基板処理装置及び基板処理装置の制御方法
【課題】基板処理に関するプログラムの編集画面において、編集画面の編集部分を、コンピュータ上のツールで変換することなく編集の内容を一目で理解できるようにする。
【解決手段】 基板処理に関するプログラムの編集画面を表示する表示手段と、編集画面に表示される各種キーの操作をキーログとして収集するキーログ収集入力手段と、キーにより編集された編集画面をキーログに関連付けて記憶手段に保存するキーログ保存手段と、記憶手段に保存された編集手段とキーにより編集された部分の画面表示形式を、区別可能に変更する表示形式変更手段と、を備える。
【解決手段】 基板処理に関するプログラムの編集画面を表示する表示手段と、編集画面に表示される各種キーの操作をキーログとして収集するキーログ収集入力手段と、キーにより編集された編集画面をキーログに関連付けて記憶手段に保存するキーログ保存手段と、記憶手段に保存された編集手段とキーにより編集された部分の画面表示形式を、区別可能に変更する表示形式変更手段と、を備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水晶、液晶、半導体等の基板処理装置に関するものであり、特に、キーログによりトラブルの原因を特定するようにした基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、基板処理装置には装置コントローラが接続されており、機械類、熱処理類、原料ガス供給系、真空排気系のアクチュエータをコントローラの制御によって制御する。基板処理装置の装置コントローラのプログラムのパラメータを変更する場合、たとえば、ユーザやメンテナンスエンジニアが、装置コントローラにキー入力装置とモニタとを接続し、モニタにプログラムの設定部分や変更部分を表示させながらプログラムのパラメータを編集する。このとき、ユーザやメンテナンスエンジニアによるプログラムの設定や変更は、装置コントローラの操作部のメモリやハードディスク等の記憶部にキーログとして保存される。なお、装置コントローラは、半導体製造システムにおいて、上位の管理コンピュータから基板処理に関するレシピ等のプログラムを供給されるコンピュータのことである。
【０００３】
図１９は装置コントローラ３００の操作部の機能ブロック図である。ユーザやメンテナンスエンジニアがキー入力装置を用いてプログラムを呼び出し、プログラムのシーケンスやシーケンスの編集部分に、コマンドや数字などのパラメータを入力すると、呼び出しから確定までに操作したキーのキーログがキーログ収集入力モジュール３０１によって収集される。収集したキーログは、キーログデータＳＲＡＭ書き込みモジュール３０２によって収集順にＳＲＡＭ（図示せず）に書き込まれる。この場合、キーログは、装置コントローラ３００の理解できるプログラム言語でＳＲＡＭに書き込まれる。装置コントローラ３００をシャットダウンし、再度、立ち上げると、シャットダウン後の再立ち上げ処理モジュール３０３が、ＳＲＡＭからキーログを読み込んでハードディスク（ＨＤ）に追加データとして保存する。
なお、モジュールとは、装置コントローラ３００のハードウエア資源を利用するプログラムモジュールのことである。以下、モジュールとは、このような意味で使用する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このように、プログラムの設定や変更に使用されたキーログは、メモリやハードディスクなどの記憶手段に保存されるので、キーログの解析によりトラブルの原因の特定が可能になるが、ハードディスクに最新のキーログが追加されるのは、装置コントローラがシャットダウンされ、再度、立ち上げたときであるので、キーログの解析の際に、装置コントローラのシャットダウンと再立ち上げを実行せずに、ハードディスクのキーログをトラブル解析用のデータに用いる場合には、トラブルの原因を特定することができないという問題がある。
また、前記キーログは、前記装置コントローラが理解できる特別なプログラム言語でハードディスクに書き込まれているので人間が理解できる文字や数字に変換するにはコンピュータ上で特別な編集ツールによってテキストデータに変換することになるがこれに多くの手間と時間が掛ってしまうという問題がある。
さらに、前記編集ツールによって前記キーログのテキストデータに変換しても変換したデータは単なる文字、数字、記号の羅列となってしまうので、解析の完了までには多くの時間が掛ってしまうという問題がある。
【０００５】
そこで、編集画面上で、前記キーによって編集される部分（以後、編集部分と称す）を
、コンピュータ上のツールで変換することなく編集の内容を一目で理解できるようにするために解決すべき技術的課題が生じるのであり、本発明はこの課題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
第１の発明は、基板処理に関するプログラムの編集画面を表示する表示手段と、前記表示手段に表示されキーにより編集された編集後の編集画面をキーログに関連付けて記憶手段に保存するキーログ保存手段と、前記記憶手段から前記編集後の編集画面を保存順に呼び出す次画面キーと逆順に呼び出す前画面キーと、編集後の編集画面の編集部分のうち前記キーにより編集された部分の画面表示形式を、前記編集画面の他の表示部分と区別可能に変更する表示形式変更手段と、を備えた基板処理装置を提供するものである。ここで、記憶手段とは、メモリやハードディスク等であり、基板処理に関するプログラムとは、基板の受け入れから払い出しまでの基板処理に関するプログラムのことである。また、編集画面とは、何の画面か何を編集するものであるか等の情報を視覚的に表示する情報を持った画面で且つプログラムの設定又は変更のために文字や数字等を入力するセルやダイアログ形式の編集部分（入力部分）が設けられた画面のことであるが、視覚的な理解を促進するために内容に係る文字や図形を表示した画面としてもよい。
請求項１記載の発明において、表示手段に編集画面を呼び出し、キーにより、プログラムのシーケンスの設定部分やパラメータを前記編集画面の編集部分に入力する。
この編集画面を閉じると、編集部分の設定や変更が前記プログラムに反映される。
キーログ保存手段は、編集後の編集画面をキーのキーログに関連付けて前記記憶手段に保存し、表示形式変更手段は、編集後、編集画面の編集部分と他の表示部分とを相互に関連付けて記憶手段に保存する。そして、表示形式変更手段は、前記記憶手段に保存した編集後の編集画面の編集部分のうち前記キーによって編集された部分の画面表示形式を、同じ編集画面の他の表示部分と区別可能に変更する。
編集画面の編集後に、設定や変更によるトラブルが発生し、その原因を特定する際や設定の変更を確認する際は、前記次画面キーと前記前画面キーにより、前記記憶手段から保存後の編集画面を表示手段に表示させる。このとき、編集画面はこの画面が何の編集画面かを表示するための情報を持っており、編集部分は、ユーザやメンテナンスエンジニアが直接理解できる文字や数字として表示手段にビジュアルに表示され、且つ、編集部分のうち、前記キーによって編集された部分の画面表示形式は、同じ編集画面の他の表示部分と区別可能に変更されているので、編集顔面の編集部分を、コンピュータ上のツールで変換することなく編集の内容を一目で理解することができる。
【０００７】
第２の発明は、前記表示形式変更手段は、ブリンク表示、色分け表示、反転表示の中から選ばれた一つの表示によって前記編集部分のうち、前記キーによって編集された部分を表示する基板処理装置を提供するものである。いずれの表示形式も編集画面の他の表示部分から編集部分を明確に区別して作業者の視覚を刺激する。
【０００８】
さらに、第３の発明は、基板処理に関するプログラムの編集画面を表示させる工程と、前記表示手段に表示されキーにより編集された編集後の編集画面をキーログに関連付けて記憶手段に保存する工程と、前記記憶手段に保存した編集後の編集画面の編集部分のうち前記キーにより編集された部分の画面表示形式を、前記編集画面の他の表示部分と区別可能に変更する工程と、前記編集後の編集画面を保存順又は逆順に呼び出す工程と、を含む基板処理装置のプログラム検定方法を提供するものである。
【０００９】
また、第４の発明は、第３の発明において、ブリンク表示、色分け表示、反転表示の中から選ばれた一つの表示によって前記編集部分を変更する工程を含む基板処理のプログラム検定方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１０】
以上、要するにこの発明によれば次の如き優れた効果を発揮する。
（１）請求項１記載の発明によれば、基板処理に関するプログラムの編集後において、設定や変更の内容及び履歴を一目で理解できる。
【００１１】
（２）また、編集後の編集画面の編集部分のうちキーにより編集された部分に注意力が集中するので設定や変更の内容及び履歴を把握する際の作業効率が大幅に向上する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に係る基板処理装置を透視法により示した解説図である。
