光記録媒体
【課題】各記録層の反射率と透過率とを制御することができると共に、各記録層において良好な記録特性を得ることが可能な光記録媒体を提供する。
【解決手段】基板１１と、Ｐｄ，Ｏ，Ｍ（ＭはＺｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎの中の１つ或いは複数の元素）が含まれ、且つ、ＯはＭを完全酸化させたとき（ＺｎＯ，Ａｌ２Ｏ３，Ｉｎ２Ｏ３，ＳｎＯ２）の化学量論組成よりも多く含まれる、２層以上の記録層１２１，１２２，１２３とを有し、２層以上の記録層１２１，１２２，１２３のうち、記録層が記録用の光の入射側とは反対側から数えてｎ番目の記録層である場合、そのＰｄの含有量が、ｎ−１番目の記録層におけるＰｄの含有量より小さい、光記録媒体１０を構成する。
【解決手段】基板１１と、Ｐｄ，Ｏ，Ｍ（ＭはＺｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎの中の１つ或いは複数の元素）が含まれ、且つ、ＯはＭを完全酸化させたとき（ＺｎＯ，Ａｌ２Ｏ３，Ｉｎ２Ｏ３，ＳｎＯ２）の化学量論組成よりも多く含まれる、２層以上の記録層１２１，１２２，１２３とを有し、２層以上の記録層１２１，１２２，１２３のうち、記録層が記録用の光の入射側とは反対側から数えてｎ番目の記録層である場合、そのＰｄの含有量が、ｎ−１番目の記録層におけるＰｄの含有量より小さい、光記録媒体１０を構成する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスク等の光記録媒体に係わり、特に２層以上の記録層を有する、高い記録密度で記録が可能な光記録媒体に係わる。
【背景技術】
【０００２】
近年、ブルーレイディスク（Blu-ray Disc（登録商標）；ＢＤ）と呼ばれる、大容量光ディスクが製品化されている。
この大容量光ディスクでは、記録再生用光波長を４０５ｎｍ程度、記録再生用光学系の集光レンズの開口数ＮＡを０．８５程度として、約２５ＧＢの記録容量を実現している。
【０００３】
この大容量光ディスクにおいて追記型光ディスクを実現するために、追記可能な記録層材料が種々検討されている。
従来の追記型光ディスクの記録層材料としては、有機色素材料が知られている。
しかしながら、有機色素材料を用いると、充分な生産性が得られないことや、記録信号の長期安定保存性の問題がある。
また、波長４０５ｎｍ程度の記録再生用光に対して使用できる、適切な有機色素が見当たらない、という問題もある。
【０００４】
そこで、無機材料を追記型記録層材料に用いることが検討されている。
例えば、昇温により高速で結晶化して光学変化を生じさせるＴｅ−Ｏ等を含む記録層を有する光記録媒体が提案されている（特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１１２５５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上述した大容量光ディスクの追記型光記録媒体において、更に大容量化を図るために、記録層を２層以上とする多層化が進められている。
【０００７】
このように多層化する場合には、それぞれの記録層の反射率と透過率を適切に設定することが重要になる。
そして、例えば、記録層に隣接して誘電体層を設けて、この誘電体層の厚さを選定することによって、反射率を制御することができる。
【０００８】
しかしながら、各記録層を同じ構成としたままで、各記録層の反射率と透過率を設定すると、各記録層の記録特性に差が出てしまうことがある。そのため、一部の記録層において、良好な記録特性が得られないことが懸念される。
【０００９】
上述した問題の解決のために、本発明においては、各記録層の反射率と透過率とを制御することができると共に、各記録層において良好な記録特性を得ることが可能な光記録媒体を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の光記録媒体は、基板と、２層以上の記録層とを有する。そして、この２層以上の記録層は、Ｐｄ，Ｏ，Ｍ（ＭはＺｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎの中の１つ或いは複数の元素）が含まれ、且つ、ＯはＭを完全酸化させたとき（ＺｎＯ，Ａｌ２Ｏ３，Ｉｎ２Ｏ３，ＳｎＯ２）の化学量論組成よりも多く含まれている。
さらに、記録層が記録用の光の入射側とは反対側から数えてｎ番目（ｎは２以上の自然数）の記録層である場合、そのＰｄの含有量が、ｎ−１番目の記録層におけるＰｄの含有量より小さい。
【００１１】
上述の本発明の光記録媒体の構成によれば、記録用の光の入射側とは反対側から数えてｎ番目の記録層のＰｄの含有量が、ｎ−１番目の記録層におけるＰｄの含有量より小さい。このように、ｎ番目の記録層はｎ−１番目の記録層よりもＰｄの含有量が小さい（少ない）ことにより、光の吸収が減少するので、透過率が高くなる。これにより、Ｐｄの含有量が小さい（少ない）層の記録感度は減少するが、その分、入射側と反対側の記録層の記録感度が増大する。
従って、反射率を揃えることによって一部の記録層（特に光の入射側とは反対側に近い記録層）の記録感度が低下する分を補償することが可能になる。
また、記録層のＰｄの含有量を変えることにより、記録層の透過率を変えることができる。
【発明の効果】
【００１２】
上述の本発明によれば、各記録層のＰｄの含有量を変えて、各記録層の透過率や記録感度を変えることができる。
これにより、各記録層の透過率、記録感度を制御すると共に、良好な記録特性を実現することが可能になる。
従って、本発明により、記録特性が良好な、多層の記録層から成る光記録媒体を実現することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の光記録媒体の第１の実施の形態の概略構成図（断面図）である。
【図２】図１の光記録媒体の要部の拡大断面図である。
【図３】本発明の光記録媒体の第２の実施の形態の概略構成図（断面図）である。
【図４】本発明の光記録媒体の第３の実施の形態の概略構成図（断面図）である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、発明を実施するための最良の形態（以下、実施の形態とする）について説明する。
なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態
２．第２の実施の形態
３．第３の実施の形態
４．実験例
【００１５】
＜１．第１の実施の形態＞
本発明の光記録媒体の第１の実施の形態の概略構成図（断面図）を、図１に示す。
この光記録媒体１０は、基板１１上に、３層の記録層１２１（Ｌ０），１２２（Ｌ１），１２３（Ｌ２）が形成されている。なお、多層記録媒体においては通常、基板に最も近い記録層をＬ０、次いでＬ１、Ｌ２、・・・とするので、便宜上併記して示す。
また、各記録層１２１，１２２，１２３の間には、光透過性材料より成る中間層１４１，１４２が形成されている。
さらに、最上層の記録層１２３の上には、光透過性材料より成る保護層１３が形成されている。
【００１６】
本実施の形態の光記録媒体１０を、上述した大容量光ディスク（ＢＤ、登録商標）の構成とする場合は、厚みが約１．１ｍｍで、外径が約１２０ｍｍの円盤状の基板１１が用いられる。そしてその一面側、例えばウォブリンググルーブとしての凹凸が形成された面の上に、記録層１２１，１２２，１２３が、光透過性材料より成る中間層１４１，１４２を介して形成される。さらに、記録層１２３の上には、光透過性材料より成る保護層１３が形成され、全体として厚さ１．２ｍｍとなるように構成される。
上述した大容量光ディスクの構成とする場合には、記録用光の入射側は、保護層１３の側とされる。
なお、本発明は、上述した大容量光ディスクの構成に限定されるものではなく、光記録媒体の形状や寸法（大きさ、厚さ等）、基板や保護層の厚さ等は、用途に応じて適宜選定することが可能である。
【００１７】
基板１１の材料としては、例えばポリカーボネート樹脂等を用いることができる。
基板１１は、例えば、射出成形等により、マスタリング原盤からトラッキング用のウォブリンググルーブの凹凸形状を転写することによって、形成することができる。
なお、本発明の光記録媒体において、グルーブ形状は必須ではなく、トラッキングが可能であり、且つ記録トラック間のクロストークが適切に抑制される構造であればよい。
また、記録トラックは光入射側から見てグルーブ上又はランド上とすることができ、記録方式を問わない。
【００１８】
記録層１２１，１２２，１２３は、Ｐｄ，Ｏ，Ｍ（ＭはＺｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎの中の１つ或いは複数の元素）が含まれ、且つ、ＯはＭを完全酸化させたとき（ＺｎＯ，Ａｌ２Ｏ３，Ｉｎ２Ｏ３，ＳｎＯ２）の化学量論組成よりも多く含まれている構成とする。
即ち、これら記録層１２１，１２２，１２３には、ＺｎＯやＡｌ２Ｏ３といった安定した酸化物に加えて、ＰｄＯ又はＰｄＯ２が含まれる。
そして、例えば中心波長４０５ｎｍ近傍のレーザ等の光を照射したときに、ＰｄＯはＰｄとＯ２に、ＰｄＯ２はＰｄＯとＯ２に分解し、Ｏ２の発生によって構造的に膨れを生じる。これにより、周囲と反射率の異なる記録マークが形成される。
【００１９】
