基板洗浄装置
【課題】基板を適切に洗浄可能な基板洗浄装置の提供。
【解決手段】基板洗浄装置２００のヘッド部２１０に、水Ｗを洗浄面１０２Ａに対して鋭角に噴出する状態で配置された第２の水噴出ノズル２２０と、クリーンエアＣを洗浄面１０２Ａに対して略垂直に噴出する状態で配置された第２のエア噴出ノズル２１６と、を設けている。このため、水Ｗの水圧で除去された被洗浄物を、クリーンエアＣの圧力によりミストＭにすることができる。さらに、クリーンエアＣでエアカーテンを形成することで、このエアカーテンよりも吸引口２１１Ａと反対側へのミストＭの飛散を防止できる。したがって、洗浄面１０２Ａに、洗浄領域と、非洗浄領域と、を区画する境界を確保することができ、洗浄領域のみを洗浄することができる。
【解決手段】基板洗浄装置２００のヘッド部２１０に、水Ｗを洗浄面１０２Ａに対して鋭角に噴出する状態で配置された第２の水噴出ノズル２２０と、クリーンエアＣを洗浄面１０２Ａに対して略垂直に噴出する状態で配置された第２のエア噴出ノズル２１６と、を設けている。このため、水Ｗの水圧で除去された被洗浄物を、クリーンエアＣの圧力によりミストＭにすることができる。さらに、クリーンエアＣでエアカーテンを形成することで、このエアカーテンよりも吸引口２１１Ａと反対側へのミストＭの飛散を防止できる。したがって、洗浄面１０２Ａに、洗浄領域と、非洗浄領域と、を区画する境界を確保することができ、洗浄領域のみを洗浄することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄液を噴出して基板を洗浄する基板洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、洗浄液を噴出して基板を洗浄する各種基板洗浄装置が知られている。そして、基板洗浄装置として、プラズマディスプレイパネルに用いられる基板を洗浄する構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この特許文献１に記載のものは、基板の周縁近傍を洗浄するものである。そして、洗浄工程では、洗浄面に対して略垂直に洗浄液を噴出するとともに、洗浄面に対して鋭角にクリーンエアを噴出することで、洗浄面上の被洗浄物を洗い流す。さらに、この洗い流された被洗浄物を、基板の周縁に位置する給気開口から吸気して回収する構成が採られている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−３８０８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のような構成では、洗浄面の洗浄領域と非洗浄領域との境界の確保が困難となり、洗浄に必要な部分のみを洗浄できないおそれがあるという問題点が一例として挙げられる。
【０００６】
本発明は、このような点などに鑑みて、基板を適切に洗浄可能な基板洗浄装置を提供することを１つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、基板に対して上側に設けられて洗浄液を前記基板に噴出する洗浄液供給部、および、気体を前記基板に噴出する気体供給部を備えたヘッド部と、このヘッド部が前記基板の面方向に略沿って移動する状態で前記ヘッド部および前記基板のうち少なくとも一方を相対的に移動させる移動制御部と、を具備し、前記洗浄液供給部は、前記基板の洗浄面に対して鋭角に前記洗浄液を噴出する様態で設けられ、前記気体供給部は、前記洗浄面に対して略垂直に前記気体を噴出する様態で設けられたことを特徴とする基板洗浄装置である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、本実施形態では、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）を構成する基板を洗浄する基板洗浄装置を例示して説明するが、この限りではなく、例えば液晶パネルや有機ＥＬ（Electro Luminescence）パネルなどの各種パネルを構成する基板、さらにはパネル自体を洗浄対象とすることができる。
【０００９】
［プラズマディスプレイパネル］
まず、本発明の一実施形態の基板洗浄装置で洗浄されるＰＤＰの構成について説明する。
図１は、ＰＤＰを示した分解斜視図である。
図１に示すように、ＰＤＰ１００は、放電空間１０１を介して互いに対向配置された前面基板１０２と背面基板１０３とを備えている。
【００１０】
前面基板１０２の内面側には、互いに平行に配設された複数の透明電極１０４と、この透明電極１０４に沿って設けられた図示しないバス電極と、吸光性材料からなる複数のブラックストライプ１０５と、誘電体層１０６と、保護層１０７と、などがそれぞれ設けられている。