【図２】図１の基板処理装置を側方より見た側断面図である。
【図３】処理装置を自動化するための装置コントローラのブロック図である。
【図４】基板処理に関するプログラムのモニタ画面である。
【図５】ガス一覧モニタ画面を示す解説図である。
【図６】温度メインモニタ画面を示す解説図である。
【図７】圧力モニタ画面を示す解説図である。
【図８】ＡＵＸ一覧モニタ画面を示す解説図である
【図９】レシピ進捗モニタ画面を示す解説図である。
【図１０】操作コントローラの機能構成図である。
【図１１】検索キーを利用して前記装置コントローラの記憶手段を検索し、編集後の編集画面の呼び出しに用いるデータログメニュー画面の一例である。
【図１２】ＯＵロギングメニュー画面を示す解説図である。
【図１３】キーログ解析一覧画面を示す解説図である。
【図１４】炉内圧力の圧力編集画面を示す解説図である。
【図１５】検索キーに対応する検索画面の解説図である。
【図１６】レシピの編集メニュー画面を示す解説図である。
【図１７】レシピの編集画面を示す解説図である。
【図１８】ＰＭコマンド画面を示す解説図である。
【図１９】従来の装置コントローラの操作部の機能ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図１乃至図１８を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００１４】
まず、図１及び図２を参照して本発明に係る基板処理装置の構成と作用を説明する。この実施形態において基板処理装置は、水晶、ガラス、半導体基板などの基板に拡散処理やＣＶＤ処理等を行う縦型の基板処理装置（以下、処理装置という）であり、図１は処理装置を透視法により示した解説図、図２は図１の処理装置を側方より見た側断面図である。なお、本実施形態においては、数量、材質は基本的に例示に過ぎず、これによって本発明が限定されるものではない。また、以下に説明するコントローラはコンピュータで構成してもよい。
【００１５】
図１に示すように、処理装置９０の筐体１０１の前面には、シリコン等からなるウエハ（基板）２００を収容したポッド（基板収容容器）１００を、外部から筐体１０１内に挿入するため、及びその逆に筐体１０１内から外部へ払い出すためＩ／Ｏステージ（保持具授受部材）１０５が付設される。
【００１６】
筐体１０１内には、前記Ｉ／Ｏステージ（保持具授受部材）１０５から筐体１０１内に挿入されたポッド１００を保管するためのカセット棚（載置手段）１０９が敷設される。また、筐体１０１内には、ウエハ２００の搬送エリアであり、後述のボート（基板保持手段）２１７のローディング、アンローディング空間となるＮ２パージ室（気密室）１０２
が設けられる。
【００１７】
ウエハ２００の処理を行う際は、Ｎ２パージ室１０２の内部は密閉容器となり、ウエハ２００の自然酸化膜を防止するためにＮ２ガスなどの不活性ガスが充満される。
【００１８】
前記ポッド１００としては、現在ＦＯＵＰというタイプが主流で使用されており、ポッド１００の一側面に設けられた開口部を蓋体（図示せず）で塞ぐことで大気からウエハ２００を隔離した状態で搬送することができ、蓋体を取り去ることでポッド１００内へウエハ２００を入出させることができる。
【００１９】
前記ポッド１００の蓋体を取り外し、ポッド１００内とＮ２パージ室１０２内とを連通するため前記Ｎ２パージ室１０２の前面側にはポッドオープナ（開閉手段）１０８が設けられる。
ポッドオープナ１０８、カセット棚１０９、およびＩ／Ｏステージ１０５間のポッド１００の搬送は、カセット移載機１１４によって行われる。このカセット移載機１１４によるポッド１００の搬送空間には、筐体１０１に設けられたクリーンユニット（図示せず）によって清浄化した空気をフローさせるようにしている。
【００２０】
Ｎ２パージ室１０２の内部には、複数のウエハ２００を多段に積載するボート２１７と、ウエハ２００のノッチ（又はオリエンテーションフラット）の位置を任意の位置に合わせる基板位置合わせ装置１０６と、ポッドオープナ１０８上のポッド１００と基板位置合わせ装置１０６とボート２１７との間でウエハ２００の搬送を行うウエハ移載機（搬送手段）１１２とが設けられる。
また、Ｎ２パージ室１０２の上部には、ウエハ２００を処理するための処理炉２０２が設けられており、ボート２１７は、ボートエレベータ（昇降手段）１１５によって処理炉２０２へローディング、又は処理炉２０２からアンローディングされる。
【００２１】
次に、図１及び図２を参照して本発明の処理装置９０の動作について説明する。
まず、ＡＧＶやＯＨＴなどのウエハ移載機（図示せず）により筐体１０１の外部から搬送されてきたポッド１００は、Ｉ／Ｏステージ１０５に載置される。Ｉ／Ｏステージ１０５に載置されたポッド１００は、カセット移載機１１４によって、直接、ポッドオープナ１０８上に搬送されるか、又は、一旦、カセット棚１０９にストックされた後にポッドオープナ１０８上に搬送される。
ポッドオープナ１０８上に搬送されたポッド１００は、ポッドオープナ１０８によってポッド１００の蓋体が取外される。このとき、ポッド１００内とＮ２パージ室１０２とが連通されポッド１００内がＮ２雰囲気に置換される。
【００２２】
次に、ウエハ移載機１１２によって、ポッド１００内からウエハ２００を取り出す。取り出されたウエハ２００は、まず、基板位置合わせ装置１０６によってノッチ（又はオリエンテーションフラット）を基準に位置合わせをされ、その後、ウエハ移載機（搬送手段）１１２によってボート２１７へと搬送される。
【００２３】
ボート２１７へのウエハ２００の搬送が完了すると、処理炉２０２の炉口シャッタ１１６が開かれ、ウエハ２００を搭載したボート２１７がボートエレベータ１１５により処理炉２０２にローディングされる。
ローディング後は、処理炉２０２でウエハ２００にＣＶＤ処理や拡散処理等の任意の処理が実施される。ウエハ２００の処理後は、前記した手順の逆の手順で、ウエハ２００及びポッド１００が、筐体１０１の外部へと払い出される。
【００２４】
図３は前記処理装置１１９を自動化するための装置コントローラのブロック図である。
装置コントローラ２２０は、操作部２２１と制御部２２２とで構成されており、プログラムの設定や変更ための操作コントローラ２２３は、データ送受信モジュール２２４を介して制御部２２２に通信可能に接続される。
前記制御部２２２は、図３には詳細に示されていないが、熱電対等の加熱装置の加熱温度に基づいて前記ヒータの温度をフィードバック制御する温度コントローラ（図示せず）と、圧力センサの検出温度に基づいて処理炉の圧力をフィードバック制御する圧力コントローラ（図示せず）と、マスフローモニタに基づいて原料ガスの流量をフィードバック制御するマスフローコントローラ（図示せず）と、位置や回転角センサに基づいて各種メカニズムを制御するメカニズムコントローラ（図示せず）とから構成され、これらを管理するためのメインコントローラ（図示せず）と操作部２２１の操作コントローラ２２３とに通信可能に接続される。なお、前記メカニズムコントローラは、前記ポッドオープナ（開閉手段）１０８、前記カセット移載機１１４、前記基板位置合わせ装置１０６、前記基板位置合わせ装置１０６、前記ウエハ移載機（搬送手段）１１２、前記ボートエレベータ（昇降手段）１１５等のアクチュエータ（駆動部）を制御するコントローラであり、制御のためのシーケンス（プログラムシーケンス）やパラメータは、たとえば、操作コントローラ２２３のメモリ２２５やハードディスク２２６等の記憶手段から読み込まれる。また、操作コントローラ２２３には、前記処理装置９０の基板処理に関するプログラムのシーケンスやパラメータの設定や変更のためのユーザインターフェイスとしてモニタ（表示手段）２２７とキー入力装置２２８とが備えられる。
【００２５】
前記キー入力装置２２８は、モニタ（表示手段）２２５に表示する複数のプログラムボタンで構成されている。ここで、「プログラムボタン」とは、モニタ（表示手段）２２７の画面に表示され、指やペンによってタッチされることによってプログラムの起動、終了を切り替えるソフトウエア上のキーのことである。なお、以下に説明するボタンやキーは、全てソフトウエアで構成されたキーを意味するものとする。
【００２６】
図４は基板処理に関するプログラムのモニタ画面であり、ＰＭメインモニタ画面と呼ばれる画面である。なお、図４はＰＭボタン１をタッチしたときの画面である。図示されるように、ＰＭメインモニタ画面３０ａの画面下部の操作パネル８には、呼び出しキーとしてＰＭボタン１、システムボタン２、戻るボタン３、進むボタン４、編集ボタン５、データログボタン６、セットアップボタン７等の操作ボタンが配置される。操作パネル８の上方側には、ガスパネル９、温度パネル１０、圧力パネル１１、ＡＵＸパネル１２、レシピパネル１３の合計五枚のパネルが表示される。各パネル９〜１３には、後述する編集キー１４によって編集する編集部分としてそれぞれセル（後述する）が表示される。なお、図４は編集前の段階なので各セル（後述する）には、ゼロが表示されている。
