基板昇降移送装置及び基板処理移送システム
【課題】基板昇降移送装置７の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ること。
【解決手段】第１基板搬送処理装置３の近傍に上下方向へ延びた昇降ガイドフレーム２９が立設され、昇降ガイド２９に昇降体３１が昇降可能に設けられ、昇降体３１に基板Ｗを保持する吸着パッド４３を有し基板受け部材３５が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板受け部材３５が揺動によって起立姿勢／倒伏姿勢に切り替わるように構成されたこと。
【解決手段】第１基板搬送処理装置３の近傍に上下方向へ延びた昇降ガイドフレーム２９が立設され、昇降ガイド２９に昇降体３１が昇降可能に設けられ、昇降体３１に基板Ｗを保持する吸着パッド４３を有し基板受け部材３５が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板受け部材３５が揺動によって起立姿勢／倒伏姿勢に切り替わるように構成されたこと。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クリーン搬送等の分野において用いられる基板昇降移送装置及び基板処理移送システムに関する。
【０００２】
等に関する。
【背景技術】
【０００３】
クリーン搬送の分野において、下階フロアに配設された第１基板処理装置と上階フロアに配設された第２基板処理装置との間で、ガラス基板等の基板の昇降移送（移送）を行う基板昇降移送装置が用いられることがあり、一般的な基板昇降移送装置の構成等は、次のようになる。
【０００４】
即ち、第１基板処理装置の近傍には、上下方向へ延びた昇降ガイドが設けられており、この昇降ガイドには、基板を支持する昇降テーブルが昇降可能に設けられている。また、昇降ガイドの適宜位置には、昇降テーブルを昇降させる昇降用モータが設けられている。ここで、昇降テーブルは、第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置したときに、第１基板処理装置に対して基板を引き出し及び送り出し可能になっており、第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置したときに、第２基板処理装置に対して基板を引き出し及び送り出し可能になっている。
【０００５】
従って、昇降用モータの駆動によって昇降体を下降させて、第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。次に、第１基板処理装置から昇降テーブルに基板を引き出す。そして、昇降用モータの駆動によって昇降体を上昇させて、第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。更に、昇降テーブルから第２基板処理装置に基板を送り出す。
【０００６】
以上により、第１基板処理装置から第２基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。また、基板昇降移送装置に前述の動作と逆の動作をさせることにより、前記第２基板処理装置から前記第１基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
【０００７】
なお、本発明に関連する先行技術として特許文献１に示すものがある。
【特許文献１】特開平１−３１８２４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、前述のように、一般的な基板昇降移送装置にあっては、昇降ガイドに基板を支持する昇降テーブルが昇降可能に設けられているため、基板を倒伏姿勢に保ちつつ昇降させることになり、基板昇降移送装置の平面スペース（設置スペース）として少なくとも基板一枚分の平面積（平面スペース）以上必要になる。そのため、基板昇降移送装置の平面スペースが増大して、工場のスペースの有効利用を図ることが難しくなる。特に、近年、基板の大型化が急速に進んでおり、前述の問題はより顕著になってきている。
【０００９】
そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の基板昇降移送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の特徴は、下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第２基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、前記第１基板処理装置の近傍に立設され、上下方向へ延びた昇降ガイドと、前記昇降ガイドに昇降可能に設けられた昇降体と、前記昇降体を昇降させる昇降用アクチュエータと、前記昇降体に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する保持具を有し、揺動によって起立姿勢／倒伏姿勢（起立姿勢又は倒伏姿勢）に切り替わるように構成され、基板の受取り及び受渡しを行う基板受け部材と、前記基板受け部材を揺動させる揺動用アクチュエータと、を備えたことを要旨とする。
【００１１】
なお、本願の特許請求の範囲及び明細書中において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意である。また、「基板の処理」とは、基板の搬送処理、基板のプロセス処理、基板の保管処理等を含む意であって、プロセス処理には、エッチング処理、ＣＶＤ処理、ＰＶＤ処理等が含まれる。
【００１２】
第１の特徴によると、（前記昇降用アクチュエータの駆動によって前記昇降体を下降させて、前記第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。次に）、前記昇降体を前記第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置させた状態で、前記保持具によって前記第１基板処理装置の所定位置に位置した基板を保持する。そして、前記揺動用アクチュエータの駆動によって前記基板受け部材を揺動させて倒伏姿勢から起立姿勢に切り替えることにより、前記第１基板処理装置から基板を受け取ることができる。
【００１３】
前記第１基板処理装置から基板を受け取った後に、前記基板受け部材を起立姿勢に保ちつつ、換言すれば、基板を起立姿勢に保ちつつ、前記昇降用アクチュエータの駆動によって前記昇降体を上昇させて、前記第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。そして、前記揺動用アクチュエータの駆動によって前記基板受け部材を揺動させて起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、前記保持具による保持状態を解除することにより、前記第２基板処理装置に基板を受け渡すことができる。
【００１４】
以上により、前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。なお、前記昇降体を上昇させる途中に、前記基板受け部材を起立姿勢に切り替えても構わない。
【００１５】
また、前記基板昇降移送装置に前述の動作と逆の動作をさせることにより、前記第２基板処理装置から前記第１基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
【００１６】
要するに、前記昇降体に前記保持具を有した前記基板受け部材が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、前記基板受け部材が揺動によって起立姿勢／倒伏姿勢に切り替わるように構成されているため、前述のように、基板を起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、前記基板昇降移送装置の平面スペースを基板一枚分の平面積未満に抑えることができる。
【００１７】
本発明の第２の特徴は、下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第２基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、前記第１基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第１姿勢切替用保持具を有し、基板の姿勢を倒伏姿勢／起立姿勢に切り替える第１姿勢切替部材と、前記第１姿勢切替部材を揺動させる第１姿勢切替用アクチュエータと、前記第２基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第２姿勢切替用保持具を有し、基板の姿勢を倒伏姿勢／起立姿勢に切り替える第２姿勢切替部材と、前記第２姿勢切替部材を揺動させる第２姿勢切替用アクチュエータと、前記第１姿勢切替部材の近傍に立設され、上下方向へ延びた昇降ガイドと、前記昇降ガイドに昇降可能に設けられ、基板を保持する昇降用保持具を有した昇降ユニットと、前記昇降ユニットを昇降させる昇降用アクチュエータと、を備えたことを要旨とする。
【００１８】