中間層１４１，１４２の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂等の、光硬化性、又は熱硬化性の樹脂等を用いることができる。この場合、スピンコート等により塗布した後、加熱又は光照射を行うことにより、中間層を形成することができる。
中間層１４１，１４２は、記録特性に影響を及ぼさない十分な光透過性があればよく、その厚さは層間クロストークを所定値以下に抑えられる範囲であればよい。
【００２０】
保護層１３には、熱硬化性又は光硬化性の樹脂材料が利用可能である。これらの材料をスピンコート法等により塗布して成膜した後、加熱や光照射、例えば紫外線照射により硬化して、保護層１３を形成することができる。或いは、紫外線硬化樹脂等とポリカーボネート等の樹脂シートや、接着層とポリカーボネート等の樹脂シート用いて、保護層１３を形成することもできる。
【００２１】
なお、図示しないが、保護層１３の表面（レーザ照射面）に、例えば機械的な衝撃、傷に対する保護、また利用者の取り扱い時の塵埃や指紋の付着等から、情報信号の記録再生品質を保護するためのハードコートを設けてもよい。
このハードコートには、機械的強度を向上させるためにシリカゲルの微粉末を混入したものや、溶剤タイプ、無溶剤タイプ等の紫外線硬化樹脂を用いることができる。
機械的強度を有し、撥水性や撥油性を持たせるには、ハードコートの厚さを１μｍから数μｍ程度とすることが好ましい。
【００２２】
さらにまた、図１の光記録媒体１０の要部の拡大断面図を、図２に示す。
本実施の形態では、記録層１２１，１２２，１２３の下層及び上層にそれぞれ、保護膜としての機能を有する材料より成る、厚さ数ｎｍ〜数十ｎｍ程度の光透過性の誘電体層１５１，１６１，１５２，１６２，１５３，１６３を形成している。
この誘電体層１５１，１６１，１５２，１６２，１５３，１６３の材料としては、Ｉｎ−Ｏ、Ｚｎ−Ｏ、Ａｌ−Ｏ、Ｓｎ−Ｏ、Ｇａ−Ｏ、Ｓｉ−Ｏ、Ｔｉ−Ｏ、Ｖ−Ｏ、Ｃｒ−Ｏ、Ｎｂ−Ｏ、Ｚｒ−Ｏ、Ｈｆ−Ｏ、Ｔａ−Ｏ、Ｂｉ−Ｏ等の酸化物が挙げられる。また、ＳｉＮ、ＡｌＮ等の窒化物、ＳｉＣ等の炭化物も利用可能である。これらの材料を用いることにより、記録層１２１，１２２，１２３の耐久性を高めることができる。
誘電体層１５１，１６１，１５２，１６２，１５３，１６３は、上述した酸化物や窒化物、炭化物をターゲット材料に用いて、スパッタ法等により成膜することができる。
それぞれの誘電体層１５１，１６１，１５２，１６２，１５３，１６３の材料や厚さは、必要とされる特性に応じて、適宜選定する。なお、３層の記録層１２１，１２２，１２３のそれぞれについて、下層及び上層の誘電体層の材料や厚さが他の記録層と異なっていても構わない。
【００２３】
なお、このように誘電体層を設ける場合、誘電体層の材料や組成、又は成膜条件の少なくともいずれかを変えることにより、誘電体層を含む記録層の透過率を変化させることができる。成膜条件としては、例えば成膜時の成膜パワー（スパッタ法による場合はスパッタ電力）や成膜雰囲気である酸素分圧が挙げられる。ここで酸素分圧とは、例えば不活性ガスとしてＡｒガスを使う場合、Ａｒガスと酸素ガスとを含む全ガス中の酸素のガス圧分を示す。
【００２４】
例えば材料の選定により透過率を変化させる例としては、Ｉｎ−Ｓｎ−ＯとＩｎ−Ｓｉ−Ｚｒ−Ｏが挙げられ、この場合Ｉｎ−Ｓｎ−ＯよりもＩｎ−Ｓｉ−Ｚｒ−Ｏの方が透過率は高い。また、組成を変えて透過率を変化させる例としては、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏが挙げられ、組成比をＩｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝８８：６：６とするよりも、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝３４：３３：３３とする方が、透過率が高くなる。また、成膜条件として例えば酸素分圧により変化させる場合、酸素分圧大とするほうが酸素分圧小とする場合よりも透過率が高くなる。更に、成膜時のパワーにより透過率を変える場合は、パワー大とするほうがパワー小とする場合より透過率が高くなる。
【００２５】
また、特に、記録層１２１，１２２，１２３の下層（基板１１側）の誘電体層１５１，１５２，１５３は、主に記録パワーのマージン等に寄与する。そのため、下層の誘電体層１５１，１５２，１５３の材料や厚さによって、記録パワーのマージン等の特性を制御することができる。
また、特に、記録層１２１，１２２，１２３の上層（記録光の入射側、保護層１３側）の誘電体層１６１，１６２，１６３は、主に記録層の反射率に寄与する。そのため、上層の誘電体層１６１，１６２，１６３の材料や厚さによって、各記録層の反射率を制御することができる。例えば、上層の誘電体層１６１，１６２，１６３の材料にＩｎ−Ｏを用いて、上層の誘電体層１６１，１６２，１６３の膜厚を変えることにより、各記録層の反射率を変えることができ、上層の誘電体層の膜厚が厚いほど記録層の反射率が低くなる。
【００２６】
光入射側から見たそれぞれの記録層１２１，１２２，１２３の反射率は、以下のようになる。
Ｌ０層１２１：Ｌ０層の反射率×（Ｌ１層の透過率）２×（Ｌ２層の透過率）２
Ｌ１層１２２：Ｌ１層の反射率×（Ｌ２層の透過率）２
Ｌ２層１２３：Ｌ２層の反射率
従って、これらの反射率がそれぞれ同じ値になるように、それぞれの層の反射率と透過率を設計すれば、光入射側から見た３層の記録層の反射率を揃えることができる。
【００２７】
本実施の形態においては、特に、記録層１２１，１２２，１２３が、基板１１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるようにする。
即ち、Ｌ１の記録層１２２のＰｄの含有量はＬ０の記録層１２１のＰｄの含有量より小さく、Ｌ２の記録層１２３のＰｄの含有量はＬ１の記録層１２２のＰｄの含有量より小さい、構成とする。
このようにＰｄの含有量を変えることにより、透過率を大きく変えることができる。このとき、反射率はそれほど大きくは変わらず、吸収が大きく変わる。
つまり、Ｐｄの含有量を増やせば、透過率が下がり、吸収は増大する。Ｐｄの含有量を減らせば透過率が上がり、吸収は減少する。一般的に、記録感度はこの吸収と関係があり、吸収が高い方が記録感度は良くなる。
【００２８】
前述したように、各記録層の上層の誘電体層の膜厚を選定して、光入射側から見た３層の記録層１２１，１２２，１２３の反射率を揃えた場合、３層の記録層の構成（組成及び膜厚）が同一では、各記録層の最適記録パワーに差が生じる。例えば、記録層の上層の誘電体層１６１，１６２，１６３の膜厚を、基板１１側から光入射側へ厚くしていき、１６１＜１６２＜１６３とすると、光入射側から見た３層の記録層１２１，１２２，１２３の反射率を揃えることが可能になる。このとき、基板１１側のＬ０の記録層１２１の記録感度が低くなる。
これに対して、このＬ０の記録層１２１のＰｄ含有量を増やせば、吸収が上がり、記録感度も改善される。また、Ｌ２の記録層１２３の透過率を上げれば、この記録層１２３の記録感度は落ちるが、下層の記録層１２１，１２２にはより多くの光が入るため、これら下層の記録層１２１，１２２の記録感度改善にも効果があると考えられる。
これにより、各記録層１２１，１２２，１２３の最適記録パワーの差を埋めて、各記録層１２１，１２２，１２３の最適記録パワーを近い値とすることが可能になる。
【００２９】
上述の本実施の形態の光記録媒体１０の構成によれば、記録層１２１，１２２，１２３が、基板１１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるように構成されている。
これにより、基板１１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるので、光の吸収が減少し、透過率が高くなる。これにより、Ｐｄの含有量が小さい（少ない）層の記録感度は減少するが、その分、入射側と反対側の記録層の記録感度が増大する。
従って、反射率を揃えることによって一部の記録層（特に、光の入射側とは反対側に近いＬ０の記録層１２１）の記録感度が低下する分を補償することが可能になる。
また、記録層のＰｄの含有量を変えることにより、記録層の透過率を変えることができる。
【００３０】
本実施の形態の光記録媒体１０の構成によれば、このように各記録層１２１，１２２，１２３のＰｄの含有量を変えて、各記録層１２１，１２２，１２３の透過率や記録感度を変えることができる。これにより、各記録層１２１，１２２，１２３の透過率、記録感度を制御すると共に、良好な記録特性を実現することが可能になる。
従って、記録特性が良好な、３層の記録層から成る光記録媒体１０を実現することが可能になる。
【００３１】
＜２．第２の実施の形態＞
本発明の光記録媒体の第２の実施の形態の概略構成図（断面図）を、図３に示す。
この光記録媒体２０は、基板２１上に、３層の記録層２２１（Ｌ０），２２２（Ｌ１），２２３（Ｌ２），２２４（Ｌ３）が形成されている。
また、各記録層２２１，２２２，２２３，２２４の間には、光透過性材料より成る中間層２４１，２４２，２４３が形成されている。
さらに、最上層の記録層２２４の上には、光透過性材料より成る保護層２３が形成されている。
【００３２】
