光学異方性膜、その製造方法、及びそれを用いた液晶表示装置
【課題】液晶表示装置の光学補償等に有用な、新規な光学異方性膜を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学異方性膜である。式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し；Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基又はアリール基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；Ａは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は置換もしくは無置換のフェニレン基、オキサジアゾール基又はアルキニレン基を表し；Ｚは、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し；ｎ１、ｎ２及びｎ３は０〜４の整数を表し；ならびにｌ、ｍ及びｎは０〜４の整数を表す。
【解決手段】下記式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学異方性膜である。式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し；Ｘは、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基又はアリール基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；Ａは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は置換もしくは無置換のフェニレン基、オキサジアゾール基又はアルキニレン基を表し；Ｚは、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し；ｎ１、ｎ２及びｎ３は０〜４の整数を表し；ならびにｌ、ｍ及びｎは０〜４の整数を表す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学異方性膜、その製造方法、及びそれを用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置として、種々のモードの液晶表示装置が提案されている。中でもＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）モードは、広視野角モードとして全方位にわたり広いコントラスト視野角特性を有するようになり、テレビ用途として既に家庭に普及しており、さらには近年３０インチを超える大サイズディスプレイも登場してきた。ＶＡモード液晶表示装置では、黒表示時の斜め方向に生じる光漏れ及びカラーシフトを軽減するため、種々の特性の光学異方性膜等が光学補償に利用されている。
【０００３】
例えば、ＶＡモード液晶表示装置の色視野角特性の改善に寄与する光学補償シートとして、所定の光学特性を満足する位相差板が提案され、その材料として変性ポリカーボネートが用いられている（特許文献１）。
また、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色に対して独立に補償する方式も提案されている（特許文献２、特許文献３、特許文献４、特許文献５、特許文献６、特許文献７）。これは主に液晶セル内にカラーフィルタなどと一緒に位相差層をパターニングする方法により実現される。しかしながら、液晶セル内で位相差層をパターニングするためには、例えば、セル内で配向膜層の形成、ラビング処理、重合性液晶組成物の塗布、配向、固定化、及びレジスト層の形成、エッチング処理、レジスト層の剥離除去など煩雑な操作が必要であり、そのため、光学的に均一な位相差特性を有する光学異方性層を形成することは困難である。また、レジストパターンを形成する際にもたらされる熱やフォトレジスト溶媒のため、位相差層の位相差がエッチングの前後で変化してしまう場合があり、問題があった。
【０００４】
一方、位相差フィルムの材料として、光照射と加熱による分子運動とそれに基づく分子配向により複屈折を誘起する材料であって、ナフチルアクリロイルまたはその誘導体、もしくはビフェニルアクリロイルまたはその誘導体を含有することを特徴とする複屈折誘起材料が提案されている（特許文献９、特許文献１０）。
【特許文献１】特開２００４−３７８３７号公報
【特許文献２】ＧＢ２３９４７１８
【特許文献３】特開２００４−２４０１０２号公報
【特許文献４】特開２００５−４１２４号公報
【特許文献５】特開２００５−２４９１９号公報
【特許文献６】特開２００５−２４９２０号公報
【特許文献７】特開２００６−７８６４７号公報
【特許文献８】特開２００６−６４８５８号公報
【特許文献９】特開２００４−２５８４２６号公報
【特許文献１０】特開２００６−３０８８７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
この複屈折誘起材料を用いれば、パターニング技術を利用しなくても、液晶セル内の、各画素に対応する微細領域に、所望の光学特性の位相差層を形成できる。
しかしながら、本発明者らが検討した結果、上記特許文献９及び１０で提案されている材料では、光学補償に必要な所望の位相差が得られない場合があり、また、液晶セルの作製工程中に施される加熱処理、溶媒処理等の種々の処理によって、位相差が変化してしまうという問題があることがわかった。
本発明は、液晶表示装置の光学補償等に有用な、新規な光学異方性膜、及びその製造方法、及びその作製に用いられる高分子化合物を提供することを課題とする。
また、本発明は、液晶セル内に容易に形成可能であり、しかも光学特性の変動が軽減された光学異方性膜を提供することを課題とする。
また、本発明は、液晶セルが正確に光学的に補償され、且つ生産性に優れ、色視野角特性が改善された液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
［１］ 下記式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学異方性膜。
【化１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し；Ｘは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；Ａは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は置換もしくは無置換のフェニレン基、オキサジアゾール基又はアルキニレン基を表し；Ｚは、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し；ｎ１、ｎ２及びｎ３は０〜４の整数を表し；ならびにｌ、ｍ及びｎは０〜４の整数を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基又はアリール基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基。）
【０００７】
［２］ 前記化合物が、前記一般式（１）で表される部分構造を側鎖中に有する高分子化合物であることを特徴とする［１］の光学異方性膜。
［３］ 前記高分子が、下記一般式（２）で表される繰り返し単位を有することを特徴とする［１］の光学異方性膜。
【化２】
（式中、Ｒ4は、水素原子又は置換基を表し、その他の記号については、前記一般式（１）中のそれぞれと同義である。）
【０００８】
［４］ 前記高分子化合物が、下記一般式（５）及び／又は下記一般式（７）で表される繰り返し単位を有することを特徴とする［２］又は［３］の光学異方性膜。
【化３】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基を表す。）
【化４】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基を表し、Ｓ6は二価の連結基を表し、Ｐ1は重合性基を示す。）
【０００９】
［５］ 前記化合物を含有する組成物に少なくとも偏光を照射して形成されたことを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの光学異方性膜。
［６］ 波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、２０ｎｍ〜３００ｎｍであることを特徴とする［５］の光学異方性膜。
［７］ 正のＡプレートであることを特徴とする［５］又は［６］の光学異方性膜。
［８］ Ｎｚ値（但し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＋０．５；Ｒｔｈ（５５０）は波長５５０ｎｍの厚み方向のレターデーションであり、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションである）が１．１〜７．０であることを特徴とする［５］又は［６］の光学異方性膜。
［９］ ラビング処理面上で前記化合物を含有する組成物に少なくとも偏光を照射して形成されたことを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの光学異方性膜。
［１０］ Ｎｚ値が１．１〜７．０であることを特徴とする［９］の光学異方性膜。
［１１］ Ｎｚ値が０．１〜０．９であることを特徴とする［５］又は［６］の光学異方性膜。
［１２］ 基板と、該基板上に［１］〜［１１］のいずれかの光学異方性膜とを有する液晶セル用基板。
［１３］ ［１］〜［１１］のいずれかの光学異方性膜を有する液晶表示装置。
［１４］ ＶＡモード液晶表示装置であることを特徴とする［１３］の液晶表示装置。
［１５］ ＩＰＳモード液晶表示装置であることを特徴とする［１３］の液晶表示装置。
［１６］ 前記光学異方性膜を、液晶セル内に有することを特徴とする［１３］〜［１５］のいずれかの液晶表示装置。
［１７］ 前記光学異方性膜が、液晶セル内の各画素に対応する各領域に配置されていることを特徴とする［１６］の液晶表示装置。
［１８］ ［７］の光学異方性膜からなる第１の光学異方性層と、Ｒｔｈ（５５０）が２０〜３００ｎｍである第２の光学異方性層とを有することを特徴とする［１３］〜［１７］のいずれかの液晶表示装置。
［１９］ ［１］中に記載の一般式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも含有する組成物に、少なくとも偏光を照射することで複屈折を発現させることを含む光学異方性膜の製造方法。
［２０］ ［１］中に記載の一般式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも含有する組成物を、ラビング処理面上に配置すること、及び該ラビング処理面のラビング方向と異なる方向から偏光を照射することにより複屈折を発現させることを含む光学異方性膜の製造方法。
【００１０】
［２１］ 下記一般式（２）で表される繰り返し単位を少なくとも有する重合体。
【化５】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し；Ｒ4は、水素原子又は置換基を表し；Ｘは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；Ｚは、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し；ｎ１、ｎ２及びｎ３は０〜４の整数を表し；ならびにｌ、ｍ及びｎは０〜４の整数を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基又はアリール基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基。）
【００１１】
［２２］ 下記一般式（５）及び／又は下記一般式（７）で表される繰り返し単位をさらに有することを特徴とする［２１］の重合体。
【化６】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基を表す。）
【化７】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基を表し、Ｓ6は二価の連結基を表し、Ｐ1は重合性基を示す。）
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、液晶表示装置の光学補償等に有用な、新規な光学異方性膜、及びその製造方法、及びその作製に用いられる高分子化合物を提供することができる。
また、本発明によれば、液晶セル内に容易に形成可能であり、しかも光学特性の変動が軽減された光学異方性膜を提供することができる。
また、本発明によれば、液晶セルが正確に光学的に補償され、且つ生産性に優れ、色視野角特性が改善された液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明について詳細に説明する。
尚、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。また、本明細書において、重合体には、１種類のモノマーからなる重合体のほか、２種類以上のモノマーからなるいわゆる共重合体も含む趣旨である。また、本明細書において、アルキル基等の「基」は、特に述べない限り、置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。よって、例えば、「炭素数Ａ〜Ｂのアルキル基」と言う場合、該アルキル基は、置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。また、置換基を有する場合は、該置換基中の炭素数も、炭素数Ａ及びＢに含まれると解釈する。
【００１４】
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のリターデーション（ｎｍ）及び厚さ方向のリターデーション（ｎｍ）を表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定するができる。測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１１）及び式（１２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１５】
【数１】
注記：
上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表し、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
【００１６】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００１７】
また、Ｒｔｈの符号は面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋２０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定した位相差がＲｅを超える場合を正とし、Ｒｅを下回る場合を負とする。但し、｜Ｒｔｈ／Ｒｅ｜が９以上の試料では、回転自由台座付きの偏光顕微鏡を用いて、面内の進相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した状態で、偏光板の検板を用いて決定できる試料の遅相軸がフィルム平面に平行にある場合を正とし、また遅相軸がフィルムの厚み方向にある場合を負とする。
【００１８】
また、本明細書におけるλは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ６１１±５ｎｍ、５４５±５ｎｍ、４３５±５ｎｍを指し、特に色に関する記載がなければ５４５±５ｎｍ又は５９０±５ｎｍを指す。
また、本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。さらに、Ｒｅが０でないとは、Ｒｅが５ｎｍ以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、波長５５０ｎｍを指す。また、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光のことをいう。
【００１９】
［光学異方性膜］
本発明は、下記式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学異方性膜に関する。下記部分構造は偏光照射によって配向し、複屈折を発現する。したがって、配向膜がなくても、所望の光学特性を示す光学異方性膜を形成することができ、例えば、パターニングなどの技術を利用せずに、微細な光学異方性膜を形成可能である。
【００２０】
【化８】
【００２１】
式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し；Ｘは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；Ａは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は置換もしくは無置換のフェニレン基、オキサジアゾール基又はアルキニレン基を表し；Ｚは、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し；ｎ１、ｎ２及びｎ３は０〜４の整数を表し；ｍ及びｎは０〜４の整数を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基又はアリール基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基。
【００２２】
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3で表される置換基としては以下の基を挙げることができる。
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００２３】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００２４】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００２５】
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3で表される置換基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基、又はハロゲン原子であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、又はハロゲン原子であり、さらに好ましくはアルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子である。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子であるのが好ましい。
ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ０〜３であるのが好ましく、０〜２であるのが好ましい。即ち、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が存在しない（ｎ１、ｎ２又はｎ３は０）か、又はＲ1、Ｒ2及びＲ3がそれぞれ存在する場合は、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子であるのが好ましい。
【００２６】
Ｘは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−、アルキレン基、又はアリーレン基を含むことが好ましく、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−、アルキレン基を含んでいることが特に好ましく、−Ｏ−、−ＣＯ−、アルキレン基を含んでいることがよりさらに好ましい。Ｘがアルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、特に好ましくは１〜６である。特に好ましいアルキレン基の具体例には、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラブチレン、ヘキサメチレン基が含まれる。Ｘが、アリーレン基を含む場合、アリーレン基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリーレン基の具体例として、フェニレン、ナフタレン基等が挙げられる。Ｘが、アルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる２価の連結基（即ちアラルキレン基）を含む場合、アラルキレン基の炭素数は、好ましくは７〜３４、より好ましくは７〜２６、特に好ましくは７〜１６である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。Ｘとして挙げられた基は、適当な置換基を有していてもよい。
ｌは、０〜４の整数を表し、好ましくは０又は１である。
【００２７】
Ａは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、フェニレン基、オキサジアゾール基、アルキニレン基を表す。ｎは０〜４の整数を表し、好ましくは０又は１である。ｎが０の場合は、二つのベンゼン環は、単結合によって結合したビフェニル構造となる。フェニレン基は置換基を有していてもよく、該置換基の例は、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の例と同様であり、好ましい例も同様である。
【００２８】
また、Ｚは、置換もしくは無置換の、アルキル基又はアリール基を表す。Ｚで表されるアルキル基の炭素数は好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、特に好ましくは１〜６である。アルキル基は、分岐していてもまた環状であってもよい。Ｚで表されるアリール基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリール基の具体例として、フェニル基、ナフタレン基等が挙げられる。Ｚは好ましくはアルキル基である。Ｚで表されるアルキル基、アリール基は置換基を有していてもよく、該置換基の例には、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の例が含まれる。Ｚが置換基を有するアルキル基又はアリール基である場合は、該置換基は、重合性基を含んでいてもよい。重合性基を含んでいると、硬膜性が高くなり、また光学特性の変動もより軽減できるので好ましい。また、前記化合物は重合性基を２以上含んでいてもよく、例えば、一方の末端であるＺ中に重合性基を含むとともに、他末端であるＸ側の末端部にも重合性基を有していてもよい。
重合性基としては特に限定されないが、付加重合（開環重合を含む）反応又は縮合重合反応が可能な重合性基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００２９】
【化９】
【００３０】
重合性基としては、ラジカル重合又はカチオン重合する重合性基が好ましい。ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、（メタ）アクリレート基を挙げることができる。カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、ビニルオキシ基などを挙げることができる。なかでも脂環式エーテル基、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基が特に好ましい。上記した通り、前記化合物は、重合性基を２種以上含んでいてもよく、その場合は、ラジカル重合性基とカチオン重合性基等、重合反応機構が異なる重合性基を有しているのが好ましい。
【００３１】
ｍは０〜４の整数を表し、好ましくは０又は１である。
【００３２】
以下に、前記一般式（１）の構造を有する化合物の具体例を挙げるが、以下の具体例に限定されるものではない。
【００３３】
【化１０】
【００３４】
【化１１】
【００３５】
本発明の光学異方性膜の形成には、Ａ−１〜Ａ−１０に示す様な重合性モノマーを、そのまま用いてもよいし、一旦、単独で重合させた重合体もしくは他の重合性モノマーと共重合させた重合体を用いてもよい。また、上記具体例中、例えばＡ−１０の様に、２種の重合性基、例えば、一方はラジカル重合性基で他方はカチオン重合性基、を有するモノマーについて、一般式（１）の部分構造には含まれない重合性基（例示化合物Ａ−１０ではラジカル重合性基）を重合させて得られた重合体を、光学異方性膜の形成に用いると、前記式（１）の部分構造を偏光照射等によって配向させた後、他の重合性基（例示化合物Ａ−１０ではカチオン重合性基）を重合させることで、より耐久性に優れた光学異方性膜が得られるので好ましい。
【００３６】
本発明の光学異方性膜の形成に用いられる化合物の一例は、前記一般式（１）で表される部分構造を側鎖中に有する高分子化合物であり、具体的には、前記一般式（１）で表される部分構造を有する繰り返し単位を含む重合体である。好ましくは、下記一般式（１）’で表される繰り返し単位を有する重合体であり、より好ましくは、下記一般式（２）で表される繰り返し単位を有する重合体である。
【００３７】
【化１２】
【００３８】
【化１３】
【００３９】
前記式中、Ｒ4は、水素原子又は置換基を表し、その他の記号については、前記一般式（１）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｒ4が表す置換基の例は、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が表す置換基の例として上記で例示したものと同様である。Ｒ4は、水素原子又はアルキル基であるのが好ましく、水素原子又はメチル基であるのがより好ましい。
【００４０】
前記重合体は、前記一般式（１）’又は（２）で表される繰り返し単位の１種のみからなっていてもよいし、２種以上からなっていてもよい。また、前記重合体は、前記一般式（１）’又は（２）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位を１種又は２種以上有していてもよい。前記他の繰り返し単位については特に制限されず、種々のラジカル重合反応可能なモノマーから誘導される繰り返し単位から選択するのが好ましい。
以下、他の繰り返し単位を誘導するモノマーの具体例を挙げる。
【００４１】
モノマー群
（１）アルケン類
エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、１−ドデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど；
（２）ジエン類
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、１−ブロモ−１，３−ブタジエン、１−クロロブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジクロロ−１，３−ブタジエン、１，１，２−トリクロロ−１，３−ブタジエン及び２−シアノ−１，３−ブタジエン、１，４−ジビニルシクロヘキサンなど；
【００４２】
（３）α，β−不飽和カルボン酸の誘導体
（３ａ）アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど）；
【００４３】
（３ｂ）アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレートなど；
【００４４】
（３ｃ）不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど；
【００４５】
（３ｄ）α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチルマレイミドなど；
【００４６】
（４）不飽和ニトリル類
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど；
（５）スチレン及びその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ｐ−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレンなど；
（６）ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど；
【００４７】
（７）ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、ｎ−エイコシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど；及び
（８）その他の重合性単量体
Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリンなど。
【００４８】
特に好ましくは、下記一般式（５）で表される繰り返し単位である。
【００４９】
【化１４】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基を表す。）
Ｒ5が表す置換基の例には、前記一般式（１）中のＲ1等の置換基の例として例示したものが含まれる。中でも、アルキル基又はハロゲン原子が好ましい。
Ｒ5は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、塩素原子がより好ましく、水素原子、メチル基がさらに好ましい。
【００５０】
Ｓ5は、好ましくは、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、２価の複素環残基、−ＣＯ−、−ＮＲ15−（Ｒ15は炭素数が１〜６のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。アルキレン基の炭素数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、可能であれば、置換基（アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基等）によって置換されていてもよいが、無置換であることが好ましい。
Ｓ5としては、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ15−（Ｒ15は炭素数が１〜６のアルキル基又は水素原子）、アルキレン基又はアリーレン基を含んでいることが好ましく、−Ｏ−、−ＣＯ−、アルキレン基又はアリーレン基を含んでいることが特に好ましい。さらに、Ｓ5は、−Ｏ−、−ＣＯ−、アルキレン基又はアリーレン基のみから構成されていることが好ましい。
【００５１】
Ｍ5で表されるメソゲン基としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）などに記載の構造を用いることができる。
より好ましくは、下記一般式（６）で表されるメソゲン基である。
【００５２】
【化１５】
【００５３】
一般式（６）中、Ｌ1及びＬ2は、それぞれ、単結合又は二価の連結基を表し、Ｃｙ1、Ｃｙ2及びＣｙ3は、それぞれ、二価の環状基を表し、ｐは０〜２の整数を表す。ｐが２の場合、２つのＬ2は同じであっても異なっていてもよく、２つのＣｙ2も同じであっても異なっていてもよい。
【００５４】
一般式（６）中、Ｌ1又はＬ2は、好ましくは、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ16−、二価の鎖状基、二価の環状基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基、又は、単結合である。上記Ｒ16は、炭素数１〜７のアルキル基又は水素原子であり、炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基又は水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
二価の鎖状基は、アルキレン基、アルケニレン基又はアルキニレン基が好ましく、これらは、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子が好ましい。アルキレン基又はアルケニレン基が好ましく、無置換のアルキレン基又は無置換のアルケニレン基がさらに好ましい。アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素数は１〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素数は２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。
【００５５】
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素数は２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。
二価の鎖状基の具体例としては、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、２−メチル−テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、２−ブテニレン基、２−ブチニレン基などが挙げられる。
二価の環状基は、後述するＣｙ1、Ｃｙ2及びＣｙ3と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００５６】
一般式（６）においてｐは、０又は１であることが好ましい。
【００５７】
一般式（６）において、Ｃｙ1、Ｃｙ2及びＣｙ3は、それぞれ独立に二価の環状基である。環状基に含まれる環は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、単環でも縮合環でもよく、単環が好ましい。環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環及びナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基及びナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜５のアルキル基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜５のアルキルチオ基、炭素数２〜６のアシルオキシ基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素数が２〜６のアシルアミノ基が含まれる。
【００５８】
上記一般式（５）で表される繰り返し単位の中でも、下記一般式（７）で表される繰り返し単位が好ましい。
【００５９】
【化１６】
【００６０】
式中、前記一般式(５)中の記号と同一の記号は、それぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｓ6は二価の連結基を表し、前記一般式(５)中のＳ5と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｐ1は重合性基を示す。Ｐ1で表される重合性基の例には、前記一般式（１）中のＺに含まれる重合性基の例として例示したものが含まれ、その好ましい範囲も同一である。
【００６１】
以下に、他の繰り返し単位を誘導するモノマーの具体例を挙げるが、以下の具体例に限定されるものではない。
【００６２】
【化１７】
【００６３】
【化１８】
【００６４】
前記重合体中、前記一般式（１）で表される部分構造を有する繰り返し単位は、全繰り返し単位の総量の３ｍｏｌ％以上であるのが好ましく、５ｍｏｌ％以上であるのが特に好ましく、１０ｍｏｌ％以上であるのがさらに好ましい。勿論、該繰り返し単位が１００モル％であってもよいが、光学異方性の発現性の点では他の繰り返し単位を含んでいるのが好ましく、具体的には、他の繰り返し単位を１０〜９７モル％程度含んでいるのが好ましい。
特に、後述するＮｚ値を高めるためには、前記一般式（１）で表される部分構造を有する繰り返し単位のｍｏｌを上げてゆけばよい。該Ｎｚ値が１．１〜７．０である光学異方性膜の形成に用いる重合体は、前記一般式（１）で表される部分構造を有する繰り返し単位を、１６〜７５ｍｏｌ％含有しているのが好ましい。
【００６５】
以下に、前記一般式（１）で表される部分構造を有する繰り返し単位（一般式（１）’及び（２）で表される繰り返し単位）を含む重合体の具体例を挙げるが、以下の具体例に制限されるものではない。尚、式中の数字は各繰り返し単位のモル百分率を示す。
【００６６】
【化１９】
【００６７】
【化２０】
【００６８】
【化２１】
【００６９】
前記一般式（１）で表される部分構造を有する重合体、例えば、一般式（１）’及び（２）で表される繰り返し単位を有する重合体は、種々の方法で製造することができる。例えば、ビニル基を利用したカチオン重合やラジカル重合、又は、アニオン重合などの重合方法を用いることができ、これらの中ではラジカル重合が汎用に利用でき、特に好ましい。ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル熱重合開始剤やラジカル光重合開始剤などの公知の化合物を使用することができるが、特に、ラジカル熱重合開始剤を使用することが好ましい。ここで、ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイドなど）ケトンパーオキサイド（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイドなど）、ハイドロパーオキサイド（過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイドなど）、ジアルキルパーオキサイド（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイドなど）パーオキシエステル類（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレートなど）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリルなど）、過硫酸塩類（過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウムなど）が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、一種を単独で使用することもできるし、或いは二種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００７０】
上記ラジカル重合方法は、特に制限されるものではなく、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法、溶液重合法などを取ることができる。典型的なラジカル重合方法である溶液重合については、さらに具体的に説明する。他の重合方法についても概要は同等であり、その詳細は例えば「高分子化学実験法」高分子学会編（東京化学同人、１９８１年）などに記載されている。
【００７１】
上記溶液重合を行うためには有機溶媒を使用する。これらの有機溶媒は本発明の目的、効果を損なわない範囲で任意に選択可能である。これらの有機溶媒は通常、大気圧下での沸点が５０〜２００℃の範囲内の値を有する有機化合物であり、各構成成分を均一に溶解させる有機溶媒が望ましい。好ましい有機溶媒の例を示すと、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、一種単独又は二種以上を組み合わせて用いることができる。さらに、モノマーや生成するポリマーの溶解性の観点から上記有機溶媒に水を併用した水混合有機溶媒も適用可能である。
【００７２】
また、溶液重合条件も特に制限されるものではないが、例えば、５０〜２００℃の温度範囲内で１０分〜３０時間加熱することが望ましい。さらに、発生したラジカルが失活しないように、溶液重合中はもちろんのこと、溶液重合開始前にも不活性ガスパージを行うことが望ましい。不活性ガスとしては通常窒素ガスが好適に用いられる。
【００７３】
前記重合体を好ましい分子量範囲で得るためには、連鎖移動剤を用いたラジカル重合法を利用するのが有効である。上記連鎖移動剤としては、メルカプタン類（例えば、オクチルメルカプタン、デシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン、オクタデシルメルカプタン、チオフェノール、ｐ−ノニルチオフェノールなど）、ポリハロゲン化アルキル（例えば、四塩化炭素、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，１−トリブロモオクタンなど）、低活性モノマー類（α−メチルスチレン、α−メチルスチレンダイマーなど）のいずれも用いることができるが、好ましくは炭素数４〜１６のメルカプタン類である。これらの連鎖移動剤の使用量は、連鎖移動剤の活性やモノマーの組み合わせ、重合条件などにより著しく影響され、精密な制御が必要であるが、通常は使用するモノマーの全モル数に対して０．０１ｍｏｌ％〜５０ｍｏｌ％程度であり、好ましくは０．０５ｍｏｌ％〜３０ｍｏｌ％、特に好ましくは０．０８ｍｏｌ％〜２５ｍｏｌ％である。これらの連鎖移動剤は、重合過程において重合度を制御するべき対象のモノマーと同時に系内に存在させればよく、その添加方法については特に問わない。モノマーに溶解して添加してもよいし、モノマーと別途に添加することも可能である。
【００７４】
前記重合体の分子量については特に制限はないが、一般的に高分子として認識される分子量１００００以上の範囲であるのは勿論のこと、分子量が１０００以上１００００未満の準高分子として認識される範囲、及び重合度が２〜２０程度のオリゴマーとして認識される範囲も含むものとする（岩波理化学辞典、第３版増補版、玉虫文一ら編集、４４９頁、岩波書店、１９８２）。即ち、本明細書で「高分子」及び「重合体」というときは、分子量が１０００以上で、かつ重合度が２０以上であるものを意味するものとする。前記重合体は、質量平均分子量は１，０００〜１，０００，０００であることが好ましく、１，０００〜５００，０００であることが特に好ましく、５，０００〜１００，０００であることがよりさらに好ましい。上記質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン（ＰＳ）換算の値として測定できる。
特に、後述するＮｚ値を上げるためには、一般式（１）で表される部分構造を有する重合体の分子量を上げて行けばよい。該Ｎｚ値が１．１〜７．０である光学異方性膜の形成に用いられる重合体は、その質量平均分子量が、２００００〜２５００００であることが好ましい。
【００７５】
本発明の光学異方性膜は、前記一般式（１）で表される部分構造を有する化合物のみからなっていてもよいし、前記一般式（１）で表される部分構造を有する化合物以外の材料を、本発明の効果を損なわない範囲で含んでいてもよい。前記光学異方性膜中、前記一般式（１）で表される部分構造を有する化合物の含有量は、５０〜１００質量％であるのが好ましく、８０〜１００質量％であるのがより好ましい。
前記光学異方性膜は、例えば、液晶性化合物の少なくとも一種を含んでいてもよい。
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本態様では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、重合性基を有する棒状液晶性化合物がより好ましく、２種以上を併用する場合、少なくとも１つは１液晶分子中の重合性基が２以上あることがさらに好ましい。
【００７６】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の重合性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の重合性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物である。
【００７７】
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1及びＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表すが、Ｌ3及びＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−又はＯ−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。Ａ1及びＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
【００７８】
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される重合性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、重合性基である。重合性基は付加重合反応又は縮合重合反応が可能な重合性基であることが好ましい。例えば、前記一般式（１）の部分構造中（具体的にはＺ中）に重合性基を有する場合は、該重合性基と重合反応可能な重合性基であってもよい。以下に重合性基の例を示す。
【００７９】
【化２２】
【００８０】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、及びＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子である。この場合、Ｌ3及びＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−又はＯ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）であることが好ましい。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1及びＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−及びＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【００８１】
Ａ1及びＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２の脂肪族基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
【００８２】
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（ＩＩ）で表される基が好ましい。
一般式（ＩＩ）：−（−Ｗ1−Ｌ5）n−Ｗ2−
式中、Ｗ1及びＷ2は各々独立して、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基又は二価のヘテロ環基を表し、Ｌ５は単結合又は連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、及びＯ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２又は３を表す。
【００８３】
Ｗ1及びＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体及びシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1及びＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
【００８４】
前記一般式（ＩＩ）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【００８５】
【化２３】
【００８６】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、これらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。
【００８７】
【化２４】
【００８８】
【化２５】
【００８９】
【化２６】
【００９０】
【化２７】
【００９１】
【化２８】
【００９２】
【化２９】
【００９３】
前記光学異方性膜中の棒状液晶化合物の添加量は、１質量％以上であることが好ましく、より好ましくは５質量％程度以上であり、特に好ましくは１０質量％程度以上である。
【００９４】
前記光学異方性膜は、前記一般式（１）で表される部分構造を有する化合物の配向性、所望により添加される液晶性化合物の配向性の改善のために、配向剤を含有していてもよい。例えば、下記一般式（１１）〜（１３）で表される化合物の少なくとも一種を含有させることで、前記一般式（１）で表される部分構造を有する化合物を実質的に水平配向させることができる。
以下、下記一般式（１１）〜（１３）について、順に説明する。
【００９５】
【化３０】
【００９６】
式中、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ11、Ｘ12及びＸ13はそれぞれ単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ11〜Ｒ13で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基又はフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ11、Ｘ12及びＸ13で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ2−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい
【００９７】
【化３１】
【００９８】
式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ11、Ｒ12、及びＲ13で表される置換基の好ましい範囲として挙げてものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。
【００９９】
【化３２】
【０１００】
式中、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（７）におけるＲ11、Ｒ12及びＲ13で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特開２００５−０９９２４８号公報の［００９２］〜［００９６］に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
【０１０１】
前記一般式（１１）〜（１３）のいずれかで表される化合物の添加量としては、前記一般式（１）の部分構造を有する化合物の全質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１１）〜（１３）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【０１０２】
本発明の光学異方性膜の製造方法の一例は、前記一般式（１）の部分構造を有する化合物を含有する組成物を調製し、該組成物を表面に塗布・乾燥した後、偏光照射して、前記式（１）の部分構造を配向させて、複屈折を発現することを含む方法である。前記式（１）の部分構造は、偏光照射によって、光配向し、面内レターデーションを発現する。前記化合物を含有する組成物を塗布、乾燥した後、他の処理（例えば、硬化処理等）をする前に、偏光照射最初に行うことが好ましい。該偏光照射の照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。
照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【０１０３】
偏光照射後に加熱すると、配向が熟成されて、より大きな面内レターデーションを得ることができる。
加熱温度は５０℃〜２５０℃であることが好ましく、より好ましくは５０℃〜２００℃であり、特に好ましくは７０℃〜１７０℃である。
加熱時間については特に制限はない。一例としては、後述するＮｚ値が１．１〜７．０である光学異方性膜を形成する際には、加熱時間は１秒〜５分であることが好ましいが、これに限定されるものではない。
【０１０４】
偏光照射し複屈折を発現させた後、好ましくはさらにその後加熱熟成させた後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射して、含有されるいずれかの成分が有する重合性基の反応を進行させ、さらに硬化させるのが好ましい。硬化させると、さらに耐熱性を高めることができる。硬化のための照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【０１０５】
上記した通り、前記化合物等のいずれかの成分が重合性基を有し、前記組成物が硬化性である場合は、複屈折を発現させた後に、重合反応を進行させるのが好ましい。利用される重合反応は、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応のいずれでもよいが、光重合反応がより好ましい。重合反応を進行させるためには、前記組成物は重合開始剤を含有しているのが好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０１０６】
光重合開始剤の使用量は、前記化合物を含有する組成物中、固形分として０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０１０７】
本発明の光学異方性膜を形成するのに用いる組成物は、塗布液として調製するのが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）、１，４−ブタンジオールジアセテートが含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
前記組成物の表面への塗布は、従来公知の種々の方法で行うことができる。後述する様に、本発明の光学異方性膜を液晶セル内に配置して、各画素に対応する領域ごとに形成する場合は、インクジェット方式を利用して、表面に塗布するのが好ましい。
【０１０８】
また、前記組成物をラビング処理面へ塗布して、一旦所定の方向に液晶分子を配向させた後、偏光を照射して、所望の光学特性を発現させてもよい。この方法では、ラビング方向とは異なる角度から偏光を照射することが好ましい。
【０１０９】
本発明の光学異方性膜の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。
【０１１０】
［光学異方性膜の光学特性及び用途］
本発明の光学異方性膜は、面内レターデーションＲｅが発現しているので、例えばＡプレート等の一軸性フィルム、又は二軸性フィルムに要求される特性を満足し得る。
Ａプレートは、一般的には、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの光学特性を満足するものと理解されているが、本明細書では、Ｒｅ（５５０）が２０〜３００ｎｍ程度であり、Ｎｚ値（但し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＋０．５）が０．９〜１．１程度の特性を示すものは、Ａプレートの範囲に含まれるものとする。本発明の光学異方性膜は、Ａプレートして機能し得るので、例えば、従来用いられているＡプレートの代替として、液晶表示装置の光学補償に利用することができ、特にＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に用いるのに適する。本発明の光学異方性膜をＡプレートして（例えば、ＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に）利用する場合は、Ｒｅ（５５０）は、５０〜２００ｎｍであるのが好ましく、７０〜２００ｎｍであるのがより好ましい。
二軸性フィルムは、一般的には、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚが全て異なるものと理解されている。一例としては、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚを満足する光学特性を示すものが挙げられる。本発明の光学異方性膜は、Ｒｅ（５５０）が２０〜３００ｎｍ程度であり、Ｎｚ値（但し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＋０．５）が、１．１〜７．０程度の特性を示す二軸性フィルムとして機能し得る。即ち、本態様の本発明の光学異方性膜は、従来用いられている二軸性フィルムの代替として、液晶表示装置の光学補償に利用することができ、特にＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に用いるのに適する。本発明の光学異方性膜を二軸性フィルムとして（例えば、ＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に）利用する場合は、Ｎｚは、１．５〜７．０であるのが好ましく、２．０〜６．０であるのが好ましい。また、Ｒｅ（５５０）は、２０〜３００ｎｍであることが好ましく、２０〜２００ｎｍであるのがより好ましく、２０〜１００ｎｍであるのがよりさらに好ましい。