背面基板１０３の内面側には、互いに平行に配設された複数のアドレス電極１０８と、アドレス電極保護層１０９と、井桁形状の隔壁１１０と、などがそれぞれ設けられている。
そして、隔壁１１０により形成された複数の表示セルとしての放電セル１１１の内部には、それぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体層１１２Ｒ，１１２Ｇ，１１２Ｂが順に形成されている。放電空間１０１の内部、すなわちそれぞれの放電セル１１１の内部は、ネオンガスなどの放電ガスが充填され、外気との間で密閉されている。
【００１１】
［基板洗浄装置の構成］
次に、ＰＤＰ１００の前面基板１０２の洗浄面１０２Ａや背面基板１０３の洗浄面を洗浄する基板洗浄装置について説明する。なお、ここでは、前面基板１０２を洗浄対象とした場合を例示して説明する。
図２は、基板洗浄装置の概略構成を示す平面図である。図３は、基板洗浄装置の概略構成を示す正面図である。図４は、基板洗浄装置の概略構成を示す下面図である。
【００１２】
図２〜図４に示すように、基板洗浄装置２００は、前面基板１０２の洗浄面１０２Ａにおける面内の洗浄領域１０２Ａ１を洗浄する。この基板洗浄装置２００は、洗浄領域１０２Ａ１を洗浄する例えば２個のヘッド部２１０と、この２個のヘッド部２１０を図２の矢印で示す方向（以下、ヘッド部移動方向と称す）に移動させる図示しない移動制御部と、ヘッド部２１０から噴出されるクリーンエアＣおよび水Ｗの噴出状態などを制御する図示しない洗浄制御部と、を備えている。
【００１３】
ヘッド部２１０は、図２〜図４に示すように、ヘッド本体２１１を有している。
このヘッド本体２１１は、平面視で略正方形の薄型の箱状に形成されている。そして、ヘッド本体２１１は、前面基板１０２の上方において、厚さ方向が洗浄面１０２Ａと略直交する状態で、移動制御部により支持されている。
このヘッド本体２１１の下面における一側縁側には、スリット状（ロ字状）の吸引口２１１Ａが開口形成されている。また、ヘッド本体２１１の下面における吸引口２１１Ａ側の縁には、下方に延出する状態で略板状の第１の遮蔽板２１２が取り付けられている。この第１の遮蔽板２１２は、その一面が洗浄面１０２Ａと略直交し、かつ、その延出先端が洗浄面１０２Ａの若干上方に位置する状態で取り付けられている。
また、ヘッド本体２１１の上面における略中央には、丸形状の排気排水口２１１Ｂが開口形成されている。そして、この排気排水口２１１Ｂの周縁には、円筒状の排気排水管２１３が連結されている。さらに、排気排水管２１３には、図示しない吸気部に連通するダクトが連結されている。
【００１４】
また、ヘッド本体２１１の吸引口２１１Ａ側の側面には、側方に延びるノズル支持部２１４が設けられている。このノズル支持部２１４は、平面視で略長方形の薄型の箱状に形成されている。
また、ノズル支持部２１４の下面には、ヘッド部移動方向の一側縁側から突出する気体供給部としての第１，第２のエア噴出ノズル２１５，２１６と、他側縁側から突出する気体供給部としての第３，第４のエア噴出ノズル２１７，２１８と、が設けられている。第３，第４のエア噴出ノズル２１７，２１８は、第１，第２のエア噴出ノズル２１５，２１６よりもヘッド本体２１１側に設けられている。
この第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８は、ヘッド部移動方向に並ぶ状態で設けられている。また、第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８は、その軸方向が洗浄面１０２Ａと略直交し、かつ、その突出先端が第１の遮蔽板２１２の延出先端よりも上方に位置する状態で設けられている。さらに、第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８は、ノズル支持部２１４の内部に位置する端部が図示しないエア供給部に接続されている。そして、洗浄制御部の制御により、図３に示すように、このエア供給部から供給される気体としてのクリーンエアＣを、洗浄面１０２Ａに対して略垂直に噴出して、エア吹きつけ位置Ｑ１に吹き付ける。
ここで、洗浄面１０２Ａに対して噴出する本発明の気体としては、空気や窒素などとしてもよい。
【００１５】