本実施の形態の光記録媒体２０を、上述した大容量光ディスク（ＢＤ、登録商標）の構成とする場合は、厚みが約１．１ｍｍで、外径が約１２０ｍｍの円盤状の基板２１が用いられる。そしてその一面側、例えばウォブリンググルーブとしての凹凸が形成された面の上に、記録層２２１，２２２，２２３，２２４が、光透過性材料より成る中間層２４１，２４２，２４３を介して形成される。さらに、記録層２２４の上には、光透過性材料より成る保護層２３が形成され、全体として厚さ１．２ｍｍとなるように構成される。
上述した大容量光ディスクの構成とする場合には、記録用光の入射側は、保護層２３の側とされる。
【００３３】
光記録媒体２０の各層の材料や形成方法は、第１の実施の形態の光記録媒体１０と同様とすることができる。
即ち、基板２１の材料としては、例えばポリカーボネート樹脂等を用いることができる。
記録層２２１，２２２，２２３，２２４は、Ｐｄ，Ｏ，Ｍ（ＭはＺｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎの中の１つ或いは複数の元素）が含まれ、且つ、ＯはＭを完全酸化させたときの化学量論組成よりも多く含まれている構成とする。
中間層２４１，２４２，２４３の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂等の、光硬化性、又は熱硬化性の樹脂等を用いることができる。
保護層２３には、熱硬化性又は光硬化性の樹脂材料が利用可能である。
また、図示しないが、保護層２３の表面にハードコートを設けてもよい。このハードコートには、機械的強度を向上させるためにシリカゲルの微粉末を混入したものや、溶剤タイプ、無溶剤タイプ等の紫外線硬化樹脂を用いることができる。
【００３４】
また、図示しないが、第１の実施の形態の図２に示したと同様に、各記録層２２１，２２２，２２３，２２４の下層及び上層に、誘電体層を設けることができる。
この誘電体層の材料としては、Ｉｎ−Ｏ、Ｚｎ−Ｏ、Ａｌ−Ｏ、Ｓｎ−Ｏ、Ｇａ−Ｏ、Ｓｉ−Ｏ、Ｔｉ−Ｏ、Ｖ−Ｏ、Ｃｒ−Ｏ、Ｎｂ−Ｏ、Ｚｒ−Ｏ、Ｈｆ−Ｏ、Ｔａ−Ｏ、Ｂｉ−Ｏ等の酸化物が挙げられる。また、ＳｉＮ、ＡｌＮ等の窒化物、ＳｉＣ等の炭化物も利用可能である。
そして、記録層２２１，２２２，２２３，２２４の下層の誘電体層の材料や厚さによって、記録パワーのマージン等の特性を制御することができる。
また、記録層２２１，２２２，２２３，２２４の上層の誘電体層の材料や厚さによって、各記録層の反射率を制御することができる。例えば、上層の誘電体層の材料にＩｎ−Ｏを用いて、上層の誘電体層の膜厚を変えることにより、各記録層の反射率を変えることができ、上層の誘電体層の膜厚が厚いほど記録層の反射率が低くなる。
【００３５】
本実施の形態においては、特に、記録層２２１，２２２，２２３，２２４が、基板２１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるようにする。
即ち、記録層２２２のＰｄの含有量は記録層２２１のＰｄの含有量より小さく、記録層２２３のＰｄの含有量は記録層２２２のＰｄの含有量より小さく、記録層２２４のＰｄの含有量は記録層２２３のＰｄの含有量より小さい、構成とする。
このようにＰｄの含有量を変えることにより、第１の実施の形態の光記録媒体１０と同様に、透過率を大きく変えることができ、反射率はそれほど大きくは変わらず、吸収が大きく変わる。
【００３６】
前述したように、各記録層の上層の誘電体層の膜厚を選定して、光入射側から見た４層の記録層２２１，２２２，２２３，２２４の反射率を揃えた場合、４層の記録層の構成（組成及び膜厚）が同一では、各記録層の最適記録パワーに差が生じる。例えば、記録層の上層の誘電体層の膜厚を、基板２１側から光入射側へ厚くしていくと、光入射側から見た４層の記録層２２１，２２２，２２３，２２４の反射率を揃えることが可能になる。このとき、基板２１側のＬ０の記録層２２１の記録感度が低くなる。
これに対して、このＬ０の記録層２２１のＰｄ含有量を増やせば、吸収が上がり、記録感度も改善される。また、Ｌ３の記録層２２４の透過率を上げれば、この記録層２２４の記録感度は落ちるが、下層の記録層２２１，２２２，２２３にはより多くの光が入るため、これら下層の記録層２２１，２２２，２２３の記録感度改善にも効果があると考えられる。
これにより、各記録層２２１，２２２，２２３，２２４の最適記録パワーの差を埋めて、各記録層２２１，２２２，２２３，２２４の最適記録パワーを近い値とすることが可能になる。
【００３７】
上述の本実施の形態の光記録媒体２０の構成によれば、記録層２２１，２２２，２２３，２２４が、基板２１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるように構成されている。
これにより、基板２１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるので、光の吸収が減少し、透過率が高くなる。これにより、Ｐｄの含有量が小さい（少ない）層の記録感度は減少するが、その分、入射側と反対側の記録層の記録感度が増大する。
従って、反射率を揃えることによって一部の記録層（特に、光の入射側とは反対側に近いＬ０の記録層２２１）の記録感度が低下する分を補償することが可能になる。
また、記録層のＰｄの含有量を変えることにより、記録層の透過率を変えることができる。
【００３８】
本実施の形態の光記録媒体２０の構成によれば、このように各記録層２２１，２２２，２２３，２２４のＰｄの含有量を変えて、各記録層２２１，２２２，２２３，２２４の透過率や記録感度を変えることができる。これにより、各記録層２２１，２２２，２２３，２２４の透過率、記録感度を制御すると共に、良好な記録特性を実現することが可能になる。
従って、記録特性が良好な、４層の記録層から成る光記録媒体２０を実現することが可能になる。
【００３９】
＜３．第３の実施の形態＞
本発明の光記録媒体の第３の実施の形態の概略構成図（断面図）を、図４に示す。
この光記録媒体３０は、記録層をｎ層（ｎは５以上の任意の自然数）とする場合の光記録媒体３０の構成を示す。
本実施の形態の光記録媒体３０では、基板３１上に、第１の実施の形態及び第２の実施の形態と同様に、ウォブリンググルーブとしての凹凸が形成されている。そして、この凹凸形成面の上に、基板３１側から順に記録層３２１（Ｌ０），３２２（Ｌ１），３２３（Ｌ２），３２４（Ｌ３），・・・，３２ｎ（Ｌｎ）が、中間層３４１，３４２，３４３，・・・，３４ｎを介して形成されている。最上層の記録層３２ｎ（Ｌｎ）の上には、保護層３３が形成されている。
【００４０】
この場合も、前述した大容量光ディスクの構成とする場合は、基板３１の厚さや外径、保護層３３の厚さを、図１に示した第１の実施の形態と同様の構成とする。
【００４１】
本実施の形態において、光記録媒体３０を構成する各層の材料等は、前述した第１の実施の形態及び第２の実施の形態の光記録媒体１０，２０と同様とすることができる。
【００４２】
本実施の形態においては、特に、記録層３２１，３２２，３２３，３２４，・・・，３２ｎが、基板３１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が大きくなるようにする。つまり、記録用の光の入射側とは反対側から数えて、ｋ番目（ｋは２以上でｎ以下の自然数）の記録層のＰｄの含有量が、ｋ−１番目の記録層におけるＰｄの含有量より小さい構成とする。
このようにＰｄの含有量を変えることにより、第１の実施の形態の光記録媒体１０と同様に、透過率を大きく変えることができ、反射率はそれほど大きくは変わらず、吸収が大きく変わる。
【００４３】
前述したように、各記録層の上層の誘電体層の膜厚を選定して、光入射側から見たｎ層の記録層（３２１〜３２ｎ）の反射率を揃えた場合、ｎ層の記録層の構成（組成及び膜厚）が同一では、各記録層の最適記録パワーに差が生じる。
例えば、ｋ番目（ｋは２以上の自然数）の記録層に設けられた上層の誘電体層の厚さが、ｋ−１番目の記録層に設けられた上層の誘電体層の厚さよりも厚くして、記録層の上層の誘電体層の膜厚を基板３１側から光入射側へ厚くしていく。このように構成すると、光入射側から見たｎ層の記録層（３２１〜３２ｎ）の反射率を揃えることが可能になる。このとき、基板３１側に近い記録層（Ｌ０の記録層３２１等）の記録感度が低くなる。
これに対して、この基板３１側に近い記録層のＰｄ含有量を増やせば、吸収が上がり、記録感度も改善される。また、光入射側の記録層（Ｌｎの記録層３２ｎ等）の透過率を上げれば、この記録層の記録感度は落ちるが、下層の記録層にはより多くの光が入るため、これら下層の記録層の記録感度改善にも効果があると考えられる。
これにより、各記録層（３２１〜３２ｎ）の最適記録パワーの差を埋めて、各記録層（３２１〜３２ｎ）の最適記録パワーを近い値とすることが可能になる。
【００４４】
上述の本実施の形態の光記録媒体３０の構成によれば、記録層３２１〜３２ｎが、基板３１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるように構成されている。つまり、記録用の光の入射側とは反対側の基板３１側から数えて、ｋ番目（ｋは２以上でｎ以下の自然数）の記録層のＰｄの含有量が、ｋ−１番目の記録層におけるＰｄの含有量より小さい構成としている。