また、二軸性フィルムの他の例として、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙを満足する光学特性を示すものが挙げられる。本発明の光学異方性膜は、作製に用いる前記重合体の共重合比や分子量を調整することで、この性質を満足する二軸性フィルムとしても機能し得る。即ち、即ち、本態様の本発明の光学異方性膜は、従来用いられているｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙを満足する二軸性フィルムの代替として、液晶表示装置の光学補償に利用することができ、特にＩＰＳモードの液晶表示装置の光学補償に用いるのに適する。ＩＰＳモードの液晶表示装置の光学補償に用いる光学異方性膜は、Ｎｚは０．１〜０．９であるのが好ましく、
０．３〜０．７であるのがより好ましい。また、Ｒｅ（５５０）が２００〜４００ｎｍであるのが好ましい。
【０１１１】
本発明の光学異方性膜は、配向膜を必要とせずに、偏光を利用して、所望の光学特性を発現できるので、微細な領域ごとに形成するのに有利であり、特に、液晶セル内の各画素に対応した領域に形成するのに有利である。勿論、液晶セル内の各画素に対応した領域に本発明の光学異方性膜を形成する場合も、上記した通り、各領域に配向膜を形成し、配向膜上で一旦液晶分子を配向させた後、偏光照射を行ってもよい。
液晶セル内に形成する態様では、前記光学異方性膜の光学特性は、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光が入射した際の視野角補償に最適な光学特性にそれぞれ調整されているのが好ましい。即ち、カラーフィルタ層のＲ層に対応する領域に形成する光学異方性膜は、その光学特性が、Ｒ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整され、Ｇ層に対応する領域に形成する光学異方性膜の光学特性は、Ｇ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整され、かつＢ層に対応する領域に形成する光学異方性膜の光学特性は、Ｂ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整されているのが好ましい。光学異方性膜の光学特性は、例えば、前記式（１）の部分構造を有する化合物の種類や、配向制御剤の種類又はその添加量、膜厚、及び偏光照射条件のいずれかによって好ましい範囲に調整することができる。
また、光学異方性膜そのものをカラーフィルタとしても機能させてもよい。その場合は、光学異方性膜形成用の組成物中に、Ｒ色、Ｇ色及びＢ色それぞれの顔料等を添加する。
【０１１２】
本発明の光学異方性膜を、液晶セル基板の表面上に、各画素に対応する領域ごとに形成する方法の一例として、インクジェット方式を利用する方法が挙げられる。より具体的には、前記式（１）の部分構造を有する化合物を含有する流体を、ブラックマトリクスによって隔てられた領域内にインクジェット方式で塗布し、その後、偏光照射によって所望の光学特性を発現させた後、所望により加熱熟成して作製することができる。より耐久性を改善するために、電離放射線を照射して、膜中の成分の重合反応を進行させて、該配向状態を固定するのが好ましい。
【０１１３】
以下に、本発明の光学異方性膜を内部に有する液晶セルの作製方法の一例を、図１を参照して詳細に説明する。
ガラス等からなる透明基板１１上に、例えば、ネガ型ブラックマトリクスレジスト材料を使用し、フォトリソ法を用いてドットパターンのブラックマトリクス１２（隔壁）を形成し、隔壁１２によって隔てられた複数の微細領域ａを形成する（図１（ａ））。尚、ブラックマトリクス１２の形成においては、ブラックマトリクスの形成材料及び形成プロセスについては特に限定はなく、レジスト材料によるフォトリソ法を利用する方法以外の方法であっても、ブラックマトリクスパターンが形成できれば問題ない。ブラックマトリックス１２のパターンは、ドットパターンに限定されるものではなく、形成するカラーフィルタの配列については特に制限はなく、ドット配列、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等いずれであってもよい。
【０１１４】
ブラックマトリックス１２は、パターン形成後にＦ原子を含むガス（ＣＦ4等）でプラズマ処理され、その表面が撥インク化処理されるのが好ましい。ブラックマトリクス１２の撥インク化処理は、上記プラズマ処理以外に、ブラックマトリクス材料中に撥インク剤を含有させてもよいし、ブラックマトリックスを、ガラス基板１１に対して撥インク性を示す材料から形成してもよい。
【０１１５】
次に、所望により撥インク化処理したブラックマトリクス１２で隔てられた微細領域ａへ、前記式（１）の部分構造を有する化合物を含有する流体１３’を、インクジェット装置を用いて吐出して、微細領域ａ内に前記流体からなる層（図１（ｂ））を形成する。前記溶液の吐出が完了した後、偏光照射することによって、複屈折を発現し、光学異方性膜１３を形成する（図１（ｃ））。偏光照射前、偏光照射中、又は偏光照射後に所望により加熱してもよく、その場合は、加熱装置を使用してもよい。
【０１１６】
このようにして形成された１層目の光学異方性膜１３の上に、カラーフィルタ用インク液１４’によって２回目のインク吐出を行い（図１（ｄ））、これを乾燥、及び所望により露光等して、２層目のカラーフィルタ層１４が形成される（（ｅ））。
【０１１７】
光学異方性膜１３及びカラーフィルタ層１４を形成する際のインク等の射出条件については特に制限されないが、光学異方性膜形成用の流体やカラーフィルタ層形成用のインクの粘度が高い場合は、室温あるいは加熱下（例えば、２０〜７０℃）において、インク粘度を下げて射出することが射出安定性の点で好ましい。インク等の粘度変動は、そのまま液滴サイズ、液滴射出速度に大きく影響を与え、画質劣化を起こすため、インク等の温度を出来るだけ一定に保つのが好ましい。
【０１１８】
前記インクジェットヘッド（以下、単にヘッドともいう）は、特に制限されず、公知の種々のものを使用することができる。コンティニアスタイプ、ドットオンデマンドタイプが使用可能である。ドットオンデマンドタイプのうち、サーマルヘッドでは、吐出のため、特開平９−３２３４２０号公報に記載されているような稼動弁を持つタイプが好ましい。ピエゾヘッドでは、例えば、欧州特許Ａ２７７，７０３号、欧州特許Ａ２７８，５９０号などに記載されているヘッドを使うことができる。ヘッドは組成物の温度が管理できるよう温調機能を持つものが好ましい。射出時の粘度は５〜２５ｍＰａ・ｓとなるよう射出温度を設定し、粘度の変動幅が±５％以内になるよう組成物温度を制御することが好ましい。また、駆動周波数としては、１〜５００ｋＨｚで稼動すること
が好ましい。
【０１１９】
なお、光学異方性膜１３及びカラーフィルタ層１４は、その形成順序が入れ替わっていてもよく、即ち、カラーフィルタ層１４の上に光学異方性膜１３が積層された構成であってもよい。かかる態様は、前記製造方法例において、光学異方性膜１３を形成する工程とカラーフィルタ層１４を形成する工程の順番を入れ替えることにより作製することができる。
また、カラーフィルタ形成用インクに前記式（１）の部分構造を有する化合物を混合して用いてもよい。
【０１２０】
光学異方性膜１３は、同一種の溶液等の流体を用いて形成されていてもよいし、その上に形成されるカラーフィルタ層１４の色相に応じて、それぞれ最適な光学異方性を発現するように、互いに異なる材料を含む及び／又は配合量が互いに異なる流体を用いて形成されていてもよい。光学異方性膜１３の形成時において、カラーフィルタ層の色相に応じて異なる溶液等を用いる場合は、それぞれの溶液を全て吐出した後、同時に乾燥を行ってもよいし、１種ずつ吐出及び乾燥のプロセスを行ってもよい。また、カラーフィルタ層１４の形成時においても、例えば、Ｒ層、Ｇ層、及びＢ層それぞれの形成用のインク液を全て吐出した後、同時に乾燥を行ってもよいし、１種ずつ吐出及び乾燥のプロセスを行ってもよい。また、カラーフィルタの色も、赤、緑、青の３色に限定される必要はなく、多原色のカラーフィルタであってもよい。
【０１２１】
このようにして、第一の基板の各画素に相当する、ブラックマトリックス１２で隔てられた領域毎に、光学異方性膜及びカラーフィルタ層を形成した後、この第１の基板と、第２の基板とを貼り合わせる。貼り合わせる前に、カラーフィルタ層１４の上に、透明電極層及び／又は配向層を形成してもよい。例えば、特開平１１−２４８９２１号公報、特許３２５５１０７号公報に記載のように、カラーフィルタを形成する着色樹脂組成物を重ねることで土台を形成し、その上に透明電極を形成し、更に必要に応じて分割配向用の突起を重ねることでスペーサを形成することが、コストダウンの観点で好ましい。
【０１２２】
第１の基板と第２の基板の対向面間の空壁に、液晶材料を注入して液晶層を形成して、液晶セルを作製することができる。第一の基板は、前記光学異方性膜とカラーフィルタ層が形成された面を内側にして、即ち、対向面にして配置するのが好ましい。その後、双方の基板の外側表面に、それぞれ偏光板、光学補償フィルム等を貼り付けて、液晶表示装置を作製することができる。
【０１２３】
前記製造方法の例では、光学異方性膜形成用の流体、及びカラーフィルタ層形成用のインク液を所定の位置に配置するにあたって、隔壁であるブラックマトリクスを形成した後、インクジェット方式を利用しているので、第一の基板上の所定の領域に正確に光学異方性膜及びカラーフィルタ層を形成することができる。従って、構造を複雑化することなく、少ない工程数で製造することができる。
【０１２４】
なお、前記方法では、インクジェット法によるインク吐出を利用して、各微細領域に光学異方性層及びカラーフィルタ層を形成する例を説明したが、インクジェット法以外の、例えば印刷法等を利用して形成してもよい。
【０１２５】
［液晶セル用基板］
本発明は、基板と、その上に、本発明の光学異方性膜とを有する液晶セル用基板にも関する。本発明の液晶セル用基板の一態様は、基板と、液晶セルの視野角補償のための本発明の光学異方性膜と、カラーフィルタ層とを有し、該光学異方性膜が、その下又は上に配置されたカラーフィルタ層の色相に応じて（例えば、Ｒ、Ｇ、Ｂの色ごとに）、液晶セルの視野角補償に最適な光学特性を有する液晶セル用基板である。基板の材料としては透明であれば特に限定はなく、例えば、金属性支持体、金属張り合わせ支持体、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。複屈折が小さいことが望ましく、ガラスや低複屈折性ポリマー等が好ましい。その他、前記基板の表面には、液晶材料に対して配向規制能を有する配向膜、及び透明電極層が形成されていてもよい。
【０１２６】
本発明の液晶セル用基板は、前記光学異方性膜が形成された側と反対外の表面（液晶表示装置内に組み込まれるときは、液晶セル外として配置される側の表面）に、さらに第２の光学異方性層を有していてもよい。第２の光学異方性層は、液晶セル内に配置される本発明の光学異方性膜とともに、液晶セルの光学補償に寄与する。第二の光学異方性層の光学特性は、用いられる液晶表示装置のモードによって好ましい範囲が異なる。例えば、ＶＡモード用の液晶セル基板とする場合は、基板の内側表面に、Ａプレートとしての光学特性を満足する本発明の光学異方性膜を配置し、基板外側表面に負のＣ−プレートとして機能し得る第２の光学異方性層を配置してもよい。
【０１２７】
図２に本発明の液晶セル基板を有する液晶セルの一例の概略断面図を示す。
図２（ａ）に示す液晶セル用基板は、透明基板２１上に、隔壁としてブラックマトリクス２２が形成され、隔壁で隔てられた微細領域内にインクジェット方式により吐出して形成された、パターン状のカラーフィルタ層２３及び光学異方性膜２７が形成されている。さらにその上に透明電極層２５と配向層２６とを有する。図２には、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層２３を形成した態様を示したが、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ（白）の層からなるカラーフィルタ層を形成してもよい。光学異方性膜２７はｒ、ｇ、ｂ領域に分割され、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれのフィルタ層２３の色相に対して、それぞれ最適な位相差特性を有している。
【０１２８】
さらに、図２（ｂ）のように光学異方性膜２７とともに光学補償に寄与する第２の光学異方性層２４を液晶セル基板の外側表面に配置してもよい。第２の光学異方性層２４をセル内の光学異方性膜２７と同じカラーフィルタ側基板側に配置してもよいし、図は省略するが対向基板側に配置してもよい。対向基板側には一般にＴＦＴアレイなどの駆動用電極が配置されていることが多く、対向基板上であればどの位置に配置されてもよいが、ＴＦＴを有するアクティブ駆動型の場合、光学異方性層の耐熱性からシリコン層よりも上であることが好ましい。
【０１２９】
［液晶表示装置］
本発明は、本発明の光学異方性膜を有する液晶表示装置に関する。前記光学異方性膜は、液晶セルの外側であって、液晶セルと偏光子との間に配置してもよいし、上記した通り、液晶セル内に配置してもよい。また、本発明の光学異方性膜とともに光学補償に寄与する第２の光学異方性層をさらに有していてもよい。
図３は本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。
図３（ａ）及び（ｂ）の例はそれぞれ、図２（ａ）及び（ｂ）の基板を上側基板として用い、ＴＦＴ３２付の透明電極層２５及びその上に配向層２６を有するガラス基板２１を対向基板として配置し、その間に液晶３１を挟んだ液晶セル３７を有する液晶表示装置である。液晶セル３７の両側には、セルロースアセテート（ＴＡＣ）フィルム等からなる保護層３４及び３５に挟まれた偏光層３３からなる偏光板３６が配置されている。液晶セル側の保護層３５は光学補償シートとしての光学特性を満足するＴＡＣフィルム等の高分子フィルムであってもよいし、保護層３４と同一の高分子フィルムからなっていてもよい。図には示さないが、反射型液晶表示装置の態様では偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セルの背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろんフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。本液晶表示装置の表示モードは特に制限がなく、全ての透過型、半透過型、及び反射型液晶表示装置に用いることが可能である。中でも色視野角特性改良が望まれるＶＡモードに対して、本発明は効果を発揮する。
【０１３０】
本発明の液晶表示装置の一例は、ＶＡモード液晶表示装置である。ＶＡモード液晶表示装置には、負のＣ−プレート及びＡプレートを光学補償に利用する方式と、二軸性フィルムを一枚光学補償に利用する方式が知られている。本発明の光学異方性膜は、いずれの方式にも利用することができ、前者ではＡプレートして、後者では二軸性フィルムとして利用することができる。前者の態様で、本発明の光学異方性膜と組み合わせて利用される負のＣ−プレートは、一般的には、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚを満足する光学特性を有するものとして理解される。ＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に利用する負のＣ−プレートは、Ｒｔｈ（５５０）が、２０〜３００ｎｍであることが好ましく、５０〜２５０ｎｍであるのがより好ましく、１００〜２５０ｎｍであるのがさらに好ましい。前記負のＣ−プレートは、いずれの材料からなっていてもよい。複屈折性ポリマーフィルムや硬化性液晶組成物から形成された光学異方性層等、いずれも使用することができる。より具体的には、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィルム；液晶ポリマーなどの液晶化合物からなる配向フィルム；液晶材料の配向層をフィルムにて支持した積層体；などが挙げられる。また、二軸延伸処理や直交する二方向に延伸処理等された複屈折を有するフィルム、傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理又は／及び収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどが挙げられる。
【０１３１】
上記では、ＶＡモード液晶表示装置の例を説明したが、本発明の光学異方性膜は、他のモードの液晶表示装置の光学補償にも利用することができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモード又はＦＬＣモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモード又はＨＡＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、米国特許第５８０５２５３号明細書及び国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレットに記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特許第２８６６３７２号公報に記載がある。これらの光学補償シートの代替として利用することができる。
さらにエレクトロルミネセンス装置やフィールドエミッション表示装置などの反射防止の目的にも偏光板と組み合わせて、本発明の光学異方性膜の使用が効果がある。
【実施例】
【０１３２】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
［合成例１：例示化合物Ａ−１の合成例］
４−ブロモ−４’−ヒドロキシビフェニル２３．４ｇとアクリル酸ｎ−ブチル１５．０５を炭酸カリウム１６．５ｇ、酢酸パラジウム２２．５ｍｇ存在下、ジメチルアセトアミド７５ｍｌ中１３０℃で反応させた。反応後、酢酸エチルで希釈し、酢酸エチル相を水洗、カラムクロマトグラフィーで精製することにより、Ｃ−１を得た。
【０１３３】
【化３３】
【０１３４】
公知の合成法で合成した下記の公知化合物Ｃ−２ ２．５３ｇをテトラハイドロフランに溶解させた後、５℃まで冷却。メタンスルホニルクロリド１．１５ｇ及びジイソプロピルエチルアミン１．３０を滴下、室温で１時間半攪拌した後、再び５℃まで冷却。化合物Ｃ−１２．７０ｇ及びジイソプロピルエチルアミン１．３０ｇ及び４−ジメチルアミノピリジン０．１３ｇを添加した。室温で１時間半攪拌した後、反応溶液を酢酸エチルで希釈、水洗した。酢酸エチル相の固形分をカラムクロマトグラフィーで精製し、例示化合物Ａ−１を得た。同定は、ＮＭＲにより行った。
化合物Ａ−１の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）：０．９−１．１、１．３−１．８、１．８−２．１、４．０−４．４、５．７−６．６、６．９−７．１、７．２−７．４、７．５−７．８、８．１−８．３。
【０１３５】
【化３４】
【０１３６】
［合成例２：例示化合物Ｐ−１の合成例］
上記で合成した例示化合物Ａ−１と、例示化合物Ｂ−２とを、アゾイソブチロ二トリル（ＡＩＢＮ）の存在下、ジメチルアセトアミド中で重合することにより、例示化合物Ｐ−１を得た。Ｐ−１の質量平均分子量は４５０００であった。また同定は、ＮＭＲにより行った。
化合物Ａ−１の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）：０．９−１．１、１．３−２．１、３．６−３．９、４．０−４．４、６．３−６．６、６．７−７．４、７．４−７．８、８．１−８．３。
【０１３７】
［実施例１］
（液晶セル用基板の作製）
無アルカリガラス基板上に、ブラックマトリクスを形成した基板を準備した。
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１として用いた。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成した。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
光配向性高分子材料Ｐ−１ ２５．０
１．４−ブタンジオールジアセテート ７４．９８
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．０２
──────────────────────────────────――
【０１３８】
【化３５】
【０１３９】
（カラーフィルタ用組成物）
表２に示す組成の各ＲＧＢ画素用組成物をそれぞれ調製した。
【０１４０】
【表１】
【０１４１】
表２中の組成物の組成は以下の通りである。
［Ｒ顔料分散物−１組成］
──────────────────────────────────――
Ｒ顔料分散物−１組成（質量％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４ ８．０
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５−ビス（３−ジエチルアミノプロピルアミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン ０．８
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、（重量平均分子量３．７万） ８．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ８３．２
──────────────────────────────────――
【０１４２】
［Ｒ顔料分散物−２組成］
──────────────────────────────────――
Ｒ顔料分散物−２組成（質量％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７ １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万） １２．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７０．０
──────────────────────────────────――
【０１４３】
［Ｇ顔料分散物組成］
──────────────────────────────────――
Ｇ顔料分散物組成（質量％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６ １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万） １２．０
シクロヘキサノン ３５．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３５．０
──────────────────────────────────――
【０１４４】
［バインダ１組成］
──────────────────────────────────――
バインダ１組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量４万） ２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１４５】
［バインダ２組成］
──────────────────────────────────――
バインダ２組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３８／２５／３７モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１４６】
［バインダ３組成］
──────────────────────────────────――
バインダ３組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３６／２２／４２モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１４７】
［ＤＰＨＡ組成］
──────────────────────────────────――
ＤＰＨＡ溶液組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製） ７６．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２４．０
──────────────────────────────────――
【０１４８】
（Ｒ層形成用液ＰＰ−Ｒ１の調製）
Ｒ層形成用液ＰＰ−Ｒ１は、まず表２に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ２、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のＥＤ１５２をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ２０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１４９】
（Ｇ層形成用液ＰＰ−Ｇ１の調製）
Ｇ層形成用液ＰＰ−Ｇ１は、まず表２に記載の量のＧ顔料分散物、ＣＦイエローＥＸ３３９３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダ１、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１５０】
（Ｂ層形成用液ＰＰ−Ｂ１の調製）
Ｂ層形成用液ＰＰ−Ｂ１は、まず表２に記載の量のＣＦブルーＥＸ３３５７、ＣＦブルーＥＸ３３８３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ３、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、フェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１５１】
（光学異方性層の作製）
Ｒ用光学異方性層Ｒ−１として、上記で得られた光学異方性層用塗布液ＬＣ−１をピエゾ方式のヘッドを用いてブラックマトリックス（遮光性隔壁）に囲まれたＲ層が形成される予定の凹部に打滴し、１４０℃で２分間加熱乾燥した。さらに熟成後、直ちにこの層に対して偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）した後、１３０℃加熱熟成し、厚さ２．６２．８μｍの光学異方性層Ｒ−１を形成した。
同様にして、Ｇ層及びＢ層用光学異方性層Ｇ−１及びＢ−１をそれぞれ、Ｇ層及びＢ層が形成される予定の微細領域に形成した。打滴量をかえることで、光学異方性層Ｇ−１及びＢ−１のそれぞれの厚みを、２．９μｍ及び２．６μｍとした。
なお、本実施例では、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素に対応する部分に、搬送速度、駆動周波数を制御し、所望するＲ、Ｇ、Ｂに対応する凹部に各光学異方性層用塗布液を打滴した。
【０１５２】
（カラーフィルタ層の作製）
上記で得られたＲ、Ｇ及びＢ層形成用液である、ＰＰ−Ｒ１、ＰＰ−Ｇ１及びＰＰ−Ｂ１を、ピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれた凹部のあらかじめ決められた位置に、打滴を行い、Ｒ層、Ｇ層及びＢ層をそれぞれ形成した。
なお、本実施例では、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素に対応する部分にＲ、Ｇ、Ｂそれぞれ搬送速度、駆動周波数を制御し、所望するＲ、Ｇ、Ｂに対応する凹部に各Ｒ、Ｇ及びＢ層形成用液ＰＰ−Ｒ１、ＰＰ−Ｇ１及びＰＰ−Ｂ１を打滴した。
その後、１００℃にて乾燥させ、さらに２００℃にて１時間熱処理を実施し、光学異方性層上にカラーフィルタ画素を形成した。
【０１５３】
（位相差測定）
ファイバ型分光計を用いた平行ニコル法により、任意の波長λにおける面内レターデーションＲｅ（λ）、及び遅相軸を回転軸として±４０度サンプルを傾斜させたときのレターデーションをそれぞれ測定し、Ｒｔｈ(λ)を算出し、Ｎｚ値も求めた。Ｒ、Ｇ、Ｂに対して波長λは、それぞれ６１１ｎｍ、５４５ｎｍ、４３５ｎｍとして、レターデーションを測定した。
光学異方性層の位相差は、あらかじめ測定した光学異方性層のない基板の透過率データで較正を行うことにより、光学異方性層の位相差のみを求めた。位相差測定結果を表３に示す。表３の値から、形成されたＲ−１、Ｇ−１及びＢ−１の光学異方性層は、二軸性であることが理解できる。
【０１５４】
【表２】
【０１５５】
（透明電極の形成）
上で作製したカラーフィルタ上に透明電極膜（膜厚２０００Å）をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。
【０１５６】
（配向層の形成及び液晶セル形成）
更にその上にポリイミドの配向膜を設けた。次に粒子径５μｍのガラスビーズを散布した。さらにカラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板と１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、貼り合わされたガラス基板を１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。