前記ガスパネル９、前記温度パネル１０、前記圧力パネル１１、前記ＡＵＸパネル１２、前記レシピパネル１３には、それぞれパネルの内容を視覚的に補完する情報として文字やアイコンが表示される。これらのパネル９〜１３又はパネル上のアイコンは、指やペンによりタッチされると、画面を関連画面に切り替えるプログラムキーとなっている。
原料ガス流量のモニタ画面であるガスパネル９には、セル１５を挟んで一方側と他方側にマスフローコントローラの略語（ｍｆｃ）、配置先を示す番号を表示するボタン１６、流量の単位を示す文字（ｓｌｍ）が表示される。
炉内温度のモニタ画面である温度パネル１０には、前記ガスパネル９と同様に、前記処理炉２０２の構造を示す図形表示１７を挟んで一方側に前記処理炉２０２における炉内温度の温度ゾーンｕ、ｃｕ、ｃ、ｃｌ、ｌが縦一列に配置され、他方側にｕ、ｃｕ、ｃ、ｃｌ、ｌの各温度ゾーンの炉内温度を表示するためのセル１８が縦一列に配置される。また、この温度パネル１０には、温度の制御モードを表示するためのセル１９が設けられる。
【００２７】
炉内圧力のモニタ画面である圧力パネル１１には、前記処理炉２０２の炉内圧力を表示するためのセル２０と、制御方式やコマンドを表示するためのセル２１，２２が表示され
る。
【００２８】
圧力パネルの制御方式をモニタするセル２１には、「ＡＰＣバルブ制御」が、コマンドのセル２２には「圧力設定」が表示される。なお、ＡＰＣバルブ制御とは、炉内圧力を検知し、炉内圧力が設定圧力に自動的に保持される圧力制御バルブ（ピラニ計）の開度をフィードバック制御する制御方式のことである。
【００２９】
前記レシピパネル１３には、現在使用しているカレントレシピを表示するセル２３と、残時間を示すセル２４と、ホールド時間を示すセル２５と、開示時刻を示すセル２６と、終了時刻を示すセル２７等が設けられる。
ＡＵＸパネル１２は基板処理の補完用のパネルであり、たとえば、外部燃焼による水蒸気の流量等をモニタするためのパネルである。このＡＵＸパネル１２にも複数の設定点をモニタするため複数のセル８０が設けられている。
【００３０】
図５はガス一覧モニタ画面２８、図６は温度メインモニタ画面２９、図７は圧力モニタ画面３０、図８はＡＵＸ一覧モニタ画面３１、図９はレシピ進捗モニタ画面３２であり、ガスパネル９、温度パネル１０、圧力パネル１１、ＡＵＸパネル１２、レシピパネル１３又はこれらパネルのアイコンのタッチによって前記モニタ２２７に出現する画面である。なお、レシピパネル１３、ガスパネル９、温度パネル１０、圧力パネル１１、ＡＵＸパネル１２、ガス一覧モニタ画面２８、温度メインモニタ画面２９、圧力モニタ画面３０、ＡＵＸ一覧モニタ画面３１、レシピ進捗モニタ画面３２は、たとえば、前記操作部２２１のメモリ２２５又はハードディスク２２６に保存されている。
【００３１】
図５のガス一覧モニタ画面２８、図６の温度メインモニタ画面２９、図７の圧力モニタ画面３０、図８のＡＵＸ一覧モニタ画面３１、図９のレシピ進捗モニタ画面３２には、前記ＰＭメインモニタ画面３３と同様に、画面下部に前記操作パネル８が表示される。
操作パネル８の編集ボタン５は、タッチすると前記編集キー１４による編集部分の編集を可能にするボタンである。
編集キー１４は、たとえば、画面上部に設けられた文字／数字テーブルからなり、最初にセルを指定し、続いて、文字／数字テーブルに表示されている複数の文字や数字にタッチすることによって文字や数字を前記した各セルに入力するものである。
文字／数字テーブルから選択した文字や数字は、先に指定したセルの設定又は変更データとなり、それぞれシーケンスの設定、又は変更、又はパラメータとして基板処理に関するプログラムに反映される。
従って、これらのガス一覧モニタ画面２８、温度メインモニタ画面２９、圧力モニタ画面３０、ＡＵＸ一覧モニタ画面３１、レシピ進捗モニタ画面３２は、前記編集キー１４がタッチされた段階でこれらの画面は、基板処理に関するプログラムの編集画面となり、各画面のセルはユーザやプログラムエンジニアの実施する設定又は変更の対象となる編集部分となる。もちろん、編集部分にはセルに限らずダイアログやポップアップウインドウも含まれる。
【００３２】
図５のガス一覧モニタ画面においては、マスフローコントローラ（ｍｆｃ０７〜ｍｆｃ１３）の流量（ｓｌｍ）を設定するための設定値のセル３７が編集部分に該当し、図６の温度メインモニタ画面２９においては、ｕ、ｃｕ、ｃ、ｃｌ、ｌの各ゾーンの炉内温度を設定するためのセル３８及びランプレートを設定するためのセル３９が編集部分に該当する。
また、図７の圧力モニタ画面３０においては、制御方式のセル４０、制御モードモニタのセル４１、設定４２、圧力コマンドのセル４３が編集部分に該当し、図８のＡＵＸ一覧モニタ画面３１においては、たとえば、ＡＵＸ０７〜ＡＵＸ１２までの水素と酸素の流量（ｓｌｍ）を設定するためのセル４４が編集部分に該当する。ここで水素と酸素とは、ア
ニールのための水蒸気生成用として用いられるものである。
【００３３】
また、図９のレシピ進捗モニタ画面においては、例えば、ステップ名称、ステップ残時間を設定するためのセルやレシピの開始時刻、スキップ時間、ホールド時間を設定するためのセルが編集部分となる。
【００３４】
次に、図３、図１０を参照して前記操作コントローラ２２３の構成について説明する。
図３に示すように、操作コントローラ２２３には、キーログを収集するキーログ収集入力モジュール５０と、キーログデータメモリ内書き込みモジュール５１と、メモリ→ＨＤ（ハードディスク）書き込みモジュール５２と、キーログデータと画面ファイルリンク表示モジュール５４と、キーログデータ検索モジュール５５とが備えられる。
ここで、図１０に示すように、キーログ収集入力モジュール５０は、前記編集画面の呼び出しキーのキーログを順次収集するモジュールであり、キーログデータメモリ内書き込みモジュール５１は、前記キーログ収集入力モジュール５０が収集したキーログを順次メモリに書き込んで保存するメモリ内キーログ収集処理を実行するモジュールである。また、メモリ→ＨＤ（ハードディスク）書き込みモジュール５３は、前記メモリ２２５に書き込まれたキーログをこのメモリ２２５から読み込んでこれをハードディスク２２６に順次書き込んで保存する処理を実行するモジュールであり、キーログデータと画面ファイルリンク表示モジュール５４は、キーログのデータに前記処理装置の編集後の編集画面を結合するため相互に関連付けて保存するモジュールである。また、キーログデータ検索モジュール５５は、後述する検索キーによってキーログのデータを検索し、このデータに関連付けられた編集画面のデータを呼び出すモジュールである。
例えば、前記キーログには、前記操作パネル８に配置される各ボタンや、前記ガスパネル９、温度パネル１０、圧力パネル１１、ＡＵＸパネル１２、レシピパネル１３又はアイコン等を呼び出しキーとして操作したキーログが該当し、編集画面には、例えば、前記ガス一覧モニタ画面２８、前記温度メインモニタ画面２９、前記圧力モニタ画面３０、前記ＡＵＸ一覧モニタ画面３１、及び前記レシピ進捗モニタ画面３２等が該当する。
このため、キーログデータメモリ内書き込みモジュール５２と、メモリ→ＨＤ（ハードディスク）書き込みモジュール５３からなるキーログ保存手段は、ガスパネル９、温度パネル１０、圧力パネル１１、ＡＵＸパネル１２、レシピパネル１３又はアイコン等（図４参照）を呼び出しキーとするキーログに、それぞれ編集後のガス一覧モニタ画面２８（図５）、温度メインモニタ画面２９（図６）、圧力モニタ画面３０（図７）、ＡＵＸ一覧モニタ画面３１（図８）、レシピ進捗モニタ画面３２（図９）を関連付けて前記操作コントローラ２２３の記憶手段（メモリ２２５、ハードディスク２２６）に保存し、表示形式変更手段としてのキーログデータと画面ファイルリンク表示モジュール５４は、前記メモリ２２５やハードディスク２２６に編集後の編集画面を保存した後に、編集後の編集画面の編集部分（セル）の画面表示形式を、各編集画面の他の表示部分と区別可能に変更する。
この場合、表示形式の変更の態様には、ブリンク表示、色分け表示、又は反転表示が好ましいが、編集部分の周囲を枠状に囲んで太く強調表示したり、パラメータやコマンドをボールド表示として周囲の部分と区別して表示するようにしてもよい。
このように表示形式が変更されると、ユーザやメンテナンスエンジニアの視覚的な注意力が編集部分に自然に集中するのでトラブルの原因を短時間で特定することができる。
また、本実施形態に係る操作コントローラ２２３は、常に、編集後の編集画面を、前記パネル９〜１３又は各パネル９〜１３のアイコンを呼び出しキーとしたキーログに関連付けてハードディスク２２６に保存するので、従来のように解析の対象から最新のキーログが外れてしまうこともない。
さらに、ユーザやメンテナンスエンジニアの注意力が編集部分に集まるので、後述する検索キーを使用せずに、プレビューキー（前画面キー）やネクストキー（次画面キー）を使用して編集後の編集画面を呼び出す場合でもトラブルの原因を短時間で特定することができる。