これにより、基板３１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるので、光の吸収が減少し、透過率が高くなる。これにより、Ｐｄの含有量が小さい（少ない）層の記録感度は減少するが、その分、入射側と反対側の記録層の記録感度が増大する。
従って、反射率を揃えることによって一部の記録層（特に、光の入射側とは反対側に近いＬ０の記録層３２１等）の記録感度が低下する分を補償することが可能になる。
また、記録層のＰｄの含有量を変えることにより、記録層の透過率を変えることができる。
【００４５】
本実施の形態の光記録媒体３０の構成によれば、このように各記録層３２１〜３２ｎのＰｄの含有量を変えて、各記録層３２１〜３２ｎの透過率や記録感度を変えることができる。これにより、各記録層３２１〜３２ｎの透過率、記録感度を制御すると共に、良好な記録特性を実現することが可能になる。
従って、記録特性が良好な、ｎ層の記録層から成る光記録媒体３０を実現することが可能になる。
【００４６】
上述の各実施の形態では、記録層を３層（ｎ＝３）、４層（ｎ＝４）、ｎ層（ｎ≧５）とした場合をそれぞれ示したが、本発明は、記録層を２層（ｎ＝２）とした場合にも同様に適用することができる。
また、上述の各実施の形態では、前述した大容量光ディスクの構成と同様に、基板とは反対の側から記録用の光を入射させる構成としていた。本発明は、基板側から記録用の光を入射させる構成も含むものである。この構成とする場合、基板を記録用の光が充分に透過する構成として、各記録層のＰｄの含有量の大小は、上述した実施の形態とは逆に、基板側の記録層のＰｄの含有量を小さくする。
【００４７】
また、記録層に対して下層や上層に設ける誘電体層は、記録層の下層及び上層に設けることが望ましいが、本発明では、記録層の下層或いは上層のいずれか一方に誘電体層を設けた構成や、記録層に対して誘電体層を設けない構成としてもよい。
【００４８】
また、上述の各実施の形態では、全ての記録層を、Ｐｄ，Ｏ，Ｍを含有する記録層である構成としていた。
本発明では、他の構成の記録層をさらに有する光記録媒体も含む。
例えば、Ｐｄを含まない他の材料による記録層や、凹凸と反射膜のみによる再生専用の記録層等を、さらに設けても構わない。他の構成の記録層を設ける場所は、特に限定されないが、Ｐｄを含む複数層の記録層よりも基板側に配置すると、光記録媒体の各記録層の透過率や反射率を設計しやすい。
【００４９】
＜４．実験例＞
ここで、第１の実施の形態の光記録媒体１０と、記録層の構成が異なる比較例の光記録媒体とを、実際に作製して、記録層の透過率や反射率、記録パワー感度を測定した。
【００５０】
（比較例）
比較例として、第１の実施の形態の光記録媒体１０とは記録層の構成が異なり、各記録層１２１，１２２，１２３が同じ構成である光記録媒体を作製した。
基板１１として、外径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍの円盤形状のポリカーボネート樹脂を使用した。
３層の記録層１２１，１２２，１２３を、膜厚４０ｎｍのＺｎ−Ｉｎ−Ｏ−Ｐｄ膜（Ｚｎ：Ｉｎ＝５：５，（Ｚｎ＋Ｉｎ）：Ｐｄ＝８：２）とした。
また、記録層の下層の誘電体層１５１，１５２，１５３を、膜厚１０ｎｍのＩｎ２Ｏ３膜により形成した。
また、記録層の上層の誘電体層１６１，１６２，１６３を、Ｉｎ２Ｏ３膜により形成し、それぞれの膜厚ｘ（ｎｍ）を異ならせた。具体的には、Ｌ０の記録層１２１の上層の誘電体層１６１の膜厚を５ｎｍとし、Ｌ１の記録層１２２の上層の誘電体層１６２の膜厚を２０ｎｍとし、Ｌ２の記録層１２３の上層の誘電体層１６３の膜厚を３５ｎｍとした。
中間層１４１，１４２として、アクリル系の紫外線硬化性樹脂を使用した。
最上層の記録層１２３の上に、アクリル系の紫外線硬化性樹脂によって、保護層１３を形成した。
各記録層及びその上下の誘電体層は、スパッタ法で形成した。また、中間層及び保護層は、スピンコート法で形成した。
その他は第１の実施の形態の光記録媒体１０と同様にして、比較例の光記録媒体を作製した。
【００５１】
次に、この比較例の光記録媒体の各記録層１２１，１２２，１２３の透過率及び反射率を測定した。
各記録層１２１，１２２，１２３の透過率は、上層の誘電体層１６１，１６２，１６３の厚さによらず、ほぼ５５％で一定であった。
また、反射率は、Ｌ０の記録層１２１が１０％、Ｌ１の記録層１２２が５．５％、Ｌ２の記録層１２３が３％であり、光入射側から見たトータルの反射率は３層の記録層１２１，１２２，１２３でほぼ３％に揃えることができた。
【００５２】
続いて、比較例の光記録媒体の各記録層の記録パワー感度を測定したところ、下記のように、大きな差を生じてしまった。
Ｌ０の記録層１２１：最適記録パワー ２０．１ｍＷ
Ｌ１の記録層１２２：最適記録パワー １０．９ｍＷ
Ｌ２の記録層１２３：最適記録パワー ６．０ｍＷ
【００５３】
このように、各記録層で反射率のバランスの獲得には成功したが、記録パワー感度のバランスが悪くなってしまっていた。
【００５４】
（実施例）
実施例として、図１及び図２に示した、第１の実施の形態の光記録媒体１０を作製した。
基板１１として、厚さ１．１ｍｍの円盤形状のポリカーボネート樹脂を使用した。
３層の記録層１２１，１２２，１２３を、膜厚４０ｎｍのＺｎ−Ｉｎ−Ｏ−Ｐｄ膜として、３層の記録層１２１，１２２，１２３の組成、特にＰｄの含有量を異ならせた。具体的には、以下の組成とした。
Ｌ０の記録層１２１ Ｚｎ：Ｉｎ＝５：５，（Ｚｎ＋Ｉｎ）：Ｐｄ＝５：５
Ｌ１の記録層１２２ Ｚｎ：Ｉｎ＝５：５，（Ｚｎ＋Ｉｎ）：Ｐｄ＝８：２
Ｌ２の記録層１２３ Ｚｎ：Ｉｎ＝５：５，（Ｚｎ＋Ｉｎ）：Ｐｄ＝９：１
【００５５】
また、記録層の下層の誘電体層１５１，１５２，１５３を、膜厚１０ｎｍのＩｎ２Ｏ３膜により形成した。
また、記録層の上層の誘電体層１６１，１６２，１６３を、Ｉｎ２Ｏ３膜により形成し、それぞれの膜厚ｘ（ｎｍ）を異ならせた。具体的には、Ｌ０の記録層１２１の上層の誘電体層１６１の膜厚を５ｎｍとし、Ｌ１の記録層１２２の上層の誘電体層１６２の膜厚を２０ｎｍとし、Ｌ２の記録層１２３の上層の誘電体層１６３の膜厚を３５ｎｍとした。
中間層１４１，１４２として、アクリル系の紫外線硬化性樹脂を使用した。
最上層の記録層１２３の上に、アクリル系の紫外線硬化性樹脂によって、保護層１３を形成した。
各記録層及びその上下の誘電体層は、スパッタ法で形成した。また、中間層及び保護層は、スピンコート法で形成した。
このようにして、実施例の光記録媒体１０を作製した。
【００５６】
次に、この実施例の光記録媒体１０の各記録層１２１，１２２，１２３の透過率及び反射率と、最適記録パワーを測定した。測定結果は、下記のようになった。
Ｌ０の記録層１２１：透過率３２％、反射率３％、最適記録パワー１０．９ｍＷ
Ｌ１の記録層１２２：透過率５５％、反射率３％、最適記録パワー８．０ｍＷ
Ｌ２の記録層１２３：透過率７５％、反射率３％、最適記録パワー９．０ｍＷ
【００５７】
このように、各記録層の反射率のバランスと記録感度のバランスとが、共に良好な結果を得た。
【００５８】
従って、本発明の光記録媒体の構成として、多層の光記録媒体の各記録層のＰｄ含有量を制御することにより、反射率及び記録感度の双方を制御して、各記録層のバランスを最適化することができることが分かった。
【００５９】
本発明の光記録媒体は、通常光記録媒体として採用されているディスク形状とすることができるが、カード形状等、その他の形状とすることも可能である。
【００６０】
本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
【符号の説明】
【００６１】
１０，２０，３０ 光記録媒体、１１，２１，３１ 基板、１２１，１２２，１２３，２２１，２２２，２２３，２２４，３２１，３２２，３２３，３２４，３２ｎ 記録層、１３，２３，３３ 保護層、１４１，１４２，２４１，２４２，２４３，３４１，３４２，３４３ 中間層、１５１，１５２，１５３ （下層の）誘電体層、１６１，１６２，１６３ （上層の）誘電体層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスク等の光記録媒体に係わり、特に２層以上の記録層を有する、高い記録密度で記録が可能な光記録媒体に係わる。
【背景技術】
【０００２】
近年、ブルーレイディスク（Blu-ray Disc（登録商標）；ＢＤ）と呼ばれる、大容量光ディスクが製品化されている。
この大容量光ディスクでは、記録再生用光波長を４０５ｎｍ程度、記録再生用光学系の集光レンズの開口数ＮＡを０．８５程度として、約２５ＧＢの記録容量を実現している。
【０００３】
この大容量光ディスクにおいて追記型光ディスクを実現するために、追記可能な記録層材料が種々検討されている。
従来の追記型光ディスクの記録層材料としては、有機色素材料が知られている。
しかしながら、有機色素材料を用いると、充分な生産性が得られないことや、記録信号の長期安定保存性の問題がある。
また、波長４０５ｎｍ程度の記録再生用光に対して使用できる、適切な有機色素が見当たらない、という問題もある。
【０００４】
そこで、無機材料を追記型記録層材料に用いることが検討されている。
例えば、昇温により高速で結晶化して光学変化を生じさせるＴｅ−Ｏ等を含む記録層を有する光記録媒体が提案されている（特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−１１２５５６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、上述した大容量光ディスクの追記型光記録媒体において、更に大容量化を図るために、記録層を２層以上とする多層化が進められている。