第２の特徴によると、前記第１姿勢切替用保持具によって前記第１基板処理装置の所定位置に位置した基板を保持する。次に、前記第１姿勢切替用アクチュエータの駆動によって前記第１姿勢切替部材を揺動させて、基板の姿勢を倒伏姿勢から起立姿勢に切り替える。そして、前記昇降ユニットを前記第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置させた状態で、前記昇降用保持具によって基板を保持し、前記第１姿勢切替用保持具による保持状態を解除する。
【００１９】
前記第１姿勢切替用保持具による保持状態を解除した後に、基板を起立姿勢に保ちつつ、前記昇降用アクチュエータの駆動によって前記昇降ユニットを上昇させて、前記第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。次に、前記第２姿勢切替用保持具によって基板を保持し、前記昇降用保持具による保持状態を解除する。そして、前記第２姿勢切替用アクチュエータの駆動によって前記第２姿勢切替部材を揺動させて、基板の姿勢を起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、前記第２姿勢切替用保持具による保持状態を解除する。
【００２０】
以上により、前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
【００２１】
また、前記基板昇降移送装置に前述の動作と逆の動作をさせることにより、前記第２基板処理装置から前記第１基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
【００２２】
要するに、前記第１基板処理装置の一側に前記第１姿勢切替用保持具を有した前記第１姿勢切替部材が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、前記第２基板処理装置の一側に前記第２姿勢切替用保持具を有した前記第２姿勢切替部材が水平な軸心周りに揺動可能に設けられているため、前述のように、基板を起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、前記基板昇降移送装置の平面スペースを基板一枚分の平面積未満に抑えることができる。
【００２３】
本発明の第３の特徴は、基板に対して処理及び昇降移送を行う基板処理移送システムにおいて、下段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第２基板処理装置と、前記第１基板処理装置と前記第２基板処理装置の間で基板の昇降移送を行う第１の特徴又は第２の特徴からなる基板昇降移送装置と、を備えたことを要旨とする。
【００２４】
第３の特徴によると、第１の特徴又は第２の特徴による作用と同様の作用を奏する。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、前記基板昇降移送装置の平面スペースを基板一枚分の平面積未満に抑えることができるため、前記基板昇降移送装置の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
（第１実施形態）
第１実施形態について図１から図５を参照して説明する。
【００２７】
ここで、図１は、第１実施形態に係る基板処理移送システムの斜視図、図２及び図３は、第１実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図、図４は、図２におけるIV-IV線に沿った図、図５は、図２におけるV-V線に沿った図である。なお、図面中、「ＦＦ」は、前方向、「ＦＲ」は、後方向、「Ｌ」は、左方向、「Ｒ」は、右方向を指してある。
【００２８】
図１に示すように、第１実施形態に係る基板処理移送システム１は、例えばガラス基板等の基板Ｗに対して搬送処理（処理の一例）及び昇降移送を行うシステムである。そして、基板処理移送システム１は、下階フロアＬＦに配設されかつ基板Ｗに対して搬送処理を行う第１基板搬送処理装置（第１基板処理装置の一例）３と、上階フロアＵＦに配設されかつ基板Ｗに対して搬送処理を行う第２基板搬送処理装置（第２基板処理装置の一例）５と、第１基板搬送処理装置３と第２基板搬送処理装置５の間で基板Ｗに対して昇降移送を行う基板昇降移送装置７とを備えている。
【００２９】
基板処理移送システム１の第１基板搬送処理装置３の構成は、次のようになる。
【００３０】
即ち、図２及び図４に示すように、下階フロアＬＦには、第１処理装置本体９が設けられており、この第１処理装置本体９は、第１基板搬送処理装置３のベースを構成するものである。また、第１処理装置本体９には、基板Ｗをエアの圧力によって浮上させる複数の第１浮上ユニット１１が設けられており、各第１浮上ユニット１１の上面には、エアを噴出する枠状のノズル１１ｎがそれぞれ形成されており、各ノズル１１ｎは、特開２００６−１８２５６３号公報に示すように、鉛直方向に対してユニット中心側へ傾斜するように構成されている。
【００３１】
なお、各第１浮上ユニット１１の上面に枠状のノズル１１ｎが形成される代わりに、複数の丸穴状のノズルが形成されるようにしても構わない。
【００３２】
第１処理装置本体９には、搬送方向（左右方向）へ延びた一対の第１ローラ支持部材１３が搬送幅方向（前後方向）に離隔して設けられており、各第１ローラ支持部材１３には、基板Ｗを搬送可能に支持する複数の第１搬送ローラ１５が水平な軸心周りに回転可能かつ搬送方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられている。そして、各第１ローラ支持部材１３の適宜位置には、複数の第１搬送ローラ１５を回転させる第１搬送用モータ１７がそれぞれ設けられており、各第１搬送用モータ１７の出力軸（図示省略）は、複数の第１搬送ローラ１５の回転軸（図示省略）にウォーム及びホイール等からなる連動機構（図示省略）を介して連動連結してある。
【００３３】
基板処理移送システム１の第２基板搬送処理装置５の構成は、次のようになる。
【００３４】
即ち、図２及び図５に示すように、上階フロアＵＦには、第２処理装置本体１９が設けられており、この第２処理装置本体１９は、第２基板搬送処理装置５のベースを構成するものである。また、第２処理装置本体１９には、基板Ｗをエアの圧力によって浮上させる複数の第２浮上ユニット２１が設けられており、各第２浮上ユニット２１の上面には、第１浮上ユニット１１と同様に、エアを噴出する枠状のノズル２１ｎがそれぞれ形成されている。
【００３５】
第２処理装置本体１９には、搬送方向へ延びた一対の第２ローラ支持部材２３が搬送幅方向に離隔して設けられており、各第２ローラ支持部材２３には、基板Ｗを搬送可能に支持する複数の第２搬送ローラ２５が水平な軸心周りに回転可能かつ搬送方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられている。そして、各第２ローラ支持部材２３の適宜位置には、複数の第２搬送ローラ２５を回転させる第２搬送用モータ２７がそれぞれ設けられており、各第２搬送用モータ２７の出力軸（図示省略）は、複数の第２搬送ローラ２５の回転軸（図示省略）にウォーム及びホイール等からなる連動機構（図示省略）を介して連動連結してある。
【００３６】
基板処理移送システム１の基板昇降移送装置７の具体的な構成は、次のようになる。
【００３７】
図１から図４に示すように、第１基板搬送処理装置３の左側近傍には、上下方向へ延びた昇降ガイドフレーム（昇降ガイド）２９が立設されており、この昇降ガイドフレーム２９には、前後方向へ延びた昇降体３１が昇降可能に設けられている。そして、昇降ガイドフレーム２９の上部には、昇降体３１を昇降（上下方向へ移動）させる昇降用モータ（昇降用アクチュエータの一例）３３が設けられており、昇降用モータ３３の出力軸（図示省略）は、上下方向へ延びたボールねじ又はチェーン等の昇降機構（図示省略）に連動連結してある。
【００３８】
昇降体３１の右側面には、基板Ｗの受取り及び受渡しを行う基板受け部材３５が一対のブラケット３７を介して水平な軸心周りに揺動可能（回動可能）に設けられている。また、基板受け部材３５は、昇降体３１の右側面に一対のブラケット３７を介して回転可能に設けられた揺動シャフト３９と、この揺動シャフト３９の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の揺動アーム４１と、各揺動アーム４１に長手方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Ｗの裏面を吸着（保持の一例）する複数の吸着パッド（保持具の一例）４３とを備えている。更に、基板受け部材３５は、揺動によって起立姿勢（図２において仮想線で示す姿勢、図３において実線で示す姿勢）／倒伏姿勢（図２において実線で示す姿勢、図３において仮想線で示す姿勢）に切り替わるように構成されている。そして、一方のブラケット３７には、基板受け部材３５を揺動させる揺動用モータ（揺動用アクチュエータの一例）４５が設けられており、この揺動用モータ４５の出力軸（図示省略）は、揺動シャフト３９にカップリング（図示省略）等を介して連動連結してある。ここで、昇降体３１を第１基板搬送処理装置３に対応する高さ位置（図２に示す高さ位置）又は第２基板搬送処理装置５に対応する高さ位置（図３に示す高さ位置）に位置させたときに、基板受け部材３５を起立姿勢から倒伏姿勢に切り替えても、一対の揺動アーム４１は第１浮上ユニット１１及び第２浮上ユニット２１に干渉しないようになっている。
【００３９】