【００３５】
また、検索キーにより検索可能なデータベースを記憶手段としてのハードディスク２２６に構築するので、たとえば、日付検索、人名（ユーザ又はメンテナンスエンジニア）を検索キーとする検索によって得られた結果を、さらに、ガスや温度等で検索して絞り込むとトラブル等の原因をさらに短時間で特定することができる。
図１１は前記検索キーを利用して前記装置コントローラ２２０の記憶手段を検索し、編集後の編集画面の呼び出しに用いるデータログメニュー画面の一例である。
なお、このデータログメニュー画面６０は、図４で説明したＰＭモニタメイン画面３０ａのデータログボタン６をタッチしたときに前記装置コントローラ２２０と一体又は別体のモニタ２２７に表示される画面である。
データログメニュー画面６０でＯＵロギング情報ボタン６１をタッチすると、モニタ２２７の画面が図１２に示すＯＵロギングメニュー画面６２に切り替わる。そして、ＯＵロギングメニュー画面６２でキーログボタン６３をタッチするとモニタ２２７の画面が図１３に示すキーログ解析一覧画面６４に切り替わる。
なお、この画面において、Ｍｏｎ￥ＭｏｎＰＭＭａｉｎＰｒｅｓｓは画面を前記圧力モニタ画面に、Ｍｏｎ￥ＭｏｎＰＭＭａｉｎＡＵＸＳｍａｌｌＰａｎｅｌは画面を前記ＡＵＸ一覧モニタ画面に、また、Ｍｏｎ￥ＭｏｎＰＭＭａｉｎＲｃｐＰｒｏｇｒｅｓｓは画面を前記レシピ進捗モニタ画面に、Ｍｏｎ￥ＭｏｎＰＭＭａｉｎＭＦＣＬは画面を前記ガス一覧モニタ画面に、Ｍｏｎ￥ＭｏｎＰＭＭａｉｎＴｅｍｐＴＣＭｏｎ５Ｚは画面を温度メインモニタ画面に切り替えるデータベースファイルである。
たとえば、ＭｏｎＰＭＭａｉｎＰｒｅｓｓにカーソルバーを移動し、同画面のログ解析ボタン６５をタッチするとモニタ２２７の画面が図１で説明したＰＭモニタメイン画面３０ａの圧力パネル１１に対応する圧力編集画面に切り替わる。
図１４はこの圧力編集画面６８である。圧力編集画面６８の下部には、Ｐｒｅｖキー（前画面キー）６９、Ｃｌｏｓｅキー（終了ボタン）７０及びＮｅｘｔキー（次画面キー）７１が設けられており、Ｐｒｅｖキー（前画面キー）６９をタッチするごとに前記操作コントローラ２２３のハードディスク２２６に保存されていた過去の圧力編集画面６８が保存順と逆順に表示され、Ｎｅｘｔキー（次画面キー）７１をタッチするごとにハードディスク２２６に保存されていた過去の圧力編集画面６８が保存順に表示される。このように、圧力、温度といったカテゴリ別に検索可能なデータベースを構築すると、トラブルの原因を推定できる場合において、使い勝手がよくなるので、原因の特定を短時間で終了することができる。
図１５は図１３に示す検索キー７３に対応する検索画面７２である。このように、操作コントローラ２２３に検索画面７２を格納し、操作コントローラ２２３に発生日時（年月日、時間）や作業者名を検索キーとするデータベースを構築してカテゴリ別に編集画面を検索するように構成した場合には、トラブルの原因の特定等に対する作業の短縮化を図ることができる。
次に、本実施形態に係る処理装置９０による操作例を説明する。
例えば、プロセス実行後に、顧客（ユーザ）の成膜条件が合わない場合に、レシピ（基板処理に用いるプロセスプログラム）の温度設定、圧力設定、原料ガスの流量等の設定をキーログによってどのように変更したので条件に合わなくなったかを調べる一つの手段に使用する。つまり、レシピの何処のどの部分をどのように変更したことがわかれば、条件に合わなくなったことの原因を特定することができる。
より具体的に説明すると、図４のＰＭモニタメイン画面４から編集ボタン５をタッチして図１６の編集メニュー画面に移る。そしてプロセスレシピボタン８１をタッチして図１７のプロセスレシピ編集画面に移る。この画面上で、レシピの温度設定（炉内温度設定）や原料ガスの温度設定等を行う。そして、図４のＰＭモニタメイン画面３０に戻ってＰＭボタン１をタッチすると、図１８に示すＰＭコマンド画面８３が現れる。この画面で、ＩＤＥＬ→ＳＴＡＮＢＹ→ＲＵＮ→ＥＮＤの順でモード遷移を実施し、各モードでコマンド等を入力する。前記したように、これらの画面で編集した編集画面は、キーログに関連さ
せて画面と同じイメージでハードディスク２２６に保存される。
レシピの編集後に、例えば、炉内圧力をチェックするときには、図４で説明したＰＭモニタメイン画面３０ａのデータログボタン６をタッチして図１１のデータログメニュー画面６０を表示させ、この画面でＯＵロギング情報ボタン６１をタッチして図１２に示すＯＵロギングメニュー画面６２に切り替える。そして、ＯＵロギングメニュー画面６２でキーログボタン６３をタッチして図１３に示すキーログ解析一覧画面６４に切り替える。
次に、ＭｏｎＰＭＭａｉｎＰｒｅｓｓにカーソルバーを移動し、同画面のログ解析ボタン６５をタッチして図１４の圧力編集画面に切り替える。この画面で、Ｐｒｅｖキー（前画面キー）６９又はＮｅｘｔキー（次画面キー）７１を用い先のキー操作により前記ハードディスク２２６に保存された圧力編集画面６８を表示させ、設定又は変更した炉内圧力が適正かどうかをチェックする。この場合、図１５の検索画面を表示させ、例えば、発生日時（年月日、時間）や作業者名を検索キーとして検索した場合には、トラブルの原因の特定に対する作業時間の短縮化が図られ、トラブルの原因を効率的に特定することができる。従って、作業効率が改善されユーサーやメンテナンスエンジニアの負担を大幅に改善することが可能となる。
このように本実施形態によれば、エラーとして検出されないエンジニアの設定ミスを容易に発見し確認することができる。また、設定ミスによる事故を未然に防止できると共に、生産性の向上に寄与できる。
【００３６】
なお、本実施の形態では、操作コントローラ２２３のハードディスク２２６に保存するデータ数を極力少なくするため、圧力パネル１１等の呼び出しキーのキーログに関連付けて圧力モニタ画面３０等の編集画面を保存する説明をしたが、大容量のハードディスク２２６を用いる場合は、呼び出しキーだけでなく、編集キー１４のキーログに関連付けて圧力モニタ画面３０等の編集画面をハードディスク２２６に保存するようにしてもよい。更に、全てのキーログに関連付けて、編集画面をハードディスク２２６に保存して、図１４上のＰｒｅｖキー６９（もしくはＮｅｘｔキー７１）を用い、図１３に示すキーログ解析一覧画面６４で表示されているキーログ情報を逐次画面表示させるようにしてもよい。
また、本実施形態の説明において、本発明を縦型の処理装置に適用する説明をしたが、横型の処理装置にも適用が可能であり、枚葉装置に適用することも可能である。さらに、本発明に係る諸装置は、ＣＶＤ、酸化、アニール等の基板の処理に適用できるし、処理対象とする基板も水晶、液晶、半導体等の種々の基板を対象とする。
このように本発明は種々の改変が可能であり、本発明がこの改変された発明に及ぶことは当然である。
【符号の説明】
【００３７】
１０ 温度パネル（呼び出しキー）
１１ 圧力パネル（呼び出しキー）
１２ ＡＵＸパネル（呼び出しキー）
１３ レシピパネル（呼び出しキー）
１４ 編集キー
２８ ガス一覧モニタ画面（編集画面）
２９ 温度メインモニタ画面（編集画面）
３０ 圧力モニタ画面（編集画面）
３１ ＡＵＸ一覧モニタ画面（編集画面）
３２ レシピ進捗モニタ画面（編集画面）
５２ キーログデータメモリ内書き込みモジュール（キーログ保存手段）
５３ メモリ→ＨＤ（ハードディスク）書き込みモジュール（キーログ保存手段）
５４ キーログデータと画面ファイルリンク表示モジュール（表示形式変更手段）
２２６ ハードディスク（記憶手段）
２２７ メモリ（記憶手段）
６９ Ｐｒｅｖキー（前画面キー）
７１ Ｎｅｘｔキー（次画面キー）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水晶、液晶、半導体等の基板処理装置に関するものであり、特に、キーログによりトラブルの原因を特定するようにした基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、基板処理装置には装置コントローラが接続されており、機械類、熱処理類、原料ガス供給系、真空排気系のアクチュエータをコントローラの制御によって制御する。基板処理装置の装置コントローラのプログラムのパラメータを変更する場合、たとえば、ユーザやメンテナンスエンジニアが、装置コントローラにキー入力装置とモニタとを接続し、モニタにプログラムの設定部分や変更部分を表示させながらプログラムのパラメータを編集する。このとき、ユーザやメンテナンスエンジニアによるプログラムの設定や変更は、装置コントローラの操作部のメモリやハードディスク等の記憶部にキーログとして保存される。なお、装置コントローラは、半導体製造システムにおいて、上位の管理コンピュータから基板処理に関するレシピ等のプログラムを供給されるコンピュータのことである。
【０００３】
