と塩基及び蟻酸エステルとを反応させて、2−ホルミル酢酸エステル誘導体に変換した後、前記誘導体のホルミル基を立体選択的に還元する能力を有する酵素源を用いて、前記誘導体のホルミル基を立体選択的に還元することにより、光学活性3−ヒドロキシプロピオン酸エステル誘導体を製造する方法である。 (もっと読む)


本発明はビタミンD受容体賦活剤である化合物、このような化合物を含む組成物、このような化合物および組成物の使用方法、このような化合物の調製方法並びにこのような方法の最中に得られる中間体に関する。 (もっと読む)


【課題】生分解性及び粘度を制御できる液状エステル化合物を提供する。
【解決手段】下記式(1)又は(2)で表される液状エステル化合物。


(式中、Rは炭素数4〜18のアルキル基であり、Rはそれぞれ炭素数6〜20のアルキル基であり、Rは炭素数2〜12の、2価〜4価の炭化水素基である。nは1〜10であり、mは2〜4である。) (もっと読む)


一般式(I)の4−アミノブタ−2−エノリド化合物を調製する方法が開示されており、ここで、該方法は、一般式(II)の化合物を一般式(III)のアミンと反応させることを特徴とする。

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【課題】レジスト材料のベース樹脂用の単量体を提供する。
【解決手段】式(1)で示される含フッ素単量体。


(R1はH、又はC1〜20の1価炭化水素基を示し、1価炭化水素基の場合、構成する−CH2−が−O−又は−C(=O)−に置換されていてもよい。R2はH、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。R3、R4はH、又はC1〜8の1価炭化水素基を示す。又は、R3、R4は互いに結合してこれらが結合する炭素原子と共に脂肪族炭化水素環を形成してもよい。Aは、C1〜6の2価炭化水素基を示す。)含フッ素単量体は、機能性材料、感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための単量体として有用である。単量体からの高分子化合物は高解像性、耐水性に優れ、レジスト材料のベース樹脂として精密な微細加工に極めて有効である。 (もっと読む)


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