なお、揺動アーム４１に吸着パッド４３が設けられる代わりに、他の保持具として、基板Ｗの裏面を非接触で保持するベルヌーイチャック（図示省略）又は基板Ｗの端部を把持（保持の一例）するクランパ（図示省略）が設けられるようにしても構わない。
【００４０】
続いて、第１実施形態の作用及び効果について説明する。
【００４１】
複数の第１浮上ユニット１１のノズル１１ｎからエアを噴出させつつ、一対の第１搬送用モータ１７の駆動によって複数の第１搬送ローラ１５を回転させることにより、基板Ｗを左方向へ浮上搬送し、待機した一対の揺動アーム４１の上側（第１基板搬送処理装置３の所定位置）に位置させることができる。ここで、昇降体３１は、図２に示すように、第１基板搬送処理装置３に対応する高さ位置に位置してあって、基板受け部材３５の姿勢は、図２において実線で示すように、倒伏姿勢になっている。
【００４２】
基板Ｗを待機した一対の揺動アーム４１の上側に位置させた後に、昇降体３１を第１基板搬送処理装置３に対応する高さ位置に位置させた状態で、複数の吸着パッド４３によって基板Ｗを吸着する。そして、図２において仮想線で示すように、揺動用モータ４５の駆動によって基板受け部材３５を揺動させて倒伏姿勢から起立姿勢に切り替えることにより、第１基板搬送処理装置３から基板Ｗを受け取ることができる。
【００４３】
第１基板搬送処理装置３から基板Ｗを受け取った後に、図２及び図３に示すように、基板受け部材３５を起立姿勢に保ちつつ、換言すれば、基板Ｗを起立姿勢に保ちつつ、昇降用モータ３３の駆動によって昇降体３１を上昇させて、第２基板搬送処理装置５に対応する高さ位置に位置させる。そして、図３において仮想線で示すように、揺動用モータ４５の駆動によって基板受け部材３５を揺動させて起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、複数の吸着パッド４３による吸着状態を解除することにより、第２基板搬送処理装置５に基板Ｗを受け渡すことができる。
【００４４】
第２基板搬送処理装置５に基板を受け渡した後に、複数の第２浮上ユニット２１のノズル２１ｎからエアを噴出させつつ、一対の第２搬送用モータ２７の駆動によって複数の第２搬送ローラ２５を回転させることにより、基板Ｗを右方向へ浮上搬送して、第２基板搬送処理装置５の所定位置に位置させることができる。
【００４５】
以上により、第１基板搬送処理装置３による基板Ｗの搬送処理、第１基板搬送処理装置３から第２基板搬送処理装置５への基板Ｗの昇降移送、及び第２基板搬送処理装置５による基板Ｗの搬送処理を順次行うことができる。なお、昇降体３１を上昇させる途中に、揺動用モータ４５の駆動によって基板受け部材３５を起立姿勢に切り替えても構わない。
【００４６】
また、基板処理移送システム１に前述の動作と逆の動作をさせることにより、第２基板搬送処理装置５による基板Ｗの搬送処理、第２基板搬送処理装置５から第１基板搬送処理装置３への基板Ｗの昇降移送、及び第１基板搬送処理装置３による基板Ｗの搬送処理を順次行うことができる。
【００４７】
要するに、昇降体３１に複数の吸着パッド４３を有した基板受け部材３５が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板受け部材３５が揺動によって起立姿勢／倒伏姿勢に切り替わるように構成されているため、前述のように、基板Ｗを起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、基板昇降移送装置７の平面スペースを基板Ｗ一枚分の平面積未満に抑えることができる。
【００４８】
従って、第１実施形態によれば、基板昇降移送装置７の平面スペースを基板Ｗ一枚分の平面積未満に抑えることができるため、基板昇降移送装置７の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ることができる。
【００４９】
（第２実施形態）
第２実施形態について図６から図９を参照して説明する。
【００５０】
ここで、図６及び図７は、第２実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図、図８は、図６におけるVIII-VIII線に沿った図、図９は、図６におけるIX-IX線に沿った図である。なお、図面中、「ＦＦ」は、前方向、「ＦＲ」は、後方向、「Ｌ」は、左方向、「Ｒ」は、右方向を指してある。
【００５１】
図６に示すように、第２実施形態に係る基板処理移送システム４７は、第１実施形態に係る基板処理移送システム１と同様に、例えばガラス基板等の基板Ｗに対して搬送処理（処理の一例）及び昇降移送を行うシステムである。そして、基板処理移送システム４７は、下階フロアＬＦに配設されかつ基板Ｗに対して搬送処理を行う第１基板搬送処理装置（第１基板処理装置の一例）４９と、上階フロアＵＦに配設されかつ基板Ｗに対して搬送処理を行う第２基板搬送処理装置（第２基板処理装置の一例）５１と、第１基板搬送処理装置４９と第２基板搬送処理装置５１の間で基板Ｗに対して昇降移送を行う基板昇降移送装置５３とを備えている。
【００５２】
ここで、第１基板搬送処理装置４９は、第１実施形態に係る基板処理移送システム１の第１基板搬送処理装置３と略同じ構成を有しており、第１基板搬送処理装置４９の構成要素のうち、第１基板搬送処理装置３の構成要素と対応するものについては、同一番号を付して説明を省略する。同様に、第２基板搬送処理装置５１は、第１実施形態に係る基板処理移送システム１の第２基板搬送処理装置５と略同じ構成を有しており、第２基板搬送処理装置５１の構成要素のうち、第２基板搬送処理装置５の構成要素と対応するものについては、同一番号を付して説明を省略する。
【００５３】
基板処理移送システム４７の基板昇降移送装置５３の具体的な構成は、次のようになる。
【００５４】
図６及び図８に示すように、第１基板搬送処理装置４９の第１処理装置本体９の左側近傍には、基板Ｗの姿勢を起立姿勢（図６において仮想線で示す姿勢）／倒伏姿勢（図６において実線で示す姿勢）に切り替える第１姿勢切替部材５５が一対のブラケット５７を介して水平な軸心周りに揺動可能（回動可能）に設けられている。また、第１姿勢切替部材５５は、第１基板搬送処理装置４９の第１処理装置本体９の左側近傍に一対のブラケット５７を介して回転可能に設けられた第１揺動シャフト５９と、この第１揺動シャフト５９の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の第１揺動アーム６１と、各第１揺動アーム６１に長手方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Ｗの裏面を吸着する複数の第１姿勢切替用吸着パッド（第１姿勢切替用保持具の一例）６３とを備えている。そして、一方のブラケット５７には、第１姿勢切替部材５５を揺動させる第１姿勢切替用モータ（第１姿勢切替用アクチュエータの一例）６５が設けられており、この第１姿勢切替用モータ６５の出力軸（図示省略）は、第１揺動シャフト５９にカップリング（図示省略）等を介して連動連結してある。ここで、第１姿勢切替部材５５を揺動させても、一対の第１揺動アーム６１は第１浮上ユニット１１に干渉しないようになっている。
【００５５】
なお、第１揺動アーム６１に第１姿勢切替用吸着パッド６３が設けられる代わりに、他の第１姿勢切替用保持具として、基板Ｗの裏面を非接触で保持する第１姿勢切替用ベルヌーイチャック（図示省略）又は基板Ｗの端部を把持（保持の一例）する第１姿勢切替用クランパ（図示省略）が設けられるようにしても構わない。
【００５６】
図７及び図９に示すように、第２基板搬送処理装置５１の第２処理装置本体１９の左側近傍には、基板Ｗの姿勢を起立姿勢（図７において実線で示す姿勢）／倒伏姿勢（図７において仮想線で示す姿勢）に切り替える第２姿勢切替部材６７が一対のブラケット６９を介して水平な軸心周りに揺動可能（回動可能）に設けられており、第２姿勢切替部材６７の取付位置は、第１姿勢切替部材５５の取付位置に対して右方向に偏位してある。また、第２姿勢切替部材６７は、第２基板搬送処理装置５１の第２処理装置本体１９の左側近傍に一対のブラケット６９を介して回転可能に設けられた第２揺動シャフト７１と、この第２揺動シャフト７１の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の第２揺動アーム７３と、各第２揺動アーム７３に長手方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Ｗの裏面を吸着する複数の第２姿勢切替用吸着パッド（第２姿勢切替用保持具の一例）７５とを備えている。そして、一方のブラケット６９には、第２姿勢切替部材６７を揺動させる第２姿勢切替用モータ（第２姿勢切替用アクチュエータの一例）７７が設けられており、この第２姿勢切替用モータ７７の出力軸（図示省略）は、第２揺動シャフト７１にカップリング（図示省略）等を介して連動連結してある。ここで、第２姿勢切替部材６７を揺動させても、一対の第２揺動アーム７３は第２浮上ユニット２１に干渉しないようになっている。
【００５７】
なお、第２揺動アーム７３に第２姿勢切替用吸着パッド７５が設けられる代わりに、他の第２姿勢切替用保持具として、基板Ｗの裏面を非接触で保持する第２姿勢切替用ベルヌーイチャック（図示省略）又は基板Ｗの端部を把持（保持の一例）する第２姿勢切替用クランパ（図示省略）が設けられるようにしても構わない。
【００５８】
