二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン
二酸化チタンの芯材と二酸化ケイ素のコーティングを有する粒子からなる粉末であって、該粉末が０．５〜４０質量％の二酸化ケイ素含量を有し、５〜３００ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有し、かつ二酸化ケイ素のコーティングおよび二酸化チタンの芯材を有する一次粒子から構成されている、二酸化チタンの芯材と二酸化ケイ素のコーティングを有する粒子からなる粉末。この粉末は、蒸発可能なケイ素化合物と蒸発可能なチタン化合物を生成物中でのその後の望ましいＳｉＯ２とＴｉＯ２との比に相応する量で混合し、２００℃以下の温度で蒸発させ、水素および空気または酸素に富んだ空気と一緒に不活性ガス流により公知のバーナーの中央管（芯材）中に移動させ、この反応混合物をバーナーの開口で点火し、第２の空気と一緒に導入し、冷却された火炎管中で燃焼させ、引続き二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粉末をガス状の反応生成物から分離し、必要に応じて湿潤空気中で付着塩化水素から遊離し、この場合第１の空気と第２の空気との比は、０．３より大きく、芯材の水素と第２の空気との比は、１より大きく、二酸化チタン前駆体と第２の空気との比は、０．５より大きいことによって特徴付けられる方法によって製造される。粉末を０．０１〜２５質量％の量で含有する日焼け止め剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、二酸化ケイ素のコーティングで被覆され、焔内加水分解によって製造された二酸化チタン粉末、該粉末を含有する分散液ならびに該粉末および該分散液を製造するための方法に関する。また、本発明は、粉末および分散液の使用を提供する。
【０００２】
金属酸化物、例えば二酸化チタンまたは酸化亜鉛は、日焼け止め剤において広範囲で使用されている。この日焼け止め剤の作用は、基本的に有害なＵＶ線の反射、散乱および吸収を含み、実質的に金属酸化物の一次粒径に依存する。
【０００３】
金属酸化物、例えば二酸化チタンまたは酸化亜鉛を用いる欠点は、金属酸化物の光触媒活性にあり、この光触媒活性により、日焼け止め剤の成分中での変化をまねきうる反応が誘発される。
【０００４】
例えば、金属酸化物をコーティングで被覆することによって、ＵＶスクリーニング特性を減少させることなく、金属酸化物の光触媒活性を減少させることが試みられた。
【０００５】
二酸化チタン粉末を二酸化ケイ素で被覆することは、公知である。概して、二酸化チタン粒子は、液状媒体中で分散され、コーティング成分は、ケイ酸塩の形で添加され、ケイ酸は、二酸化チタン粒子の表面上に沈殿される。更に、このケイ酸は、熱処理法によって処理されることができる。ケイ酸塩の代わりに、有機ケイ素化合物が使用されてもよい。
【０００６】
欧州特許出願公開第０９８８８５３号明細書には、二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粒子、ならびにこの二酸化チタン粒子の製造および日焼け止め剤中の成分としての二酸化チタンの使用が記載されている。
【０００７】
前記粒子を用いた場合に欠点は、前記粒子の表面官能性が低いことおよび粒子の成長度が高いことにある。一面で、この欠点は、化粧配合物中での粒子の配合を複雑化し、他面、粒子の安定性を沈殿に関連して制限する。
【０００８】
前記欠点は、２００２年８月８日に出願日の欧州特許出願第０１１１９１０８．７号においては殆んど克服されている。この欧州特許出願に記載されている、二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粒子は、化粧配合物中に簡単に配合されることができ、この化粧配合物中で安定性であり、低い光触媒活性を有する。
【０００９】
しかし、コーティングが液相から塗布されるような方法を用いた場合の欠点は、再現精度を留めていることである。二酸化チタン粉末は、液状の分散相中で凝集物を形成する傾向にある。付加的に有利に使用される焔内加水分解によって製造された二酸化チタンは、凝集された構造を示す。これは、コーティングがそのつど凝集物および／または凝集塊を包囲することを意味する。しかし、凝集物および凝集塊の構造は、反応中の条件、例えばｐＨ値または分散エネルギーに著しく依存する。それ故に、再現可能な方法で均一な粉末を得ることは、困難である。
【００１０】
コーティングを液状媒体から塗布するような方法以外に、二酸化ケイ素で塗布された二酸化チタン粒子を気相反応で製造するような方法も存在する。
【００１１】
HungおよびKatz（米国特許第５２６８３３７号明細書）およびJ. Mater. Res. 7, 1861 (1992)）は、焔内加水分解法で二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粒子を製造することを記載している。この目的のために、バーナーが使用され、この場合、二酸化チタンの前駆体および二酸化ケイ素は、燃料ガスおよび流れ１としての不活性ガスおよび流れ２としての酸化ガスと一緒に向流で供給され、拡散火炎は、２つの流れの衝突点で点火される。四塩化チタンおよび四塩化ケイ素が前駆体として１：１〜３：１のＳｉＣｌ４対ＴｉＣｌ４の比で使用され、火炎温度は、５００゜Ｋ〜２３００゜Ｋである場合には、完全な二酸化ケイ素コーティングが形成される。二酸化チタン芯材は、これに関連してルチル型の配置で存在する。二酸化ケイ素の割合が少ない場合には、二酸化チタン表面上での二酸化ケイ素領域が形成される。
【００１２】
この方法を用いた場合の欠点は、向流拡散火炎を有するバーナーが経済的に動作される大型のバーナーと適合させることが困難であることにある。もう１つの欠点は、完全に形成されたコーティングを得るために必要とされる二酸化ケイ素前駆体の割合が大きいことである。
【００１３】
二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粒子を製造するための他の可能な方法は、少なくとも１３００℃の温度で管状反応器中で酸素を用いての熱分解可能な二酸化チタン前駆体および熱分解可能な二酸化ケイ素前駆体の、ＷＯ ９６／３６４４１に記載された気相酸化である。この場合には、何はともあれ、二酸化チタン粒子の形成と共に二酸化チタン前駆体の酸化が行なわれ、次に二酸化ケイ素前駆体のみが反応混合物に添加される。
【００１４】
この方法の欠点は、管状反応器の使用により、不均一な生成物が生じることにある。これは、二酸化チタンの前駆体の加水分解によって形成された二酸化チタン粒子の滞留時間が管状反応器中で均一ではなく、それ故に、変化する構造を有する二酸化チタン芯材が生じる。
【００１５】
更に、この二酸化チタン粒子は、反応器の横断面に亘っての不均一な滞留時間のために二酸化ケイ素で均一には被覆されない。結果は、二酸化チタン芯材および二酸化ケイ素コーティングに関連して不均一な生成物である。付加的に、反応条件下でこの生成物中に配合されることができる、反応器壁上での未定義の生成物の付着力は、考慮に入れなければならないという事実が存在する。従って、ＷＯ ９６／３６４４１に記載の方法は、均一な生成物を得るのに有利な方法であることを証明するものではない。
【００１６】
本発明の目的は、公知技術水準の欠点を有しない、二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粉末を提供することである。殊に、本発明の目的は、著しく均一な厚さの完全な二酸化ケイ素コーティングおよび低い光触媒活性を有するはずであり、再現可能な方法で製造されうるはずである。