図１９は装置コントローラ３００の操作部の機能ブロック図である。ユーザやメンテナンスエンジニアがキー入力装置を用いてプログラムを呼び出し、プログラムのシーケンスやシーケンスの編集部分に、コマンドや数字などのパラメータを入力すると、呼び出しから確定までに操作したキーのキーログがキーログ収集入力モジュール３０１によって収集される。収集したキーログは、キーログデータＳＲＡＭ書き込みモジュール３０２によって収集順にＳＲＡＭ（図示せず）に書き込まれる。この場合、キーログは、装置コントローラ３００の理解できるプログラム言語でＳＲＡＭに書き込まれる。装置コントローラ３００をシャットダウンし、再度、立ち上げると、シャットダウン後の再立ち上げ処理モジュール３０３が、ＳＲＡＭからキーログを読み込んでハードディスク（ＨＤ）に追加データとして保存する。
なお、モジュールとは、装置コントローラ３００のハードウエア資源を利用するプログラムモジュールのことである。以下、モジュールとは、このような意味で使用する。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このように、プログラムの設定や変更に使用されたキーログは、メモリやハードディスクなどの記憶手段に保存されるので、キーログの解析によりトラブルの原因の特定が可能になるが、ハードディスクに最新のキーログが追加されるのは、装置コントローラがシャットダウンされ、再度、立ち上げたときであるので、キーログの解析の際に、装置コントローラのシャットダウンと再立ち上げを実行せずに、ハードディスクのキーログをトラブル解析用のデータに用いる場合には、トラブルの原因を特定することができないという問題がある。
また、前記キーログは、前記装置コントローラが理解できる特別なプログラム言語でハードディスクに書き込まれているので人間が理解できる文字や数字に変換するにはコンピュータ上で特別な編集ツールによってテキストデータに変換することになるがこれに多くの手間と時間が掛ってしまうという問題がある。
さらに、前記編集ツールによって前記キーログのテキストデータに変換しても変換したデータは単なる文字、数字、記号の羅列となってしまうので、解析の完了までには多くの時間が掛ってしまうという問題がある。
【０００５】
そこで、編集画面上で、前記キーによって編集される部分（以後、編集部分と称す）を
、コンピュータ上のツールで変換することなく編集の内容を一目で理解できるようにするために解決すべき技術的課題が生じるのであり、本発明はこの課題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
第１の発明は、基板処理に関するプログラムの編集画面を表示する表示手段と、前記表示手段に表示されキーにより編集された編集後の編集画面をキーログに関連付けて記憶手段に保存するキーログ保存手段と、前記記憶手段から前記編集後の編集画面を保存順に呼び出す次画面キーと逆順に呼び出す前画面キーと、編集後の編集画面の編集部分のうち前記キーにより編集された部分の画面表示形式を、前記編集画面の他の表示部分と区別可能に変更する表示形式変更手段と、を備えた基板処理装置を提供するものである。ここで、記憶手段とは、メモリやハードディスク等であり、基板処理に関するプログラムとは、基板の受け入れから払い出しまでの基板処理に関するプログラムのことである。また、編集画面とは、何の画面か何を編集するものであるか等の情報を視覚的に表示する情報を持った画面で且つプログラムの設定又は変更のために文字や数字等を入力するセルやダイアログ形式の編集部分（入力部分）が設けられた画面のことであるが、視覚的な理解を促進するために内容に係る文字や図形を表示した画面としてもよい。
請求項１記載の発明において、表示手段に編集画面を呼び出し、キーにより、プログラムのシーケンスの設定部分やパラメータを前記編集画面の編集部分に入力する。
この編集画面を閉じると、編集部分の設定や変更が前記プログラムに反映される。
キーログ保存手段は、編集後の編集画面をキーのキーログに関連付けて前記記憶手段に保存し、表示形式変更手段は、編集後、編集画面の編集部分と他の表示部分とを相互に関連付けて記憶手段に保存する。そして、表示形式変更手段は、前記記憶手段に保存した編集後の編集画面の編集部分のうち前記キーによって編集された部分の画面表示形式を、同じ編集画面の他の表示部分と区別可能に変更する。
編集画面の編集後に、設定や変更によるトラブルが発生し、その原因を特定する際や設定の変更を確認する際は、前記次画面キーと前記前画面キーにより、前記記憶手段から保存後の編集画面を表示手段に表示させる。このとき、編集画面はこの画面が何の編集画面かを表示するための情報を持っており、編集部分は、ユーザやメンテナンスエンジニアが直接理解できる文字や数字として表示手段にビジュアルに表示され、且つ、編集部分のうち、前記キーによって編集された部分の画面表示形式は、同じ編集画面の他の表示部分と区別可能に変更されているので、編集顔面の編集部分を、コンピュータ上のツールで変換することなく編集の内容を一目で理解することができる。
【０００７】
第２の発明は、前記表示形式変更手段は、ブリンク表示、色分け表示、反転表示の中から選ばれた一つの表示によって前記編集部分のうち、前記キーによって編集された部分を表示する基板処理装置を提供するものである。いずれの表示形式も編集画面の他の表示部分から編集部分を明確に区別して作業者の視覚を刺激する。
【０００８】
さらに、第３の発明は、基板処理に関するプログラムの編集画面を表示させる工程と、前記表示手段に表示されキーにより編集された編集後の編集画面をキーログに関連付けて記憶手段に保存する工程と、前記記憶手段に保存した編集後の編集画面の編集部分のうち前記キーにより編集された部分の画面表示形式を、前記編集画面の他の表示部分と区別可能に変更する工程と、前記編集後の編集画面を保存順又は逆順に呼び出す工程と、を含む基板処理装置のプログラム検定方法を提供するものである。
【０００９】
また、第４の発明は、第３の発明において、ブリンク表示、色分け表示、反転表示の中から選ばれた一つの表示によって前記編集部分を変更する工程を含む基板処理のプログラム検定方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１０】
以上、要するにこの発明によれば次の如き優れた効果を発揮する。
（１）請求項１記載の発明によれば、基板処理に関するプログラムの編集後において、設定や変更の内容及び履歴を一目で理解できる。
【００１１】
（２）また、編集後の編集画面の編集部分のうちキーにより編集された部分に注意力が集中するので設定や変更の内容及び履歴を把握する際の作業効率が大幅に向上する。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に係る基板処理装置を透視法により示した解説図である。
【図２】図１の基板処理装置を側方より見た側断面図である。
【図３】処理装置を自動化するための装置コントローラのブロック図である。
【図４】基板処理に関するプログラムのモニタ画面である。
【図５】ガス一覧モニタ画面を示す解説図である。
【図６】温度メインモニタ画面を示す解説図である。
【図７】圧力モニタ画面を示す解説図である。
【図８】ＡＵＸ一覧モニタ画面を示す解説図である
【図９】レシピ進捗モニタ画面を示す解説図である。
【図１０】操作コントローラの機能構成図である。
【図１１】検索キーを利用して前記装置コントローラの記憶手段を検索し、編集後の編集画面の呼び出しに用いるデータログメニュー画面の一例である。
【図１２】ＯＵロギングメニュー画面を示す解説図である。
【図１３】キーログ解析一覧画面を示す解説図である。
【図１４】炉内圧力の圧力編集画面を示す解説図である。
【図１５】検索キーに対応する検索画面の解説図である。
【図１６】レシピの編集メニュー画面を示す解説図である。
【図１７】レシピの編集画面を示す解説図である。
【図１８】ＰＭコマンド画面を示す解説図である。
【図１９】従来の装置コントローラの操作部の機能ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図１乃至図１８を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００１４】
まず、図１及び図２を参照して本発明に係る基板処理装置の構成と作用を説明する。この実施形態において基板処理装置は、水晶、ガラス、半導体基板などの基板に拡散処理やＣＶＤ処理等を行う縦型の基板処理装置（以下、処理装置という）であり、図１は処理装置を透視法により示した解説図、図２は図１の処理装置を側方より見た側断面図である。なお、本実施形態においては、数量、材質は基本的に例示に過ぎず、これによって本発明が限定されるものではない。また、以下に説明するコントローラはコンピュータで構成してもよい。
【００１５】