図６及び図７に示すように、第１基板搬送処理装置４９の左側近傍には、上下方向へ延びた昇降ガイドフレーム（昇降ガイド）７９が立設されており、この昇降ガイドフレーム７９には、昇降ユニット８１が昇降可能に設けられている。また、昇降ユニット８１は、昇降ガイドフレーム７９に昇降可能に設けられた昇降ブロック８３と、この昇降ブロック（昇降体）８３の前後の両端部に設けられかつ移動用シリンダ等の移動用アクチュエータ（図示省略）の駆動によって左右方向へ移動する一対のスライドプレート８５と、各スライドプレート８５に設けられかつ基板Ｗの端部を把持（保持の一例）する昇降用クランパ（昇降用保持具の一例）８７とを備えている。そして、昇降ガイドフレーム７９の上部には、昇降ユニット８１を昇降（上下方向へ移動）させる昇降用モータ（昇降用アクチュエータの一例）８９が設けられており、昇降用モータ８９の出力軸は、上下方向へ延びたボールねじ又はチェーン等の昇降機構（図示省略）に連動連結してある。
【００５９】
なお、昇降ブロック８３に昇降用クランパ８７が設けられる代わりに、他の昇降用用保持具として、基板Ｗの裏面を表面又は裏面を吸着する吸着パッド（図示省略）等が支持アーム（図示省略）を介して設けられるようにしても構わない。
【００６０】
続いて、第２実施形態の作用及び効果について説明する。
【００６１】
複数の第１浮上ユニット１１のノズル１１ｎからエアを噴出させつつ、一対の第１搬送用モータ１７の駆動によって複数の第１搬送ローラ１５を回転させることにより、基板Ｗを左方向へ浮上搬送し、待機した一対の第１揺動アーム６１の上側（第１基板搬送処理装置４９の所定位置）に位置させることができる。ここで、昇降ユニット８１は、図６に示すように、第１基板搬送処理装置４９に対応する高さ位置に位置してある。
【００６２】
基板Ｗを待機した一対の第１揺動アーム６１の上側に位置させた後に、複数の第１姿勢切替用吸着パッド６３によって基板Ｗの裏面を吸着する。次に、図６において仮想線で示すように、第１姿勢切替用モータ６５の駆動によって第１姿勢切替部材５５を揺動させて、基板Ｗの姿勢を倒伏姿勢から起立姿勢に切り替える。そして、昇降ユニット８１を第１基板搬送処理装置４９に対応する高さ位置に位置させた状態で、一対の昇降用クランパ８７によって基板Ｗの端部を把持し、複数の第１姿勢切替用吸着パッド６３による吸着状態を解除する。
【００６３】
複数の第１姿勢切替用吸着パッド６３による吸着状態を解除した後に、図６及び図７に示すように、基板Ｗを起立姿勢に保ちつつ、昇降用モータ８９の駆動によって昇降ユニット８１を上昇させて、第２基板搬送処理装置５１に対応する高さ位置に位置させる。次に、図７において実線で示すように、移動用シリンダの駆動によって一対のスライドプレート８５を右方向へ移動させて、基板Ｗを第２基板搬送処理装置５１に接近させる。そして、複数の第２姿勢切替用吸着パッド７５によって基板Ｗの裏面を吸着し、一対の昇降用クランパ８７による把持状態を解除する。更に、図７において仮想線で示すように、第２姿勢切替用モータ７７の駆動によって第２姿勢切替部材６７を揺動させて、基板Ｗの姿勢を起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、複数の第２姿勢切替用吸着パッド７５による吸着状態を解除する。
【００６４】
複数の第２姿勢切替用吸着パッド７５による吸着状態を解除した後に、複数の第２浮上ユニット２１のノズル２１ｎからエアを噴出させつつ、一対の第２搬送用モータ２７の駆動によって複数の第２搬送ローラ２５を回転させることにより、基板Ｗを右方向へ浮上搬送して、第２基板搬送処理装置５１の所定位置に位置させることができる。
【００６５】
以上により、第１基板搬送処理装置４９による基板Ｗの搬送処理、第１基板搬送処理装置４９から第２基板搬送処理装置５１への基板Ｗの昇降移送、及び第２基板搬送処理装置５１による基板Ｗの搬送処理を順次行うことができる。
【００６６】
また、基板処理移送システム４７に前述の動作と逆の動作をさせることにより、第２基板搬送処理装置５による基板Ｗの搬送処理、第２基板搬送処理装置５から第１基板搬送処理装置３への基板Ｗの昇降移送、及び第１基板搬送処理装置３による基板Ｗの搬送処理を順次行うことができる。
【００６７】
要するに、第１基板搬送処理装置４９の左側近傍に複数の第１姿勢切替用吸着パッド６３を有した第１姿勢切替部材５５が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第２基板搬送処理装置５１の左側近傍に複数の第２姿勢切替用吸着パッド７５を有した第２姿勢切替部材６７が水平な軸心周りに揺動可能に設けられているため、前述のように、基板Ｗを起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、基板昇降移送装置５３の平面スペースを基板Ｗ一枚分の平面積未満に抑えることができる。
【００６８】
従って、第２実施形態によれば、基板昇降移送装置５３の平面スペースを基板Ｗ一枚分の平面積未満に抑えることができるため、基板昇降移送装置５３の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ることができる。
【００６９】
なお、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、その他、種々の態様で実施可能である。また、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】第１実施形態に係る基板処理移送システムの斜視図である。
【図２】第１実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。
【図３】第１実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。
【図４】図２におけるIV-IV線に沿った図である。
【図５】図２におけるV-V線に沿った図である。
【図６】第２実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。
【図７】第２実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。
【図８】図６におけるVIII-VIII線に沿った図である。
【図９】図６におけるIX-IX線に沿った図である。
【符号の説明】
【００７１】
１ 基板処理移送システム
３ 第１基板搬送処理装置
５ 第２基板搬送処理装置
７ 基板昇降移送装置
２９ 昇降ガイドフレーム
３１ 昇降体
３３ 昇降用モータ
３５ 基板受け部材
４３ 吸着パッド
４５ 揺動用モータ
４７ 基板処理移送システム
４９ 第１基板搬送処理装置
５１ 第２基板搬送処理装置
５３ 基板昇降移送装置
５５ 第１姿勢切替部材
６３ 第１姿勢切替用吸着パッド
６５ 第１姿勢切替用モータ
６７ 第２姿勢切替部材
７５ 第２姿勢切替用吸着パッド
７７ 第２姿勢切替用モータ
７９ 昇降ガイドフレーム
８１ 昇降ユニット
８７ 昇降用クランパ
８９ 昇降用モータ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、クリーン搬送等の分野において用いられる基板昇降移送装置及び基板処理移送システムに関する。
【０００２】
等に関する。
【背景技術】
【０００３】
クリーン搬送の分野において、下階フロアに配設された第１基板処理装置と上階フロアに配設された第２基板処理装置との間で、ガラス基板等の基板の昇降移送（移送）を行う基板昇降移送装置が用いられることがあり、一般的な基板昇降移送装置の構成等は、次のようになる。
【０００４】
即ち、第１基板処理装置の近傍には、上下方向へ延びた昇降ガイドが設けられており、この昇降ガイドには、基板を支持する昇降テーブルが昇降可能に設けられている。また、昇降ガイドの適宜位置には、昇降テーブルを昇降させる昇降用モータが設けられている。ここで、昇降テーブルは、第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置したときに、第１基板処理装置に対して基板を引き出し及び送り出し可能になっており、第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置したときに、第２基板処理装置に対して基板を引き出し及び送り出し可能になっている。
【０００５】
従って、昇降用モータの駆動によって昇降体を下降させて、第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。次に、第１基板処理装置から昇降テーブルに基板を引き出す。そして、昇降用モータの駆動によって昇降体を上昇させて、第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。更に、昇降テーブルから第２基板処理装置に基板を送り出す。
【０００６】
以上により、第１基板処理装置から第２基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。また、基板昇降移送装置に前述の動作と逆の動作をさせることにより、前記第２基板処理装置から前記第１基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
【０００７】
なお、本発明に関連する先行技術として特許文献１に示すものがある。