【００１７】
従って、本発明は、二酸化チタンの芯材と二酸化ケイ素のコーティングを有する粒子からなる粉末を提供し、この場合には、
該粉末が０．５〜４０質量％の二酸化ケイ素含量を有し、
該粉末が５〜３００ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有し、
該粉末が二酸化ケイ素のコーティングおよび二酸化チタンの芯材を有する一次粒子から構成されていることによって特徴付けられる。
【００１８】
本発明による粉末中での二酸化ケイ素の含量は、０．５〜４０質量％である。０．５質量％未満の値を用いた場合には、完全に閉鎖された二酸化ケイ素コーティングが存在することを保証することができない。４０質量％を上廻る値を用いた場合には、二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粉末は、低すぎるＵＶ吸収を有する傾向にある。本発明による粉末のＢＥＴ表面積は、ＤＩＮ ６６１３１により定められる。
【００１９】
一次粒子は、化学結合を破断することなしではさらに分解されることができない極めて小さな粒子を示すことができる。
【００２０】
この一次粒子は、一緒に成長することができ、凝集物を形成する。凝集物は、この凝集物の表面積が、結合されている一次粒子の表面積の総和よりも小さいという事実によって特徴付けられている。更に、凝集物は、分散の際に一次粒子へ完全には分解されない。小さいＢＥＴ表面積を有する本発明による粉末は、全体的にかまたは大部分が凝集されていない一次粒子の形で存在することができ、一方、大きいＢＥＴ表面積を有する本発明による粉末は、比較的高い凝集度を有することができるかまたは完全に凝集された形で存在することができる。
【００２１】
凝集物は、好ましくは二酸化ケイ素コーティングによって一緒に成長する一次粒子から構成されている。このような凝集物の構造を基礎とする本発明による粉末は、特に低い光活性および高い吸収率を示す。
【００２２】
付加的に、本発明による粉末は、好ましくは１〜２０質量％の二酸化ケイ素含量を有することができる。
【００２３】
本発明による粉末の二酸化チタン芯材のルチル型変態／アナターゼ型変態の比は、広い範囲内で変動可能である。従って、ルチル型変態／アナターゼ型変態の比は、１：９９〜９９：１、好ましくは１０：９０〜９０：１０であることができる。二酸化チタン変態は、異なる光活性度を示す。コーティングの二酸化ケイ素含量と共に、ルチル型変態／アナターゼ型変態の比の広い範囲のために、粉末は、例えば日焼け止め剤への使用のために特に選択されることができる。
【００２４】
本発明による粉末は、好ましくは３２０ｎｍで少なくとも９５％、特に好ましくは少なくとも９７％の吸収率を有することができ、３６０ｎｍでは、有利に少なくとも９０％、特に有利に少なくとも９２％の吸収率を有することができる。吸収率は、そのつど３質量％の固体含量を有する粉末の水性分散液中で測定される。
【００２５】
本発明による粉末は、好ましくは０．５未満、特に好ましくは０．３未満の光活性度を有することができる。
【００２６】
光活性度の測定において、測定することができる試料は、２−プロパノール中で懸濁され、ＵＶ光で１時間照射される。更に、形成されるアセトンの濃度は、測定される。
【００２７】
光活性度は、粉末を使用した場合に測定されるアセトン濃度と二酸化チタンＰ２５、Degussa社からの熱分解により製造された二酸化チタン、を使用した場合に測定されるアセトン濃度との商である。
【００２８】
ｍｇ／ｋｇでのアセトン濃度は、試料の光触媒活性の測定値として使用されることができる。それというのも、アセトンの形成は、等式ｄｃ［Ａｃ］／ｄｔ＝ｋによる零次反応（zero order kinetics）によって記載されうるからである。
【００２９】
本発明による粉末の等電点（ＩＥＰ）は、１〜４、特に有利に２〜３のｐＨ値である。
【００３０】
それによって、安定した分散液は、例えば日焼け止め剤にとって重要なｐＨ５〜７の範囲内で製造されることができる。コーティングなしの二酸化チタン粒子は、他の添加剤が分散液に添加されない場合には、前記のｐＨ範囲内で不安定な分散液を生じる。
【００３１】
ＩＥＰは、零電位が零である場合のｐＨ値を示す。二酸化チタンの場合のＩＥＰは、約５〜６のｐＨであり、二酸化ケイ素の場合には、約２〜４のｐＨである。粒子が酸性基または塩基性基を表面上に運搬する分散液においては、電荷は、ｐＨ値を調節することによって変えることができる。ｐＨ値とＩＥＰとの差がよりいっそう大きくなれば、分散液は、ますます安定性になる。
【００３２】
ゼータ電位は、粒子の表面電荷の測定値である。ゼータ電位は、分散液中の本発明による粉末の粒子と電解質とから構成されている電気化学的二重層内の剪断平面での電位を表わす。ゼータ電位は、なかんずく粒子、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタンまたは二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタンの性質に依存する。同じ材料の粒子は、表面電荷の同じ徴候を有し、したがって互いに反発し合う。しかしながら、ゼータ電位が小さすぎる場合には、斥力は、粒子のファンデルワールス引力を補償するには十分でなく、粒子の凝集および場合により沈降を生じる。
【００３３】
本発明による粉末のゼータ電位は、水性分散液中で測定される。
【００３４】
更に、本発明による粉末は、好ましくは４０〜１２０ｍ２／ｇ、特に好ましくは６０〜７０ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有する。
【００３５】
また、本発明は、本発明による粉末の製造方法を提供し、この方法は、蒸発可能なケイ素化合物と蒸発可能なチタン化合物を生成物中でのその後の望ましいＳｉＯ２とＴｉＯ２との比に相応する量で混合し、２００℃以下の温度で蒸発させ、水素および空気または酸素に富んだ空気と一緒に不活性ガス流により公知のバーナーの中央管（芯材）中に移動させ、この反応混合物をバーナーの開口で点火し、第２の空気と一緒に導入し、冷却された火炎管中で燃焼させ、引続き二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粉末をガス状の反応生成物から分離し、必要に応じて湿潤空気中で付着塩化水素から遊離し、この場合
第１の空気と第２の空気との比は、０．３より大きく、
芯材の水素と第２の空気との比は、１より大きく、
二酸化チタン前駆体と第２の空気との比は、０．５より大きいことによって特徴付けられている。
【００３６】
本発明による粉末は、規定された全てのパラメーターが守られている場合にのみ得られる。変動が存在する場合には、本発明によらない粉末および粉末混合物が得られる。従って、例えば第２の空気の付加がなく、第２の空気と第１の空気／芯材の水素／二酸化チタン前駆体との比を観察しない場合には、ケイ素とチタンが均一に分布しているケイ素／チタン混合酸化物粉末が得られる。このような混合酸化物粉末は、ドイツ連邦共和国特許出願公開第４２３５９９６号明細書中に記載されている。
【００３７】
本発明による粉末の製造における蒸発可能なチタン化合物の型は、制限されていない。四塩化チタンは、有利に使用されてよい。
【００３８】
蒸発可能なケイ素化合物の型は、同様に制限されていない。四塩化ケイ素は、有利に使用されてよい。
【００３９】
また、本発明は、本発明による粉末を０．０１〜２５質量％の量で含有する日焼け止め剤を提供する。付加的に、本発明による日焼け止め剤は、公知の無機ＵＶ吸収性顔料および／または化学的ＵＶフィルターとの混合物で使用されてよい。