【０００７】
このように多層化する場合には、それぞれの記録層の反射率と透過率を適切に設定することが重要になる。
そして、例えば、記録層に隣接して誘電体層を設けて、この誘電体層の厚さを選定することによって、反射率を制御することができる。
【０００８】
しかしながら、各記録層を同じ構成としたままで、各記録層の反射率と透過率を設定すると、各記録層の記録特性に差が出てしまうことがある。そのため、一部の記録層において、良好な記録特性が得られないことが懸念される。
【０００９】
上述した問題の解決のために、本発明においては、各記録層の反射率と透過率とを制御することができると共に、各記録層において良好な記録特性を得ることが可能な光記録媒体を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の光記録媒体は、基板と、２層以上の記録層とを有する。そして、この２層以上の記録層は、Ｐｄ，Ｏ，Ｍ（ＭはＺｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎの中の１つ或いは複数の元素）が含まれ、且つ、ＯはＭを完全酸化させたとき（ＺｎＯ，Ａｌ２Ｏ３，Ｉｎ２Ｏ３，ＳｎＯ２）の化学量論組成よりも多く含まれている。
さらに、記録層が記録用の光の入射側とは反対側から数えてｎ番目（ｎは２以上の自然数）の記録層である場合、そのＰｄの含有量が、ｎ−１番目の記録層におけるＰｄの含有量より小さい。
【００１１】
上述の本発明の光記録媒体の構成によれば、記録用の光の入射側とは反対側から数えてｎ番目の記録層のＰｄの含有量が、ｎ−１番目の記録層におけるＰｄの含有量より小さい。このように、ｎ番目の記録層はｎ−１番目の記録層よりもＰｄの含有量が小さい（少ない）ことにより、光の吸収が減少するので、透過率が高くなる。これにより、Ｐｄの含有量が小さい（少ない）層の記録感度は減少するが、その分、入射側と反対側の記録層の記録感度が増大する。
従って、反射率を揃えることによって一部の記録層（特に光の入射側とは反対側に近い記録層）の記録感度が低下する分を補償することが可能になる。
また、記録層のＰｄの含有量を変えることにより、記録層の透過率を変えることができる。
【発明の効果】
【００１２】
上述の本発明によれば、各記録層のＰｄの含有量を変えて、各記録層の透過率や記録感度を変えることができる。
これにより、各記録層の透過率、記録感度を制御すると共に、良好な記録特性を実現することが可能になる。
従って、本発明により、記録特性が良好な、多層の記録層から成る光記録媒体を実現することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の光記録媒体の第１の実施の形態の概略構成図（断面図）である。
【図２】図１の光記録媒体の要部の拡大断面図である。
【図３】本発明の光記録媒体の第２の実施の形態の概略構成図（断面図）である。
【図４】本発明の光記録媒体の第３の実施の形態の概略構成図（断面図）である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、発明を実施するための最良の形態（以下、実施の形態とする）について説明する。
なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態
２．第２の実施の形態
３．第３の実施の形態
４．実験例
【００１５】
＜１．第１の実施の形態＞
本発明の光記録媒体の第１の実施の形態の概略構成図（断面図）を、図１に示す。
この光記録媒体１０は、基板１１上に、３層の記録層１２１（Ｌ０），１２２（Ｌ１），１２３（Ｌ２）が形成されている。なお、多層記録媒体においては通常、基板に最も近い記録層をＬ０、次いでＬ１、Ｌ２、・・・とするので、便宜上併記して示す。
また、各記録層１２１，１２２，１２３の間には、光透過性材料より成る中間層１４１，１４２が形成されている。
さらに、最上層の記録層１２３の上には、光透過性材料より成る保護層１３が形成されている。
【００１６】
本実施の形態の光記録媒体１０を、上述した大容量光ディスク（ＢＤ、登録商標）の構成とする場合は、厚みが約１．１ｍｍで、外径が約１２０ｍｍの円盤状の基板１１が用いられる。そしてその一面側、例えばウォブリンググルーブとしての凹凸が形成された面の上に、記録層１２１，１２２，１２３が、光透過性材料より成る中間層１４１，１４２を介して形成される。さらに、記録層１２３の上には、光透過性材料より成る保護層１３が形成され、全体として厚さ１．２ｍｍとなるように構成される。
上述した大容量光ディスクの構成とする場合には、記録用光の入射側は、保護層１３の側とされる。
なお、本発明は、上述した大容量光ディスクの構成に限定されるものではなく、光記録媒体の形状や寸法（大きさ、厚さ等）、基板や保護層の厚さ等は、用途に応じて適宜選定することが可能である。
【００１７】
基板１１の材料としては、例えばポリカーボネート樹脂等を用いることができる。
基板１１は、例えば、射出成形等により、マスタリング原盤からトラッキング用のウォブリンググルーブの凹凸形状を転写することによって、形成することができる。
なお、本発明の光記録媒体において、グルーブ形状は必須ではなく、トラッキングが可能であり、且つ記録トラック間のクロストークが適切に抑制される構造であればよい。
また、記録トラックは光入射側から見てグルーブ上又はランド上とすることができ、記録方式を問わない。
【００１８】
記録層１２１，１２２，１２３は、Ｐｄ，Ｏ，Ｍ（ＭはＺｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎの中の１つ或いは複数の元素）が含まれ、且つ、ＯはＭを完全酸化させたとき（ＺｎＯ，Ａｌ２Ｏ３，Ｉｎ２Ｏ３，ＳｎＯ２）の化学量論組成よりも多く含まれている構成とする。
即ち、これら記録層１２１，１２２，１２３には、ＺｎＯやＡｌ２Ｏ３といった安定した酸化物に加えて、ＰｄＯ又はＰｄＯ２が含まれる。
そして、例えば中心波長４０５ｎｍ近傍のレーザ等の光を照射したときに、ＰｄＯはＰｄとＯ２に、ＰｄＯ２はＰｄＯとＯ２に分解し、Ｏ２の発生によって構造的に膨れを生じる。これにより、周囲と反射率の異なる記録マークが形成される。
【００１９】
中間層１４１，１４２の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂等の、光硬化性、又は熱硬化性の樹脂等を用いることができる。この場合、スピンコート等により塗布した後、加熱又は光照射を行うことにより、中間層を形成することができる。
中間層１４１，１４２は、記録特性に影響を及ぼさない十分な光透過性があればよく、その厚さは層間クロストークを所定値以下に抑えられる範囲であればよい。
【００２０】
保護層１３には、熱硬化性又は光硬化性の樹脂材料が利用可能である。これらの材料をスピンコート法等により塗布して成膜した後、加熱や光照射、例えば紫外線照射により硬化して、保護層１３を形成することができる。或いは、紫外線硬化樹脂等とポリカーボネート等の樹脂シートや、接着層とポリカーボネート等の樹脂シート用いて、保護層１３を形成することもできる。
【００２１】
なお、図示しないが、保護層１３の表面（レーザ照射面）に、例えば機械的な衝撃、傷に対する保護、また利用者の取り扱い時の塵埃や指紋の付着等から、情報信号の記録再生品質を保護するためのハードコートを設けてもよい。
このハードコートには、機械的強度を向上させるためにシリカゲルの微粉末を混入したものや、溶剤タイプ、無溶剤タイプ等の紫外線硬化樹脂を用いることができる。
機械的強度を有し、撥水性や撥油性を持たせるには、ハードコートの厚さを１μｍから数μｍ程度とすることが好ましい。
【００２２】
さらにまた、図１の光記録媒体１０の要部の拡大断面図を、図２に示す。
本実施の形態では、記録層１２１，１２２，１２３の下層及び上層にそれぞれ、保護膜としての機能を有する材料より成る、厚さ数ｎｍ〜数十ｎｍ程度の光透過性の誘電体層１５１，１６１，１５２，１６２，１５３，１６３を形成している。
この誘電体層１５１，１６１，１５２，１６２，１５３，１６３の材料としては、Ｉｎ−Ｏ、Ｚｎ−Ｏ、Ａｌ−Ｏ、Ｓｎ−Ｏ、Ｇａ−Ｏ、Ｓｉ−Ｏ、Ｔｉ−Ｏ、Ｖ−Ｏ、Ｃｒ−Ｏ、Ｎｂ−Ｏ、Ｚｒ−Ｏ、Ｈｆ−Ｏ、Ｔａ−Ｏ、Ｂｉ−Ｏ等の酸化物が挙げられる。また、ＳｉＮ、ＡｌＮ等の窒化物、ＳｉＣ等の炭化物も利用可能である。これらの材料を用いることにより、記録層１２１，１２２，１２３の耐久性を高めることができる。
誘電体層１５１，１６１，１５２，１６２，１５３，１６３は、上述した酸化物や窒化物、炭化物をターゲット材料に用いて、スパッタ法等により成膜することができる。
それぞれの誘電体層１５１，１６１，１５２，１６２，１５３，１６３の材料や厚さは、必要とされる特性に応じて、適宜選定する。なお、３層の記録層１２１，１２２，１２３のそれぞれについて、下層及び上層の誘電体層の材料や厚さが他の記録層と異なっていても構わない。
【００２３】