【特許文献１】特開平１−３１８２４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、前述のように、一般的な基板昇降移送装置にあっては、昇降ガイドに基板を支持する昇降テーブルが昇降可能に設けられているため、基板を倒伏姿勢に保ちつつ昇降させることになり、基板昇降移送装置の平面スペース（設置スペース）として少なくとも基板一枚分の平面積（平面スペース）以上必要になる。そのため、基板昇降移送装置の平面スペースが増大して、工場のスペースの有効利用を図ることが難しくなる。特に、近年、基板の大型化が急速に進んでおり、前述の問題はより顕著になってきている。
【０００９】
そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の基板昇降移送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の第１の特徴は、下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第２基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、前記第１基板処理装置の近傍に立設され、上下方向へ延びた昇降ガイドと、前記昇降ガイドに昇降可能に設けられた昇降体と、前記昇降体を昇降させる昇降用アクチュエータと、前記昇降体に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する保持具を有し、揺動によって起立姿勢／倒伏姿勢（起立姿勢又は倒伏姿勢）に切り替わるように構成され、基板の受取り及び受渡しを行う基板受け部材と、前記基板受け部材を揺動させる揺動用アクチュエータと、を備えたことを要旨とする。
【００１１】
なお、本願の特許請求の範囲及び明細書中において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、介在部材を介して間接的に設けられたことを含む意である。また、「基板の処理」とは、基板の搬送処理、基板のプロセス処理、基板の保管処理等を含む意であって、プロセス処理には、エッチング処理、ＣＶＤ処理、ＰＶＤ処理等が含まれる。
【００１２】
第１の特徴によると、（前記昇降用アクチュエータの駆動によって前記昇降体を下降させて、前記第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。次に）、前記昇降体を前記第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置させた状態で、前記保持具によって前記第１基板処理装置の所定位置に位置した基板を保持する。そして、前記揺動用アクチュエータの駆動によって前記基板受け部材を揺動させて倒伏姿勢から起立姿勢に切り替えることにより、前記第１基板処理装置から基板を受け取ることができる。
【００１３】
前記第１基板処理装置から基板を受け取った後に、前記基板受け部材を起立姿勢に保ちつつ、換言すれば、基板を起立姿勢に保ちつつ、前記昇降用アクチュエータの駆動によって前記昇降体を上昇させて、前記第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。そして、前記揺動用アクチュエータの駆動によって前記基板受け部材を揺動させて起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、前記保持具による保持状態を解除することにより、前記第２基板処理装置に基板を受け渡すことができる。
【００１４】
以上により、前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。なお、前記昇降体を上昇させる途中に、前記基板受け部材を起立姿勢に切り替えても構わない。
【００１５】
また、前記基板昇降移送装置に前述の動作と逆の動作をさせることにより、前記第２基板処理装置から前記第１基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
【００１６】
要するに、前記昇降体に前記保持具を有した前記基板受け部材が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、前記基板受け部材が揺動によって起立姿勢／倒伏姿勢に切り替わるように構成されているため、前述のように、基板を起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、前記基板昇降移送装置の平面スペースを基板一枚分の平面積未満に抑えることができる。
【００１７】
本発明の第２の特徴は、下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第２基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、前記第１基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第１姿勢切替用保持具を有し、基板の姿勢を倒伏姿勢／起立姿勢に切り替える第１姿勢切替部材と、前記第１姿勢切替部材を揺動させる第１姿勢切替用アクチュエータと、前記第２基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第２姿勢切替用保持具を有し、基板の姿勢を倒伏姿勢／起立姿勢に切り替える第２姿勢切替部材と、前記第２姿勢切替部材を揺動させる第２姿勢切替用アクチュエータと、前記第１姿勢切替部材の近傍に立設され、上下方向へ延びた昇降ガイドと、前記昇降ガイドに昇降可能に設けられ、基板を保持する昇降用保持具を有した昇降ユニットと、前記昇降ユニットを昇降させる昇降用アクチュエータと、を備えたことを要旨とする。
【００１８】
第２の特徴によると、前記第１姿勢切替用保持具によって前記第１基板処理装置の所定位置に位置した基板を保持する。次に、前記第１姿勢切替用アクチュエータの駆動によって前記第１姿勢切替部材を揺動させて、基板の姿勢を倒伏姿勢から起立姿勢に切り替える。そして、前記昇降ユニットを前記第１基板処理装置に対応する高さ位置に位置させた状態で、前記昇降用保持具によって基板を保持し、前記第１姿勢切替用保持具による保持状態を解除する。
【００１９】
前記第１姿勢切替用保持具による保持状態を解除した後に、基板を起立姿勢に保ちつつ、前記昇降用アクチュエータの駆動によって前記昇降ユニットを上昇させて、前記第２基板処理装置に対応する高さ位置に位置させる。次に、前記第２姿勢切替用保持具によって基板を保持し、前記昇降用保持具による保持状態を解除する。そして、前記第２姿勢切替用アクチュエータの駆動によって前記第２姿勢切替部材を揺動させて、基板の姿勢を起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、前記第２姿勢切替用保持具による保持状態を解除する。
【００２０】
以上により、前記第１基板処理装置から前記第２基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
【００２１】
また、前記基板昇降移送装置に前述の動作と逆の動作をさせることにより、前記第２基板処理装置から前記第１基板処理装置への基板の昇降移送を行うことができる。
【００２２】
要するに、前記第１基板処理装置の一側に前記第１姿勢切替用保持具を有した前記第１姿勢切替部材が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、前記第２基板処理装置の一側に前記第２姿勢切替用保持具を有した前記第２姿勢切替部材が水平な軸心周りに揺動可能に設けられているため、前述のように、基板を起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、前記基板昇降移送装置の平面スペースを基板一枚分の平面積未満に抑えることができる。
【００２３】
本発明の第３の特徴は、基板に対して処理及び昇降移送を行う基板処理移送システムにおいて、下段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第２基板処理装置と、前記第１基板処理装置と前記第２基板処理装置の間で基板の昇降移送を行う第１の特徴又は第２の特徴からなる基板昇降移送装置と、を備えたことを要旨とする。
【００２４】
第３の特徴によると、第１の特徴又は第２の特徴による作用と同様の作用を奏する。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、前記基板昇降移送装置の平面スペースを基板一枚分の平面積未満に抑えることができるため、前記基板昇降移送装置の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
（第１実施形態）
第１実施形態について図１から図５を参照して説明する。
【００２７】
ここで、図１は、第１実施形態に係る基板処理移送システムの斜視図、図２及び図３は、第１実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図、図４は、図２におけるIV-IV線に沿った図、図５は、図２におけるV-V線に沿った図である。なお、図面中、「ＦＦ」は、前方向、「ＦＲ」は、後方向、「Ｌ」は、左方向、「Ｒ」は、右方向を指してある。
【００２８】