【００４０】
適当な公知のＵＶ吸収性顔料は、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、硫酸バリウムまたはこれらの混合物を含む。
【００４１】
化学的ＵＶフィルターとして、当業者に公知の全ての水溶性または油溶性のＵＶ−ＡフィルターおよびＵＶ−Ｂフィルターを使用することができる。挙げることができる選択された例は、次のものを含む：２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホネートナトリウム塩、ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノン、ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノンスルホネートナトリウム塩、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ｐ−アミノ安息香酸、エチル−ｐ−アミノベンゾエート、グリセリル−ｐ−アミノベンゾエート、アミル−ｐ−ジメチルアミノベンゾエート、オクチル−ｐ−ジメチルアミノベンゾエート、エチル−ｐ−メトキシシンナメート、イソプロピル−ｐ−メトキシ桂皮酸エステル、オクチル−ｐ−メトキシ桂皮酸エステル、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシ桂皮酸エステル、ｐ−メトキシ桂皮酸エステルナトリウム塩、グリセリル−ジ−ｐ−メトキシ桂皮酸エステル、モノ−２−エチルヘキサノエート、オクチルサリチレート、フェニルサリチレート、ホモメンチルサリチレート、ジプロピレングリコールサリチレート、エチレングリコールサリチレート、ミリスチルサリチレート、メチルサリチレート、４−第三ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタンおよび２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール。これらの中で、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシ桂皮酸エステルおよび４−第三ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタンは、これらの化合物のＵＶ保護およびこれらの化合物が皮膚にとって無害であるという事実のために好ましい。
【００４２】
更に、本発明による日焼け止め剤は、当業者に公知の溶剤、例えば水、一価アルコールまたは多価アルコール、整髪油、乳化剤、安定剤、コンシステンシー調節剤、例えばカルボマー、セルロース誘導体、キサンタムガム、ろう、ベントン（bentone）、熱分解法ケイ酸および美容術で常用される他の物質、例えばビタミン、酸化防止剤、防腐剤、着色剤および香料を含有することができる。
【００４３】
典型的には、本発明による日焼け止め剤は、乳濁液（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏまたは多重）、水性ゲルもしくは水性アルコール性ゲルまたは油性ゲルとして存在することができ、ローション剤、クリーム剤、ミルクスプレー剤（milk sprays）、ムース剤の形で、スティックとして、かまたは他の常用の形で存在することができる。
【００４４】
更に、日焼け止め剤の一般の構造式および処方は、A. Domsch, "Die kosmetischen Praeparate", Verlag fuer chemische Industrie (編者：H. Ziolkowsky), 第4版, 1992またはN.J. LoweおよびN.A. Shaat, Sunscreens, Development, Evaluation and Regulatory Aspects, Marcel Dekker Inc., 1990に記載されている。
【００４５】
付加的に、本発明は、ＵＶフィルターとしての本発明による粉末の使用、ならびに分散液の製造および化学機械研磨（ＣＭＰ法）への使用を提供する。
【００４６】
本発明による方法は、二酸化ケイ素で完全に被覆された二酸化チタン粒子の製造を可能にし、この場合には、少量の二酸化ケイ素前駆体のみが必要とされる。製造が熱分解法で実施される公知方法を用いた場合には、完全なコーティングを達成させるために、実質的に大量の二酸化ケイ素前駆体が必要とされる。更に、これは、公知技術水準による粉末のＵＶ吸収を減少させる。
【００４７】
また、一次粒子が既にシールされたコーティングを有するような本発明による粉末の独特の構造は、一次粒子の予想される凝集の場合に二酸化チタン芯材の凝集を全く生じないことを意味する。水性媒体中で二酸化チタン芯材を被覆することによって得られる公知の粉末を用いた場合には、概して初期の二酸化チタン粉末の凝集が存在するか、または最初から凝集された粉末が使用される。こうして、前記方法においては、凝集物が被覆され、本発明による方法の場合とは異なり一次粒子を被覆しない。
【００４８】
ドイツ連邦共和国特許出願公開第４２３５９９６号明細書の記載から公知の事実を基礎にして、完全に異なる粉末が、使用されるガスの残分に対して特殊に定義された比で第２の空気を添加することによって形成されるであろうことは、予想できることではなかった。ドイツ連邦共和国特許出願公開第４２３５９９６号明細書中に記載の方法が二酸化チタンおよび二酸化ケイ素の均一な分布を有する混合酸化物粉末を生じるのに対して、本発明による方法は、二酸化ケイ素の完全なコーティングおよび二酸化チタンの芯材を有する粉末を生じる。
【００４９】
実施例
分析による測定
二酸化チタンおよび二酸化ケイ素の含量は、Ｘ線蛍光分析により測定される。
【００５０】
ＢＥＴ表面積は、ＤＩＮ ６６１３１により測定される。
【００５１】
ジブチルフタレート吸収率（ＤＢＰ数）は、Haake社, Karlsruhe在からのRHEOCORD 90機器を用いて測定される。この目的のために、二酸化チタン粉末１６ｇは、０．００１ｇの精度で計量供給され、蓋で閉鎖されている混練室に添加され、この場合には、この混練室中にジブチルフタレートは、０．０６６７ｍｌ／秒の予め定められた計量速度で蓋中の穴を通して計量供給される。混練機は、１２５ｒｐｍのモータ速度で運転される。最大のトルクに混練機が達した後に、ＤＢＰ計量供給装置は、自動的にスイッチオフされる。ＤＢＰ吸収量は、以下のようにＤＢＰの消費量および粒子の計量供給量から計算される：
ＤＢＰ数（ｇ／１００ｇ）＝（ＤＢＰの消費量ｇ／粉末の計量供給量ｇ）×１００。
【００５２】
ｐＨ値は、ＤＩＮ ＩＳＯ７８７／ＩＸ、ＡＳＴＭ Ｄ １２８０、ＪＩＳ Ｋ ５１０１／２４により測定される。
【００５３】
光活性度の測定：実施例および比較例から得られた粒子約２５０ｍｇ（精度０．１ｍｇ）は、ウルトラターラックス（Uitra Turrax）撹拌機を用いて２−プロパノール３５０ｍｌ（２７５．１ｇ）中に懸濁される。この懸濁液は、ポンプを用いて２４℃にサーモスタット制御された冷却器を通して、先に酸素でフラッシュされたガラス光反応器中に運搬される。
【００５４】
５００ワットの出力を有するＨｇ中圧ＴＱ７１８型液浸ランプ（Heraeus）は、例えば照射源として使用される。ホウケイ酸塩ガラスの保護管は、放出される放射線を３００ｎｍを上廻る波長に制限する。照射源は、水が貫流する冷却管によって外部から取り囲まれている。
【００５５】