【０１５７】
（ＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ2Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ，Ｍｎと、ＬａＰＯ4：Ｃｅ，Ｔｂとを重量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置しＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１５８】
［実施例２］
光学異方性層Ｒ−１、Ｇ−１、Ｂ−１がなく、代わりに下側偏光板の液晶セル側の保護フィルム上に、塗布液ＬＣ−１を用いて光学異方性層Ｇ−１を作製したのと同様の方法によって、厚み２．７μｍの光学異方性層を形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例２のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１５９】
［実施例１及び２のＶＡ−ＬＣＤの評価］
作製した液晶表示装置の黒表示の方位角４５度、極角６０度方向視野角における黒表示及び、方位角４５度極角６０度と方位角１８０度極角６０度との色ずれを観察した。
作製した実施例１及び２の液晶表示装置を観察した結果、正面方向及び視野角方向のいずれにおいても、ニュートラルな黒表示が実現することが確認できた。特に実施例１は、視野角方向から観察した際の着色が全くなく、優れていた。
【０１６０】
［実施例３］
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−２の調製）
実施例１の光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製に用いた例示化合物Ｐ−１を、質量平均分子量が１５０００のＰ−１に変更した以外は同様にして、光学異方性層用塗布液ＬＣ−２を調製した。
【０１６１】
（光学異方性層の作製）
実施例１と同様にして、上記で得られた光学異方性層用塗布液ＬＣ−２をピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれたＲ、Ｇ、及びＢ層に対応する凹部に打滴し、１４０℃２分間加熱乾燥した。さらに直ちにこの層に対して、偏光照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）した後、１３０℃で再び加熱し、光学異方性層Ｒ−２、Ｇ−２、Ｂ−２を形成した。
【０１６２】
実施例１と同様にして、カラーフィルタ層、及び透明電極層を形成した。
更にその上にポリイミドの配向膜を設けた。次に粒子径５μｍのガラスビーズを散布した。さらにカラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板と１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、貼り合わされたガラス基板を１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。
この液晶セルの上側偏光板（観察者側）には、特開２００５−１７３５６７号公報に記載の方法に従い作製した負のＣ−プレート付き偏光板を用いた。下側偏光板（バックライト側）には、サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。負のＣ−プレートのＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは２００ｎｍであった。
【０１６３】
（ＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ2Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ，Ｍｎと、ＬａＰＯ4：Ｃｅ，Ｔｂとを重量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、Ｙ２Ｏ３：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置しＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１６４】
（位相差測定）
作製した光学異方性層Ｒ−２、Ｇ−２及びＢ−２のそれぞれの面内レターデーションを上記と同様にして測定した。測定結果を下記表４に示す。表４の値から、形成されたＲ−２、Ｇ−２及びＢ−２の光学異方性層は、Ａプレート様であることが理解できる。
【０１６５】
【表３】
【０１６６】
［実施例４］
光学異方性層Ｒ−２、Ｇ−２、Ｂ−２がなく、代わりに下側偏光板の液晶セル側の保護フィルム上に、塗布液ＬＣ−２を用いてＧ−２の光学異方性層を作製したのと同様の方法によって、光学異方性層を形成した以外は実施例と同様にして、実施例４のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１６７】
［実施例３及び４のＶＡ−ＬＣＤの評価］
作製した液晶表示装置の黒表示の方位角４５度、極角６０度方向視野角における黒表示及び、方位角４５度極角６０度と方位角１８０度極角６０度との色ずれを観察した。
作製した実施例３及び４の液晶表示装置を観察した結果、正面方向及び視野角方向のいずれにおいても、ニュートラルな黒表示が実現することが確認できた。特に実施例３は、視野角方向から観察した際の着色が全くなく、優れていた。
【０１６８】
［実施例５］
実施例３光学異方性層用塗布液ＬＣ−２に、カチオン光重合開始剤を添加し、光配向性高分子材料としてＰ−１の代わりにＰ−６を用いた以外は同様にして、光学異方性層用塗布液ＬＣ−４を調製した。以下に組成を示す。
─────────────────―――─────────────―――
光配向性高分子材料Ｐ−６ ２５．０ 質量％
１．４−ブタンジオールジアセテート ７４．５８質量％
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．０２質量％
カチオン光重合開始剤
（Ｃｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ６９７４、ダウ・ケミカル） ０．４０質量％
─────────────────―――─────────────―――
【０１６９】
実施例１と同様にして、上記で得られた光学異方性層用塗布液ＬＣ−４を用い、ピエゾ方式のヘッドを用いてＲ層が形成される予定の遮光性隔壁に囲まれた凹部に打滴し、１４０℃２分間加熱乾燥した。さらに熟成後直ちにこの層に対して偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）した後、１３０℃加熱熟成し、その後、非偏光ＵＶを照射して硬化させて、厚さ２．６μｍの光学異方性層Ｒ−４を形成した。
同様にして、Ｇ層及びＢ層用光学異方性層Ｇ−４及びＢ−４をそれぞれ、Ｇ層及びＢ層が形成される予定の微細領域に形成した。打滴量をかえることで、光学異方性層Ｇ−４及びＢ−４のそれぞれの厚みを、２．７μｍ及び２．９μｍとした。
その後、実施例１と同様にして、カラーフィルタ層を形成した後、熱処理を２３０℃で行った。その後、実施例１と同様にして、光学異方性層Ｒ−４、Ｇ−４及びＢ−４の面内レターデーションを測定した。結果を下記表に示す。
【０１７０】
【表４】
【０１７１】
［比較例１］
実施例５の塗布液ＬＣ−４の調製において、Ｐ−６の代わりに、特開２００４−２５８４２６号公報に記載の化合物を用い、実施例１と同様にして、光学異方性層を作製した。カラーフィルタ形成後の熱処理を２３０℃で行った後、光学異方性層の位相差を測定したが、位相差が消失していた。
【０１７２】
［実施例６］
（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
配向層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製） ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製） １．４８
蒸留水 ５２．１
メタノール ４３．２１
──────────────────────────────────――
（配向層の作製）
上記で得られた配向層用塗布液ＡＬ−１をピエゾ方式のヘッドを用いて、遮光性隔壁に囲まれた凹部に打滴、乾燥した。配向層は１．６μｍであった。続いて、形成した配向層を左右方向０度に対して斜め４５度方向にラビング処理した。
【０１７３】
（光学異方性層の作製）
実施例１の光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製に用いた例示化合物Ｐ−１を、例示化合物Ｐ−１６に代えた以外は同様にして、光学異方性層用塗布液ＬＣ−５を調製した。
実施例１と同様にして、上記で得られた光学異方性層用塗布液ＬＣ−５をピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれたＲ、Ｇ、及びＢ層に対応する凹部の配向膜上に打滴し、１４０℃２分間加熱乾燥した。さらに直ちにこの層に対して、フィルムに対して左右の方向から偏光照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）した後、１３０℃で再び加熱し、光学異方性層Ｒ−５、Ｇ−５、Ｂ−５を形成した。
【０１７４】
実施例１と同様にして、カラーフィルタ層、及び透明電極層を形成した。
更にその上にポリイミドの配向膜を設けた。次に粒子径５μｍのガラスビーズを散布した。さらにカラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板と１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、貼り合わされたガラス基板を１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。
【０１７５】
（ＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ2Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ，
Ｍｎと、ＬａＰＯ4：Ｃｅ，Ｔｂとを重量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、
Ｙ２Ｏ３：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置しＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１７６】
（位相差測定）
作製した光学異方性層Ｒ−５、Ｇ−５及びＢ−５のそれぞれの面内レターデーションを上記と同様にして測定した。測定結果を下記表４に示す。表４の値から、形成されたＲ−５、Ｇ−５及びＢ−５の光学異方性層は、２軸性を有することが理解できる。
【０１７７】
【表５】
【０１７８】
［実施例６のＶＡ−ＬＣＤの評価］
作製した液晶表示装置の黒表示の方位角４５度、極角６０度方向視野角における黒表示及び、方位角４５度極角６０度と方位角１８０度極角６０度との色ずれを観察した。
作製した実施例６の液晶表示装置を観察した結果、正面方向及び視野角方向のいずれにおいても、ニュートラルな黒表示が実現することが確認できた。
【０１７９】
［実施例７］
（光学異方性層の作製）
実施例１の光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製に用いた例示化合物Ｐ−１を、例示化合物Ｐ−２に代えた以外は同様にして、光学異方性層用塗布液ＬＣ−３を調製した。
実施例１と同様にして、上記で得られた光学異方性層用塗布液ＬＣ−２をピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれたＲ、Ｇ、及びＢ層に対応する凹部に打滴し、１４０℃２分間加熱乾燥した。さらに直ちにこの層に対して、偏光照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）した後、１３０℃で再び加熱し、光学異方性層Ｒ−３、Ｇ−３、Ｂ−３を形成した。
【０１８０】
（位相差測定）
作製した光学異方性層Ｒ−３、Ｇ−３及びＢ−３のそれぞれの面内レターデーションを上記と同様にして測定した。測定結果を下記表５に示す。表５の値から、形成されたＲ−３、Ｇ−３及びＢ−３の光学異方性層は、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙであることが理解できる。
【０１８１】
【表６】
【０１８２】
（ＩＰＳモード液晶セルの作製）
上記のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。
別に用意した一枚のガラス基板上に、液晶素子画素領域に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９及び誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。
【０１８３】
（光学異方性膜Ｂ−１の作製）
＜セルロースアセテート溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
＜セルロースアセテート溶液Ａ組成＞
酢化度２．８６のセルロースアセテート １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
【０１８４】
＜マット剤分散液の調製＞
平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤分散液を調製した。
＜マット剤分散液組成＞
平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ａ １０．３質量部
【０１８５】
＜添加剤溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０１８６】
＜添加剤溶液組成＞
光学異方性を低下させる化合物（Ａ−０１） ４９．３質量部
波長分散調整剤（ＵＶ−０１） ７．６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ １２．８質量部
なお、Ａ−０１のＬｏｇＰ値はそれぞれ２．９である。
【０１８７】
【化３６】
【０１８８】
＜セルロースアセテートフィルムの作製＞
上記セルロースアセテート溶液Ａを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、ドープを調製した。このドープ中、光学異方性を低下させる化合物及び波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．８％であった。
このドープを、流延機を用いてバンド上に流延し、残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させセルロースアセテートフィルムを製造した。得られたセルロースアセテートフィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍであった。
また、このフィルムのＲｅ（６３０）は０．３ｎｍ、Ｒｔｈ（６３０）は３．２ｎｍ、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜は１．２ｎｍ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜は７．５ｎｍ、フィルムのＴｇは１３４．３℃、フィルムのヘイズは０．３４％、ΔＲｔｈ（１０％ＲＨ−８０％ＲＨ）は２４．９ｎｍであった。このフィルムを光学異方性膜Ｂ−１とした。
【０１８９】
（光学異方性膜Ｂ−１つき偏光板１の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、市販のセルロースアセテートフィルム（富士フイルム（株）製、フジタックＴＤ８０ＵＦ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、この偏光膜の一方に貼り付け、もう片方に光学異方性膜Ｂ−１を貼り付け偏光板１を形成した。
【０１９０】
（ＩＰＳ−ＬＣＤの作製）
前記で作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、偏光板１の偏光膜の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように貼り付け、及びＩＰＳモード液晶セルのもう一方の側に偏光板1を貼り付け、液晶表示装置を作製した。
作製した液晶表示装置の黒表示の方位角４５度、極角６０度方向視野角における黒表示及び、方位角４５度極角６０度と方位角１８０度極角６０度との色ずれを観察した。
作製した実施例７のＩＰＳ−ＬＣＤを観察した結果、正面方向及び視野角方向のいずれにおいても、ニュートラルな黒表示が実現することが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【０１９１】
【図１】本発明の光学異方性膜の製造方法の一例を説明するのに用いた概略模式図である。
【図２】本発明の液晶セル用基板を有する液晶セルの一例の概略断面図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。
【符号の説明】
【０１９２】
１１ 透明基板
１２ ブラックマトリックス（隔壁）
１３ 光学異方性層
１４ カラーフィルタ層
２１ 被転写基板
２２ ブラックマトリクス（隔壁）
２３ カラーフィルタ層
２４ ベタ光学異方性層
２５ 透明電極層
２６ 配向層
２７ パターニング光学異方性層
３１ 液晶
３２ ＴＦＴ
３３ 偏光層
３４ セルロースアセテートフィルム（偏光板保護フィルム）
３５ セルロースアセテートフィルム、又は光学補償シート
３６ 偏光板
３７ 液晶セル
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学異方性膜、その製造方法、及びそれを用いた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置として、種々のモードの液晶表示装置が提案されている。中でもＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）モードは、広視野角モードとして全方位にわたり広いコントラスト視野角特性を有するようになり、テレビ用途として既に家庭に普及しており、さらには近年３０インチを超える大サイズディスプレイも登場してきた。ＶＡモード液晶表示装置では、黒表示時の斜め方向に生じる光漏れ及びカラーシフトを軽減するため、種々の特性の光学異方性膜等が光学補償に利用されている。
【０００３】
例えば、ＶＡモード液晶表示装置の色視野角特性の改善に寄与する光学補償シートとして、所定の光学特性を満足する位相差板が提案され、その材料として変性ポリカーボネートが用いられている（特許文献１）。
また、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色に対して独立に補償する方式も提案されている（特許文献２、特許文献３、特許文献４、特許文献５、特許文献６、特許文献７）。これは主に液晶セル内にカラーフィルタなどと一緒に位相差層をパターニングする方法により実現される。しかしながら、液晶セル内で位相差層をパターニングするためには、例えば、セル内で配向膜層の形成、ラビング処理、重合性液晶組成物の塗布、配向、固定化、及びレジスト層の形成、エッチング処理、レジスト層の剥離除去など煩雑な操作が必要であり、そのため、光学的に均一な位相差特性を有する光学異方性層を形成することは困難である。また、レジストパターンを形成する際にもたらされる熱やフォトレジスト溶媒のため、位相差層の位相差がエッチングの前後で変化してしまう場合があり、問題があった。
【０００４】
一方、位相差フィルムの材料として、光照射と加熱による分子運動とそれに基づく分子配向により複屈折を誘起する材料であって、ナフチルアクリロイルまたはその誘導体、もしくはビフェニルアクリロイルまたはその誘導体を含有することを特徴とする複屈折誘起材料が提案されている（特許文献９、特許文献１０）。
【特許文献１】特開２００４−３７８３７号公報
【特許文献２】ＧＢ２３９４７１８
【特許文献３】特開２００４−２４０１０２号公報
【特許文献４】特開２００５−４１２４号公報
【特許文献５】特開２００５−２４９１９号公報
【特許文献６】特開２００５−２４９２０号公報
【特許文献７】特開２００６−７８６４７号公報
【特許文献８】特開２００６−６４８５８号公報
【特許文献９】特開２００４−２５８４２６号公報
【特許文献１０】特開２００６−３０８８７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
この複屈折誘起材料を用いれば、パターニング技術を利用しなくても、液晶セル内の、各画素に対応する微細領域に、所望の光学特性の位相差層を形成できる。
しかしながら、本発明者らが検討した結果、上記特許文献９及び１０で提案されている材料では、光学補償に必要な所望の位相差が得られない場合があり、また、液晶セルの作製工程中に施される加熱処理、溶媒処理等の種々の処理によって、位相差が変化してしまうという問題があることがわかった。
本発明は、液晶表示装置の光学補償等に有用な、新規な光学異方性膜、及びその製造方法、及びその作製に用いられる高分子化合物を提供することを課題とする。
また、本発明は、液晶セル内に容易に形成可能であり、しかも光学特性の変動が軽減された光学異方性膜を提供することを課題とする。
また、本発明は、液晶セルが正確に光学的に補償され、且つ生産性に優れ、色視野角特性が改善された液晶表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
［１］ 下記式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学異方性膜。
【化１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し；Ｘは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；Ａは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は置換もしくは無置換のフェニレン基、オキサジアゾール基又はアルキニレン基を表し；Ｚは、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し；ｎ１、ｎ２及びｎ３は０〜４の整数を表し；ならびにｌ、ｍ及びｎは０〜４の整数を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基又はアリール基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基。）
【０００７】
［２］ 前記化合物が、前記一般式（１）で表される部分構造を側鎖中に有する高分子化合物であることを特徴とする［１］の光学異方性膜。
［３］ 前記高分子が、下記一般式（２）で表される繰り返し単位を有することを特徴とする［１］の光学異方性膜。
【化２】
（式中、Ｒ4は、水素原子又は置換基を表し、その他の記号については、前記一般式（１）中のそれぞれと同義である。）
【０００８】
［４］ 前記高分子化合物が、下記一般式（５）及び／又は下記一般式（７）で表される繰り返し単位を有することを特徴とする［２］又は［３］の光学異方性膜。
【化３】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基を表す。）
【化４】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基を表し、Ｓ6は二価の連結基を表し、Ｐ1は重合性基を示す。）
【０００９】
［５］ 前記化合物を含有する組成物に少なくとも偏光を照射して形成されたことを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの光学異方性膜。
［６］ 波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、２０ｎｍ〜３００ｎｍであることを特徴とする［５］の光学異方性膜。
［７］ 正のＡプレートであることを特徴とする［５］又は［６］の光学異方性膜。
［８］ Ｎｚ値（但し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＋０．５；Ｒｔｈ（５５０）は波長５５０ｎｍの厚み方向のレターデーションであり、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションである）が１．１〜７．０であることを特徴とする［５］又は［６］の光学異方性膜。
［９］ ラビング処理面上で前記化合物を含有する組成物に少なくとも偏光を照射して形成されたことを特徴とする［１］〜［４］のいずれかの光学異方性膜。
［１０］ Ｎｚ値が１．１〜７．０であることを特徴とする［９］の光学異方性膜。
［１１］ Ｎｚ値が０．１〜０．９であることを特徴とする［５］又は［６］の光学異方性膜。
［１２］ 基板と、該基板上に［１］〜［１１］のいずれかの光学異方性膜とを有する液晶セル用基板。
［１３］ ［１］〜［１１］のいずれかの光学異方性膜を有する液晶表示装置。
［１４］ ＶＡモード液晶表示装置であることを特徴とする［１３］の液晶表示装置。
［１５］ ＩＰＳモード液晶表示装置であることを特徴とする［１３］の液晶表示装置。
［１６］ 前記光学異方性膜を、液晶セル内に有することを特徴とする［１３］〜［１５］のいずれかの液晶表示装置。
［１７］ 前記光学異方性膜が、液晶セル内の各画素に対応する各領域に配置されていることを特徴とする［１６］の液晶表示装置。
［１８］ ［７］の光学異方性膜からなる第１の光学異方性層と、Ｒｔｈ（５５０）が２０〜３００ｎｍである第２の光学異方性層とを有することを特徴とする［１３］〜［１７］のいずれかの液晶表示装置。
［１９］ ［１］中に記載の一般式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも含有する組成物に、少なくとも偏光を照射することで複屈折を発現させることを含む光学異方性膜の製造方法。
［２０］ ［１］中に記載の一般式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも含有する組成物を、ラビング処理面上に配置すること、及び該ラビング処理面のラビング方向と異なる方向から偏光を照射することにより複屈折を発現させることを含む光学異方性膜の製造方法。
【００１０】
［２１］ 下記一般式（２）で表される繰り返し単位を少なくとも有する重合体。
【化５】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し；Ｒ4は、水素原子又は置換基を表し；Ｘは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；Ｚは、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し；ｎ１、ｎ２及びｎ３は０〜４の整数を表し；ならびにｌ、ｍ及びｎは０〜４の整数を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基又はアリール基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基。）
【００１１】
［２２］ 下記一般式（５）及び／又は下記一般式（７）で表される繰り返し単位をさらに有することを特徴とする［２１］の重合体。
【化６】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基を表す。）
【化７】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基を表し、Ｓ6は二価の連結基を表し、Ｐ1は重合性基を示す。）
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、液晶表示装置の光学補償等に有用な、新規な光学異方性膜、及びその製造方法、及びその作製に用いられる高分子化合物を提供することができる。
また、本発明によれば、液晶セル内に容易に形成可能であり、しかも光学特性の変動が軽減された光学異方性膜を提供することができる。
また、本発明によれば、液晶セルが正確に光学的に補償され、且つ生産性に優れ、色視野角特性が改善された液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明について詳細に説明する。