図１に示すように、第１実施形態に係る基板処理移送システム１は、例えばガラス基板等の基板Ｗに対して搬送処理（処理の一例）及び昇降移送を行うシステムである。そして、基板処理移送システム１は、下階フロアＬＦに配設されかつ基板Ｗに対して搬送処理を行う第１基板搬送処理装置（第１基板処理装置の一例）３と、上階フロアＵＦに配設されかつ基板Ｗに対して搬送処理を行う第２基板搬送処理装置（第２基板処理装置の一例）５と、第１基板搬送処理装置３と第２基板搬送処理装置５の間で基板Ｗに対して昇降移送を行う基板昇降移送装置７とを備えている。
【００２９】
基板処理移送システム１の第１基板搬送処理装置３の構成は、次のようになる。
【００３０】
即ち、図２及び図４に示すように、下階フロアＬＦには、第１処理装置本体９が設けられており、この第１処理装置本体９は、第１基板搬送処理装置３のベースを構成するものである。また、第１処理装置本体９には、基板Ｗをエアの圧力によって浮上させる複数の第１浮上ユニット１１が設けられており、各第１浮上ユニット１１の上面には、エアを噴出する枠状のノズル１１ｎがそれぞれ形成されており、各ノズル１１ｎは、特開２００６−１８２５６３号公報に示すように、鉛直方向に対してユニット中心側へ傾斜するように構成されている。
【００３１】
なお、各第１浮上ユニット１１の上面に枠状のノズル１１ｎが形成される代わりに、複数の丸穴状のノズルが形成されるようにしても構わない。
【００３２】
第１処理装置本体９には、搬送方向（左右方向）へ延びた一対の第１ローラ支持部材１３が搬送幅方向（前後方向）に離隔して設けられており、各第１ローラ支持部材１３には、基板Ｗを搬送可能に支持する複数の第１搬送ローラ１５が水平な軸心周りに回転可能かつ搬送方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられている。そして、各第１ローラ支持部材１３の適宜位置には、複数の第１搬送ローラ１５を回転させる第１搬送用モータ１７がそれぞれ設けられており、各第１搬送用モータ１７の出力軸（図示省略）は、複数の第１搬送ローラ１５の回転軸（図示省略）にウォーム及びホイール等からなる連動機構（図示省略）を介して連動連結してある。
【００３３】
基板処理移送システム１の第２基板搬送処理装置５の構成は、次のようになる。
【００３４】
即ち、図２及び図５に示すように、上階フロアＵＦには、第２処理装置本体１９が設けられており、この第２処理装置本体１９は、第２基板搬送処理装置５のベースを構成するものである。また、第２処理装置本体１９には、基板Ｗをエアの圧力によって浮上させる複数の第２浮上ユニット２１が設けられており、各第２浮上ユニット２１の上面には、第１浮上ユニット１１と同様に、エアを噴出する枠状のノズル２１ｎがそれぞれ形成されている。
【００３５】
第２処理装置本体１９には、搬送方向へ延びた一対の第２ローラ支持部材２３が搬送幅方向に離隔して設けられており、各第２ローラ支持部材２３には、基板Ｗを搬送可能に支持する複数の第２搬送ローラ２５が水平な軸心周りに回転可能かつ搬送方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられている。そして、各第２ローラ支持部材２３の適宜位置には、複数の第２搬送ローラ２５を回転させる第２搬送用モータ２７がそれぞれ設けられており、各第２搬送用モータ２７の出力軸（図示省略）は、複数の第２搬送ローラ２５の回転軸（図示省略）にウォーム及びホイール等からなる連動機構（図示省略）を介して連動連結してある。
【００３６】
基板処理移送システム１の基板昇降移送装置７の具体的な構成は、次のようになる。
【００３７】
図１から図４に示すように、第１基板搬送処理装置３の左側近傍には、上下方向へ延びた昇降ガイドフレーム（昇降ガイド）２９が立設されており、この昇降ガイドフレーム２９には、前後方向へ延びた昇降体３１が昇降可能に設けられている。そして、昇降ガイドフレーム２９の上部には、昇降体３１を昇降（上下方向へ移動）させる昇降用モータ（昇降用アクチュエータの一例）３３が設けられており、昇降用モータ３３の出力軸（図示省略）は、上下方向へ延びたボールねじ又はチェーン等の昇降機構（図示省略）に連動連結してある。
【００３８】
昇降体３１の右側面には、基板Ｗの受取り及び受渡しを行う基板受け部材３５が一対のブラケット３７を介して水平な軸心周りに揺動可能（回動可能）に設けられている。また、基板受け部材３５は、昇降体３１の右側面に一対のブラケット３７を介して回転可能に設けられた揺動シャフト３９と、この揺動シャフト３９の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の揺動アーム４１と、各揺動アーム４１に長手方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Ｗの裏面を吸着（保持の一例）する複数の吸着パッド（保持具の一例）４３とを備えている。更に、基板受け部材３５は、揺動によって起立姿勢（図２において仮想線で示す姿勢、図３において実線で示す姿勢）／倒伏姿勢（図２において実線で示す姿勢、図３において仮想線で示す姿勢）に切り替わるように構成されている。そして、一方のブラケット３７には、基板受け部材３５を揺動させる揺動用モータ（揺動用アクチュエータの一例）４５が設けられており、この揺動用モータ４５の出力軸（図示省略）は、揺動シャフト３９にカップリング（図示省略）等を介して連動連結してある。ここで、昇降体３１を第１基板搬送処理装置３に対応する高さ位置（図２に示す高さ位置）又は第２基板搬送処理装置５に対応する高さ位置（図３に示す高さ位置）に位置させたときに、基板受け部材３５を起立姿勢から倒伏姿勢に切り替えても、一対の揺動アーム４１は第１浮上ユニット１１及び第２浮上ユニット２１に干渉しないようになっている。
【００３９】
なお、揺動アーム４１に吸着パッド４３が設けられる代わりに、他の保持具として、基板Ｗの裏面を非接触で保持するベルヌーイチャック（図示省略）又は基板Ｗの端部を把持（保持の一例）するクランパ（図示省略）が設けられるようにしても構わない。
【００４０】
続いて、第１実施形態の作用及び効果について説明する。
【００４１】
複数の第１浮上ユニット１１のノズル１１ｎからエアを噴出させつつ、一対の第１搬送用モータ１７の駆動によって複数の第１搬送ローラ１５を回転させることにより、基板Ｗを左方向へ浮上搬送し、待機した一対の揺動アーム４１の上側（第１基板搬送処理装置３の所定位置）に位置させることができる。ここで、昇降体３１は、図２に示すように、第１基板搬送処理装置３に対応する高さ位置に位置してあって、基板受け部材３５の姿勢は、図２において実線で示すように、倒伏姿勢になっている。
【００４２】
基板Ｗを待機した一対の揺動アーム４１の上側に位置させた後に、昇降体３１を第１基板搬送処理装置３に対応する高さ位置に位置させた状態で、複数の吸着パッド４３によって基板Ｗを吸着する。そして、図２において仮想線で示すように、揺動用モータ４５の駆動によって基板受け部材３５を揺動させて倒伏姿勢から起立姿勢に切り替えることにより、第１基板搬送処理装置３から基板Ｗを受け取ることができる。
【００４３】
第１基板搬送処理装置３から基板Ｗを受け取った後に、図２及び図３に示すように、基板受け部材３５を起立姿勢に保ちつつ、換言すれば、基板Ｗを起立姿勢に保ちつつ、昇降用モータ３３の駆動によって昇降体３１を上昇させて、第２基板搬送処理装置５に対応する高さ位置に位置させる。そして、図３において仮想線で示すように、揺動用モータ４５の駆動によって基板受け部材３５を揺動させて起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、複数の吸着パッド４３による吸着状態を解除することにより、第２基板搬送処理装置５に基板Ｗを受け渡すことができる。
【００４４】
第２基板搬送処理装置５に基板を受け渡した後に、複数の第２浮上ユニット２１のノズル２１ｎからエアを噴出させつつ、一対の第２搬送用モータ２７の駆動によって複数の第２搬送ローラ２５を回転させることにより、基板Ｗを右方向へ浮上搬送して、第２基板搬送処理装置５の所定位置に位置させることができる。
【００４５】
以上により、第１基板搬送処理装置３による基板Ｗの搬送処理、第１基板搬送処理装置３から第２基板搬送処理装置５への基板Ｗの昇降移送、及び第２基板搬送処理装置５による基板Ｗの搬送処理を順次行うことができる。なお、昇降体３１を上昇させる途中に、揺動用モータ４５の駆動によって基板受け部材３５を起立姿勢に切り替えても構わない。
【００４６】
また、基板処理移送システム１に前述の動作と逆の動作をさせることにより、第２基板搬送処理装置５による基板Ｗの搬送処理、第２基板搬送処理装置５から第１基板搬送処理装置３への基板Ｗの昇降移送、及び第１基板搬送処理装置３による基板Ｗの搬送処理を順次行うことができる。
【００４７】
要するに、昇降体３１に複数の吸着パッド４３を有した基板受け部材３５が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板受け部材３５が揺動によって起立姿勢／倒伏姿勢に切り替わるように構成されているため、前述のように、基板Ｗを起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、基板昇降移送装置７の平面スペースを基板Ｗ一枚分の平面積未満に抑えることができる。
【００４８】
従って、第１実施形態によれば、基板昇降移送装置７の平面スペースを基板Ｗ一枚分の平面積未満に抑えることができるため、基板昇降移送装置７の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ることができる。