酸素は、流量計を通して反応器中に計量供給される。反応は、照射源がスイッチオンされた時に開始される。反応の終結時に、少量の懸濁液は、直ちに除去され、濾過され、ガスクロマトグラフィーによって分析される。
【００５６】
ＵＶ可視スペクトル（吸収）は、光度計球面を備えた、Specord 200 UVの可視範囲の分光光度計を用いて３質量％の分散液中で測定される（Analytikjena AG）。
【００５７】
ゼータ電位および等電点は、ＤＶＩ法により本発明による粉末の１０％水性分散液中でDispersion Technology Inc.からのＤＴ−１２００型を用いて測定される。
【００５８】
例１：
ＴｉＣｌ４３．８６ｋｇ／時およびＳｉＣｌ４０．３３２ｋｇ／時を蒸発器中で約２００℃で蒸発させる。蒸気を窒素により、水素１．４５Ｎｍ３／時および乾燥した空気７．８Ｎｍ３／時と一緒に、公知のデザインおよび構成のバーナーの混合室中で混合し、水冷却された火炎管に中央管を通して供給し、この中央管の端部で反応混合物を点火し、中央管で反応混合物を燃焼させる。付加的に、水素０．９Ｎｍ３／時および空気２５Ｎｍ３／時を、中央管を同心的に包囲するジャケット管を通して火炎管に供給する。
【００５９】
次に形成された粉末をフィルター中で分離する。この粉末を湿潤空気で約５００〜７００℃で処理することによって、付着する塩化物を除去する。この粉末は、二酸化チタン９２質量％および二酸化ケイ素８質量％を含有する。
【００６０】
例２〜５を例１と同様に実施する。バッチ量の大きさおよび試験条件は、第１表中に記載されており、本発明による粉末の物理化学的性質は、第２表中に記載されている。
【００６１】
例１〜５の粉末のＴＥＭ−ＥＤＸによる評価は、完全な二酸化ケイ素コーティングおよび二酸化チタン芯材を有する、大きく凝集された粉末を示す。図１は、例１からの粉末のＴＥＭ画像を示す。凝集物は、粉末中に存在し、一次粒子は、二酸化ケイ素コーティングにより互いに成長しながら形成される。ＢＥＴ表面積は、６６ｍ２／ｇである。Ｘ線回折分析は、２６：７４の芯材中でのルチル型変態／アナターゼ型変態の比を示す。
【００６２】
図２は、二酸化チタン（Degussa社からのＰ２５ ＴｉＯ２）と比較した例１〜３の本発明による粉末のゼータ電位曲線を示す。二酸化ケイ素の含量が増加するにつれて、等電点は、低いｐＨ値に向かって変位し、例１〜３の粉末の低いＳｉＯ２含量であっても３未満のｐＨ範囲にあることを認めることができる。等電点は、分散液の安定性にとって重要なパラメーターであるので、本発明による粉末を少量の二酸化ケイ素で約５〜７の生理的に適切なｐＨ範囲で安定化することが可能である。二酸化チタンの分散液は、この範囲内で最も低い安定性を示す。
【００６３】
例１〜３の本発明による粉末は、Degussa社からの熱分解法で製造されたＰ２５二酸化チタンよりも著しく低い感光度を示す。
【００６４】
例１〜３からの本発明による粉末は、極めて高いＵＶ吸収量を示し、このＵＶ吸収量は、３２０ｎｍで９７％より大きく、３６０ｎｍで９０％より大きい。
【００６５】
高いＵＶ吸収量および低い感光度により、本発明による粉末は、日焼け止め配合物にとって理想的に適している。
【００６６】
例１〜３の本発明による粉末のＤＢＰ吸収量は、僅かであるかまたは測定不可能である。これは、粉末の互いの成長度が低いことを示す。
【００６７】
例６：日焼け止め剤
例１の本発明による粉末４質量％を含有する日焼け止め剤を次の処方により調製した（質量％での括弧内の値）。相Ａ：Isolan GI 34 (３．０)、カスター油（１．２）、Tegesoft OP（１０．０）、Tegesoft Liquid（５．０）、グリセロール８６％（３．０）、相Ｂ：Paracera W80（１．８）、イソヘキサデカン（５．０）、相Ｃ：例１の本発明による粉末（４．０）、相Ｄ：硫酸マグネシウム（０．５）、十分に脱イオンされた水（６６．５）。
【００６８】
相Ａを混合装置中で７０℃に加熱する。相Ｂを電磁加熱板上で８０℃で溶融し、次に相Ａに添加する。相Ｃを約３００ｒｐｍで真空下に油相中に攪拌混入する。また、相Ｄを７０℃に加熱し、真空下でＡ〜Ｃの混合物に添加する。
【００６９】
【表１】
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】例１からの粉末のＴＥＭ画像を示す略図。
【図２】二酸化チタン（Degussa社からのＰ２５ ＴｉＯ２）と比較した例１〜３の本発明による粉末のゼータ電位曲線を示す線図。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、二酸化ケイ素のコーティングで被覆され、焔内加水分解によって製造された二酸化チタン粉末、該粉末を含有する分散液ならびに該粉末および該分散液を製造するための方法に関する。また、本発明は、粉末および分散液の使用を提供する。
【０００２】
金属酸化物、例えば二酸化チタンまたは酸化亜鉛は、日焼け止め剤において広範囲で使用されている。この日焼け止め剤の作用は、基本的に有害なＵＶ線の反射、散乱および吸収を含み、実質的に金属酸化物の一次粒径に依存する。
【０００３】
金属酸化物、例えば二酸化チタンまたは酸化亜鉛を用いる欠点は、金属酸化物の光触媒活性にあり、この光触媒活性により、日焼け止め剤の成分中での変化をまねきうる反応が誘発される。
【０００４】
例えば、金属酸化物をコーティングで被覆することによって、ＵＶスクリーニング特性を減少させることなく、金属酸化物の光触媒活性を減少させることが試みられた。
【０００５】
二酸化チタン粉末を二酸化ケイ素で被覆することは、公知である。概して、二酸化チタン粒子は、液状媒体中で分散され、コーティング成分は、ケイ酸塩の形で添加され、ケイ酸は、二酸化チタン粒子の表面上に沈殿される。更に、このケイ酸は、熱処理法によって処理されることができる。ケイ酸塩の代わりに、有機ケイ素化合物が使用されてもよい。
【０００６】
欧州特許出願公開第０９８８８５３号明細書には、二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粒子、ならびにこの二酸化チタン粒子の製造および日焼け止め剤中の成分としての二酸化チタンの使用が記載されている。
【０００７】
前記粒子を用いた場合に欠点は、前記粒子の表面官能性が低いことおよび粒子の成長度が高いことにある。一面で、この欠点は、化粧配合物中での粒子の配合を複雑化し、他面、粒子の安定性を沈殿に関連して制限する。
【０００８】
前記欠点は、２００２年８月８日に出願日の欧州特許出願第０１１１９１０８．７号においては殆んど克服されている。この欧州特許出願に記載されている、二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粒子は、化粧配合物中に簡単に配合されることができ、この化粧配合物中で安定性であり、低い光触媒活性を有する。
【０００９】
しかし、コーティングが液相から塗布されるような方法を用いた場合の欠点は、再現精度を留めていることである。二酸化チタン粉末は、液状の分散相中で凝集物を形成する傾向にある。付加的に有利に使用される焔内加水分解によって製造された二酸化チタンは、凝集された構造を示す。これは、コーティングがそのつど凝集物および／または凝集塊を包囲することを意味する。しかし、凝集物および凝集塊の構造は、反応中の条件、例えばｐＨ値または分散エネルギーに著しく依存する。それ故に、再現可能な方法で均一な粉末を得ることは、困難である。
【００１０】
コーティングを液状媒体から塗布するような方法以外に、二酸化ケイ素で塗布された二酸化チタン粒子を気相反応で製造するような方法も存在する。
【００１１】