尚、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。また、本明細書において、重合体には、１種類のモノマーからなる重合体のほか、２種類以上のモノマーからなるいわゆる共重合体も含む趣旨である。また、本明細書において、アルキル基等の「基」は、特に述べない限り、置換基を有していてもよいし、置換基を有していなくてもよい。よって、例えば、「炭素数Ａ〜Ｂのアルキル基」と言う場合、該アルキル基は、置換基を有していてもよいし、有していなくてもよい。また、置換基を有する場合は、該置換基中の炭素数も、炭素数Ａ及びＢに含まれると解釈する。
【００１４】
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のリターデーション（ｎｍ）及び厚さ方向のリターデーション（ｎｍ）を表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定するができる。測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１１）及び式（１２）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１５】
【数１】
注記：
上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表し、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
【００１６】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００１７】
また、Ｒｔｈの符号は面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋２０°傾斜した方向から波長５５０ｎｍの光を入射させて測定した位相差がＲｅを超える場合を正とし、Ｒｅを下回る場合を負とする。但し、｜Ｒｔｈ／Ｒｅ｜が９以上の試料では、回転自由台座付きの偏光顕微鏡を用いて、面内の進相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した状態で、偏光板の検板を用いて決定できる試料の遅相軸がフィルム平面に平行にある場合を正とし、また遅相軸がフィルムの厚み方向にある場合を負とする。
【００１８】
また、本明細書におけるλは、Ｒ、Ｇ、Ｂに対してそれぞれ６１１±５ｎｍ、５４５±５ｎｍ、４３５±５ｎｍを指し、特に色に関する記載がなければ５４５±５ｎｍ又は５９０±５ｎｍを指す。
また、本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。レターデーションについて「実質的に」とは、レターデーションが±５％以内の差であることを意味する。さらに、Ｒｅが０でないとは、Ｒｅが５ｎｍ以上であることを意味する。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、波長５５０ｎｍを指す。また、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００〜７００ｎｍの光のことをいう。
【００１９】
［光学異方性膜］
本発明は、下記式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学異方性膜に関する。下記部分構造は偏光照射によって配向し、複屈折を発現する。したがって、配向膜がなくても、所望の光学特性を示す光学異方性膜を形成することができ、例えば、パターニングなどの技術を利用せずに、微細な光学異方性膜を形成可能である。
【００２０】
【化８】
【００２１】
式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し；Ｘは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；Ａは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は置換もしくは無置換のフェニレン基、オキサジアゾール基又はアルキニレン基を表し；Ｚは、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し；ｎ１、ｎ２及びｎ３は０〜４の整数を表し；ｍ及びｎは０〜４の整数を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基又はアリール基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基。
【００２２】
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3で表される置換基としては以下の基を挙げることができる。
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００２３】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００２４】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００２５】
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3で表される置換基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基、又はハロゲン原子であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、又はハロゲン原子であり、さらに好ましくはアルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子である。Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子であるのが好ましい。
ｎ１、ｎ２及びｎ３はそれぞれ０〜３であるのが好ましく、０〜２であるのが好ましい。即ち、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が存在しない（ｎ１、ｎ２又はｎ３は０）か、又はＲ1、Ｒ2及びＲ3がそれぞれ存在する場合は、アルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子であるのが好ましい。
【００２６】
Ｘは、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−、アルキレン基、又はアリーレン基を含むことが好ましく、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−、アルキレン基を含んでいることが特に好ましく、−Ｏ−、−ＣＯ−、アルキレン基を含んでいることがよりさらに好ましい。Ｘがアルキレン基を含む場合、アルキレン基の炭素数は好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、特に好ましくは１〜６である。特に好ましいアルキレン基の具体例には、メチレン、エチレン、トリメチレン、テトラブチレン、ヘキサメチレン基が含まれる。Ｘが、アリーレン基を含む場合、アリーレン基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリーレン基の具体例として、フェニレン、ナフタレン基等が挙げられる。Ｘが、アルキレン基とアリーレン基を組み合わせて得られる２価の連結基（即ちアラルキレン基）を含む場合、アラルキレン基の炭素数は、好ましくは７〜３４、より好ましくは７〜２６、特に好ましくは７〜１６である。特に好ましいアラルキレン基の具体例として、フェニレンメチレン基、フェニレンエチレン基、メチレンフェニレン基等が挙げられる。Ｘとして挙げられた基は、適当な置換基を有していてもよい。
ｌは、０〜４の整数を表し、好ましくは０又は１である。
【００２７】
Ａは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、フェニレン基、オキサジアゾール基、アルキニレン基を表す。ｎは０〜４の整数を表し、好ましくは０又は１である。ｎが０の場合は、二つのベンゼン環は、単結合によって結合したビフェニル構造となる。フェニレン基は置換基を有していてもよく、該置換基の例は、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の例と同様であり、好ましい例も同様である。
【００２８】
また、Ｚは、置換もしくは無置換の、アルキル基又はアリール基を表す。Ｚで表されるアルキル基の炭素数は好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜８、特に好ましくは１〜６である。アルキル基は、分岐していてもまた環状であってもよい。Ｚで表されるアリール基の炭素数は、好ましくは６〜２４、より好ましくは６〜１８、特に好ましくは６〜１２である。特に好ましいアリール基の具体例として、フェニル基、ナフタレン基等が挙げられる。Ｚは好ましくはアルキル基である。Ｚで表されるアルキル基、アリール基は置換基を有していてもよく、該置換基の例には、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の例が含まれる。Ｚが置換基を有するアルキル基又はアリール基である場合は、該置換基は、重合性基を含んでいてもよい。重合性基を含んでいると、硬膜性が高くなり、また光学特性の変動もより軽減できるので好ましい。また、前記化合物は重合性基を２以上含んでいてもよく、例えば、一方の末端であるＺ中に重合性基を含むとともに、他末端であるＸ側の末端部にも重合性基を有していてもよい。
重合性基としては特に限定されないが、付加重合（開環重合を含む）反応又は縮合重合反応が可能な重合性基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。
【００２９】
【化９】
【００３０】
重合性基としては、ラジカル重合又はカチオン重合する重合性基が好ましい。ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、（メタ）アクリレート基を挙げることができる。カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、ビニルオキシ基などを挙げることができる。なかでも脂環式エーテル基、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基が特に好ましい。上記した通り、前記化合物は、重合性基を２種以上含んでいてもよく、その場合は、ラジカル重合性基とカチオン重合性基等、重合反応機構が異なる重合性基を有しているのが好ましい。
【００３１】
ｍは０〜４の整数を表し、好ましくは０又は１である。
【００３２】
以下に、前記一般式（１）の構造を有する化合物の具体例を挙げるが、以下の具体例に限定されるものではない。
【００３３】
【化１０】
【００３４】
【化１１】
【００３５】
本発明の光学異方性膜の形成には、Ａ−１〜Ａ−１０に示す様な重合性モノマーを、そのまま用いてもよいし、一旦、単独で重合させた重合体もしくは他の重合性モノマーと共重合させた重合体を用いてもよい。また、上記具体例中、例えばＡ−１０の様に、２種の重合性基、例えば、一方はラジカル重合性基で他方はカチオン重合性基、を有するモノマーについて、一般式（１）の部分構造には含まれない重合性基（例示化合物Ａ−１０ではラジカル重合性基）を重合させて得られた重合体を、光学異方性膜の形成に用いると、前記式（１）の部分構造を偏光照射等によって配向させた後、他の重合性基（例示化合物Ａ−１０ではカチオン重合性基）を重合させることで、より耐久性に優れた光学異方性膜が得られるので好ましい。
【００３６】
本発明の光学異方性膜の形成に用いられる化合物の一例は、前記一般式（１）で表される部分構造を側鎖中に有する高分子化合物であり、具体的には、前記一般式（１）で表される部分構造を有する繰り返し単位を含む重合体である。好ましくは、下記一般式（１）’で表される繰り返し単位を有する重合体であり、より好ましくは、下記一般式（２）で表される繰り返し単位を有する重合体である。
【００３７】
【化１２】
【００３８】
【化１３】
【００３９】
前記式中、Ｒ4は、水素原子又は置換基を表し、その他の記号については、前記一般式（１）中のそれぞれと同義であり、好ましい範囲も同様である。
Ｒ4が表す置換基の例は、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3が表す置換基の例として上記で例示したものと同様である。Ｒ4は、水素原子又はアルキル基であるのが好ましく、水素原子又はメチル基であるのがより好ましい。
【００４０】
前記重合体は、前記一般式（１）’又は（２）で表される繰り返し単位の１種のみからなっていてもよいし、２種以上からなっていてもよい。また、前記重合体は、前記一般式（１）’又は（２）で表される繰り返し単位以外の繰り返し単位を１種又は２種以上有していてもよい。前記他の繰り返し単位については特に制限されず、種々のラジカル重合反応可能なモノマーから誘導される繰り返し単位から選択するのが好ましい。
以下、他の繰り返し単位を誘導するモノマーの具体例を挙げる。
【００４１】
モノマー群
（１）アルケン類
エチレン、プロピレン、１−ブテン、イソブテン、１−ヘキセン、１−ドデセン、１−オクタデセン、１−エイコセン、ヘキサフルオロプロペン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデンなど；
（２）ジエン類
１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ペンタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、２−ｎ−プロピル−１，３−ブタジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−メチル−１，３−ペンタジエン、１−フェニル−１，３−ブタジエン、１−α−ナフチル−１，３−ブタジエン、１−β−ナフチル−１，３−ブタジエン、２−クロロ−１，３−ブタジエン、１−ブロモ−１，３−ブタジエン、１−クロロブタジエン、２−フルオロ−１，３−ブタジエン、２，３−ジクロロ−１，３−ブタジエン、１，１，２−トリクロロ−１，３−ブタジエン及び２−シアノ−１，３−ブタジエン、１，４−ジビニルシクロヘキサンなど；
【００４２】
（３）α，β−不飽和カルボン酸の誘導体
（３ａ）アルキルアクリレート類
メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ｎ−ヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｔｅｒｔ−オクチルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート、２−クロロエチルアクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−クロロブチルアクリレート、２−シアノエチルアクリレート、２−アセトキシエチルアクリレート、メトキシベンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリレート、フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールアクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、３−メトキシブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、２−ブトキシエチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルアクリレート、１−ブロモ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロロ−２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレートなど）；
【００４３】
（３ｂ）アルキルメタクリレート類
メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ｎ−ヘキシルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、フェニルメタクリレート、アリルメタクリレート、フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメタクリレート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メトキシブチルメタクリレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタクリレート（ポリオキシエチレンの付加モル数：ｎ＝２ないし１００のもの）、２−アセトキシエチルメタクリレート、２−エトキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタクリレート、２−（２−ブトキシエトキシ）エチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、３−トリメトキシシリルプロピルメタクリレート、アリルメタクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレートなど；
【００４４】
（３ｃ）不飽和多価カルボン酸のジエステル類
マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジブチル、イタコン酸ジメチル、タコン酸ジブチル、クロトン酸ジブチル、クロトン酸ジヘキシル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジメチルなど；
【００４５】
（３ｄ）α、β−不飽和カルボン酸のアミド類
Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ｎ−プロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−ｔｅｒｔオクチルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−（２−アセトアセトキシエチル）アクリルアミド、Ｎ−ベンジルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、ジアセトンアクリルアミド、Ｎ−メチルマレイミドなど；
【００４６】
（４）不飽和ニトリル類
アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど；
（５）スチレン及びその誘導体
スチレン、ビニルトルエン、エチルスチレン、ｐ−ｔｅｒｔブチルスチレン、ｐ−ビニル安息香酸メチル、α−メチルスチレン、ｐ−クロロメチルスチレン、ビニルナフタレン、ｐ−メトキシスチレン、ｐ−ヒドロキシメチルスチレン、ｐ−アセトキシスチレンなど；
（６）ビニルエステル類
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロロ酢酸ビニル、メトキシ酢酸ビニル、フェニル酢酸ビニルなど；
【００４７】
（７）ビニルエーテル類
メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルビニルエーテル、ｎ−ペンチルビニルエーテル、ｎ−ヘキシルビニルエーテル、ｎ−オクチルビニルエーテル、ｎ−ドデシルビニルエーテル、ｎ−エイコシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、フルオロブチルビニルエーテル、フルオロブトキシエチルビニルエーテルなど；及び
（８）その他の重合性単量体
Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルケトン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケトン、２−ビニルオキサゾリン、２−イソプロペニルオキサゾリンなど。
【００４８】
特に好ましくは、下記一般式（５）で表される繰り返し単位である。
【００４９】
【化１４】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基を表す。）
Ｒ5が表す置換基の例には、前記一般式（１）中のＲ1等の置換基の例として例示したものが含まれる。中でも、アルキル基又はハロゲン原子が好ましい。
Ｒ5は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、塩素原子がより好ましく、水素原子、メチル基がさらに好ましい。
【００５０】
Ｓ5は、好ましくは、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、２価の複素環残基、−ＣＯ−、−ＮＲ15−（Ｒ15は炭素数が１〜６のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。アルキレン基の炭素数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、可能であれば、置換基（アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基等）によって置換されていてもよいが、無置換であることが好ましい。
Ｓ5としては、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ15−（Ｒ15は炭素数が１〜６のアルキル基又は水素原子）、アルキレン基又はアリーレン基を含んでいることが好ましく、−Ｏ−、−ＣＯ−、アルキレン基又はアリーレン基を含んでいることが特に好ましい。さらに、Ｓ5は、−Ｏ−、−ＣＯ−、アルキレン基又はアリーレン基のみから構成されていることが好ましい。
【００５１】
Ｍ5で表されるメソゲン基としては、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）などに記載の構造を用いることができる。
より好ましくは、下記一般式（６）で表されるメソゲン基である。
【００５２】
【化１５】
【００５３】
一般式（６）中、Ｌ1及びＬ2は、それぞれ、単結合又は二価の連結基を表し、Ｃｙ1、Ｃｙ2及びＣｙ3は、それぞれ、二価の環状基を表し、ｐは０〜２の整数を表す。ｐが２の場合、２つのＬ2は同じであっても異なっていてもよく、２つのＣｙ2も同じであっても異なっていてもよい。
【００５４】
一般式（６）中、Ｌ1又はＬ2は、好ましくは、それぞれ、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ16−、二価の鎖状基、二価の環状基及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基、又は、単結合である。上記Ｒ16は、炭素数１〜７のアルキル基又は水素原子であり、炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基又は水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることが最も好ましい。
二価の鎖状基は、アルキレン基、アルケニレン基又はアルキニレン基が好ましく、これらは、置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子が好ましい。アルキレン基又はアルケニレン基が好ましく、無置換のアルキレン基又は無置換のアルケニレン基がさらに好ましい。アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素数は１〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素数は２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。
【００５５】
アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素数は２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましい。
二価の鎖状基の具体例としては、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、２−メチル−テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、２−ブテニレン基、２−ブチニレン基などが挙げられる。
二価の環状基は、後述するＣｙ1、Ｃｙ2及びＣｙ3と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【００５６】
一般式（６）においてｐは、０又は１であることが好ましい。
【００５７】
一般式（６）において、Ｃｙ1、Ｃｙ2及びＣｙ3は、それぞれ独立に二価の環状基である。環状基に含まれる環は、５員環、６員環又は７員環であることが好ましく、５員環又は６員環であることがより好ましく、６員環であることがさらに好ましい。環状基に含まれる環は、単環でも縮合環でもよく、単環が好ましい。環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環及び複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環及びナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環及びピリミジン環が含まれる。ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレン基が好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイル基及びナフタレン−２，６−ジイル基が好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレン基であることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイル基が好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイル基が好ましい。
環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜５のアルキル基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜５のアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、炭素数１〜５のアルキルチオ基、炭素数２〜６のアシルオキシ基、炭素数２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素数２〜６のアルキル基で置換されたカルバモイル基及び炭素数が２〜６のアシルアミノ基が含まれる。
【００５８】
上記一般式（５）で表される繰り返し単位の中でも、下記一般式（７）で表される繰り返し単位が好ましい。
【００５９】
【化１６】
【００６０】
式中、前記一般式(５)中の記号と同一の記号は、それぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｓ6は二価の連結基を表し、前記一般式(５)中のＳ5と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｐ1は重合性基を示す。Ｐ1で表される重合性基の例には、前記一般式（１）中のＺに含まれる重合性基の例として例示したものが含まれ、その好ましい範囲も同一である。
【００６１】
以下に、他の繰り返し単位を誘導するモノマーの具体例を挙げるが、以下の具体例に限定されるものではない。
【００６２】
【化１７】
【００６３】
【化１８】
【００６４】
前記重合体中、前記一般式（１）で表される部分構造を有する繰り返し単位は、全繰り返し単位の総量の３ｍｏｌ％以上であるのが好ましく、５ｍｏｌ％以上であるのが特に好ましく、１０ｍｏｌ％以上であるのがさらに好ましい。勿論、該繰り返し単位が１００モル％であってもよいが、光学異方性の発現性の点では他の繰り返し単位を含んでいるのが好ましく、具体的には、他の繰り返し単位を１０〜９７モル％程度含んでいるのが好ましい。
特に、後述するＮｚ値を高めるためには、前記一般式（１）で表される部分構造を有する繰り返し単位のｍｏｌを上げてゆけばよい。該Ｎｚ値が１．１〜７．０である光学異方性膜の形成に用いる重合体は、前記一般式（１）で表される部分構造を有する繰り返し単位を、１６〜７５ｍｏｌ％含有しているのが好ましい。
【００６５】
以下に、前記一般式（１）で表される部分構造を有する繰り返し単位（一般式（１）’及び（２）で表される繰り返し単位）を含む重合体の具体例を挙げるが、以下の具体例に制限されるものではない。尚、式中の数字は各繰り返し単位のモル百分率を示す。
【００６６】