【００４９】
（第２実施形態）
第２実施形態について図６から図９を参照して説明する。
【００５０】
ここで、図６及び図７は、第２実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図、図８は、図６におけるVIII-VIII線に沿った図、図９は、図６におけるIX-IX線に沿った図である。なお、図面中、「ＦＦ」は、前方向、「ＦＲ」は、後方向、「Ｌ」は、左方向、「Ｒ」は、右方向を指してある。
【００５１】
図６に示すように、第２実施形態に係る基板処理移送システム４７は、第１実施形態に係る基板処理移送システム１と同様に、例えばガラス基板等の基板Ｗに対して搬送処理（処理の一例）及び昇降移送を行うシステムである。そして、基板処理移送システム４７は、下階フロアＬＦに配設されかつ基板Ｗに対して搬送処理を行う第１基板搬送処理装置（第１基板処理装置の一例）４９と、上階フロアＵＦに配設されかつ基板Ｗに対して搬送処理を行う第２基板搬送処理装置（第２基板処理装置の一例）５１と、第１基板搬送処理装置４９と第２基板搬送処理装置５１の間で基板Ｗに対して昇降移送を行う基板昇降移送装置５３とを備えている。
【００５２】
ここで、第１基板搬送処理装置４９は、第１実施形態に係る基板処理移送システム１の第１基板搬送処理装置３と略同じ構成を有しており、第１基板搬送処理装置４９の構成要素のうち、第１基板搬送処理装置３の構成要素と対応するものについては、同一番号を付して説明を省略する。同様に、第２基板搬送処理装置５１は、第１実施形態に係る基板処理移送システム１の第２基板搬送処理装置５と略同じ構成を有しており、第２基板搬送処理装置５１の構成要素のうち、第２基板搬送処理装置５の構成要素と対応するものについては、同一番号を付して説明を省略する。
【００５３】
基板処理移送システム４７の基板昇降移送装置５３の具体的な構成は、次のようになる。
【００５４】
図６及び図８に示すように、第１基板搬送処理装置４９の第１処理装置本体９の左側近傍には、基板Ｗの姿勢を起立姿勢（図６において仮想線で示す姿勢）／倒伏姿勢（図６において実線で示す姿勢）に切り替える第１姿勢切替部材５５が一対のブラケット５７を介して水平な軸心周りに揺動可能（回動可能）に設けられている。また、第１姿勢切替部材５５は、第１基板搬送処理装置４９の第１処理装置本体９の左側近傍に一対のブラケット５７を介して回転可能に設けられた第１揺動シャフト５９と、この第１揺動シャフト５９の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の第１揺動アーム６１と、各第１揺動アーム６１に長手方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Ｗの裏面を吸着する複数の第１姿勢切替用吸着パッド（第１姿勢切替用保持具の一例）６３とを備えている。そして、一方のブラケット５７には、第１姿勢切替部材５５を揺動させる第１姿勢切替用モータ（第１姿勢切替用アクチュエータの一例）６５が設けられており、この第１姿勢切替用モータ６５の出力軸（図示省略）は、第１揺動シャフト５９にカップリング（図示省略）等を介して連動連結してある。ここで、第１姿勢切替部材５５を揺動させても、一対の第１揺動アーム６１は第１浮上ユニット１１に干渉しないようになっている。
【００５５】
なお、第１揺動アーム６１に第１姿勢切替用吸着パッド６３が設けられる代わりに、他の第１姿勢切替用保持具として、基板Ｗの裏面を非接触で保持する第１姿勢切替用ベルヌーイチャック（図示省略）又は基板Ｗの端部を把持（保持の一例）する第１姿勢切替用クランパ（図示省略）が設けられるようにしても構わない。
【００５６】
図７及び図９に示すように、第２基板搬送処理装置５１の第２処理装置本体１９の左側近傍には、基板Ｗの姿勢を起立姿勢（図７において実線で示す姿勢）／倒伏姿勢（図７において仮想線で示す姿勢）に切り替える第２姿勢切替部材６７が一対のブラケット６９を介して水平な軸心周りに揺動可能（回動可能）に設けられており、第２姿勢切替部材６７の取付位置は、第１姿勢切替部材５５の取付位置に対して右方向に偏位してある。また、第２姿勢切替部材６７は、第２基板搬送処理装置５１の第２処理装置本体１９の左側近傍に一対のブラケット６９を介して回転可能に設けられた第２揺動シャフト７１と、この第２揺動シャフト７１の外周面に一体的に形成されかつ平行に延びた一対の第２揺動アーム７３と、各第２揺動アーム７３に長手方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられかつ基板Ｗの裏面を吸着する複数の第２姿勢切替用吸着パッド（第２姿勢切替用保持具の一例）７５とを備えている。そして、一方のブラケット６９には、第２姿勢切替部材６７を揺動させる第２姿勢切替用モータ（第２姿勢切替用アクチュエータの一例）７７が設けられており、この第２姿勢切替用モータ７７の出力軸（図示省略）は、第２揺動シャフト７１にカップリング（図示省略）等を介して連動連結してある。ここで、第２姿勢切替部材６７を揺動させても、一対の第２揺動アーム７３は第２浮上ユニット２１に干渉しないようになっている。
【００５７】
なお、第２揺動アーム７３に第２姿勢切替用吸着パッド７５が設けられる代わりに、他の第２姿勢切替用保持具として、基板Ｗの裏面を非接触で保持する第２姿勢切替用ベルヌーイチャック（図示省略）又は基板Ｗの端部を把持（保持の一例）する第２姿勢切替用クランパ（図示省略）が設けられるようにしても構わない。
【００５８】
図６及び図７に示すように、第１基板搬送処理装置４９の左側近傍には、上下方向へ延びた昇降ガイドフレーム（昇降ガイド）７９が立設されており、この昇降ガイドフレーム７９には、昇降ユニット８１が昇降可能に設けられている。また、昇降ユニット８１は、昇降ガイドフレーム７９に昇降可能に設けられた昇降ブロック８３と、この昇降ブロック（昇降体）８３の前後の両端部に設けられかつ移動用シリンダ等の移動用アクチュエータ（図示省略）の駆動によって左右方向へ移動する一対のスライドプレート８５と、各スライドプレート８５に設けられかつ基板Ｗの端部を把持（保持の一例）する昇降用クランパ（昇降用保持具の一例）８７とを備えている。そして、昇降ガイドフレーム７９の上部には、昇降ユニット８１を昇降（上下方向へ移動）させる昇降用モータ（昇降用アクチュエータの一例）８９が設けられており、昇降用モータ８９の出力軸は、上下方向へ延びたボールねじ又はチェーン等の昇降機構（図示省略）に連動連結してある。
【００５９】
なお、昇降ブロック８３に昇降用クランパ８７が設けられる代わりに、他の昇降用用保持具として、基板Ｗの裏面を表面又は裏面を吸着する吸着パッド（図示省略）等が支持アーム（図示省略）を介して設けられるようにしても構わない。
【００６０】
続いて、第２実施形態の作用及び効果について説明する。
【００６１】
複数の第１浮上ユニット１１のノズル１１ｎからエアを噴出させつつ、一対の第１搬送用モータ１７の駆動によって複数の第１搬送ローラ１５を回転させることにより、基板Ｗを左方向へ浮上搬送し、待機した一対の第１揺動アーム６１の上側（第１基板搬送処理装置４９の所定位置）に位置させることができる。ここで、昇降ユニット８１は、図６に示すように、第１基板搬送処理装置４９に対応する高さ位置に位置してある。
【００６２】
基板Ｗを待機した一対の第１揺動アーム６１の上側に位置させた後に、複数の第１姿勢切替用吸着パッド６３によって基板Ｗの裏面を吸着する。次に、図６において仮想線で示すように、第１姿勢切替用モータ６５の駆動によって第１姿勢切替部材５５を揺動させて、基板Ｗの姿勢を倒伏姿勢から起立姿勢に切り替える。そして、昇降ユニット８１を第１基板搬送処理装置４９に対応する高さ位置に位置させた状態で、一対の昇降用クランパ８７によって基板Ｗの端部を把持し、複数の第１姿勢切替用吸着パッド６３による吸着状態を解除する。
【００６３】
複数の第１姿勢切替用吸着パッド６３による吸着状態を解除した後に、図６及び図７に示すように、基板Ｗを起立姿勢に保ちつつ、昇降用モータ８９の駆動によって昇降ユニット８１を上昇させて、第２基板搬送処理装置５１に対応する高さ位置に位置させる。次に、図７において実線で示すように、移動用シリンダの駆動によって一対のスライドプレート８５を右方向へ移動させて、基板Ｗを第２基板搬送処理装置５１に接近させる。そして、複数の第２姿勢切替用吸着パッド７５によって基板Ｗの裏面を吸着し、一対の昇降用クランパ８７による把持状態を解除する。更に、図７において仮想線で示すように、第２姿勢切替用モータ７７の駆動によって第２姿勢切替部材６７を揺動させて、基板Ｗの姿勢を起立姿勢から倒伏姿勢に切り替え、複数の第２姿勢切替用吸着パッド７５による吸着状態を解除する。
【００６４】
複数の第２姿勢切替用吸着パッド７５による吸着状態を解除した後に、複数の第２浮上ユニット２１のノズル２１ｎからエアを噴出させつつ、一対の第２搬送用モータ２７の駆動によって複数の第２搬送ローラ２５を回転させることにより、基板Ｗを右方向へ浮上搬送して、第２基板搬送処理装置５１の所定位置に位置させることができる。
【００６５】
以上により、第１基板搬送処理装置４９による基板Ｗの搬送処理、第１基板搬送処理装置４９から第２基板搬送処理装置５１への基板Ｗの昇降移送、及び第２基板搬送処理装置５１による基板Ｗの搬送処理を順次行うことができる。
【００６６】