なお、このように誘電体層を設ける場合、誘電体層の材料や組成、又は成膜条件の少なくともいずれかを変えることにより、誘電体層を含む記録層の透過率を変化させることができる。成膜条件としては、例えば成膜時の成膜パワー（スパッタ法による場合はスパッタ電力）や成膜雰囲気である酸素分圧が挙げられる。ここで酸素分圧とは、例えば不活性ガスとしてＡｒガスを使う場合、Ａｒガスと酸素ガスとを含む全ガス中の酸素のガス圧分を示す。
【００２４】
例えば材料の選定により透過率を変化させる例としては、Ｉｎ−Ｓｎ−ＯとＩｎ−Ｓｉ−Ｚｒ−Ｏが挙げられ、この場合Ｉｎ−Ｓｎ−ＯよりもＩｎ−Ｓｉ−Ｚｒ−Ｏの方が透過率は高い。また、組成を変えて透過率を変化させる例としては、Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏが挙げられ、組成比をＩｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝８８：６：６とするよりも、Ｉｎ：Ｇａ：Ｚｎ＝３４：３３：３３とする方が、透過率が高くなる。また、成膜条件として例えば酸素分圧により変化させる場合、酸素分圧大とするほうが酸素分圧小とする場合よりも透過率が高くなる。更に、成膜時のパワーにより透過率を変える場合は、パワー大とするほうがパワー小とする場合より透過率が高くなる。
【００２５】
また、特に、記録層１２１，１２２，１２３の下層（基板１１側）の誘電体層１５１，１５２，１５３は、主に記録パワーのマージン等に寄与する。そのため、下層の誘電体層１５１，１５２，１５３の材料や厚さによって、記録パワーのマージン等の特性を制御することができる。
また、特に、記録層１２１，１２２，１２３の上層（記録光の入射側、保護層１３側）の誘電体層１６１，１６２，１６３は、主に記録層の反射率に寄与する。そのため、上層の誘電体層１６１，１６２，１６３の材料や厚さによって、各記録層の反射率を制御することができる。例えば、上層の誘電体層１６１，１６２，１６３の材料にＩｎ−Ｏを用いて、上層の誘電体層１６１，１６２，１６３の膜厚を変えることにより、各記録層の反射率を変えることができ、上層の誘電体層の膜厚が厚いほど記録層の反射率が低くなる。
【００２６】
光入射側から見たそれぞれの記録層１２１，１２２，１２３の反射率は、以下のようになる。
Ｌ０層１２１：Ｌ０層の反射率×（Ｌ１層の透過率）２×（Ｌ２層の透過率）２
Ｌ１層１２２：Ｌ１層の反射率×（Ｌ２層の透過率）２
Ｌ２層１２３：Ｌ２層の反射率
従って、これらの反射率がそれぞれ同じ値になるように、それぞれの層の反射率と透過率を設計すれば、光入射側から見た３層の記録層の反射率を揃えることができる。
【００２７】
本実施の形態においては、特に、記録層１２１，１２２，１２３が、基板１１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるようにする。
即ち、Ｌ１の記録層１２２のＰｄの含有量はＬ０の記録層１２１のＰｄの含有量より小さく、Ｌ２の記録層１２３のＰｄの含有量はＬ１の記録層１２２のＰｄの含有量より小さい、構成とする。
このようにＰｄの含有量を変えることにより、透過率を大きく変えることができる。このとき、反射率はそれほど大きくは変わらず、吸収が大きく変わる。
つまり、Ｐｄの含有量を増やせば、透過率が下がり、吸収は増大する。Ｐｄの含有量を減らせば透過率が上がり、吸収は減少する。一般的に、記録感度はこの吸収と関係があり、吸収が高い方が記録感度は良くなる。
【００２８】
前述したように、各記録層の上層の誘電体層の膜厚を選定して、光入射側から見た３層の記録層１２１，１２２，１２３の反射率を揃えた場合、３層の記録層の構成（組成及び膜厚）が同一では、各記録層の最適記録パワーに差が生じる。例えば、記録層の上層の誘電体層１６１，１６２，１６３の膜厚を、基板１１側から光入射側へ厚くしていき、１６１＜１６２＜１６３とすると、光入射側から見た３層の記録層１２１，１２２，１２３の反射率を揃えることが可能になる。このとき、基板１１側のＬ０の記録層１２１の記録感度が低くなる。
これに対して、このＬ０の記録層１２１のＰｄ含有量を増やせば、吸収が上がり、記録感度も改善される。また、Ｌ２の記録層１２３の透過率を上げれば、この記録層１２３の記録感度は落ちるが、下層の記録層１２１，１２２にはより多くの光が入るため、これら下層の記録層１２１，１２２の記録感度改善にも効果があると考えられる。
これにより、各記録層１２１，１２２，１２３の最適記録パワーの差を埋めて、各記録層１２１，１２２，１２３の最適記録パワーを近い値とすることが可能になる。
【００２９】
上述の本実施の形態の光記録媒体１０の構成によれば、記録層１２１，１２２，１２３が、基板１１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるように構成されている。
これにより、基板１１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるので、光の吸収が減少し、透過率が高くなる。これにより、Ｐｄの含有量が小さい（少ない）層の記録感度は減少するが、その分、入射側と反対側の記録層の記録感度が増大する。
従って、反射率を揃えることによって一部の記録層（特に、光の入射側とは反対側に近いＬ０の記録層１２１）の記録感度が低下する分を補償することが可能になる。
また、記録層のＰｄの含有量を変えることにより、記録層の透過率を変えることができる。
【００３０】
本実施の形態の光記録媒体１０の構成によれば、このように各記録層１２１，１２２，１２３のＰｄの含有量を変えて、各記録層１２１，１２２，１２３の透過率や記録感度を変えることができる。これにより、各記録層１２１，１２２，１２３の透過率、記録感度を制御すると共に、良好な記録特性を実現することが可能になる。
従って、記録特性が良好な、３層の記録層から成る光記録媒体１０を実現することが可能になる。
【００３１】
＜２．第２の実施の形態＞
本発明の光記録媒体の第２の実施の形態の概略構成図（断面図）を、図３に示す。
この光記録媒体２０は、基板２１上に、３層の記録層２２１（Ｌ０），２２２（Ｌ１），２２３（Ｌ２），２２４（Ｌ３）が形成されている。
また、各記録層２２１，２２２，２２３，２２４の間には、光透過性材料より成る中間層２４１，２４２，２４３が形成されている。
さらに、最上層の記録層２２４の上には、光透過性材料より成る保護層２３が形成されている。
【００３２】
本実施の形態の光記録媒体２０を、上述した大容量光ディスク（ＢＤ、登録商標）の構成とする場合は、厚みが約１．１ｍｍで、外径が約１２０ｍｍの円盤状の基板２１が用いられる。そしてその一面側、例えばウォブリンググルーブとしての凹凸が形成された面の上に、記録層２２１，２２２，２２３，２２４が、光透過性材料より成る中間層２４１，２４２，２４３を介して形成される。さらに、記録層２２４の上には、光透過性材料より成る保護層２３が形成され、全体として厚さ１．２ｍｍとなるように構成される。
上述した大容量光ディスクの構成とする場合には、記録用光の入射側は、保護層２３の側とされる。
【００３３】
光記録媒体２０の各層の材料や形成方法は、第１の実施の形態の光記録媒体１０と同様とすることができる。
即ち、基板２１の材料としては、例えばポリカーボネート樹脂等を用いることができる。
記録層２２１，２２２，２２３，２２４は、Ｐｄ，Ｏ，Ｍ（ＭはＺｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎの中の１つ或いは複数の元素）が含まれ、且つ、ＯはＭを完全酸化させたときの化学量論組成よりも多く含まれている構成とする。
中間層２４１，２４２，２４３の材料としては、例えば、紫外線硬化樹脂等の、光硬化性、又は熱硬化性の樹脂等を用いることができる。
保護層２３には、熱硬化性又は光硬化性の樹脂材料が利用可能である。
また、図示しないが、保護層２３の表面にハードコートを設けてもよい。このハードコートには、機械的強度を向上させるためにシリカゲルの微粉末を混入したものや、溶剤タイプ、無溶剤タイプ等の紫外線硬化樹脂を用いることができる。
【００３４】
また、図示しないが、第１の実施の形態の図２に示したと同様に、各記録層２２１，２２２，２２３，２２４の下層及び上層に、誘電体層を設けることができる。
この誘電体層の材料としては、Ｉｎ−Ｏ、Ｚｎ−Ｏ、Ａｌ−Ｏ、Ｓｎ−Ｏ、Ｇａ−Ｏ、Ｓｉ−Ｏ、Ｔｉ−Ｏ、Ｖ−Ｏ、Ｃｒ−Ｏ、Ｎｂ−Ｏ、Ｚｒ−Ｏ、Ｈｆ−Ｏ、Ｔａ−Ｏ、Ｂｉ−Ｏ等の酸化物が挙げられる。また、ＳｉＮ、ＡｌＮ等の窒化物、ＳｉＣ等の炭化物も利用可能である。
そして、記録層２２１，２２２，２２３，２２４の下層の誘電体層の材料や厚さによって、記録パワーのマージン等の特性を制御することができる。
また、記録層２２１，２２２，２２３，２２４の上層の誘電体層の材料や厚さによって、各記録層の反射率を制御することができる。例えば、上層の誘電体層の材料にＩｎ−Ｏを用いて、上層の誘電体層の膜厚を変えることにより、各記録層の反射率を変えることができ、上層の誘電体層の膜厚が厚いほど記録層の反射率が低くなる。
【００３５】
本実施の形態においては、特に、記録層２２１，２２２，２２３，２２４が、基板２１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるようにする。
即ち、記録層２２２のＰｄの含有量は記録層２２１のＰｄの含有量より小さく、記録層２２３のＰｄの含有量は記録層２２２のＰｄの含有量より小さく、記録層２２４のＰｄの含有量は記録層２２３のＰｄの含有量より小さい、構成とする。