【化１９】
【００６７】
【化２０】
【００６８】
【化２１】
【００６９】
前記一般式（１）で表される部分構造を有する重合体、例えば、一般式（１）’及び（２）で表される繰り返し単位を有する重合体は、種々の方法で製造することができる。例えば、ビニル基を利用したカチオン重合やラジカル重合、又は、アニオン重合などの重合方法を用いることができ、これらの中ではラジカル重合が汎用に利用でき、特に好ましい。ラジカル重合の重合開始剤としては、ラジカル熱重合開始剤やラジカル光重合開始剤などの公知の化合物を使用することができるが、特に、ラジカル熱重合開始剤を使用することが好ましい。ここで、ラジカル熱重合開始剤は、分解温度以上に加熱することにより、ラジカルを発生させる化合物である。このようなラジカル熱重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキサイド（アセチルパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイドなど）ケトンパーオキサイド（メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイドなど）、ハイドロパーオキサイド（過酸化水素、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイドなど）、ジアルキルパーオキサイド（ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイドなど）パーオキシエステル類（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレートなど）、アゾ系化合物（アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリルなど）、過硫酸塩類（過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム、過硫酸カリウムなど）が挙げられる。このようなラジカル熱重合開始剤は、一種を単独で使用することもできるし、或いは二種以上を組み合わせて使用することもできる。
【００７０】
上記ラジカル重合方法は、特に制限されるものではなく、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法、溶液重合法などを取ることができる。典型的なラジカル重合方法である溶液重合については、さらに具体的に説明する。他の重合方法についても概要は同等であり、その詳細は例えば「高分子化学実験法」高分子学会編（東京化学同人、１９８１年）などに記載されている。
【００７１】
上記溶液重合を行うためには有機溶媒を使用する。これらの有機溶媒は本発明の目的、効果を損なわない範囲で任意に選択可能である。これらの有機溶媒は通常、大気圧下での沸点が５０〜２００℃の範囲内の値を有する有機化合物であり、各構成成分を均一に溶解させる有機溶媒が望ましい。好ましい有機溶媒の例を示すと、イソプロパノール、ブタノール等のアルコール類、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。なお、これらの有機溶媒は、一種単独又は二種以上を組み合わせて用いることができる。さらに、モノマーや生成するポリマーの溶解性の観点から上記有機溶媒に水を併用した水混合有機溶媒も適用可能である。
【００７２】
また、溶液重合条件も特に制限されるものではないが、例えば、５０〜２００℃の温度範囲内で１０分〜３０時間加熱することが望ましい。さらに、発生したラジカルが失活しないように、溶液重合中はもちろんのこと、溶液重合開始前にも不活性ガスパージを行うことが望ましい。不活性ガスとしては通常窒素ガスが好適に用いられる。
【００７３】
前記重合体を好ましい分子量範囲で得るためには、連鎖移動剤を用いたラジカル重合法を利用するのが有効である。上記連鎖移動剤としては、メルカプタン類（例えば、オクチルメルカプタン、デシルメルカプタン、ドデシルメルカプタン、ｔｅｒｔ−ドデシルメルカプタン、オクタデシルメルカプタン、チオフェノール、ｐ−ノニルチオフェノールなど）、ポリハロゲン化アルキル（例えば、四塩化炭素、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，１−トリブロモオクタンなど）、低活性モノマー類（α−メチルスチレン、α−メチルスチレンダイマーなど）のいずれも用いることができるが、好ましくは炭素数４〜１６のメルカプタン類である。これらの連鎖移動剤の使用量は、連鎖移動剤の活性やモノマーの組み合わせ、重合条件などにより著しく影響され、精密な制御が必要であるが、通常は使用するモノマーの全モル数に対して０．０１ｍｏｌ％〜５０ｍｏｌ％程度であり、好ましくは０．０５ｍｏｌ％〜３０ｍｏｌ％、特に好ましくは０．０８ｍｏｌ％〜２５ｍｏｌ％である。これらの連鎖移動剤は、重合過程において重合度を制御するべき対象のモノマーと同時に系内に存在させればよく、その添加方法については特に問わない。モノマーに溶解して添加してもよいし、モノマーと別途に添加することも可能である。
【００７４】
前記重合体の分子量については特に制限はないが、一般的に高分子として認識される分子量１００００以上の範囲であるのは勿論のこと、分子量が１０００以上１００００未満の準高分子として認識される範囲、及び重合度が２〜２０程度のオリゴマーとして認識される範囲も含むものとする（岩波理化学辞典、第３版増補版、玉虫文一ら編集、４４９頁、岩波書店、１９８２）。即ち、本明細書で「高分子」及び「重合体」というときは、分子量が１０００以上で、かつ重合度が２０以上であるものを意味するものとする。前記重合体は、質量平均分子量は１，０００〜１，０００，０００であることが好ましく、１，０００〜５００，０００であることが特に好ましく、５，０００〜１００，０００であることがよりさらに好ましい。上記質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて、ポリスチレン（ＰＳ）換算の値として測定できる。
特に、後述するＮｚ値を上げるためには、一般式（１）で表される部分構造を有する重合体の分子量を上げて行けばよい。該Ｎｚ値が１．１〜７．０である光学異方性膜の形成に用いられる重合体は、その質量平均分子量が、２００００〜２５００００であることが好ましい。
【００７５】
本発明の光学異方性膜は、前記一般式（１）で表される部分構造を有する化合物のみからなっていてもよいし、前記一般式（１）で表される部分構造を有する化合物以外の材料を、本発明の効果を損なわない範囲で含んでいてもよい。前記光学異方性膜中、前記一般式（１）で表される部分構造を有する化合物の含有量は、５０〜１００質量％であるのが好ましく、８０〜１００質量％であるのがより好ましい。
前記光学異方性膜は、例えば、液晶性化合物の少なくとも一種を含んでいてもよい。
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本態様では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、重合性基を有する棒状液晶性化合物がより好ましく、２種以上を併用する場合、少なくとも１つは１液晶分子中の重合性基が２以上あることがさらに好ましい。
【００７６】
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。上記高分子液晶性化合物は、低分子の重合性基を有する棒状液晶性化合物が重合した高分子化合物である。特に好ましく用いられる上記低分子の重合性基を有する棒状液晶性化合物としては、下記一般式（Ｉ）で表される棒状液晶性化合物である。
【００７７】
一般式（Ｉ）：Ｑ1−Ｌ1−Ａ1−Ｌ3−Ｍ−Ｌ4−Ａ2−Ｌ2−Ｑ2
式中、Ｑ1及びＱ2はそれぞれ独立に、反応性基であり、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基を表すが、Ｌ3及びＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−又はＯ−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。Ａ1及びＡ2はそれぞれ独立に、炭素原子数２〜２０のスペーサ基を表す。Ｍはメソゲン基を表す。
【００７８】
以下に、上記一般式（Ｉ）で表される重合性基を有する棒状液晶性化合物についてさらに詳細に説明する。式中、Ｑ1及びＱ2は、それぞれ独立に、重合性基である。重合性基は付加重合反応又は縮合重合反応が可能な重合性基であることが好ましい。例えば、前記一般式（１）の部分構造中（具体的にはＺ中）に重合性基を有する場合は、該重合性基と重合反応可能な重合性基であってもよい。以下に重合性基の例を示す。
【００７９】
【化２２】
【００８０】
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3及びＬ4で表される二価の連結基としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ2−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＮＲ2−、−ＮＲ2−ＣＯ−Ｏ−、及びＮＲ2−ＣＯ−ＮＲ2−からなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ2は炭素原子数が１〜７のアルキル基又は水素原子である。この場合、Ｌ3及びＬ4の少なくとも一方は、−Ｏ−又はＯ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）であることが好ましい。前記式（Ｉ）中、Ｑ1−Ｌ1及びＱ2−Ｌ2−は、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＯ−Ｏ−及びＣＨ2＝Ｃ（Ｃｌ）−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−が最も好ましい。
【００８１】
Ａ1及びＡ2は、炭素原子数２〜２０を有するスペーサ基を表す。炭素原子数２〜１２の脂肪族基が好ましく、特にアルキレン基が好ましい。スペーサ基は鎖状であることが好ましく、隣接していない酸素原子又は硫黄原子を含んでいてもよい。また、前記スペーサ基は、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素）、シアノ基、メチル基、エチル基が置換していてもよい。
【００８２】
Ｍで表されるメソゲン基としては、すべての公知のメソゲン基が挙げられる。特に下記一般式（ＩＩ）で表される基が好ましい。
一般式（ＩＩ）：−（−Ｗ1−Ｌ5）n−Ｗ2−
式中、Ｗ1及びＷ2は各々独立して、二価の環状脂肪族基、二価の芳香族基又は二価のヘテロ環基を表し、Ｌ５は単結合又は連結基を表し、連結基の具体例としては、前記式（Ｉ）中、Ｌ1〜Ｌ4で表される基の具体例、−ＣＨ2−Ｏ−、及びＯ−ＣＨ2−が挙げられる。ｎは１、２又は３を表す。
【００８３】
Ｗ1及びＷ2としては、１，４−シクロヘキサンジイル、１，４−フェニレン、ピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５ジイル、１，３，４−チアジアゾール−２，５−ジイル、１，３，４−オキサジアゾール−２，５−ジイル、ナフタレン−２，６−ジイル、ナフタレン−１，５−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、ピリダジン−３，６−ジイルが挙げられる。１，４−シクロヘキサンジイルの場合、トランス体及びシス体の構造異性体があるが、どちらの異性体であってもよく、任意の割合の混合物でもよい。トランス体であることがより好ましい。Ｗ1及びＷ2は、それぞれ置換基を有していてもよい。置換基としては、ハロゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、シアノ基、炭素原子数１〜１０のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基など）、炭素原子数１〜１０のアシル基（ホルミル基、アセチル基など）、炭素原子数１〜１０のアルコキシカルボニル基（メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、炭素原子数１〜１０のアシルオキシ基（アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基など）、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基などが挙げられる。
【００８４】
前記一般式（ＩＩ）で表されるメソゲン基の基本骨格で好ましいものを、以下に例示する。これらに上記置換基が置換していてもよい。
【００８５】
【化２３】
【００８６】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の例を示すが、これらに限定されるものではない。なお、一般式（Ｉ）で表される化合物は、特表平１１−５１３０１９号公報に記載の方法で合成することができる。
【００８７】
【化２４】
【００８８】
【化２５】
【００８９】
【化２６】
【００９０】
【化２７】
【００９１】
【化２８】
【００９２】
【化２９】
【００９３】
前記光学異方性膜中の棒状液晶化合物の添加量は、１質量％以上であることが好ましく、より好ましくは５質量％程度以上であり、特に好ましくは１０質量％程度以上である。
【００９４】
前記光学異方性膜は、前記一般式（１）で表される部分構造を有する化合物の配向性、所望により添加される液晶性化合物の配向性の改善のために、配向剤を含有していてもよい。例えば、下記一般式（１１）〜（１３）で表される化合物の少なくとも一種を含有させることで、前記一般式（１）で表される部分構造を有する化合物を実質的に水平配向させることができる。
以下、下記一般式（１１）〜（１３）について、順に説明する。
【００９５】
【化３０】
【００９６】
式中、Ｒ11、Ｒ12及びＲ13は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ11、Ｘ12及びＸ13はそれぞれ単結合又は二価の連結基を表す。Ｒ11〜Ｒ13で各々表される置換基としては、好ましくは置換もしくは無置換の、アルキル基（中でも、無置換のアルキル基又はフッ素置換アルキル基がより好ましい）、アリール基（中でもフッ素置換アルキル基を有するアリール基が好ましい）、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子である。Ｘ11、Ｘ12及びＸ13で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＳＯ2−からなる群より選ばれる二価の連結基又は該群より選ばれる基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい
【００９７】
【化３１】
【００９８】
式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。Ｒとして好ましい置換基は、Ｒ11、Ｒ12、及びＲ13で表される置換基の好ましい範囲として挙げてものと同じである。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。
【００９９】
【化３２】
【０１００】
式中、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19でそれぞれ表される置換基は、好ましくは一般式（７）におけるＲ11、Ｒ12及びＲ13で表される置換基の好ましいものとして挙げたものである。本発明に用いられる水平配向剤については、特開２００５−０９９２４８号公報の［００９２］〜［００９６］に記載の化合物を用いることができ、それら化合物の合成法も該明細書に記載されている。
【０１０１】
前記一般式（１１）〜（１３）のいずれかで表される化合物の添加量としては、前記一般式（１）の部分構造を有する化合物の全質量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０１〜１０質量％がより好ましく、０．０２〜１質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（１１）〜（１３）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【０１０２】
本発明の光学異方性膜の製造方法の一例は、前記一般式（１）の部分構造を有する化合物を含有する組成物を調製し、該組成物を表面に塗布・乾燥した後、偏光照射して、前記式（１）の部分構造を配向させて、複屈折を発現することを含む方法である。前記式（１）の部分構造は、偏光照射によって、光配向し、面内レターデーションを発現する。前記化合物を含有する組成物を塗布、乾燥した後、他の処理（例えば、硬化処理等）をする前に、偏光照射最初に行うことが好ましい。該偏光照射の照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。
照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【０１０３】
偏光照射後に加熱すると、配向が熟成されて、より大きな面内レターデーションを得ることができる。
加熱温度は５０℃〜２５０℃であることが好ましく、より好ましくは５０℃〜２００℃であり、特に好ましくは７０℃〜１７０℃である。
加熱時間については特に制限はない。一例としては、後述するＮｚ値が１．１〜７．０である光学異方性膜を形成する際には、加熱時間は１秒〜５分であることが好ましいが、これに限定されるものではない。
【０１０４】
偏光照射し複屈折を発現させた後、好ましくはさらにその後加熱熟成させた後に、偏光もしくは非偏光紫外線をさらに照射して、含有されるいずれかの成分が有する重合性基の反応を進行させ、さらに硬化させるのが好ましい。硬化させると、さらに耐熱性を高めることができる。硬化のための照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照度は２０〜１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、５０〜５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、１００〜３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては偏光照射の場合は３００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。非偏光照射の場合は２００〜４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、２５０〜４００ｎｍにピークを有することがさらに好ましい。
【０１０５】
上記した通り、前記化合物等のいずれかの成分が重合性基を有し、前記組成物が硬化性である場合は、複屈折を発現させた後に、重合反応を進行させるのが好ましい。利用される重合反応は、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応のいずれでもよいが、光重合反応がより好ましい。重合反応を進行させるためには、前記組成物は重合開始剤を含有しているのが好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
【０１０６】
光重合開始剤の使用量は、前記化合物を含有する組成物中、固形分として０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、窒素雰囲気下あるいは加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【０１０７】
本発明の光学異方性膜を形成するのに用いる組成物は、塗布液として調製するのが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）、１，４−ブタンジオールジアセテートが含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
前記組成物の表面への塗布は、従来公知の種々の方法で行うことができる。後述する様に、本発明の光学異方性膜を液晶セル内に配置して、各画素に対応する領域ごとに形成する場合は、インクジェット方式を利用して、表面に塗布するのが好ましい。
【０１０８】
また、前記組成物をラビング処理面へ塗布して、一旦所定の方向に液晶分子を配向させた後、偏光を照射して、所望の光学特性を発現させてもよい。この方法では、ラビング方向とは異なる角度から偏光を照射することが好ましい。
【０１０９】
本発明の光学異方性膜の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１０μｍであることがさらに好ましい。
【０１１０】
［光学異方性膜の光学特性及び用途］
本発明の光学異方性膜は、面内レターデーションＲｅが発現しているので、例えばＡプレート等の一軸性フィルム、又は二軸性フィルムに要求される特性を満足し得る。
Ａプレートは、一般的には、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの光学特性を満足するものと理解されているが、本明細書では、Ｒｅ（５５０）が２０〜３００ｎｍ程度であり、Ｎｚ値（但し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＋０．５）が０．９〜１．１程度の特性を示すものは、Ａプレートの範囲に含まれるものとする。本発明の光学異方性膜は、Ａプレートして機能し得るので、例えば、従来用いられているＡプレートの代替として、液晶表示装置の光学補償に利用することができ、特にＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に用いるのに適する。本発明の光学異方性膜をＡプレートして（例えば、ＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に）利用する場合は、Ｒｅ（５５０）は、５０〜２００ｎｍであるのが好ましく、７０〜２００ｎｍであるのがより好ましい。
二軸性フィルムは、一般的には、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚが全て異なるものと理解されている。一例としては、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚを満足する光学特性を示すものが挙げられる。本発明の光学異方性膜は、Ｒｅ（５５０）が２０〜３００ｎｍ程度であり、Ｎｚ値（但し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＋０．５）が、１．１〜７．０程度の特性を示す二軸性フィルムとして機能し得る。即ち、本態様の本発明の光学異方性膜は、従来用いられている二軸性フィルムの代替として、液晶表示装置の光学補償に利用することができ、特にＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に用いるのに適する。本発明の光学異方性膜を二軸性フィルムとして（例えば、ＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に）利用する場合は、Ｎｚは、１．５〜７．０であるのが好ましく、２．０〜６．０であるのが好ましい。また、Ｒｅ（５５０）は、２０〜３００ｎｍであることが好ましく、２０〜２００ｎｍであるのがより好ましく、２０〜１００ｎｍであるのがよりさらに好ましい。
また、二軸性フィルムの他の例として、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙを満足する光学特性を示すものが挙げられる。本発明の光学異方性膜は、作製に用いる前記重合体の共重合比や分子量を調整することで、この性質を満足する二軸性フィルムとしても機能し得る。即ち、即ち、本態様の本発明の光学異方性膜は、従来用いられているｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙを満足する二軸性フィルムの代替として、液晶表示装置の光学補償に利用することができ、特にＩＰＳモードの液晶表示装置の光学補償に用いるのに適する。ＩＰＳモードの液晶表示装置の光学補償に用いる光学異方性膜は、Ｎｚは０．１〜０．９であるのが好ましく、
０．３〜０．７であるのがより好ましい。また、Ｒｅ（５５０）が２００〜４００ｎｍであるのが好ましい。
【０１１１】
本発明の光学異方性膜は、配向膜を必要とせずに、偏光を利用して、所望の光学特性を発現できるので、微細な領域ごとに形成するのに有利であり、特に、液晶セル内の各画素に対応した領域に形成するのに有利である。勿論、液晶セル内の各画素に対応した領域に本発明の光学異方性膜を形成する場合も、上記した通り、各領域に配向膜を形成し、配向膜上で一旦液晶分子を配向させた後、偏光照射を行ってもよい。
液晶セル内に形成する態様では、前記光学異方性膜の光学特性は、Ｒ光、Ｇ光及びＢ光が入射した際の視野角補償に最適な光学特性にそれぞれ調整されているのが好ましい。即ち、カラーフィルタ層のＲ層に対応する領域に形成する光学異方性膜は、その光学特性が、Ｒ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整され、Ｇ層に対応する領域に形成する光学異方性膜の光学特性は、Ｇ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整され、かつＢ層に対応する領域に形成する光学異方性膜の光学特性は、Ｂ光が入射した際の視野角補償に対して最適に調整されているのが好ましい。光学異方性膜の光学特性は、例えば、前記式（１）の部分構造を有する化合物の種類や、配向制御剤の種類又はその添加量、膜厚、及び偏光照射条件のいずれかによって好ましい範囲に調整することができる。
また、光学異方性膜そのものをカラーフィルタとしても機能させてもよい。その場合は、光学異方性膜形成用の組成物中に、Ｒ色、Ｇ色及びＢ色それぞれの顔料等を添加する。
【０１１２】
本発明の光学異方性膜を、液晶セル基板の表面上に、各画素に対応する領域ごとに形成する方法の一例として、インクジェット方式を利用する方法が挙げられる。より具体的には、前記式（１）の部分構造を有する化合物を含有する流体を、ブラックマトリクスによって隔てられた領域内にインクジェット方式で塗布し、その後、偏光照射によって所望の光学特性を発現させた後、所望により加熱熟成して作製することができる。より耐久性を改善するために、電離放射線を照射して、膜中の成分の重合反応を進行させて、該配向状態を固定するのが好ましい。
【０１１３】
以下に、本発明の光学異方性膜を内部に有する液晶セルの作製方法の一例を、図１を参照して詳細に説明する。
ガラス等からなる透明基板１１上に、例えば、ネガ型ブラックマトリクスレジスト材料を使用し、フォトリソ法を用いてドットパターンのブラックマトリクス１２（隔壁）を形成し、隔壁１２によって隔てられた複数の微細領域ａを形成する（図１（ａ））。尚、ブラックマトリクス１２の形成においては、ブラックマトリクスの形成材料及び形成プロセスについては特に限定はなく、レジスト材料によるフォトリソ法を利用する方法以外の方法であっても、ブラックマトリクスパターンが形成できれば問題ない。ブラックマトリックス１２のパターンは、ドットパターンに限定されるものではなく、形成するカラーフィルタの配列については特に制限はなく、ドット配列、ストライプ配列、モザイク配列、デルタ配列等いずれであってもよい。
【０１１４】
ブラックマトリックス１２は、パターン形成後にＦ原子を含むガス（ＣＦ4等）でプラズマ処理され、その表面が撥インク化処理されるのが好ましい。ブラックマトリクス１２の撥インク化処理は、上記プラズマ処理以外に、ブラックマトリクス材料中に撥インク剤を含有させてもよいし、ブラックマトリックスを、ガラス基板１１に対して撥インク性を示す材料から形成してもよい。
【０１１５】
次に、所望により撥インク化処理したブラックマトリクス１２で隔てられた微細領域ａへ、前記式（１）の部分構造を有する化合物を含有する流体１３’を、インクジェット装置を用いて吐出して、微細領域ａ内に前記流体からなる層（図１（ｂ））を形成する。前記溶液の吐出が完了した後、偏光照射することによって、複屈折を発現し、光学異方性膜１３を形成する（図１（ｃ））。偏光照射前、偏光照射中、又は偏光照射後に所望により加熱してもよく、その場合は、加熱装置を使用してもよい。
【０１１６】
このようにして形成された１層目の光学異方性膜１３の上に、カラーフィルタ用インク液１４’によって２回目のインク吐出を行い（図１（ｄ））、これを乾燥、及び所望により露光等して、２層目のカラーフィルタ層１４が形成される（（ｅ））。
【０１１７】