また、基板処理移送システム４７に前述の動作と逆の動作をさせることにより、第２基板搬送処理装置５による基板Ｗの搬送処理、第２基板搬送処理装置５から第１基板搬送処理装置３への基板Ｗの昇降移送、及び第１基板搬送処理装置３による基板Ｗの搬送処理を順次行うことができる。
【００６７】
要するに、第１基板搬送処理装置４９の左側近傍に複数の第１姿勢切替用吸着パッド６３を有した第１姿勢切替部材５５が水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、第２基板搬送処理装置５１の左側近傍に複数の第２姿勢切替用吸着パッド７５を有した第２姿勢切替部材６７が水平な軸心周りに揺動可能に設けられているため、前述のように、基板Ｗを起立姿勢に保ちつつ昇降させることができ、基板昇降移送装置５３の平面スペースを基板Ｗ一枚分の平面積未満に抑えることができる。
【００６８】
従って、第２実施形態によれば、基板昇降移送装置５３の平面スペースを基板Ｗ一枚分の平面積未満に抑えることができるため、基板昇降移送装置５３の平面スペースを十分に削減して、工場のスペースの有効利用を図ることができる。
【００６９】
なお、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、その他、種々の態様で実施可能である。また、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】第１実施形態に係る基板処理移送システムの斜視図である。
【図２】第１実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。
【図３】第１実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。
【図４】図２におけるIV-IV線に沿った図である。
【図５】図２におけるV-V線に沿った図である。
【図６】第２実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。
【図７】第２実施形態に係る基板処理移送システムの動作を示す側断面図である。
【図８】図６におけるVIII-VIII線に沿った図である。
【図９】図６におけるIX-IX線に沿った図である。
【符号の説明】
【００７１】
１ 基板処理移送システム
３ 第１基板搬送処理装置
５ 第２基板搬送処理装置
７ 基板昇降移送装置
２９ 昇降ガイドフレーム
３１ 昇降体
３３ 昇降用モータ
３５ 基板受け部材
４３ 吸着パッド
４５ 揺動用モータ
４７ 基板処理移送システム
４９ 第１基板搬送処理装置
５１ 第２基板搬送処理装置
５３ 基板昇降移送装置
５５ 第１姿勢切替部材
６３ 第１姿勢切替用吸着パッド
６５ 第１姿勢切替用モータ
６７ 第２姿勢切替部材
７５ 第２姿勢切替用吸着パッド
７７ 第２姿勢切替用モータ
７９ 昇降ガイドフレーム
８１ 昇降ユニット
８７ 昇降用クランパ
８９ 昇降用モータ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第２基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、
前記第１基板処理装置の近傍に立設され、上下方向へ延びた昇降ガイドと、
前記昇降ガイドに昇降可能に設けられた昇降体と、
前記昇降体を昇降させる昇降用アクチュエータと、
前記昇降体に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する保持具を有し、揺動によって起立姿勢／倒伏姿勢に切り替わるように構成され、基板の受取り及び受渡しを行う基板受け部材と、
前記基板受け部材を揺動させる揺動用アクチュエータと、を備えたことを特徴とする基板昇降移送装置。
【請求項２】
下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第２基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、
前記第１基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第１姿勢切替用保持具を有し、基板の姿勢を倒伏姿勢／起立姿勢に切り替える第１姿勢切替部材と、
前記第１姿勢切替部材を揺動させる第１姿勢切替用アクチュエータと、
前記第２基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第２姿勢切替用保持具を有し、基板の姿勢を倒伏姿勢／起立姿勢に切り替える第２姿勢切替部材と、
前記第２姿勢切替部材を揺動させる第２姿勢切替用アクチュエータと、
前記第１姿勢切替部材の近傍に立設され、上下方向へ延びた昇降ガイドと、
前記昇降ガイドに昇降可能に設けられ、基板を保持する昇降用保持具を有した昇降ユニットと、
前記昇降ユニットを昇降させる昇降用アクチュエータと、を備えたことを特徴とする基板昇降移送装置。
【請求項３】
前記昇降用保持具は、前記第２姿勢切替部材に対して相対的に水平方向へ移動可能に構成されていることを特徴とする請求項２に記載の基板昇降移送装置。
【請求項４】
基板に対して処理及び昇降移送を行う基板処理移送システムにおいて、
下段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、
上段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第２基板処理装置と、
前記第１基板処理装置と前記第２基板処理装置の間で基板の昇降移送を行う請求項１から請求項３のうちのいずれかの請求項に記載の基板昇降移送装置と、を備えたことを特徴とする基板処理移送システム。
【請求項１】
下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第２基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、
前記第１基板処理装置の近傍に立設され、上下方向へ延びた昇降ガイドと、
前記昇降ガイドに昇降可能に設けられた昇降体と、
前記昇降体を昇降させる昇降用アクチュエータと、
前記昇降体に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する保持具を有し、揺動によって起立姿勢／倒伏姿勢に切り替わるように構成され、基板の受取り及び受渡しを行う基板受け部材と、
前記基板受け部材を揺動させる揺動用アクチュエータと、を備えたことを特徴とする基板昇降移送装置。
【請求項２】
下階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、上階フロアに配設されかつ基板に対して処理を行う第２基板処理装置との間で、基板の昇降移送を行う基板昇降移送装置において、
前記第１基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第１姿勢切替用保持具を有し、基板の姿勢を倒伏姿勢／起立姿勢に切り替える第１姿勢切替部材と、
前記第１姿勢切替部材を揺動させる第１姿勢切替用アクチュエータと、
前記第２基板処理装置の一側に水平な軸心周りに揺動可能に設けられ、基板を保持する第２姿勢切替用保持具を有し、基板の姿勢を倒伏姿勢／起立姿勢に切り替える第２姿勢切替部材と、
前記第２姿勢切替部材を揺動させる第２姿勢切替用アクチュエータと、
前記第１姿勢切替部材の近傍に立設され、上下方向へ延びた昇降ガイドと、
前記昇降ガイドに昇降可能に設けられ、基板を保持する昇降用保持具を有した昇降ユニットと、
前記昇降ユニットを昇降させる昇降用アクチュエータと、を備えたことを特徴とする基板昇降移送装置。
【請求項３】
前記昇降用保持具は、前記第２姿勢切替部材に対して相対的に水平方向へ移動可能に構成されていることを特徴とする請求項２に記載の基板昇降移送装置。
【請求項４】
基板に対して処理及び昇降移送を行う基板処理移送システムにおいて、
下段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第１基板処理装置と、
上段フロアに配設され、基板に対して処理を行う第２基板処理装置と、
前記第１基板処理装置と前記第２基板処理装置の間で基板の昇降移送を行う請求項１から請求項３のうちのいずれかの請求項に記載の基板昇降移送装置と、を備えたことを特徴とする基板処理移送システム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１０−２１２９２（Ｐ２０１０−２１２９２Ａ）
【公開日】平成２２年１月２８日（２０１０．１．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１７９５５４（Ｐ２００８−１７９５５４）
【出願日】平成２０年７月９日（２００８．７．９）
【出願人】（０００００００９９）株式会社ＩＨＩ (5,014)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１月２８日（２０１０．１．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年７月９日（２００８．７．９）
【出願人】（０００００００９９）株式会社ＩＨＩ (5,014)
【Ｆターム（参考）】
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