HungおよびKatz（米国特許第５２６８３３７号明細書）およびJ. Mater. Res. 7, 1861 (1992)）は、焔内加水分解法で二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粒子を製造することを記載している。この目的のために、バーナーが使用され、この場合、二酸化チタンの前駆体および二酸化ケイ素は、燃料ガスおよび流れ１としての不活性ガスおよび流れ２としての酸化ガスと一緒に向流で供給され、拡散火炎は、２つの流れの衝突点で点火される。四塩化チタンおよび四塩化ケイ素が前駆体として１：１〜３：１のＳｉＣｌ４対ＴｉＣｌ４の比で使用され、火炎温度は、５００゜Ｋ〜２３００゜Ｋである場合には、完全な二酸化ケイ素コーティングが形成される。二酸化チタン芯材は、これに関連してルチル型の配置で存在する。二酸化ケイ素の割合が少ない場合には、二酸化チタン表面上での二酸化ケイ素領域が形成される。
【００１２】
この方法を用いた場合の欠点は、向流拡散火炎を有するバーナーが経済的に動作される大型のバーナーと適合させることが困難であることにある。もう１つの欠点は、完全に形成されたコーティングを得るために必要とされる二酸化ケイ素前駆体の割合が大きいことである。
【００１３】
二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粒子を製造するための他の可能な方法は、少なくとも１３００℃の温度で管状反応器中で酸素を用いての熱分解可能な二酸化チタン前駆体および熱分解可能な二酸化ケイ素前駆体の、ＷＯ ９６／３６４４１に記載された気相酸化である。この場合には、何はともあれ、二酸化チタン粒子の形成と共に二酸化チタン前駆体の酸化が行なわれ、次に二酸化ケイ素前駆体のみが反応混合物に添加される。
【００１４】
この方法の欠点は、管状反応器の使用により、不均一な生成物が生じることにある。これは、二酸化チタンの前駆体の加水分解によって形成された二酸化チタン粒子の滞留時間が管状反応器中で均一ではなく、それ故に、変化する構造を有する二酸化チタン芯材が生じる。
【００１５】
更に、この二酸化チタン粒子は、反応器の横断面に亘っての不均一な滞留時間のために二酸化ケイ素で均一には被覆されない。結果は、二酸化チタン芯材および二酸化ケイ素コーティングに関連して不均一な生成物である。付加的に、反応条件下でこの生成物中に配合されることができる、反応器壁上での未定義の生成物の付着力は、考慮に入れなければならないという事実が存在する。従って、ＷＯ ９６／３６４４１に記載の方法は、均一な生成物を得るのに有利な方法であることを証明するものではない。
【００１６】
本発明の目的は、公知技術水準の欠点を有しない、二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粉末を提供することである。殊に、本発明の目的は、著しく均一な厚さの完全な二酸化ケイ素コーティングおよび低い光触媒活性を有するはずであり、再現可能な方法で製造されうるはずである。
【００１７】
従って、本発明は、二酸化チタンの芯材と二酸化ケイ素のコーティングを有する粒子からなる粉末を提供し、この場合には、
該粉末が０．５〜４０質量％の二酸化ケイ素含量を有し、
該粉末が５〜３００ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有し、
該粉末が二酸化ケイ素のコーティングおよび二酸化チタンの芯材を有する一次粒子から構成されていることによって特徴付けられる。
【００１８】
本発明による粉末中での二酸化ケイ素の含量は、０．５〜４０質量％である。０．５質量％未満の値を用いた場合には、完全に閉鎖された二酸化ケイ素コーティングが存在することを保証することができない。４０質量％を上廻る値を用いた場合には、二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粉末は、低すぎるＵＶ吸収を有する傾向にある。本発明による粉末のＢＥＴ表面積は、ＤＩＮ ６６１３１により定められる。
【００１９】
一次粒子は、化学結合を破断することなしではさらに分解されることができない極めて小さな粒子を示すことができる。
【００２０】
この一次粒子は、一緒に成長することができ、凝集物を形成する。凝集物は、この凝集物の表面積が、結合されている一次粒子の表面積の総和よりも小さいという事実によって特徴付けられている。更に、凝集物は、分散の際に一次粒子へ完全には分解されない。小さいＢＥＴ表面積を有する本発明による粉末は、全体的にかまたは大部分が凝集されていない一次粒子の形で存在することができ、一方、大きいＢＥＴ表面積を有する本発明による粉末は、比較的高い凝集度を有することができるかまたは完全に凝集された形で存在することができる。
【００２１】
凝集物は、好ましくは二酸化ケイ素コーティングによって一緒に成長する一次粒子から構成されている。このような凝集物の構造を基礎とする本発明による粉末は、特に低い光活性および高い吸収率を示す。
【００２２】
付加的に、本発明による粉末は、好ましくは１〜２０質量％の二酸化ケイ素含量を有することができる。
【００２３】
本発明による粉末の二酸化チタン芯材のルチル型変態／アナターゼ型変態の比は、広い範囲内で変動可能である。従って、ルチル型変態／アナターゼ型変態の比は、１：９９〜９９：１、好ましくは１０：９０〜９０：１０であることができる。二酸化チタン変態は、異なる光活性度を示す。コーティングの二酸化ケイ素含量と共に、ルチル型変態／アナターゼ型変態の比の広い範囲のために、粉末は、例えば日焼け止め剤への使用のために特に選択されることができる。
【００２４】
本発明による粉末は、好ましくは３２０ｎｍで少なくとも９５％、特に好ましくは少なくとも９７％の吸収率を有することができ、３６０ｎｍでは、有利に少なくとも９０％、特に有利に少なくとも９２％の吸収率を有することができる。吸収率は、そのつど３質量％の固体含量を有する粉末の水性分散液中で測定される。
【００２５】
本発明による粉末は、好ましくは０．５未満、特に好ましくは０．３未満の光活性度を有することができる。
【００２６】
光活性度の測定において、測定することができる試料は、２−プロパノール中で懸濁され、ＵＶ光で１時間照射される。更に、形成されるアセトンの濃度は、測定される。
【００２７】
光活性度は、粉末を使用した場合に測定されるアセトン濃度と二酸化チタンＰ２５、Degussa社からの熱分解により製造された二酸化チタン、を使用した場合に測定されるアセトン濃度との商である。
【００２８】
ｍｇ／ｋｇでのアセトン濃度は、試料の光触媒活性の測定値として使用されることができる。それというのも、アセトンの形成は、等式ｄｃ［Ａｃ］／ｄｔ＝ｋによる零次反応（zero order kinetics）によって記載されうるからである。
【００２９】
本発明による粉末の等電点（ＩＥＰ）は、１〜４、特に有利に２〜３のｐＨ値である。
【００３０】
それによって、安定した分散液は、例えば日焼け止め剤にとって重要なｐＨ５〜７の範囲内で製造されることができる。コーティングなしの二酸化チタン粒子は、他の添加剤が分散液に添加されない場合には、前記のｐＨ範囲内で不安定な分散液を生じる。
【００３１】
ＩＥＰは、零電位が零である場合のｐＨ値を示す。二酸化チタンの場合のＩＥＰは、約５〜６のｐＨであり、二酸化ケイ素の場合には、約２〜４のｐＨである。粒子が酸性基または塩基性基を表面上に運搬する分散液においては、電荷は、ｐＨ値を調節することによって変えることができる。ｐＨ値とＩＥＰとの差がよりいっそう大きくなれば、分散液は、ますます安定性になる。
【００３２】