このようにＰｄの含有量を変えることにより、第１の実施の形態の光記録媒体１０と同様に、透過率を大きく変えることができ、反射率はそれほど大きくは変わらず、吸収が大きく変わる。
【００３６】
前述したように、各記録層の上層の誘電体層の膜厚を選定して、光入射側から見た４層の記録層２２１，２２２，２２３，２２４の反射率を揃えた場合、４層の記録層の構成（組成及び膜厚）が同一では、各記録層の最適記録パワーに差が生じる。例えば、記録層の上層の誘電体層の膜厚を、基板２１側から光入射側へ厚くしていくと、光入射側から見た４層の記録層２２１，２２２，２２３，２２４の反射率を揃えることが可能になる。このとき、基板２１側のＬ０の記録層２２１の記録感度が低くなる。
これに対して、このＬ０の記録層２２１のＰｄ含有量を増やせば、吸収が上がり、記録感度も改善される。また、Ｌ３の記録層２２４の透過率を上げれば、この記録層２２４の記録感度は落ちるが、下層の記録層２２１，２２２，２２３にはより多くの光が入るため、これら下層の記録層２２１，２２２，２２３の記録感度改善にも効果があると考えられる。
これにより、各記録層２２１，２２２，２２３，２２４の最適記録パワーの差を埋めて、各記録層２２１，２２２，２２３，２２４の最適記録パワーを近い値とすることが可能になる。
【００３７】
上述の本実施の形態の光記録媒体２０の構成によれば、記録層２２１，２２２，２２３，２２４が、基板２１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるように構成されている。
これにより、基板２１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるので、光の吸収が減少し、透過率が高くなる。これにより、Ｐｄの含有量が小さい（少ない）層の記録感度は減少するが、その分、入射側と反対側の記録層の記録感度が増大する。
従って、反射率を揃えることによって一部の記録層（特に、光の入射側とは反対側に近いＬ０の記録層２２１）の記録感度が低下する分を補償することが可能になる。
また、記録層のＰｄの含有量を変えることにより、記録層の透過率を変えることができる。
【００３８】
本実施の形態の光記録媒体２０の構成によれば、このように各記録層２２１，２２２，２２３，２２４のＰｄの含有量を変えて、各記録層２２１，２２２，２２３，２２４の透過率や記録感度を変えることができる。これにより、各記録層２２１，２２２，２２３，２２４の透過率、記録感度を制御すると共に、良好な記録特性を実現することが可能になる。
従って、記録特性が良好な、４層の記録層から成る光記録媒体２０を実現することが可能になる。
【００３９】
＜３．第３の実施の形態＞
本発明の光記録媒体の第３の実施の形態の概略構成図（断面図）を、図４に示す。
この光記録媒体３０は、記録層をｎ層（ｎは５以上の任意の自然数）とする場合の光記録媒体３０の構成を示す。
本実施の形態の光記録媒体３０では、基板３１上に、第１の実施の形態及び第２の実施の形態と同様に、ウォブリンググルーブとしての凹凸が形成されている。そして、この凹凸形成面の上に、基板３１側から順に記録層３２１（Ｌ０），３２２（Ｌ１），３２３（Ｌ２），３２４（Ｌ３），・・・，３２ｎ（Ｌｎ）が、中間層３４１，３４２，３４３，・・・，３４ｎを介して形成されている。最上層の記録層３２ｎ（Ｌｎ）の上には、保護層３３が形成されている。
【００４０】
この場合も、前述した大容量光ディスクの構成とする場合は、基板３１の厚さや外径、保護層３３の厚さを、図１に示した第１の実施の形態と同様の構成とする。
【００４１】
本実施の形態において、光記録媒体３０を構成する各層の材料等は、前述した第１の実施の形態及び第２の実施の形態の光記録媒体１０，２０と同様とすることができる。
【００４２】
本実施の形態においては、特に、記録層３２１，３２２，３２３，３２４，・・・，３２ｎが、基板３１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が大きくなるようにする。つまり、記録用の光の入射側とは反対側から数えて、ｋ番目（ｋは２以上でｎ以下の自然数）の記録層のＰｄの含有量が、ｋ−１番目の記録層におけるＰｄの含有量より小さい構成とする。
このようにＰｄの含有量を変えることにより、第１の実施の形態の光記録媒体１０と同様に、透過率を大きく変えることができ、反射率はそれほど大きくは変わらず、吸収が大きく変わる。
【００４３】
前述したように、各記録層の上層の誘電体層の膜厚を選定して、光入射側から見たｎ層の記録層（３２１〜３２ｎ）の反射率を揃えた場合、ｎ層の記録層の構成（組成及び膜厚）が同一では、各記録層の最適記録パワーに差が生じる。
例えば、ｋ番目（ｋは２以上の自然数）の記録層に設けられた上層の誘電体層の厚さが、ｋ−１番目の記録層に設けられた上層の誘電体層の厚さよりも厚くして、記録層の上層の誘電体層の膜厚を基板３１側から光入射側へ厚くしていく。このように構成すると、光入射側から見たｎ層の記録層（３２１〜３２ｎ）の反射率を揃えることが可能になる。このとき、基板３１側に近い記録層（Ｌ０の記録層３２１等）の記録感度が低くなる。
これに対して、この基板３１側に近い記録層のＰｄ含有量を増やせば、吸収が上がり、記録感度も改善される。また、光入射側の記録層（Ｌｎの記録層３２ｎ等）の透過率を上げれば、この記録層の記録感度は落ちるが、下層の記録層にはより多くの光が入るため、これら下層の記録層の記録感度改善にも効果があると考えられる。
これにより、各記録層（３２１〜３２ｎ）の最適記録パワーの差を埋めて、各記録層（３２１〜３２ｎ）の最適記録パワーを近い値とすることが可能になる。
【００４４】
上述の本実施の形態の光記録媒体３０の構成によれば、記録層３２１〜３２ｎが、基板３１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるように構成されている。つまり、記録用の光の入射側とは反対側の基板３１側から数えて、ｋ番目（ｋは２以上でｎ以下の自然数）の記録層のＰｄの含有量が、ｋ−１番目の記録層におけるＰｄの含有量より小さい構成としている。
これにより、基板３１側から記録用光の入射側に向かうにつれて、Ｐｄの含有量が小さくなるので、光の吸収が減少し、透過率が高くなる。これにより、Ｐｄの含有量が小さい（少ない）層の記録感度は減少するが、その分、入射側と反対側の記録層の記録感度が増大する。
従って、反射率を揃えることによって一部の記録層（特に、光の入射側とは反対側に近いＬ０の記録層３２１等）の記録感度が低下する分を補償することが可能になる。
また、記録層のＰｄの含有量を変えることにより、記録層の透過率を変えることができる。
【００４５】
本実施の形態の光記録媒体３０の構成によれば、このように各記録層３２１〜３２ｎのＰｄの含有量を変えて、各記録層３２１〜３２ｎの透過率や記録感度を変えることができる。これにより、各記録層３２１〜３２ｎの透過率、記録感度を制御すると共に、良好な記録特性を実現することが可能になる。
従って、記録特性が良好な、ｎ層の記録層から成る光記録媒体３０を実現することが可能になる。
【００４６】
上述の各実施の形態では、記録層を３層（ｎ＝３）、４層（ｎ＝４）、ｎ層（ｎ≧５）とした場合をそれぞれ示したが、本発明は、記録層を２層（ｎ＝２）とした場合にも同様に適用することができる。
また、上述の各実施の形態では、前述した大容量光ディスクの構成と同様に、基板とは反対の側から記録用の光を入射させる構成としていた。本発明は、基板側から記録用の光を入射させる構成も含むものである。この構成とする場合、基板を記録用の光が充分に透過する構成として、各記録層のＰｄの含有量の大小は、上述した実施の形態とは逆に、基板側の記録層のＰｄの含有量を小さくする。
【００４７】
また、記録層に対して下層や上層に設ける誘電体層は、記録層の下層及び上層に設けることが望ましいが、本発明では、記録層の下層或いは上層のいずれか一方に誘電体層を設けた構成や、記録層に対して誘電体層を設けない構成としてもよい。
【００４８】
また、上述の各実施の形態では、全ての記録層を、Ｐｄ，Ｏ，Ｍを含有する記録層である構成としていた。
本発明では、他の構成の記録層をさらに有する光記録媒体も含む。
例えば、Ｐｄを含まない他の材料による記録層や、凹凸と反射膜のみによる再生専用の記録層等を、さらに設けても構わない。他の構成の記録層を設ける場所は、特に限定されないが、Ｐｄを含む複数層の記録層よりも基板側に配置すると、光記録媒体の各記録層の透過率や反射率を設計しやすい。
【００４９】
＜４．実験例＞
ここで、第１の実施の形態の光記録媒体１０と、記録層の構成が異なる比較例の光記録媒体とを、実際に作製して、記録層の透過率や反射率、記録パワー感度を測定した。
【００５０】
（比較例）
比較例として、第１の実施の形態の光記録媒体１０とは記録層の構成が異なり、各記録層１２１，１２２，１２３が同じ構成である光記録媒体を作製した。
基板１１として、外径１２０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍの円盤形状のポリカーボネート樹脂を使用した。
３層の記録層１２１，１２２，１２３を、膜厚４０ｎｍのＺｎ−Ｉｎ−Ｏ−Ｐｄ膜（Ｚｎ：Ｉｎ＝５：５，（Ｚｎ＋Ｉｎ）：Ｐｄ＝８：２）とした。