光学異方性膜１３及びカラーフィルタ層１４を形成する際のインク等の射出条件については特に制限されないが、光学異方性膜形成用の流体やカラーフィルタ層形成用のインクの粘度が高い場合は、室温あるいは加熱下（例えば、２０〜７０℃）において、インク粘度を下げて射出することが射出安定性の点で好ましい。インク等の粘度変動は、そのまま液滴サイズ、液滴射出速度に大きく影響を与え、画質劣化を起こすため、インク等の温度を出来るだけ一定に保つのが好ましい。
【０１１８】
前記インクジェットヘッド（以下、単にヘッドともいう）は、特に制限されず、公知の種々のものを使用することができる。コンティニアスタイプ、ドットオンデマンドタイプが使用可能である。ドットオンデマンドタイプのうち、サーマルヘッドでは、吐出のため、特開平９−３２３４２０号公報に記載されているような稼動弁を持つタイプが好ましい。ピエゾヘッドでは、例えば、欧州特許Ａ２７７，７０３号、欧州特許Ａ２７８，５９０号などに記載されているヘッドを使うことができる。ヘッドは組成物の温度が管理できるよう温調機能を持つものが好ましい。射出時の粘度は５〜２５ｍＰａ・ｓとなるよう射出温度を設定し、粘度の変動幅が±５％以内になるよう組成物温度を制御することが好ましい。また、駆動周波数としては、１〜５００ｋＨｚで稼動すること
が好ましい。
【０１１９】
なお、光学異方性膜１３及びカラーフィルタ層１４は、その形成順序が入れ替わっていてもよく、即ち、カラーフィルタ層１４の上に光学異方性膜１３が積層された構成であってもよい。かかる態様は、前記製造方法例において、光学異方性膜１３を形成する工程とカラーフィルタ層１４を形成する工程の順番を入れ替えることにより作製することができる。
また、カラーフィルタ形成用インクに前記式（１）の部分構造を有する化合物を混合して用いてもよい。
【０１２０】
光学異方性膜１３は、同一種の溶液等の流体を用いて形成されていてもよいし、その上に形成されるカラーフィルタ層１４の色相に応じて、それぞれ最適な光学異方性を発現するように、互いに異なる材料を含む及び／又は配合量が互いに異なる流体を用いて形成されていてもよい。光学異方性膜１３の形成時において、カラーフィルタ層の色相に応じて異なる溶液等を用いる場合は、それぞれの溶液を全て吐出した後、同時に乾燥を行ってもよいし、１種ずつ吐出及び乾燥のプロセスを行ってもよい。また、カラーフィルタ層１４の形成時においても、例えば、Ｒ層、Ｇ層、及びＢ層それぞれの形成用のインク液を全て吐出した後、同時に乾燥を行ってもよいし、１種ずつ吐出及び乾燥のプロセスを行ってもよい。また、カラーフィルタの色も、赤、緑、青の３色に限定される必要はなく、多原色のカラーフィルタであってもよい。
【０１２１】
このようにして、第一の基板の各画素に相当する、ブラックマトリックス１２で隔てられた領域毎に、光学異方性膜及びカラーフィルタ層を形成した後、この第１の基板と、第２の基板とを貼り合わせる。貼り合わせる前に、カラーフィルタ層１４の上に、透明電極層及び／又は配向層を形成してもよい。例えば、特開平１１−２４８９２１号公報、特許３２５５１０７号公報に記載のように、カラーフィルタを形成する着色樹脂組成物を重ねることで土台を形成し、その上に透明電極を形成し、更に必要に応じて分割配向用の突起を重ねることでスペーサを形成することが、コストダウンの観点で好ましい。
【０１２２】
第１の基板と第２の基板の対向面間の空壁に、液晶材料を注入して液晶層を形成して、液晶セルを作製することができる。第一の基板は、前記光学異方性膜とカラーフィルタ層が形成された面を内側にして、即ち、対向面にして配置するのが好ましい。その後、双方の基板の外側表面に、それぞれ偏光板、光学補償フィルム等を貼り付けて、液晶表示装置を作製することができる。
【０１２３】
前記製造方法の例では、光学異方性膜形成用の流体、及びカラーフィルタ層形成用のインク液を所定の位置に配置するにあたって、隔壁であるブラックマトリクスを形成した後、インクジェット方式を利用しているので、第一の基板上の所定の領域に正確に光学異方性膜及びカラーフィルタ層を形成することができる。従って、構造を複雑化することなく、少ない工程数で製造することができる。
【０１２４】
なお、前記方法では、インクジェット法によるインク吐出を利用して、各微細領域に光学異方性層及びカラーフィルタ層を形成する例を説明したが、インクジェット法以外の、例えば印刷法等を利用して形成してもよい。
【０１２５】
［液晶セル用基板］
本発明は、基板と、その上に、本発明の光学異方性膜とを有する液晶セル用基板にも関する。本発明の液晶セル用基板の一態様は、基板と、液晶セルの視野角補償のための本発明の光学異方性膜と、カラーフィルタ層とを有し、該光学異方性膜が、その下又は上に配置されたカラーフィルタ層の色相に応じて（例えば、Ｒ、Ｇ、Ｂの色ごとに）、液晶セルの視野角補償に最適な光学特性を有する液晶セル用基板である。基板の材料としては透明であれば特に限定はなく、例えば、金属性支持体、金属張り合わせ支持体、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。複屈折が小さいことが望ましく、ガラスや低複屈折性ポリマー等が好ましい。その他、前記基板の表面には、液晶材料に対して配向規制能を有する配向膜、及び透明電極層が形成されていてもよい。
【０１２６】
本発明の液晶セル用基板は、前記光学異方性膜が形成された側と反対外の表面（液晶表示装置内に組み込まれるときは、液晶セル外として配置される側の表面）に、さらに第２の光学異方性層を有していてもよい。第２の光学異方性層は、液晶セル内に配置される本発明の光学異方性膜とともに、液晶セルの光学補償に寄与する。第二の光学異方性層の光学特性は、用いられる液晶表示装置のモードによって好ましい範囲が異なる。例えば、ＶＡモード用の液晶セル基板とする場合は、基板の内側表面に、Ａプレートとしての光学特性を満足する本発明の光学異方性膜を配置し、基板外側表面に負のＣ−プレートとして機能し得る第２の光学異方性層を配置してもよい。
【０１２７】
図２に本発明の液晶セル基板を有する液晶セルの一例の概略断面図を示す。
図２（ａ）に示す液晶セル用基板は、透明基板２１上に、隔壁としてブラックマトリクス２２が形成され、隔壁で隔てられた微細領域内にインクジェット方式により吐出して形成された、パターン状のカラーフィルタ層２３及び光学異方性膜２７が形成されている。さらにその上に透明電極層２５と配向層２６とを有する。図２には、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層２３を形成した態様を示したが、Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｗ（白）の層からなるカラーフィルタ層を形成してもよい。光学異方性膜２７はｒ、ｇ、ｂ領域に分割され、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれのフィルタ層２３の色相に対して、それぞれ最適な位相差特性を有している。
【０１２８】
さらに、図２（ｂ）のように光学異方性膜２７とともに光学補償に寄与する第２の光学異方性層２４を液晶セル基板の外側表面に配置してもよい。第２の光学異方性層２４をセル内の光学異方性膜２７と同じカラーフィルタ側基板側に配置してもよいし、図は省略するが対向基板側に配置してもよい。対向基板側には一般にＴＦＴアレイなどの駆動用電極が配置されていることが多く、対向基板上であればどの位置に配置されてもよいが、ＴＦＴを有するアクティブ駆動型の場合、光学異方性層の耐熱性からシリコン層よりも上であることが好ましい。
【０１２９】
［液晶表示装置］
本発明は、本発明の光学異方性膜を有する液晶表示装置に関する。前記光学異方性膜は、液晶セルの外側であって、液晶セルと偏光子との間に配置してもよいし、上記した通り、液晶セル内に配置してもよい。また、本発明の光学異方性膜とともに光学補償に寄与する第２の光学異方性層をさらに有していてもよい。
図３は本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。
図３（ａ）及び（ｂ）の例はそれぞれ、図２（ａ）及び（ｂ）の基板を上側基板として用い、ＴＦＴ３２付の透明電極層２５及びその上に配向層２６を有するガラス基板２１を対向基板として配置し、その間に液晶３１を挟んだ液晶セル３７を有する液晶表示装置である。液晶セル３７の両側には、セルロースアセテート（ＴＡＣ）フィルム等からなる保護層３４及び３５に挟まれた偏光層３３からなる偏光板３６が配置されている。液晶セル側の保護層３５は光学補償シートとしての光学特性を満足するＴＡＣフィルム等の高分子フィルムであってもよいし、保護層３４と同一の高分子フィルムからなっていてもよい。図には示さないが、反射型液晶表示装置の態様では偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セルの背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろんフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。本液晶表示装置の表示モードは特に制限がなく、全ての透過型、半透過型、及び反射型液晶表示装置に用いることが可能である。中でも色視野角特性改良が望まれるＶＡモードに対して、本発明は効果を発揮する。
【０１３０】
本発明の液晶表示装置の一例は、ＶＡモード液晶表示装置である。ＶＡモード液晶表示装置には、負のＣ−プレート及びＡプレートを光学補償に利用する方式と、二軸性フィルムを一枚光学補償に利用する方式が知られている。本発明の光学異方性膜は、いずれの方式にも利用することができ、前者ではＡプレートして、後者では二軸性フィルムとして利用することができる。前者の態様で、本発明の光学異方性膜と組み合わせて利用される負のＣ−プレートは、一般的には、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚを満足する光学特性を有するものとして理解される。ＶＡモードの液晶表示装置の光学補償に利用する負のＣ−プレートは、Ｒｔｈ（５５０）が、２０〜３００ｎｍであることが好ましく、５０〜２５０ｎｍであるのがより好ましく、１００〜２５０ｎｍであるのがさらに好ましい。前記負のＣ−プレートは、いずれの材料からなっていてもよい。複屈折性ポリマーフィルムや硬化性液晶組成物から形成された光学異方性層等、いずれも使用することができる。より具体的には、ポリカーボネート、ノルボルネン系樹脂、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピレンやその他のポリオレフィン、ポリアリレート、ポリアミドの如き適宜なポリマーからなるフィルムを延伸処理してなる複屈折性フィルム；液晶ポリマーなどの液晶化合物からなる配向フィルム；液晶材料の配向層をフィルムにて支持した積層体；などが挙げられる。また、二軸延伸処理や直交する二方向に延伸処理等された複屈折を有するフィルム、傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理又は／及び収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどが挙げられる。
【０１３１】
上記では、ＶＡモード液晶表示装置の例を説明したが、本発明の光学異方性膜は、他のモードの液晶表示装置の光学補償にも利用することができる。ＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許第５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモード又はＦＬＣモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモード又はＨＡＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、米国特許第５８０５２５３号明細書及び国際公開ＷＯ９６／３７８０４号パンフレットに記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用位相差板（光学補償シート）は、特許第２８６６３７２号公報に記載がある。これらの光学補償シートの代替として利用することができる。
さらにエレクトロルミネセンス装置やフィールドエミッション表示装置などの反射防止の目的にも偏光板と組み合わせて、本発明の光学異方性膜の使用が効果がある。
【実施例】
【０１３２】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
［合成例１：例示化合物Ａ−１の合成例］
４−ブロモ−４’−ヒドロキシビフェニル２３．４ｇとアクリル酸ｎ−ブチル１５．０５を炭酸カリウム１６．５ｇ、酢酸パラジウム２２．５ｍｇ存在下、ジメチルアセトアミド７５ｍｌ中１３０℃で反応させた。反応後、酢酸エチルで希釈し、酢酸エチル相を水洗、カラムクロマトグラフィーで精製することにより、Ｃ−１を得た。
【０１３３】
【化３３】
【０１３４】
公知の合成法で合成した下記の公知化合物Ｃ−２ ２．５３ｇをテトラハイドロフランに溶解させた後、５℃まで冷却。メタンスルホニルクロリド１．１５ｇ及びジイソプロピルエチルアミン１．３０を滴下、室温で１時間半攪拌した後、再び５℃まで冷却。化合物Ｃ−１２．７０ｇ及びジイソプロピルエチルアミン１．３０ｇ及び４−ジメチルアミノピリジン０．１３ｇを添加した。室温で１時間半攪拌した後、反応溶液を酢酸エチルで希釈、水洗した。酢酸エチル相の固形分をカラムクロマトグラフィーで精製し、例示化合物Ａ−１を得た。同定は、ＮＭＲにより行った。
化合物Ａ−１の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）：０．９−１．１、１．３−１．８、１．８−２．１、４．０−４．４、５．７−６．６、６．９−７．１、７．２−７．４、７．５−７．８、８．１−８．３。
【０１３５】
【化３４】
【０１３６】
［合成例２：例示化合物Ｐ−１の合成例］
上記で合成した例示化合物Ａ−１と、例示化合物Ｂ−２とを、アゾイソブチロ二トリル（ＡＩＢＮ）の存在下、ジメチルアセトアミド中で重合することにより、例示化合物Ｐ−１を得た。Ｐ−１の質量平均分子量は４５０００であった。また同定は、ＮＭＲにより行った。
化合物Ａ−１の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ｐｐｍ）：０．９−１．１、１．３−２．１、３．６−３．９、４．０−４．４、６．３−６．６、６．７−７．４、７．４−７．８、８．１−８．３。
【０１３７】
［実施例１］
（液晶セル用基板の作製）
無アルカリガラス基板上に、ブラックマトリクスを形成した基板を準備した。
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製）
下記の組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液ＬＣ−１として用いた。
ＬＣ−１−１はＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．誌、第４３巻、６７９３頁（２００２）に記載の方法準じて合成した。
──────────────────────────────────――
光学異方性層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
光配向性高分子材料Ｐ−１ ２５．０
１．４−ブタンジオールジアセテート ７４．９８
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．０２
──────────────────────────────────――
【０１３８】
【化３５】
【０１３９】
（カラーフィルタ用組成物）
表２に示す組成の各ＲＧＢ画素用組成物をそれぞれ調製した。
【０１４０】
【表１】
【０１４１】
表２中の組成物の組成は以下の通りである。
［Ｒ顔料分散物−１組成］
──────────────────────────────────――
Ｒ顔料分散物−１組成（質量％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２５４ ８．０
５−［３−オキソ−２−［４−［３，５−ビス（３−ジエチルアミノプロピルアミノカルボニル）フェニル］アミノカルボニル］フェニルアゾ］−ブチロイルアミノベンズイミダゾロン ０．８
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、（重量平均分子量３．７万） ８．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ８３．２
──────────────────────────────────――
【０１４２】
［Ｒ顔料分散物−２組成］
──────────────────────────────────――
Ｒ顔料分散物−２組成（質量％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７ １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万） １２．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７０．０
──────────────────────────────────――
【０１４３】
［Ｇ顔料分散物組成］
──────────────────────────────────――
Ｇ顔料分散物組成（質量％）
──────────────────────────────────――
Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６ １８．０
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７２／２８モル比のランダム共重合物、
（重量平均分子量３．７万） １２．０
シクロヘキサノン ３５．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ３５．０
──────────────────────────────────――
【０１４４】
［バインダ１組成］
──────────────────────────────────――
バインダ１組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝７８／２２モル比のランダム共重合物
（重量平均分子量４万） ２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１４５】
［バインダ２組成］
──────────────────────────────────――
バインダ２組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３８／２５／３７モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１４６】
［バインダ３組成］
──────────────────────────────────――
バインダ３組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸／メチルメタクリレート＝
３６／２２／４２モル比のランダム共重合物（重量平均分子量３万）２７．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ７３．０
──────────────────────────────────――
【０１４７】
［ＤＰＨＡ組成］
──────────────────────────────────――
ＤＰＨＡ溶液組成（質量％）
──────────────────────────────────――
ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬（株）製） ７６．０
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ２４．０
──────────────────────────────────――
【０１４８】
（Ｒ層形成用液ＰＰ−Ｒ１の調製）
Ｒ層形成用液ＰＰ−Ｒ１は、まず表２に記載の量のＲ顔料分散物１、Ｒ顔料分散物２、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍで１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ２、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のＥＤ１５２をはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ２０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ３０分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１４９】
（Ｇ層形成用液ＰＰ−Ｇ１の調製）
Ｇ層形成用液ＰＰ−Ｇ１は、まず表２に記載の量のＧ顔料分散物、ＣＦイエローＥＸ３３９３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、バインダ１、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［４−（Ｎ，Ｎ−ジエトキシカルボニルメチル）−３−ブロモフェニル］−ｓ−トリアジン、フェノチアジンをはかり取り、温度２４℃（±２℃）でこの順に添加して１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１５０】
（Ｂ層形成用液ＰＰ−Ｂ１の調製）
Ｂ層形成用液ＰＰ−Ｂ１は、まず表２に記載の量のＣＦブルーＥＸ３３５７、ＣＦブルーＥＸ３３８３、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で混合して１５０ｒｐｍ１０分間攪拌し、次いで、表２に記載の量のメチルエチルケトン、バインダ３、ＤＰＨＡ溶液、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルメチル）−１，３，４−オキサジアゾール、フェノチアジンをはかり取り、温度２５℃（±２℃）でこの順に添加して、温度４０℃（±２℃）で１５０ｒｐｍ３０分間攪拌し、更に、表２に記載の量のメガファックＦ−１７６ＰＦをはかり取り、温度２４℃（±２℃）で添加して３０ｒｐｍ５分間攪拌し、ナイロンメッシュ＃２００で濾過することによって得られた。
【０１５１】
（光学異方性層の作製）
Ｒ用光学異方性層Ｒ−１として、上記で得られた光学異方性層用塗布液ＬＣ−１をピエゾ方式のヘッドを用いてブラックマトリックス（遮光性隔壁）に囲まれたＲ層が形成される予定の凹部に打滴し、１４０℃で２分間加熱乾燥した。さらに熟成後、直ちにこの層に対して偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）した後、１３０℃加熱熟成し、厚さ２．６２．８μｍの光学異方性層Ｒ−１を形成した。
同様にして、Ｇ層及びＢ層用光学異方性層Ｇ−１及びＢ−１をそれぞれ、Ｇ層及びＢ層が形成される予定の微細領域に形成した。打滴量をかえることで、光学異方性層Ｇ−１及びＢ−１のそれぞれの厚みを、２．９μｍ及び２．６μｍとした。
なお、本実施例では、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素に対応する部分に、搬送速度、駆動周波数を制御し、所望するＲ、Ｇ、Ｂに対応する凹部に各光学異方性層用塗布液を打滴した。
【０１５２】
（カラーフィルタ層の作製）
上記で得られたＲ、Ｇ及びＢ層形成用液である、ＰＰ−Ｒ１、ＰＰ−Ｇ１及びＰＰ−Ｂ１を、ピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれた凹部のあらかじめ決められた位置に、打滴を行い、Ｒ層、Ｇ層及びＢ層をそれぞれ形成した。
なお、本実施例では、Ｒ、Ｇ、Ｂ各画素に対応する部分にＲ、Ｇ、Ｂそれぞれ搬送速度、駆動周波数を制御し、所望するＲ、Ｇ、Ｂに対応する凹部に各Ｒ、Ｇ及びＢ層形成用液ＰＰ−Ｒ１、ＰＰ−Ｇ１及びＰＰ−Ｂ１を打滴した。
その後、１００℃にて乾燥させ、さらに２００℃にて１時間熱処理を実施し、光学異方性層上にカラーフィルタ画素を形成した。
【０１５３】
（位相差測定）
ファイバ型分光計を用いた平行ニコル法により、任意の波長λにおける面内レターデーションＲｅ（λ）、及び遅相軸を回転軸として±４０度サンプルを傾斜させたときのレターデーションをそれぞれ測定し、Ｒｔｈ(λ)を算出し、Ｎｚ値も求めた。Ｒ、Ｇ、Ｂに対して波長λは、それぞれ６１１ｎｍ、５４５ｎｍ、４３５ｎｍとして、レターデーションを測定した。
光学異方性層の位相差は、あらかじめ測定した光学異方性層のない基板の透過率データで較正を行うことにより、光学異方性層の位相差のみを求めた。位相差測定結果を表３に示す。表３の値から、形成されたＲ−１、Ｇ−１及びＢ−１の光学異方性層は、二軸性であることが理解できる。
【０１５４】
【表２】
【０１５５】
（透明電極の形成）
上で作製したカラーフィルタ上に透明電極膜（膜厚２０００Å）をＩＴＯのスパッタリングにより形成した。
【０１５６】
（配向層の形成及び液晶セル形成）
更にその上にポリイミドの配向膜を設けた。次に粒子径５μｍのガラスビーズを散布した。さらにカラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板と１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、貼り合わされたガラス基板を１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。
【０１５７】
（ＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ2Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ，Ｍｎと、ＬａＰＯ4：Ｃｅ，Ｔｂとを重量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置しＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１５８】
［実施例２］
光学異方性層Ｒ−１、Ｇ−１、Ｂ−１がなく、代わりに下側偏光板の液晶セル側の保護フィルム上に、塗布液ＬＣ−１を用いて光学異方性層Ｇ−１を作製したのと同様の方法によって、厚み２．７μｍの光学異方性層を形成した以外は、実施例１と同様にして、実施例２のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１５９】
［実施例１及び２のＶＡ−ＬＣＤの評価］
作製した液晶表示装置の黒表示の方位角４５度、極角６０度方向視野角における黒表示及び、方位角４５度極角６０度と方位角１８０度極角６０度との色ずれを観察した。
作製した実施例１及び２の液晶表示装置を観察した結果、正面方向及び視野角方向のいずれにおいても、ニュートラルな黒表示が実現することが確認できた。特に実施例１は、視野角方向から観察した際の着色が全くなく、優れていた。
【０１６０】
［実施例３］
（光学異方性層用塗布液ＬＣ−２の調製）
実施例１の光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製に用いた例示化合物Ｐ−１を、質量平均分子量が１５０００のＰ−１に変更した以外は同様にして、光学異方性層用塗布液ＬＣ−２を調製した。
【０１６１】
（光学異方性層の作製）
実施例１と同様にして、上記で得られた光学異方性層用塗布液ＬＣ−２をピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれたＲ、Ｇ、及びＢ層に対応する凹部に打滴し、１４０℃２分間加熱乾燥した。さらに直ちにこの層に対して、偏光照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）した後、１３０℃で再び加熱し、光学異方性層Ｒ−２、Ｇ−２、Ｂ−２を形成した。
【０１６２】
実施例１と同様にして、カラーフィルタ層、及び透明電極層を形成した。
更にその上にポリイミドの配向膜を設けた。次に粒子径５μｍのガラスビーズを散布した。さらにカラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板と１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、貼り合わされたガラス基板を１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。
この液晶セルの上側偏光板（観察者側）には、特開２００５−１７３５６７号公報に記載の方法に従い作製した負のＣ−プレート付き偏光板を用いた。下側偏光板（バックライト側）には、サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。負のＣ−プレートのＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは２００ｎｍであった。