ゼータ電位は、粒子の表面電荷の測定値である。ゼータ電位は、分散液中の本発明による粉末の粒子と電解質とから構成されている電気化学的二重層内の剪断平面での電位を表わす。ゼータ電位は、なかんずく粒子、例えば二酸化ケイ素、二酸化チタンまたは二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタンの性質に依存する。同じ材料の粒子は、表面電荷の同じ徴候を有し、したがって互いに反発し合う。しかしながら、ゼータ電位が小さすぎる場合には、斥力は、粒子のファンデルワールス引力を補償するには十分でなく、粒子の凝集および場合により沈降を生じる。
【００３３】
本発明による粉末のゼータ電位は、水性分散液中で測定される。
【００３４】
更に、本発明による粉末は、好ましくは４０〜１２０ｍ２／ｇ、特に好ましくは６０〜７０ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有する。
【００３５】
また、本発明は、本発明による粉末の製造方法を提供し、この方法は、蒸発可能なケイ素化合物と蒸発可能なチタン化合物を生成物中でのその後の望ましいＳｉＯ２とＴｉＯ２との比に相応する量で混合し、２００℃以下の温度で蒸発させ、水素および空気または酸素に富んだ空気と一緒に不活性ガス流により公知のバーナーの中央管（芯材）中に移動させ、この反応混合物をバーナーの開口で点火し、第２の空気と一緒に導入し、冷却された火炎管中で燃焼させ、引続き二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粉末をガス状の反応生成物から分離し、必要に応じて湿潤空気中で付着塩化水素から遊離し、この場合
第１の空気と第２の空気との比は、０．３より大きく、
芯材の水素と第２の空気との比は、１より大きく、
二酸化チタン前駆体と第２の空気との比は、０．５より大きいことによって特徴付けられている。
【００３６】
本発明による粉末は、規定された全てのパラメーターが守られている場合にのみ得られる。変動が存在する場合には、本発明によらない粉末および粉末混合物が得られる。従って、例えば第２の空気の付加がなく、第２の空気と第１の空気／芯材の水素／二酸化チタン前駆体との比を観察しない場合には、ケイ素とチタンが均一に分布しているケイ素／チタン混合酸化物粉末が得られる。このような混合酸化物粉末は、ドイツ連邦共和国特許出願公開第４２３５９９６号明細書中に記載されている。
【００３７】
本発明による粉末の製造における蒸発可能なチタン化合物の型は、制限されていない。四塩化チタンは、有利に使用されてよい。
【００３８】
蒸発可能なケイ素化合物の型は、同様に制限されていない。四塩化ケイ素は、有利に使用されてよい。
【００３９】
また、本発明は、本発明による粉末を０．０１〜２５質量％の量で含有する日焼け止め剤を提供する。付加的に、本発明による日焼け止め剤は、公知の無機ＵＶ吸収性顔料および／または化学的ＵＶフィルターとの混合物で使用されてよい。
【００４０】
適当な公知のＵＶ吸収性顔料は、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化鉄、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、硫酸バリウムまたはこれらの混合物を含む。
【００４１】
化学的ＵＶフィルターとして、当業者に公知の全ての水溶性または油溶性のＵＶ−ＡフィルターおよびＵＶ−Ｂフィルターを使用することができる。挙げることができる選択された例は、次のものを含む：２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホネートナトリウム塩、ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノン、ジヒドロキシジメトキシベンゾフェノンスルホネートナトリウム塩、テトラヒドロキシベンゾフェノン、ｐ−アミノ安息香酸、エチル−ｐ−アミノベンゾエート、グリセリル−ｐ−アミノベンゾエート、アミル−ｐ−ジメチルアミノベンゾエート、オクチル−ｐ−ジメチルアミノベンゾエート、エチル−ｐ−メトキシシンナメート、イソプロピル−ｐ−メトキシ桂皮酸エステル、オクチル−ｐ−メトキシ桂皮酸エステル、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシ桂皮酸エステル、ｐ−メトキシ桂皮酸エステルナトリウム塩、グリセリル−ジ−ｐ−メトキシ桂皮酸エステル、モノ−２−エチルヘキサノエート、オクチルサリチレート、フェニルサリチレート、ホモメンチルサリチレート、ジプロピレングリコールサリチレート、エチレングリコールサリチレート、ミリスチルサリチレート、メチルサリチレート、４−第三ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタンおよび２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール。これらの中で、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシ桂皮酸エステルおよび４−第三ブチル−４′−メトキシジベンゾイルメタンは、これらの化合物のＵＶ保護およびこれらの化合物が皮膚にとって無害であるという事実のために好ましい。
【００４２】
更に、本発明による日焼け止め剤は、当業者に公知の溶剤、例えば水、一価アルコールまたは多価アルコール、整髪油、乳化剤、安定剤、コンシステンシー調節剤、例えばカルボマー、セルロース誘導体、キサンタムガム、ろう、ベントン（bentone）、熱分解法ケイ酸および美容術で常用される他の物質、例えばビタミン、酸化防止剤、防腐剤、着色剤および香料を含有することができる。
【００４３】
典型的には、本発明による日焼け止め剤は、乳濁液（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏまたは多重）、水性ゲルもしくは水性アルコール性ゲルまたは油性ゲルとして存在することができ、ローション剤、クリーム剤、ミルクスプレー剤（milk sprays）、ムース剤の形で、スティックとして、かまたは他の常用の形で存在することができる。
【００４４】
更に、日焼け止め剤の一般の構造式および処方は、A. Domsch, "Die kosmetischen Praeparate", Verlag fuer chemische Industrie (編者：H. Ziolkowsky), 第4版, 1992またはN.J. LoweおよびN.A. Shaat, Sunscreens, Development, Evaluation and Regulatory Aspects, Marcel Dekker Inc., 1990に記載されている。
【００４５】
付加的に、本発明は、ＵＶフィルターとしての本発明による粉末の使用、ならびに分散液の製造および化学機械研磨（ＣＭＰ法）への使用を提供する。
【００４６】
本発明による方法は、二酸化ケイ素で完全に被覆された二酸化チタン粒子の製造を可能にし、この場合には、少量の二酸化ケイ素前駆体のみが必要とされる。製造が熱分解法で実施される公知方法を用いた場合には、完全なコーティングを達成させるために、実質的に大量の二酸化ケイ素前駆体が必要とされる。更に、これは、公知技術水準による粉末のＵＶ吸収を減少させる。
【００４７】
また、一次粒子が既にシールされたコーティングを有するような本発明による粉末の独特の構造は、一次粒子の予想される凝集の場合に二酸化チタン芯材の凝集を全く生じないことを意味する。水性媒体中で二酸化チタン芯材を被覆することによって得られる公知の粉末を用いた場合には、概して初期の二酸化チタン粉末の凝集が存在するか、または最初から凝集された粉末が使用される。こうして、前記方法においては、凝集物が被覆され、本発明による方法の場合とは異なり一次粒子を被覆しない。