また、記録層の下層の誘電体層１５１，１５２，１５３を、膜厚１０ｎｍのＩｎ２Ｏ３膜により形成した。
また、記録層の上層の誘電体層１６１，１６２，１６３を、Ｉｎ２Ｏ３膜により形成し、それぞれの膜厚ｘ（ｎｍ）を異ならせた。具体的には、Ｌ０の記録層１２１の上層の誘電体層１６１の膜厚を５ｎｍとし、Ｌ１の記録層１２２の上層の誘電体層１６２の膜厚を２０ｎｍとし、Ｌ２の記録層１２３の上層の誘電体層１６３の膜厚を３５ｎｍとした。
中間層１４１，１４２として、アクリル系の紫外線硬化性樹脂を使用した。
最上層の記録層１２３の上に、アクリル系の紫外線硬化性樹脂によって、保護層１３を形成した。
各記録層及びその上下の誘電体層は、スパッタ法で形成した。また、中間層及び保護層は、スピンコート法で形成した。
その他は第１の実施の形態の光記録媒体１０と同様にして、比較例の光記録媒体を作製した。
【００５１】
次に、この比較例の光記録媒体の各記録層１２１，１２２，１２３の透過率及び反射率を測定した。
各記録層１２１，１２２，１２３の透過率は、上層の誘電体層１６１，１６２，１６３の厚さによらず、ほぼ５５％で一定であった。
また、反射率は、Ｌ０の記録層１２１が１０％、Ｌ１の記録層１２２が５．５％、Ｌ２の記録層１２３が３％であり、光入射側から見たトータルの反射率は３層の記録層１２１，１２２，１２３でほぼ３％に揃えることができた。
【００５２】
続いて、比較例の光記録媒体の各記録層の記録パワー感度を測定したところ、下記のように、大きな差を生じてしまった。
Ｌ０の記録層１２１：最適記録パワー ２０．１ｍＷ
Ｌ１の記録層１２２：最適記録パワー １０．９ｍＷ
Ｌ２の記録層１２３：最適記録パワー ６．０ｍＷ
【００５３】
このように、各記録層で反射率のバランスの獲得には成功したが、記録パワー感度のバランスが悪くなってしまっていた。
【００５４】
（実施例）
実施例として、図１及び図２に示した、第１の実施の形態の光記録媒体１０を作製した。
基板１１として、厚さ１．１ｍｍの円盤形状のポリカーボネート樹脂を使用した。
３層の記録層１２１，１２２，１２３を、膜厚４０ｎｍのＺｎ−Ｉｎ−Ｏ−Ｐｄ膜として、３層の記録層１２１，１２２，１２３の組成、特にＰｄの含有量を異ならせた。具体的には、以下の組成とした。
Ｌ０の記録層１２１ Ｚｎ：Ｉｎ＝５：５，（Ｚｎ＋Ｉｎ）：Ｐｄ＝５：５
Ｌ１の記録層１２２ Ｚｎ：Ｉｎ＝５：５，（Ｚｎ＋Ｉｎ）：Ｐｄ＝８：２
Ｌ２の記録層１２３ Ｚｎ：Ｉｎ＝５：５，（Ｚｎ＋Ｉｎ）：Ｐｄ＝９：１
【００５５】
また、記録層の下層の誘電体層１５１，１５２，１５３を、膜厚１０ｎｍのＩｎ２Ｏ３膜により形成した。
また、記録層の上層の誘電体層１６１，１６２，１６３を、Ｉｎ２Ｏ３膜により形成し、それぞれの膜厚ｘ（ｎｍ）を異ならせた。具体的には、Ｌ０の記録層１２１の上層の誘電体層１６１の膜厚を５ｎｍとし、Ｌ１の記録層１２２の上層の誘電体層１６２の膜厚を２０ｎｍとし、Ｌ２の記録層１２３の上層の誘電体層１６３の膜厚を３５ｎｍとした。
中間層１４１，１４２として、アクリル系の紫外線硬化性樹脂を使用した。
最上層の記録層１２３の上に、アクリル系の紫外線硬化性樹脂によって、保護層１３を形成した。
各記録層及びその上下の誘電体層は、スパッタ法で形成した。また、中間層及び保護層は、スピンコート法で形成した。
このようにして、実施例の光記録媒体１０を作製した。
【００５６】
次に、この実施例の光記録媒体１０の各記録層１２１，１２２，１２３の透過率及び反射率と、最適記録パワーを測定した。測定結果は、下記のようになった。
Ｌ０の記録層１２１：透過率３２％、反射率３％、最適記録パワー１０．９ｍＷ
Ｌ１の記録層１２２：透過率５５％、反射率３％、最適記録パワー８．０ｍＷ
Ｌ２の記録層１２３：透過率７５％、反射率３％、最適記録パワー９．０ｍＷ
【００５７】
このように、各記録層の反射率のバランスと記録感度のバランスとが、共に良好な結果を得た。
【００５８】
従って、本発明の光記録媒体の構成として、多層の光記録媒体の各記録層のＰｄ含有量を制御することにより、反射率及び記録感度の双方を制御して、各記録層のバランスを最適化することができることが分かった。
【００５９】
本発明の光記録媒体は、通常光記録媒体として採用されているディスク形状とすることができるが、カード形状等、その他の形状とすることも可能である。
【００６０】
本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲でその他様々な構成が取り得る。
【符号の説明】
【００６１】
１０，２０，３０ 光記録媒体、１１，２１，３１ 基板、１２１，１２２，１２３，２２１，２２２，２２３，２２４，３２１，３２２，３２３，３２４，３２ｎ 記録層、１３，２３，３３ 保護層、１４１，１４２，２４１，２４２，２４３，３４１，３４２，３４３ 中間層、１５１，１５２，１５３ （下層の）誘電体層、１６１，１６２，１６３ （上層の）誘電体層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
Ｐｄ，Ｏ，Ｍ（ＭはＺｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎの中の１つ或いは複数の元素）が含まれ、且つ、ＯはＭを完全酸化させたとき（ＺｎＯ，Ａｌ２Ｏ３，Ｉｎ２Ｏ３，ＳｎＯ２）の化学量論組成よりも多く含まれた、２層以上の記録層とを有し、
２層以上の前記記録層のうち、記録用の光の入射側とは反対側から数えて、ｎ番目（ｎは２以上の自然数）の記録層のＰｄの含有量が、ｎ−１番目の記録層におけるＰｄの含有量より小さい
光記録媒体。
【請求項２】
前記記録層に隣接して、Ｉｎ，Ｚｎ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｇａ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｂｉの少なくともいずれかの酸化物、又は、ＳｉＮ，ＡｌＮ，ＳｉＣのいずれかの材料より成る誘電体層が設けられている請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記誘電体層が前記記録層の少なくとも前記記録用の光の入射側に設けられ、前記記録層の前記記録用の光の入射側に設けられた誘電体層は、前記ｎ番目の記録層に設けられた誘電体層の厚さが、前記ｎ−１番目の記録層に設けられた誘電体層の厚さより厚い、請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記記録用の光の入射側は、前記基板とは反対側である、請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項１】
基板と、
Ｐｄ，Ｏ，Ｍ（ＭはＺｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｎの中の１つ或いは複数の元素）が含まれ、且つ、ＯはＭを完全酸化させたとき（ＺｎＯ，Ａｌ２Ｏ３，Ｉｎ２Ｏ３，ＳｎＯ２）の化学量論組成よりも多く含まれた、２層以上の記録層とを有し、
２層以上の前記記録層のうち、記録用の光の入射側とは反対側から数えて、ｎ番目（ｎは２以上の自然数）の記録層のＰｄの含有量が、ｎ−１番目の記録層におけるＰｄの含有量より小さい
光記録媒体。
【請求項２】
前記記録層に隣接して、Ｉｎ，Ｚｎ，Ａｌ，Ｓｎ，Ｇａ，Ｓｉ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｂｉの少なくともいずれかの酸化物、又は、ＳｉＮ，ＡｌＮ，ＳｉＣのいずれかの材料より成る誘電体層が設けられている請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記誘電体層が前記記録層の少なくとも前記記録用の光の入射側に設けられ、前記記録層の前記記録用の光の入射側に設けられた誘電体層は、前記ｎ番目の記録層に設けられた誘電体層の厚さが、前記ｎ−１番目の記録層に設けられた誘電体層の厚さより厚い、請求項２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記記録用の光の入射側は、前記基板とは反対側である、請求項１に記載の光記録媒体。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１２−６４２７５（Ｐ２０１２−６４２７５Ａ）
【公開日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２０８１４８（Ｐ２０１０−２０８１４８）
【出願日】平成２２年９月１６日（２０１０．９．１６）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【出願人】（０００００１１９９）株式会社神戸製鋼所 (5,860)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月２９日（２０１２．３．２９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月１６日（２０１０．９．１６）
【出願人】（０００００２１８５）ソニー株式会社 (34,172)
【出願人】（０００００１１９９）株式会社神戸製鋼所 (5,860)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]