【０１６３】
（ＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ2Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ，Ｍｎと、ＬａＰＯ4：Ｃｅ，Ｔｂとを重量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、Ｙ２Ｏ３：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置しＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１６４】
（位相差測定）
作製した光学異方性層Ｒ−２、Ｇ−２及びＢ−２のそれぞれの面内レターデーションを上記と同様にして測定した。測定結果を下記表４に示す。表４の値から、形成されたＲ−２、Ｇ−２及びＢ−２の光学異方性層は、Ａプレート様であることが理解できる。
【０１６５】
【表３】
【０１６６】
［実施例４］
光学異方性層Ｒ−２、Ｇ−２、Ｂ−２がなく、代わりに下側偏光板の液晶セル側の保護フィルム上に、塗布液ＬＣ−２を用いてＧ−２の光学異方性層を作製したのと同様の方法によって、光学異方性層を形成した以外は実施例と同様にして、実施例４のＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１６７】
［実施例３及び４のＶＡ−ＬＣＤの評価］
作製した液晶表示装置の黒表示の方位角４５度、極角６０度方向視野角における黒表示及び、方位角４５度極角６０度と方位角１８０度極角６０度との色ずれを観察した。
作製した実施例３及び４の液晶表示装置を観察した結果、正面方向及び視野角方向のいずれにおいても、ニュートラルな黒表示が実現することが確認できた。特に実施例３は、視野角方向から観察した際の着色が全くなく、優れていた。
【０１６８】
［実施例５］
実施例３光学異方性層用塗布液ＬＣ−２に、カチオン光重合開始剤を添加し、光配向性高分子材料としてＰ−１の代わりにＰ−６を用いた以外は同様にして、光学異方性層用塗布液ＬＣ−４を調製した。以下に組成を示す。
─────────────────―――─────────────―――
光配向性高分子材料Ｐ−６ ２５．０ 質量％
１．４−ブタンジオールジアセテート ７４．５８質量％
水平配向剤（ＬＣ−１−１） ０．０２質量％
カチオン光重合開始剤
（Ｃｙｒａｃｕｒｅ ＵＶＩ６９７４、ダウ・ケミカル） ０．４０質量％
─────────────────―――─────────────―――
【０１６９】
実施例１と同様にして、上記で得られた光学異方性層用塗布液ＬＣ−４を用い、ピエゾ方式のヘッドを用いてＲ層が形成される予定の遮光性隔壁に囲まれた凹部に打滴し、１４０℃２分間加熱乾燥した。さらに熟成後直ちにこの層に対して偏光ＵＶを照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）した後、１３０℃加熱熟成し、その後、非偏光ＵＶを照射して硬化させて、厚さ２．６μｍの光学異方性層Ｒ−４を形成した。
同様にして、Ｇ層及びＢ層用光学異方性層Ｇ−４及びＢ−４をそれぞれ、Ｇ層及びＢ層が形成される予定の微細領域に形成した。打滴量をかえることで、光学異方性層Ｇ−４及びＢ−４のそれぞれの厚みを、２．７μｍ及び２．９μｍとした。
その後、実施例１と同様にして、カラーフィルタ層を形成した後、熱処理を２３０℃で行った。その後、実施例１と同様にして、光学異方性層Ｒ−４、Ｇ−４及びＢ−４の面内レターデーションを測定した。結果を下記表に示す。
【０１７０】
【表４】
【０１７１】
［比較例１］
実施例５の塗布液ＬＣ−４の調製において、Ｐ−６の代わりに、特開２００４−２５８４２６号公報に記載の化合物を用い、実施例１と同様にして、光学異方性層を作製した。カラーフィルタ形成後の熱処理を２３０℃で行った後、光学異方性層の位相差を測定したが、位相差が消失していた。
【０１７２】
［実施例６］
（配向層用塗布液ＡＬ−１の調製）
下記の組成物を調製し、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、配向層用塗布液ＡＬ−１として用いた。
──────────────────────────────────――
配向層用塗布液組成（％）
──────────────────────────────────――
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製） ３．２１
ポリビニルピロリドン（Ｌｕｖｉｔｅｃ Ｋ３０、ＢＡＳＦ社製） １．４８
蒸留水 ５２．１
メタノール ４３．２１
──────────────────────────────────――
（配向層の作製）
上記で得られた配向層用塗布液ＡＬ−１をピエゾ方式のヘッドを用いて、遮光性隔壁に囲まれた凹部に打滴、乾燥した。配向層は１．６μｍであった。続いて、形成した配向層を左右方向０度に対して斜め４５度方向にラビング処理した。
【０１７３】
（光学異方性層の作製）
実施例１の光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製に用いた例示化合物Ｐ−１を、例示化合物Ｐ−１６に代えた以外は同様にして、光学異方性層用塗布液ＬＣ−５を調製した。
実施例１と同様にして、上記で得られた光学異方性層用塗布液ＬＣ−５をピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれたＲ、Ｇ、及びＢ層に対応する凹部の配向膜上に打滴し、１４０℃２分間加熱乾燥した。さらに直ちにこの層に対して、フィルムに対して左右の方向から偏光照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）した後、１３０℃で再び加熱し、光学異方性層Ｒ−５、Ｇ−５、Ｂ−５を形成した。
【０１７４】
実施例１と同様にして、カラーフィルタ層、及び透明電極層を形成した。
更にその上にポリイミドの配向膜を設けた。次に粒子径５μｍのガラスビーズを散布した。さらにカラーフィルタの画素群の周囲に設けられたブラックマトリックスの外枠に相当する位置に、スペーサ粒子を含有するエポキシ樹脂のシール剤を印刷し、カラーフィルタ基板を対向基板と１０ｋｇ／ｃｍの圧力で貼り合わせた。次いで、貼り合わされたガラス基板を１５０℃、９０分で熱処理し、シール剤を硬化させ、２枚のガラス基板の積層体を得た。このガラス基板積層体を真空下で脱気し、その後大気圧に戻して２枚のガラス基板の間隙に液晶を注入し、液晶セルを得た。この液晶セルの両面に、（株）サンリッツ製の偏光板ＨＬＣ２−２５１８を貼り付けた。
【０１７５】
（ＶＡ−ＬＣＤの作製）
カラー液晶表示装置用冷陰極管バックライトとしては、ＢａＭｇ2Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ，
Ｍｎと、ＬａＰＯ4：Ｃｅ，Ｔｂとを重量比５０：５０で混合した蛍光体を緑色（Ｇ）、
Ｙ２Ｏ３：Ｅｕを赤色（Ｒ）、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕを青色（Ｂ）として、任意の色調を持つ白色の三波長蛍光ランプを作製した。このバックライト上に上記偏光板を付与した液晶セルを設置しＶＡ−ＬＣＤを作製した。
【０１７６】
（位相差測定）
作製した光学異方性層Ｒ−５、Ｇ−５及びＢ−５のそれぞれの面内レターデーションを上記と同様にして測定した。測定結果を下記表４に示す。表４の値から、形成されたＲ−５、Ｇ−５及びＢ−５の光学異方性層は、２軸性を有することが理解できる。
【０１７７】
【表５】
【０１７８】
［実施例６のＶＡ−ＬＣＤの評価］
作製した液晶表示装置の黒表示の方位角４５度、極角６０度方向視野角における黒表示及び、方位角４５度極角６０度と方位角１８０度極角６０度との色ずれを観察した。
作製した実施例６の液晶表示装置を観察した結果、正面方向及び視野角方向のいずれにおいても、ニュートラルな黒表示が実現することが確認できた。
【０１７９】
［実施例７］
（光学異方性層の作製）
実施例１の光学異方性層用塗布液ＬＣ−１の調製に用いた例示化合物Ｐ−１を、例示化合物Ｐ−２に代えた以外は同様にして、光学異方性層用塗布液ＬＣ−３を調製した。
実施例１と同様にして、上記で得られた光学異方性層用塗布液ＬＣ−２をピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれたＲ、Ｇ、及びＢ層に対応する凹部に打滴し、１４０℃２分間加熱乾燥した。さらに直ちにこの層に対して、偏光照射（照度２００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２００ｍＪ／ｃｍ2）した後、１３０℃で再び加熱し、光学異方性層Ｒ−３、Ｇ−３、Ｂ−３を形成した。
【０１８０】
（位相差測定）
作製した光学異方性層Ｒ−３、Ｇ−３及びＢ−３のそれぞれの面内レターデーションを上記と同様にして測定した。測定結果を下記表５に示す。表５の値から、形成されたＲ−３、Ｇ−３及びＢ−３の光学異方性層は、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙであることが理解できる。
【０１８１】
【表６】
【０１８２】
（ＩＰＳモード液晶セルの作製）
上記のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。
別に用意した一枚のガラス基板上に、液晶素子画素領域に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９及び誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。
【０１８３】
（光学異方性膜Ｂ−１の作製）
＜セルロースアセテート溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ａを調製した。
＜セルロースアセテート溶液Ａ組成＞
酢化度２．８６のセルロースアセテート １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部
【０１８４】
＜マット剤分散液の調製＞
平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤分散液を調製した。
＜マット剤分散液組成＞
平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ａ １０．３質量部
【０１８５】
＜添加剤溶液の調製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０１８６】
＜添加剤溶液組成＞
光学異方性を低下させる化合物（Ａ−０１） ４９．３質量部
波長分散調整剤（ＵＶ−０１） ７．６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ａ １２．８質量部
なお、Ａ−０１のＬｏｇＰ値はそれぞれ２．９である。
【０１８７】
【化３６】
【０１８８】
＜セルロースアセテートフィルムの作製＞
上記セルロースアセテート溶液Ａを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、ドープを調製した。このドープ中、光学異方性を低下させる化合物及び波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．８％であった。
このドープを、流延機を用いてバンド上に流延し、残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させセルロースアセテートフィルムを製造した。得られたセルロースアセテートフィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍであった。
また、このフィルムのＲｅ（６３０）は０．３ｎｍ、Ｒｔｈ（６３０）は３．２ｎｍ、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜は１．２ｎｍ、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜は７．５ｎｍ、フィルムのＴｇは１３４．３℃、フィルムのヘイズは０．３４％、ΔＲｔｈ（１０％ＲＨ−８０％ＲＨ）は２４．９ｎｍであった。このフィルムを光学異方性膜Ｂ−１とした。
【０１８９】
（光学異方性膜Ｂ−１つき偏光板１の作製）
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、市販のセルロースアセテートフィルム（富士フイルム（株）製、フジタックＴＤ８０ＵＦ）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、この偏光膜の一方に貼り付け、もう片方に光学異方性膜Ｂ−１を貼り付け偏光板１を形成した。
【０１９０】
（ＩＰＳ−ＬＣＤの作製）
前記で作製したＩＰＳモード液晶セルの一方に、偏光板１の偏光膜の透過軸が液晶セルのラビング方向と平行になるように貼り付け、及びＩＰＳモード液晶セルのもう一方の側に偏光板1を貼り付け、液晶表示装置を作製した。
作製した液晶表示装置の黒表示の方位角４５度、極角６０度方向視野角における黒表示及び、方位角４５度極角６０度と方位角１８０度極角６０度との色ずれを観察した。
作製した実施例７のＩＰＳ−ＬＣＤを観察した結果、正面方向及び視野角方向のいずれにおいても、ニュートラルな黒表示が実現することが確認できた。
【図面の簡単な説明】
【０１９１】
【図１】本発明の光学異方性膜の製造方法の一例を説明するのに用いた概略模式図である。
【図２】本発明の液晶セル用基板を有する液晶セルの一例の概略断面図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の一例の概略断面図である。
【符号の説明】
【０１９２】
１１ 透明基板
１２ ブラックマトリックス（隔壁）
１３ 光学異方性層
１４ カラーフィルタ層
２１ 被転写基板
２２ ブラックマトリクス（隔壁）
２３ カラーフィルタ層
２４ ベタ光学異方性層
２５ 透明電極層
２６ 配向層
２７ パターニング光学異方性層
３１ 液晶
３２ ＴＦＴ
３３ 偏光層
３４ セルロースアセテートフィルム（偏光板保護フィルム）
３５ セルロースアセテートフィルム、又は光学補償シート
３６ 偏光板
３７ 液晶セル
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学異方性膜。
【化１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し；Ｘは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；Ａは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は置換もしくは無置換のフェニレン基、オキサジアゾール基又はアルキニレン基を表し；Ｚは、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し；ｎ１、ｎ２及びｎ３は０〜４の整数を表し；ならびにｌ、ｍ及びｎは０〜４の整数を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基又はアリール基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基。）
【請求項２】
前記化合物が、前記一般式（１）で表される部分構造を側鎖中に有する高分子化合物であることを特徴とする請求項１に記載の光学異方性膜。
【請求項３】
前記高分子が、下記一般式（２）で表される繰り返し単位を有することを特徴とする請求項１に記載の光学異方性膜。
【化２】
（式中、Ｒ4は、水素原子又は置換基を表し、その他の記号については、前記一般式（１）中のそれぞれと同義である。）
【請求項４】
前記高分子化合物が、下記一般式（５）及び／又は下記一般式（７）で表される繰り返し単位を有することを特徴とする請求項２又は３に記載の光学異方性膜。
【化３】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基を表す。）
【化４】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基
を表し、Ｓ6は二価の連結基を表し、Ｐ1は重合性基を示す。）
【請求項５】
前記化合物を含有する組成物に少なくとも偏光を照射して形成されたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
【請求項６】
波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、２０ｎｍ〜３００ｎｍであることを特徴とする請求項５に記載の光学異方性膜。
【請求項７】
正のＡプレートであることを特徴とする請求項５又は６に記載の光学異方性膜。
【請求項８】
Ｎｚ値（但し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＋０．５；Ｒｔｈ（５５０）は波長５５０ｎｍの厚み方向のレターデーションであり、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションである）が１．１〜７．０であることを特徴とする請求項５又は６に記載の光学異方性膜。
【請求項９】
ラビング処理面上で前記化合物を含有する組成物に少なくとも偏光を照射して形成されたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
【請求項１０】
Ｎｚ値が１．１〜７．０であることを特徴とする請求項９に記載の光学異方性膜。
【請求項１１】
Ｎｚ値が０．１〜０．９であることを特徴とする請求項５又は６に記載の光学異方性膜。
【請求項１２】
基板と、該基板上に請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学異方性膜とを有する液晶セル用基板。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学異方性膜を有する液晶表示装置。
【請求項１４】
ＶＡモード液晶表示装置であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
ＩＰＳモード液晶表示装置であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記光学異方性膜を、液晶セル内に有することを特徴とする請求項１３〜１４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記光学異方性膜が、液晶セル内の各画素に対応する各領域に配置されていることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
請求項７に記載の光学異方性膜からなる第１の光学異方性層と、Ｒｔｈ（５５０）が２０〜３００ｎｍである第２の光学異方性層とを有することを特徴とする請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
請求項１中に記載の一般式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも含有する組成物に、少なくとも偏光を照射することで複屈折を発現させることを含む光学異方性膜の製造方法。
【請求項２０】
請求項１中に記載の一般式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも含有する組成物を、ラビング処理面上に配置すること、及び該ラビング処理面のラビング方向と異なる方向から偏光を照射することにより複屈折を発現させることを含む光学異方性膜の製造方法。
【請求項２１】
下記一般式（２）で表される繰り返し単位を少なくとも有する重合体。
【化５】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し；Ｒ4は、水素原子又は置換基を表し；Ｘは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；Ｚは、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し；ｎ１、ｎ２及びｎ３は０〜４の整数を表し；ならびにｌ、ｍ及びｎは０〜４の整数を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基又はアリール基
を表す）、アルキレン基及びアリーレン基。）
【請求項２２】
下記一般式（５）及び／又は下記一般式（７）で表される繰り返し単位をさらに有することを特徴とする請求項２１に記載の重合体。
【化６】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基
を表す。）
【化７】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基
を表し、Ｓ6は二価の連結基を表し、Ｐ1は重合性基を示す。）
【請求項１】
下記式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも一種含有することを特徴とする光学異方性膜。
【化１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し；Ｘは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；Ａは−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、又は置換もしくは無置換のフェニレン基、オキサジアゾール基又はアルキニレン基を表し；Ｚは、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し；ｎ１、ｎ２及びｎ３は０〜４の整数を表し；ならびにｌ、ｍ及びｎは０〜４の整数を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基又はアリール基を表す）、アルキレン基及びアリーレン基。）
【請求項２】
前記化合物が、前記一般式（１）で表される部分構造を側鎖中に有する高分子化合物であることを特徴とする請求項１に記載の光学異方性膜。
【請求項３】
前記高分子が、下記一般式（２）で表される繰り返し単位を有することを特徴とする請求項１に記載の光学異方性膜。
【化２】
（式中、Ｒ4は、水素原子又は置換基を表し、その他の記号については、前記一般式（１）中のそれぞれと同義である。）
【請求項４】
前記高分子化合物が、下記一般式（５）及び／又は下記一般式（７）で表される繰り返し単位を有することを特徴とする請求項２又は３に記載の光学異方性膜。
【化３】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基を表す。）
【化４】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基
を表し、Ｓ6は二価の連結基を表し、Ｐ1は重合性基を示す。）
【請求項５】
前記化合物を含有する組成物に少なくとも偏光を照射して形成されたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
【請求項６】
波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（５５０）が、２０ｎｍ〜３００ｎｍであることを特徴とする請求項５に記載の光学異方性膜。
【請求項７】
正のＡプレートであることを特徴とする請求項５又は６に記載の光学異方性膜。
【請求項８】
Ｎｚ値（但し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＋０．５；Ｒｔｈ（５５０）は波長５５０ｎｍの厚み方向のレターデーションであり、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションである）が１．１〜７．０であることを特徴とする請求項５又は６に記載の光学異方性膜。
【請求項９】
ラビング処理面上で前記化合物を含有する組成物に少なくとも偏光を照射して形成されたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学異方性膜。
【請求項１０】
Ｎｚ値が１．１〜７．０であることを特徴とする請求項９に記載の光学異方性膜。
【請求項１１】
Ｎｚ値が０．１〜０．９であることを特徴とする請求項５又は６に記載の光学異方性膜。
【請求項１２】
基板と、該基板上に請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学異方性膜とを有する液晶セル用基板。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学異方性膜を有する液晶表示装置。
【請求項１４】
ＶＡモード液晶表示装置であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
ＩＰＳモード液晶表示装置であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記光学異方性膜を、液晶セル内に有することを特徴とする請求項１３〜１４のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記光学異方性膜が、液晶セル内の各画素に対応する各領域に配置されていることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
請求項７に記載の光学異方性膜からなる第１の光学異方性層と、Ｒｔｈ（５５０）が２０〜３００ｎｍである第２の光学異方性層とを有することを特徴とする請求項１３〜１７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
請求項１中に記載の一般式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも含有する組成物に、少なくとも偏光を照射することで複屈折を発現させることを含む光学異方性膜の製造方法。
【請求項２０】
請求項１中に記載の一般式（１）で表される部分構造を有する化合物を少なくとも含有する組成物を、ラビング処理面上に配置すること、及び該ラビング処理面のラビング方向と異なる方向から偏光を照射することにより複屈折を発現させることを含む光学異方性膜の製造方法。
【請求項２１】
下記一般式（２）で表される繰り返し単位を少なくとも有する重合体。
【化５】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し；Ｒ4は、水素原子又は置換基を表し；Ｘは下記の連結基群から選ばれる２価の連結基又は下記の連結基群から選ばれる２つ以上を組み合わせて形成される２価の連結基を表し；Ｚは、置換もしくは無置換のアルキル基又はアリール基を表し；ｎ１、ｎ２及びｎ３は０〜４の整数を表し；ならびにｌ、ｍ及びｎは０〜４の整数を表す。
（連結基群）
単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＮＲ6−（Ｒ6は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す）、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ7）−（Ｒ7はアルキル基又はアリール基
を表す）、アルキレン基及びアリーレン基。）
【請求項２２】
下記一般式（５）及び／又は下記一般式（７）で表される繰り返し単位をさらに有することを特徴とする請求項２１に記載の重合体。
【化６】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基
を表す。）
【化７】
（式中、Ｒ5は水素原子又は置換基を表し、Ｓ5は二価の連結基を表し、Ｍ5はメソゲン基
を表し、Ｓ6は二価の連結基を表し、Ｐ1は重合性基を示す。）
【図１】
【図２】
【図３】
【図２】
【図３】
【公開番号】特開２００９−９８５９６（Ｐ２００９−９８５９６Ａ）
【公開日】平成２１年５月７日（２００９．５．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−５９１６１（Ｐ２００８−５９１６１）
【出願日】平成２０年３月１０日（２００８．３．１０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年５月７日（２００９．５．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年３月１０日（２００８．３．１０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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