【００４８】
ドイツ連邦共和国特許出願公開第４２３５９９６号明細書の記載から公知の事実を基礎にして、完全に異なる粉末が、使用されるガスの残分に対して特殊に定義された比で第２の空気を添加することによって形成されるであろうことは、予想できることではなかった。ドイツ連邦共和国特許出願公開第４２３５９９６号明細書中に記載の方法が二酸化チタンおよび二酸化ケイ素の均一な分布を有する混合酸化物粉末を生じるのに対して、本発明による方法は、二酸化ケイ素の完全なコーティングおよび二酸化チタンの芯材を有する粉末を生じる。
【００４９】
実施例
分析による測定
二酸化チタンおよび二酸化ケイ素の含量は、Ｘ線蛍光分析により測定される。
【００５０】
ＢＥＴ表面積は、ＤＩＮ ６６１３１により測定される。
【００５１】
ジブチルフタレート吸収率（ＤＢＰ数）は、Haake社, Karlsruhe在からのRHEOCORD 90機器を用いて測定される。この目的のために、二酸化チタン粉末１６ｇは、０．００１ｇの精度で計量供給され、蓋で閉鎖されている混練室に添加され、この場合には、この混練室中にジブチルフタレートは、０．０６６７ｍｌ／秒の予め定められた計量速度で蓋中の穴を通して計量供給される。混練機は、１２５ｒｐｍのモータ速度で運転される。最大のトルクに混練機が達した後に、ＤＢＰ計量供給装置は、自動的にスイッチオフされる。ＤＢＰ吸収量は、以下のようにＤＢＰの消費量および粒子の計量供給量から計算される：
ＤＢＰ数（ｇ／１００ｇ）＝（ＤＢＰの消費量ｇ／粉末の計量供給量ｇ）×１００。
【００５２】
ｐＨ値は、ＤＩＮ ＩＳＯ７８７／ＩＸ、ＡＳＴＭ Ｄ １２８０、ＪＩＳ Ｋ ５１０１／２４により測定される。
【００５３】
光活性度の測定：実施例および比較例から得られた粒子約２５０ｍｇ（精度０．１ｍｇ）は、ウルトラターラックス（Uitra Turrax）撹拌機を用いて２−プロパノール３５０ｍｌ（２７５．１ｇ）中に懸濁される。この懸濁液は、ポンプを用いて２４℃にサーモスタット制御された冷却器を通して、先に酸素でフラッシュされたガラス光反応器中に運搬される。
【００５４】
５００ワットの出力を有するＨｇ中圧ＴＱ７１８型液浸ランプ（Heraeus）は、例えば照射源として使用される。ホウケイ酸塩ガラスの保護管は、放出される放射線を３００ｎｍを上廻る波長に制限する。照射源は、水が貫流する冷却管によって外部から取り囲まれている。
【００５５】
酸素は、流量計を通して反応器中に計量供給される。反応は、照射源がスイッチオンされた時に開始される。反応の終結時に、少量の懸濁液は、直ちに除去され、濾過され、ガスクロマトグラフィーによって分析される。
【００５６】
ＵＶ可視スペクトル（吸収）は、光度計球面を備えた、Specord 200 UVの可視範囲の分光光度計を用いて３質量％の分散液中で測定される（Analytikjena AG）。
【００５７】
ゼータ電位および等電点は、ＤＶＩ法により本発明による粉末の１０％水性分散液中でDispersion Technology Inc.からのＤＴ−１２００型を用いて測定される。
【００５８】
例１：
ＴｉＣｌ４３．８６ｋｇ／時およびＳｉＣｌ４０．３３２ｋｇ／時を蒸発器中で約２００℃で蒸発させる。蒸気を窒素により、水素１．４５Ｎｍ３／時および乾燥した空気７．８Ｎｍ３／時と一緒に、公知のデザインおよび構成のバーナーの混合室中で混合し、水冷却された火炎管に中央管を通して供給し、この中央管の端部で反応混合物を点火し、中央管で反応混合物を燃焼させる。付加的に、水素０．９Ｎｍ３／時および空気２５Ｎｍ３／時を、中央管を同心的に包囲するジャケット管を通して火炎管に供給する。
【００５９】
次に形成された粉末をフィルター中で分離する。この粉末を湿潤空気で約５００〜７００℃で処理することによって、付着する塩化物を除去する。この粉末は、二酸化チタン９２質量％および二酸化ケイ素８質量％を含有する。
【００６０】
例２〜５を例１と同様に実施する。バッチ量の大きさおよび試験条件は、第１表中に記載されており、本発明による粉末の物理化学的性質は、第２表中に記載されている。
【００６１】
例１〜５の粉末のＴＥＭ−ＥＤＸによる評価は、完全な二酸化ケイ素コーティングおよび二酸化チタン芯材を有する、大きく凝集された粉末を示す。図１は、例１からの粉末のＴＥＭ画像を示す。凝集物は、粉末中に存在し、一次粒子は、二酸化ケイ素コーティングにより互いに成長しながら形成される。ＢＥＴ表面積は、６６ｍ２／ｇである。Ｘ線回折分析は、２６：７４の芯材中でのルチル型変態／アナターゼ型変態の比を示す。
【００６２】
図２は、二酸化チタン（Degussa社からのＰ２５ ＴｉＯ２）と比較した例１〜３の本発明による粉末のゼータ電位曲線を示す。二酸化ケイ素の含量が増加するにつれて、等電点は、低いｐＨ値に向かって変位し、例１〜３の粉末の低いＳｉＯ２含量であっても３未満のｐＨ範囲にあることを認めることができる。等電点は、分散液の安定性にとって重要なパラメーターであるので、本発明による粉末を少量の二酸化ケイ素で約５〜７の生理的に適切なｐＨ範囲で安定化することが可能である。二酸化チタンの分散液は、この範囲内で最も低い安定性を示す。
【００６３】
例１〜３の本発明による粉末は、Degussa社からの熱分解法で製造されたＰ２５二酸化チタンよりも著しく低い感光度を示す。
【００６４】
例１〜３からの本発明による粉末は、極めて高いＵＶ吸収量を示し、このＵＶ吸収量は、３２０ｎｍで９７％より大きく、３６０ｎｍで９０％より大きい。
【００６５】
高いＵＶ吸収量および低い感光度により、本発明による粉末は、日焼け止め配合物にとって理想的に適している。
【００６６】
例１〜３の本発明による粉末のＤＢＰ吸収量は、僅かであるかまたは測定不可能である。これは、粉末の互いの成長度が低いことを示す。
【００６７】
例６：日焼け止め剤
例１の本発明による粉末４質量％を含有する日焼け止め剤を次の処方により調製した（質量％での括弧内の値）。相Ａ：Isolan GI 34 (３．０)、カスター油（１．２）、Tegesoft OP（１０．０）、Tegesoft Liquid（５．０）、グリセロール８６％（３．０）、相Ｂ：Paracera W80（１．８）、イソヘキサデカン（５．０）、相Ｃ：例１の本発明による粉末（４．０）、相Ｄ：硫酸マグネシウム（０．５）、十分に脱イオンされた水（６６．５）。
【００６８】
相Ａを混合装置中で７０℃に加熱する。相Ｂを電磁加熱板上で８０℃で溶融し、次に相Ａに添加する。相Ｃを約３００ｒｐｍで真空下に油相中に攪拌混入する。また、相Ｄを７０℃に加熱し、真空下でＡ〜Ｃの混合物に添加する。
【００６９】
【表１】
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】例１からの粉末のＴＥＭ画像を示す略図。
【図２】二酸化チタン（Degussa社からのＰ２５ ＴｉＯ２）と比較した例１〜３の本発明による粉末のゼータ電位曲線を示す線図。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
二酸化チタンの芯材と二酸化ケイ素のコーティングを有する粒子からなる粉末において、
該粉末が０．５〜４０質量％の二酸化ケイ素含量を有し、
該粉末が５〜３００ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有し、
該粉末が二酸化ケイ素のコーティングおよび二酸化チタンの芯材を有する一次粒子から構成されていることを特徴とする、二酸化チタンの芯材と二酸化ケイ素のコーティングを有する粒子からなる粉末。
【請求項２】