図１に示すように、処理装置９０の筐体１０１の前面には、シリコン等からなるウエハ（基板）２００を収容したポッド（基板収容容器）１００を、外部から筐体１０１内に挿入するため、及びその逆に筐体１０１内から外部へ払い出すためＩ／Ｏステージ（保持具授受部材）１０５が付設される。
【００１６】
筐体１０１内には、前記Ｉ／Ｏステージ（保持具授受部材）１０５から筐体１０１内に挿入されたポッド１００を保管するためのカセット棚（載置手段）１０９が敷設される。また、筐体１０１内には、ウエハ２００の搬送エリアであり、後述のボート（基板保持手段）２１７のローディング、アンローディング空間となるＮ２パージ室（気密室）１０２
が設けられる。
【００１７】
ウエハ２００の処理を行う際は、Ｎ２パージ室１０２の内部は密閉容器となり、ウエハ２００の自然酸化膜を防止するためにＮ２ガスなどの不活性ガスが充満される。
【００１８】
前記ポッド１００としては、現在ＦＯＵＰというタイプが主流で使用されており、ポッド１００の一側面に設けられた開口部を蓋体（図示せず）で塞ぐことで大気からウエハ２００を隔離した状態で搬送することができ、蓋体を取り去ることでポッド１００内へウエハ２００を入出させることができる。
【００１９】
前記ポッド１００の蓋体を取り外し、ポッド１００内とＮ２パージ室１０２内とを連通するため前記Ｎ２パージ室１０２の前面側にはポッドオープナ（開閉手段）１０８が設けられる。
ポッドオープナ１０８、カセット棚１０９、およびＩ／Ｏステージ１０５間のポッド１００の搬送は、カセット移載機１１４によって行われる。このカセット移載機１１４によるポッド１００の搬送空間には、筐体１０１に設けられたクリーンユニット（図示せず）によって清浄化した空気をフローさせるようにしている。
【００２０】
Ｎ２パージ室１０２の内部には、複数のウエハ２００を多段に積載するボート２１７と、ウエハ２００のノッチ（又はオリエンテーションフラット）の位置を任意の位置に合わせる基板位置合わせ装置１０６と、ポッドオープナ１０８上のポッド１００と基板位置合わせ装置１０６とボート２１７との間でウエハ２００の搬送を行うウエハ移載機（搬送手段）１１２とが設けられる。
また、Ｎ２パージ室１０２の上部には、ウエハ２００を処理するための処理炉２０２が設けられており、ボート２１７は、ボートエレベータ（昇降手段）１１５によって処理炉２０２へローディング、又は処理炉２０２からアンローディングされる。
【００２１】
次に、図１及び図２を参照して本発明の処理装置９０の動作について説明する。
まず、ＡＧＶやＯＨＴなどのウエハ移載機（図示せず）により筐体１０１の外部から搬送されてきたポッド１００は、Ｉ／Ｏステージ１０５に載置される。Ｉ／Ｏステージ１０５に載置されたポッド１００は、カセット移載機１１４によって、直接、ポッドオープナ１０８上に搬送されるか、又は、一旦、カセット棚１０９にストックされた後にポッドオープナ１０８上に搬送される。
ポッドオープナ１０８上に搬送されたポッド１００は、ポッドオープナ１０８によってポッド１００の蓋体が取外される。このとき、ポッド１００内とＮ２パージ室１０２とが連通されポッド１００内がＮ２雰囲気に置換される。
【００２２】
次に、ウエハ移載機１１２によって、ポッド１００内からウエハ２００を取り出す。取り出されたウエハ２００は、まず、基板位置合わせ装置１０６によってノッチ（又はオリエンテーションフラット）を基準に位置合わせをされ、その後、ウエハ移載機（搬送手段）１１２によってボート２１７へと搬送される。
【００２３】
ボート２１７へのウエハ２００の搬送が完了すると、処理炉２０２の炉口シャッタ１１６が開かれ、ウエハ２００を搭載したボート２１７がボートエレベータ１１５により処理炉２０２にローディングされる。
ローディング後は、処理炉２０２でウエハ２００にＣＶＤ処理や拡散処理等の任意の処理が実施される。ウエハ２００の処理後は、前記した手順の逆の手順で、ウエハ２００及びポッド１００が、筐体１０１の外部へと払い出される。
【００２４】
図３は前記処理装置１１９を自動化するための装置コントローラのブロック図である。
装置コントローラ２２０は、操作部２２１と制御部２２２とで構成されており、プログラムの設定や変更ための操作コントローラ２２３は、データ送受信モジュール２２４を介して制御部２２２に通信可能に接続される。
前記制御部２２２は、図３には詳細に示されていないが、熱電対等の加熱装置の加熱温度に基づいて前記ヒータの温度をフィードバック制御する温度コントローラ（図示せず）と、圧力センサの検出温度に基づいて処理炉の圧力をフィードバック制御する圧力コントローラ（図示せず）と、マスフローモニタに基づいて原料ガスの流量をフィードバック制御するマスフローコントローラ（図示せず）と、位置や回転角センサに基づいて各種メカニズムを制御するメカニズムコントローラ（図示せず）とから構成され、これらを管理するためのメインコントローラ（図示せず）と操作部２２１の操作コントローラ２２３とに通信可能に接続される。なお、前記メカニズムコントローラは、前記ポッドオープナ（開閉手段）１０８、前記カセット移載機１１４、前記基板位置合わせ装置１０６、前記基板位置合わせ装置１０６、前記ウエハ移載機（搬送手段）１１２、前記ボートエレベータ（昇降手段）１１５等のアクチュエータ（駆動部）を制御するコントローラであり、制御のためのシーケンス（プログラムシーケンス）やパラメータは、たとえば、操作コントローラ２２３のメモリ２２５やハードディスク２２６等の記憶手段から読み込まれる。また、操作コントローラ２２３には、前記処理装置９０の基板処理に関するプログラムのシーケンスやパラメータの設定や変更のためのユーザインターフェイスとしてモニタ（表示手段）２２７とキー入力装置２２８とが備えられる。
【００２５】
前記キー入力装置２２８は、モニタ（表示手段）２２５に表示する複数のプログラムボタンで構成されている。ここで、「プログラムボタン」とは、モニタ（表示手段）２２７の画面に表示され、指やペンによってタッチされることによってプログラムの起動、終了を切り替えるソフトウエア上のキーのことである。なお、以下に説明するボタンやキーは、全てソフトウエアで構成されたキーを意味するものとする。
【００２６】
図４は基板処理に関するプログラムのモニタ画面であり、ＰＭメインモニタ画面と呼ばれる画面である。なお、図４はＰＭボタン１をタッチしたときの画面である。図示されるように、ＰＭメインモニタ画面３０ａの画面下部の操作パネル８には、呼び出しキーとしてＰＭボタン１、システムボタン２、戻るボタン３、進むボタン４、編集ボタン５、データログボタン６、セットアップボタン７等の操作ボタンが配置される。操作パネル８の上方側には、ガスパネル９、温度パネル１０、圧力パネル１１、ＡＵＸパネル１２、レシピパネル１３の合計五枚のパネルが表示される。各パネル９〜１３には、後述する編集キー１４によって編集する編集部分としてそれぞれセル（後述する）が表示される。なお、図４は編集前の段階なので各セル（後述する）には、ゼロが表示されている。
前記ガスパネル９、前記温度パネル１０、前記圧力パネル１１、前記ＡＵＸパネル１２、前記レシピパネル１３には、それぞれパネルの内容を視覚的に補完する情報として文字やアイコンが表示される。これらのパネル９〜１３又はパネル上のアイコンは、指やペンによりタッチされると、画面を関連画面に切り替えるプログラムキーとなっている。
原料ガス流量のモニタ画面であるガスパネル９には、セル１５を挟んで一方側と他方側にマスフローコントローラの略語（ｍｆｃ）、配置先を示す番号を表示するボタン１６、流量の単位を示す文字（ｓｌｍ）が表示される。
炉内温度のモニタ画面である温度パネル１０には、前記ガスパネル９と同様に、前記処理炉２０２の構造を示す図形表示１７を挟んで一方側に前記処理炉２０２における炉内温度の温度ゾーンｕ、ｃｕ、ｃ、ｃｌ、ｌが縦一列に配置され、他方側にｕ、ｃｕ、ｃ、ｃｌ、ｌの各温度ゾーンの炉内温度を表示するためのセル１８が縦一列に配置される。また、この温度パネル１０には、温度の制御モードを表示するためのセル１９が設けられる。
【００２７】
炉内圧力のモニタ画面である圧力パネル１１には、前記処理炉２０２の炉内圧力を表示するためのセル２０と、制御方式やコマンドを表示するためのセル２１，２２が表示され
る。
【００２８】
圧力パネルの制御方式をモニタするセル２１には、「ＡＰＣバルブ制御」が、コマンドのセル２２には「圧力設定」が表示される。なお、ＡＰＣバルブ制御とは、炉内圧力を検知し、炉内圧力が設定圧力に自動的に保持される圧力制御バルブ（ピラニ計）の開度をフィードバック制御する制御方式のことである。
【００２９】
前記レシピパネル１３には、現在使用しているカレントレシピを表示するセル２３と、残時間を示すセル２４と、ホールド時間を示すセル２５と、開示時刻を示すセル２６と、終了時刻を示すセル２７等が設けられる。
ＡＵＸパネル１２は基板処理の補完用のパネルであり、たとえば、外部燃焼による水蒸気の流量等をモニタするためのパネルである。このＡＵＸパネル１２にも複数の設定点をモニタするため複数のセル８０が設けられている。
【００３０】