一次粒子が一緒に成長することができ、凝集物を形成している、請求項１記載の粉末。
【請求項３】
二酸化ケイ素のコーティングにより一緒に成長した一次粒子から構成されている、請求項２記載の粉末。
【請求項４】
粉末中の二酸化ケイ素の含量が１〜２０質量％である、請求項１から３までのいずれか１項に記載の粉末。
【請求項５】
二酸化チタンの芯材が１：９９〜９９：１のルチル型変態／アナターゼ型変態の比を有する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の粉末。
【請求項６】
３質量％の固体含量を有する粉末の水性分散液が３２０ｎｍでの少なくとも９５％の吸収率および３６０ｎｍでの少なくとも９０％の吸収率を有する、請求項１から５までのいずれか１項に記載の粉末。
【請求項７】
０．５未満の感光度を有する、請求項１から６までのいずれか１項に記載の粉末。
【請求項８】
等電点が１〜４のｐＨ値である、請求項１から７までのいずれか１項に記載の粉末。
【請求項９】
ＢＥＴ表面積が４０〜１２０ｍ２／ｇである、請求項１から８までのいずれか１項に記載の粉末。
【請求項１０】
請求項１から９までのいずれか１項に記載の粉末の製造法において、蒸発可能なケイ素化合物と蒸発可能なチタン化合物を生成物中でのその後の望ましいＳｉＯ２とＴｉＯ２との比に相応する量で混合し、２００℃以下の温度で蒸発させ、水素および空気または酸素に富んだ空気と一緒に不活性ガス流により公知のバーナーの中央管（芯材）中に移動させ、この反応混合物をバーナーの開口で点火し、第２の空気と一緒に導入し、冷却された火炎管中で燃焼させ、引続き二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粉末をガス状の反応生成物から除去し、必要に応じて湿潤空気中で付着塩化水素から遊離し、この場合
第１の空気と第２の空気との比は、０．３より大きく、
芯材の水素と第２の空気との比は、１より大きく、
二酸化チタン前駆体と第２の空気との比は、０．５より大きいことを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項に記載の粉末の製造法。
【請求項１１】
四塩化チタンをチタン化合物として使用する、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
四塩化ケイ素をケイ素化合物として使用する、請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
日焼け止め剤の量に関連して０．０１〜２５質量％の量で請求項１から９までのいずれか１項に記載の酸化物粒子を含有している日焼け止め剤。
【請求項１４】
分散液を製造するためのＵＶフィルターとしての請求項１から９までのいずれか１項に記載の粉末の使用および化学機械研磨（ＣＭＰ法）のための使用。
【請求項１】
二酸化チタンの芯材と二酸化ケイ素のコーティングを有する粒子からなる粉末において、
該粉末が０．５〜４０質量％の二酸化ケイ素含量を有し、
該粉末が５〜３００ｍ２／ｇのＢＥＴ表面積を有し、
該粉末が二酸化ケイ素のコーティングおよび二酸化チタンの芯材を有する一次粒子から構成されていることを特徴とする、二酸化チタンの芯材と二酸化ケイ素のコーティングを有する粒子からなる粉末。
【請求項２】
一次粒子が一緒に成長することができ、凝集物を形成している、請求項１記載の粉末。
【請求項３】
二酸化ケイ素のコーティングにより一緒に成長した一次粒子から構成されている、請求項２記載の粉末。
【請求項４】
粉末中の二酸化ケイ素の含量が１〜２０質量％である、請求項１から３までのいずれか１項に記載の粉末。
【請求項５】
二酸化チタンの芯材が１：９９〜９９：１のルチル型変態／アナターゼ型変態の比を有する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の粉末。
【請求項６】
３質量％の固体含量を有する粉末の水性分散液が３２０ｎｍでの少なくとも９５％の吸収率および３６０ｎｍでの少なくとも９０％の吸収率を有する、請求項１から５までのいずれか１項に記載の粉末。
【請求項７】
０．５未満の感光度を有する、請求項１から６までのいずれか１項に記載の粉末。
【請求項８】
等電点が１〜４のｐＨ値である、請求項１から７までのいずれか１項に記載の粉末。
【請求項９】
ＢＥＴ表面積が４０〜１２０ｍ２／ｇである、請求項１から８までのいずれか１項に記載の粉末。
【請求項１０】
請求項１から９までのいずれか１項に記載の粉末の製造法において、蒸発可能なケイ素化合物と蒸発可能なチタン化合物を生成物中でのその後の望ましいＳｉＯ２とＴｉＯ２との比に相応する量で混合し、２００℃以下の温度で蒸発させ、水素および空気または酸素に富んだ空気と一緒に不活性ガス流により公知のバーナーの中央管（芯材）中に移動させ、この反応混合物をバーナーの開口で点火し、第２の空気と一緒に導入し、冷却された火炎管中で燃焼させ、引続き二酸化ケイ素で被覆された二酸化チタン粉末をガス状の反応生成物から除去し、必要に応じて湿潤空気中で付着塩化水素から遊離し、この場合
第１の空気と第２の空気との比は、０．３より大きく、
芯材の水素と第２の空気との比は、１より大きく、
二酸化チタン前駆体と第２の空気との比は、０．５より大きいことを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項に記載の粉末の製造法。
【請求項１１】
四塩化チタンをチタン化合物として使用する、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
四塩化ケイ素をケイ素化合物として使用する、請求項１０記載の方法。
【請求項１３】
日焼け止め剤の量に関連して０．０１〜２５質量％の量で請求項１から９までのいずれか１項に記載の酸化物粒子を含有している日焼け止め剤。
【請求項１４】
分散液を製造するためのＵＶフィルターとしての請求項１から９までのいずれか１項に記載の粉末の使用および化学機械研磨（ＣＭＰ法）のための使用。
【図１】
【図２】
【図２】
【公表番号】特表２００６−５１１６３８（Ｐ２００６−５１１６３８Ａ）
【公表日】平成１８年４月６日（２００６．４．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−５６１２０１（Ｐ２００４−５６１２０１）
【出願日】平成１５年１２月２日（２００３．１２．２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００３／０１３５３４
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０５６９２７
【国際公開日】平成１６年７月８日（２００４．７．８）
【出願人】（５０１０７３８６２）デグサ アクチエンゲゼルシャフト (837)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成１８年４月６日（２００６．４．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１５年１２月２日（２００３．１２．２）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００３／０１３５３４
【国際公開番号】ＷＯ２００４／０５６９２７
【国際公開日】平成１６年７月８日（２００４．７．８）
【出願人】（５０１０７３８６２）デグサ アクチエンゲゼルシャフト (837)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]