図５はガス一覧モニタ画面２８、図６は温度メインモニタ画面２９、図７は圧力モニタ画面３０、図８はＡＵＸ一覧モニタ画面３１、図９はレシピ進捗モニタ画面３２であり、ガスパネル９、温度パネル１０、圧力パネル１１、ＡＵＸパネル１２、レシピパネル１３又はこれらパネルのアイコンのタッチによって前記モニタ２２７に出現する画面である。なお、レシピパネル１３、ガスパネル９、温度パネル１０、圧力パネル１１、ＡＵＸパネル１２、ガス一覧モニタ画面２８、温度メインモニタ画面２９、圧力モニタ画面３０、ＡＵＸ一覧モニタ画面３１、レシピ進捗モニタ画面３２は、たとえば、前記操作部２２１のメモリ２２５又はハードディスク２２６に保存されている。
【００３１】
図５のガス一覧モニタ画面２８、図６の温度メインモニタ画面２９、図７の圧力モニタ画面３０、図８のＡＵＸ一覧モニタ画面３１、図９のレシピ進捗モニタ画面３２には、前記ＰＭメインモニタ画面３３と同様に、画面下部に前記操作パネル８が表示される。
操作パネル８の編集ボタン５は、タッチすると前記編集キー１４による編集部分の編集を可能にするボタンである。
編集キー１４は、たとえば、画面上部に設けられた文字／数字テーブルからなり、最初にセルを指定し、続いて、文字／数字テーブルに表示されている複数の文字や数字にタッチすることによって文字や数字を前記した各セルに入力するものである。
文字／数字テーブルから選択した文字や数字は、先に指定したセルの設定又は変更データとなり、それぞれシーケンスの設定、又は変更、又はパラメータとして基板処理に関するプログラムに反映される。
従って、これらのガス一覧モニタ画面２８、温度メインモニタ画面２９、圧力モニタ画面３０、ＡＵＸ一覧モニタ画面３１、レシピ進捗モニタ画面３２は、前記編集キー１４がタッチされた段階でこれらの画面は、基板処理に関するプログラムの編集画面となり、各画面のセルはユーザやプログラムエンジニアの実施する設定又は変更の対象となる編集部分となる。もちろん、編集部分にはセルに限らずダイアログやポップアップウインドウも含まれる。
【００３２】
図５のガス一覧モニタ画面においては、マスフローコントローラ（ｍｆｃ０７〜ｍｆｃ１３）の流量（ｓｌｍ）を設定するための設定値のセル３７が編集部分に該当し、図６の温度メインモニタ画面２９においては、ｕ、ｃｕ、ｃ、ｃｌ、ｌの各ゾーンの炉内温度を設定するためのセル３８及びランプレートを設定するためのセル３９が編集部分に該当する。
また、図７の圧力モニタ画面３０においては、制御方式のセル４０、制御モードモニタのセル４１、設定４２、圧力コマンドのセル４３が編集部分に該当し、図８のＡＵＸ一覧モニタ画面３１においては、たとえば、ＡＵＸ０７〜ＡＵＸ１２までの水素と酸素の流量（ｓｌｍ）を設定するためのセル４４が編集部分に該当する。ここで水素と酸素とは、ア
ニールのための水蒸気生成用として用いられるものである。
【００３３】
また、図９のレシピ進捗モニタ画面においては、例えば、ステップ名称、ステップ残時間を設定するためのセルやレシピの開始時刻、スキップ時間、ホールド時間を設定するためのセルが編集部分となる。
【００３４】
次に、図３、図１０を参照して前記操作コントローラ２２３の構成について説明する。
図３に示すように、操作コントローラ２２３には、キーログを収集するキーログ収集入力モジュール５０と、キーログデータメモリ内書き込みモジュール５１と、メモリ→ＨＤ（ハードディスク）書き込みモジュール５２と、キーログデータと画面ファイルリンク表示モジュール５４と、キーログデータ検索モジュール５５とが備えられる。
ここで、図１０に示すように、キーログ収集入力モジュール５０は、前記編集画面の呼び出しキーのキーログを順次収集するモジュールであり、キーログデータメモリ内書き込みモジュール５１は、前記キーログ収集入力モジュール５０が収集したキーログを順次メモリに書き込んで保存するメモリ内キーログ収集処理を実行するモジュールである。また、メモリ→ＨＤ（ハードディスク）書き込みモジュール５３は、前記メモリ２２５に書き込まれたキーログをこのメモリ２２５から読み込んでこれをハードディスク２２６に順次書き込んで保存する処理を実行するモジュールであり、キーログデータと画面ファイルリンク表示モジュール５４は、キーログのデータに前記処理装置の編集後の編集画面を結合するため相互に関連付けて保存するモジュールである。また、キーログデータ検索モジュール５５は、後述する検索キーによってキーログのデータを検索し、このデータに関連付けられた編集画面のデータを呼び出すモジュールである。
例えば、前記キーログには、前記操作パネル８に配置される各ボタンや、前記ガスパネル９、温度パネル１０、圧力パネル１１、ＡＵＸパネル１２、レシピパネル１３又はアイコン等を呼び出しキーとして操作したキーログが該当し、編集画面には、例えば、前記ガス一覧モニタ画面２８、前記温度メインモニタ画面２９、前記圧力モニタ画面３０、前記ＡＵＸ一覧モニタ画面３１、及び前記レシピ進捗モニタ画面３２等が該当する。
このため、キーログデータメモリ内書き込みモジュール５２と、メモリ→ＨＤ（ハードディスク）書き込みモジュール５３からなるキーログ保存手段は、ガスパネル９、温度パネル１０、圧力パネル１１、ＡＵＸパネル１２、レシピパネル１３又はアイコン等（図４参照）を呼び出しキーとするキーログに、それぞれ編集後のガス一覧モニタ画面２８（図５）、温度メインモニタ画面２９（図６）、圧力モニタ画面３０（図７）、ＡＵＸ一覧モニタ画面３１（図８）、レシピ進捗モニタ画面３２（図９）を関連付けて前記操作コントローラ２２３の記憶手段（メモリ２２５、ハードディスク２２６）に保存し、表示形式変更手段としてのキーログデータと画面ファイルリンク表示モジュール５４は、前記メモリ２２５やハードディスク２２６に編集後の編集画面を保存した後に、編集後の編集画面の編集部分（セル）の画面表示形式を、各編集画面の他の表示部分と区別可能に変更する。
この場合、表示形式の変更の態様には、ブリンク表示、色分け表示、又は反転表示が好ましいが、編集部分の周囲を枠状に囲んで太く強調表示したり、パラメータやコマンドをボールド表示として周囲の部分と区別して表示するようにしてもよい。
このように表示形式が変更されると、ユーザやメンテナンスエンジニアの視覚的な注意力が編集部分に自然に集中するのでトラブルの原因を短時間で特定することができる。
また、本実施形態に係る操作コントローラ２２３は、常に、編集後の編集画面を、前記パネル９〜１３又は各パネル９〜１３のアイコンを呼び出しキーとしたキーログに関連付けてハードディスク２２６に保存するので、従来のように解析の対象から最新のキーログが外れてしまうこともない。
さらに、ユーザやメンテナンスエンジニアの注意力が編集部分に集まるので、後述する検索キーを使用せずに、プレビューキー（前画面キー）やネクストキー（次画面キー）を使用して編集後の編集画面を呼び出す場合でもトラブルの原因を短時間で特定することができる。
【００３５】
また、検索キーにより検索可能なデータベースを記憶手段としてのハードディスク２２６に構築するので、たとえば、日付検索、人名（ユーザ又はメンテナンスエンジニア）を検索キーとする検索によって得られた結果を、さらに、ガスや温度等で検索して絞り込むとトラブル等の原因をさらに短時間で特定することができる。
図１１は前記検索キーを利用して前記装置コントローラ２２０の記憶手段を検索し、編集後の編集画面の呼び出しに用いるデータログメニュー画面の一例である。
なお、このデータログメニュー画面６０は、図４で説明したＰＭモニタメイン画面３０ａのデータログボタン６をタッチしたときに前記装置コントローラ２２０と一体又は別体のモニタ２２７に表示される画面である。
データログメニュー画面６０でＯＵロギング情報ボタン６１をタッチすると、モニタ２２７の画面が図１２に示すＯＵロギングメニュー画面６２に切り替わる。そして、ＯＵロギングメニュー画面６２でキーログボタン６３をタッチするとモニタ２２７の画面が図１３に示すキーログ解析一覧画面６４に切り替わる。
なお、この画面において、Ｍｏｎ￥ＭｏｎＰＭＭａｉｎＰｒｅｓｓは画面を前記圧力モニタ画面に、Ｍｏｎ￥ＭｏｎＰＭＭａｉｎＡＵＸＳｍａｌｌＰａｎｅｌは画面を前記ＡＵＸ一覧モニタ画面に、また、Ｍｏｎ￥ＭｏｎＰＭＭａｉｎＲｃｐＰｒｏｇｒｅｓｓは画面を前記レシピ進捗モニタ画面に、Ｍｏｎ￥ＭｏｎＰＭＭａｉｎＭＦＣＬは画面を前記ガス一覧モニタ画面に、Ｍｏｎ￥ＭｏｎＰＭＭａｉｎＴｅｍｐＴＣＭｏｎ５Ｚは画面を温度メインモニタ画面に切り替えるデータベースファイルである。
たとえば、ＭｏｎＰＭＭａｉｎＰｒｅｓｓにカーソルバーを移動し、同画面のログ解析ボタン６５をタッチするとモニタ２２７の画面が図１で説明したＰＭモニタメイン画面３０ａの圧力パネル１１に対応する圧力編集画面に切り替わる。
図１４はこの圧力編集画面６８である。圧力編集画面６８の下部には、Ｐｒｅｖキー（前画面キー）６９、Ｃｌｏｓｅキー（終了ボタン）７０及びＮｅｘｔキー（次画面キー）７１が設けられており、Ｐｒｅｖキー（前画面キー）６９をタッチするごとに前記操作コントローラ２２３のハードディスク２２６に保存されていた過去の圧力編集画面６８が保存順と逆順に表示され、Ｎｅｘｔキー（次画面キー）７１をタッチするごとにハードディスク２２６に保存されていた過去の圧力編集画面６８が保存順に表示される。このように、圧力、温度といったカテゴリ別に検索可能なデータベースを構築すると、トラブルの原因を推定できる場合において、使い勝手がよくなるので、原因の特定を短時間で終了することができる。
図１５は図１３に示す検索キー７３に対応する検索画面７２である。このように、操作コントローラ２２３に検索画面７２を格納し、操作コントローラ２２３に発生日時（年月日、時間）や作業者名を検索キーとするデータベースを構築してカテゴリ別に編集画面を検索するように構成した場合には、トラブルの原因の特定等に対する作業の短縮化を図ることができる。
次に、本実施形態に係る処理装置９０による操作例を説明する。
例えば、プロセス実行後に、顧客（ユーザ）の成膜条件が合わない場合に、レシピ（基板処理に用いるプロセスプログラム）の温度設定、圧力設定、原料ガスの流量等の設定をキーログによってどのように変更したので条件に合わなくなったかを調べる一つの手段に使用する。つまり、レシピの何処のどの部分をどのように変更したことがわかれば、条件に合わなくなったことの原因を特定することができる。
より具体的に説明すると、図４のＰＭモニタメイン画面４から編集ボタン５をタッチして図１６の編集メニュー画面に移る。そしてプロセスレシピボタン８１をタッチして図１７のプロセスレシピ編集画面に移る。この画面上で、レシピの温度設定（炉内温度設定）や原料ガスの温度設定等を行う。そして、図４のＰＭモニタメイン画面３０に戻ってＰＭボタン１をタッチすると、図１８に示すＰＭコマンド画面８３が現れる。この画面で、ＩＤＥＬ→ＳＴＡＮＢＹ→ＲＵＮ→ＥＮＤの順でモード遷移を実施し、各モードでコマンド等を入力する。前記したように、これらの画面で編集した編集画面は、キーログに関連さ
せて画面と同じイメージでハードディスク２２６に保存される。
レシピの編集後に、例えば、炉内圧力をチェックするときには、図４で説明したＰＭモニタメイン画面３０ａのデータログボタン６をタッチして図１１のデータログメニュー画面６０を表示させ、この画面でＯＵロギング情報ボタン６１をタッチして図１２に示すＯＵロギングメニュー画面６２に切り替える。そして、ＯＵロギングメニュー画面６２でキーログボタン６３をタッチして図１３に示すキーログ解析一覧画面６４に切り替える。
次に、ＭｏｎＰＭＭａｉｎＰｒｅｓｓにカーソルバーを移動し、同画面のログ解析ボタン６５をタッチして図１４の圧力編集画面に切り替える。この画面で、Ｐｒｅｖキー（前画面キー）６９又はＮｅｘｔキー（次画面キー）７１を用い先のキー操作により前記ハードディスク２２６に保存された圧力編集画面６８を表示させ、設定又は変更した炉内圧力が適正かどうかをチェックする。この場合、図１５の検索画面を表示させ、例えば、発生日時（年月日、時間）や作業者名を検索キーとして検索した場合には、トラブルの原因の特定に対する作業時間の短縮化が図られ、トラブルの原因を効率的に特定することができる。従って、作業効率が改善されユーサーやメンテナンスエンジニアの負担を大幅に改善することが可能となる。
このように本実施形態によれば、エラーとして検出されないエンジニアの設定ミスを容易に発見し確認することができる。また、設定ミスによる事故を未然に防止できると共に、生産性の向上に寄与できる。
【００３６】
なお、本実施の形態では、操作コントローラ２２３のハードディスク２２６に保存するデータ数を極力少なくするため、圧力パネル１１等の呼び出しキーのキーログに関連付けて圧力モニタ画面３０等の編集画面を保存する説明をしたが、大容量のハードディスク２２６を用いる場合は、呼び出しキーだけでなく、編集キー１４のキーログに関連付けて圧力モニタ画面３０等の編集画面をハードディスク２２６に保存するようにしてもよい。更に、全てのキーログに関連付けて、編集画面をハードディスク２２６に保存して、図１４上のＰｒｅｖキー６９（もしくはＮｅｘｔキー７１）を用い、図１３に示すキーログ解析一覧画面６４で表示されているキーログ情報を逐次画面表示させるようにしてもよい。
また、本実施形態の説明において、本発明を縦型の処理装置に適用する説明をしたが、横型の処理装置にも適用が可能であり、枚葉装置に適用することも可能である。さらに、本発明に係る諸装置は、ＣＶＤ、酸化、アニール等の基板の処理に適用できるし、処理対象とする基板も水晶、液晶、半導体等の種々の基板を対象とする。
このように本発明は種々の改変が可能であり、本発明がこの改変された発明に及ぶことは当然である。
【符号の説明】
【００３７】
１０ 温度パネル（呼び出しキー）
１１ 圧力パネル（呼び出しキー）
１２ ＡＵＸパネル（呼び出しキー）
１３ レシピパネル（呼び出しキー）
１４ 編集キー
２８ ガス一覧モニタ画面（編集画面）
２９ 温度メインモニタ画面（編集画面）
３０ 圧力モニタ画面（編集画面）
３１ ＡＵＸ一覧モニタ画面（編集画面）
３２ レシピ進捗モニタ画面（編集画面）
５２ キーログデータメモリ内書き込みモジュール（キーログ保存手段）
５３ メモリ→ＨＤ（ハードディスク）書き込みモジュール（キーログ保存手段）
５４ キーログデータと画面ファイルリンク表示モジュール（表示形式変更手段）
２２６ ハードディスク（記憶手段）
２２７ メモリ（記憶手段）
６９ Ｐｒｅｖキー（前画面キー）
７１ Ｎｅｘｔキー（次画面キー）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板処理に関するプログラムの編集画面を表示する表示手段と、
前記編集画面に表示される各種キーの操作をキーログとして収集するキーログ収集入力手段と、
前記キーにより編集された前記編集画面を前記キーログに関連付けて記憶手段に保存するキーログ保存手段と、
前記記憶手段に保存された前記編集手段と前記キーにより編集された部分の画面表示形式を、区別可能に変更する表示形式変更手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
基板処理に関するプログラムの編集画面に表示された各種キーの操作をキーログとして収集する工程と、
前記キーにより編集された前記編集画面を前記キーログに関連づけて保存する工程と、
前記編集画面と前記キーにより編集された部分の画面表示形式を区別可能に変更する工程と、
を有することを特徴とする基板処理装置の制御方法。
【請求項１】
基板処理に関するプログラムの編集画面を表示する表示手段と、
前記編集画面に表示される各種キーの操作をキーログとして収集するキーログ収集入力手段と、
前記キーにより編集された前記編集画面を前記キーログに関連付けて記憶手段に保存するキーログ保存手段と、
前記記憶手段に保存された前記編集手段と前記キーにより編集された部分の画面表示形式を、区別可能に変更する表示形式変更手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
基板処理に関するプログラムの編集画面に表示された各種キーの操作をキーログとして収集する工程と、
前記キーにより編集された前記編集画面を前記キーログに関連づけて保存する工程と、
前記編集画面と前記キーにより編集された部分の画面表示形式を区別可能に変更する工程と、
を有することを特徴とする基板処理装置の制御方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図１０】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図１０】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２０１１−３９１４（Ｐ２０１１−３９１４Ａ）
【公開日】平成２３年１月６日（２０１１．１．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１７０１２８（Ｐ２０１０−１７０１２８）
【出願日】平成２２年７月２９日（２０１０．７．２９）
【分割の表示】特願２００５−３８７９７（Ｐ２００５−３８７９７）の分割
【原出願日】平成１７年２月１６日（２００５．２．１６）
【出願人】（０００００１１２２）株式会社日立国際電気 (5,007)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１月６日（２０１１．１．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年７月２９日（２０１０．７．２９）
【分割の表示】特願２００５−３８７９７（Ｐ２００５−３８７９７）の分割
【原出願日】平成１７年２月１６日（２００５．２．１６）
【出願人】（０００００１１２２）株式会社日立国際電気 (5,007)
【Ｆターム（参考）】
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