さらに、ノズル支持部２１４の下面には、図２〜図４に示すように、第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８のそれぞれに対して吸引口２１１Ａと反対側に配置された洗浄液供給部としての第１〜第４の水噴出ノズル２１９〜２２２が設けられている。第３，第４の水噴出ノズル２２１，２２２は、第１，第２の水噴出ノズル２１９，２２０よりもヘッド本体２１１側に設けられている。
この第１〜第４の水噴出ノズル２１９〜２２２は、その軸方向が洗浄面１０２Ａとのなす角度が鋭角となる状態で突出し、かつ、その突出先端が第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８の突出先端近傍に位置する状態で設けられている。また、第１〜第４の水噴出ノズル２１９〜２２２は、ノズル支持部２１４の内部に位置する端部が図示しない水供給部に接続されている。そして、洗浄制御部の制御により、図３に示すように、この水供給部から供給される洗浄液としての水Ｗを、洗浄面１０２Ａに対して鋭角に噴出して、クリーンエアＣのエア吹きつけ位置Ｑ１よりも吸引口２１１Ａ側の水吹きつけ位置Ｑ２に吹き付ける。
ここで、洗浄面１０２Ａに対して噴出する本発明の洗浄液としては、洗剤などとしてもよい。
【００１６】
また、ノズル支持部２１４の下面には、第１〜第４の水噴出ノズル２１９〜２２２に対して第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８と反対側に配置された第２の遮蔽板２２３が設けられている。この第２の遮蔽板２２３は、略板状に形成されている。そして、その一面が洗浄面１０２Ａと略直交するように下方に延出する状態で、かつ、その延出先端が洗浄面１０２Ａの若干上方に位置する状態で取り付けられている。
【００１７】
そして、２個のヘッド部２１０は、図２に示すように、ヘッド部移動方向に並び、かつ、それぞれにおけるクリーンエアＣの噴出位置がヘッド部移動方向に沿った仮想線Ｌを挟むような状態で設けられている。
【００１８】
［基板洗浄装置の動作］
次に、上述した基板洗浄装置２００の動作について説明する。
【００１９】
まず、前面基板１０２が図示しない基板載置部に載置されると、移動制御部は、２個のヘッド部２１０を同時に前面基板１０２の上方へ移動させる。
次に、洗浄制御部は、図３に示すように、洗浄面１０２Ａに向けて、第１〜第４の水噴出ノズル２１９〜２２２から水Ｗを噴出させるとともに、第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８からクリーンエアＣを噴出させる。さらに、吸気部を動作させて、吸引口２１１Ａを介して、吸引口２１１Ａ近傍の空気を吸気させる。
そして、移動制御部は、ヘッド部２１０をヘッド部移動方向に沿って移動させる。
【００２０】
このとき、洗浄面１０２Ａの洗浄領域１０２Ａ１に付着した被洗浄物は、水Ｗの水圧により除去される。さらに、この除去された被洗浄物は、クリーンエアＣの圧力により、水ＷとともにミストＭになる。そして、このミストＭは、吸引口２１１Ａ、排気排水口２１１Ｂ、排気排水管２１３を介して、吸引されて除去される。
また、ミストＭが図３における右側に飛散しても、このミストＭは、第１の遮蔽板２１２に付着して、吸引口２１１Ａから吸引される。このため、第１の遮蔽板２１２よりも右側へミストＭが飛散することがなく、この右側の領域における被洗浄物の再付着を防止できる。
なお、被洗浄物としては、粉やペーストなどが例示できる。
【００２１】
また、第１，第２のエア噴出ノズル２１５，２１６から洗浄面１０２Ａに対して略垂直に噴出されるクリーンエアＣにより、第１，第２のエア噴出ノズル２１５，２１６の先端からエア吹きつけ位置Ｑ１にかけて、いわゆるエアカーテンが形成される。そして、ミストＭは、エアカーテンよりも吸引口２１１Ａと反対側（図２、図３における左側）へ飛散しなくなる。これにより、洗浄面１０２Ａに境界Ｋが発生し、この境界Ｋよりも吸引口２１１Ａ側が洗浄領域１０２Ａ１として、吸引口２１１Ａと反対側が非洗浄領域１０２Ａ２として確保される。
【００２２】
さらに、第２の遮蔽板２２３を設けているので、ミストＭは、第２の遮蔽板２２３よりも図３における左側へ飛散することがない。よって、非洗浄領域１０２Ａ２におけるむらの発生を防止できる。
【００２３】
また、２個のヘッド部２１０を、それぞれにおけるクリーンエアＣの噴出位置が仮想線Ｌを挟むような状態で設けているので、図２に示すように、前面基板１０２の中央部分が洗浄領域１０２Ａ１として、外側部分が非洗浄領域１０２Ａ２として設定される。
【００２４】
［基板洗浄装置の作用効果］
以上の基板洗浄装置２００の製造方法によれば、以下の作用効果が期待できる。
【００２５】
（１）基板洗浄装置２００のヘッド部２１０に、水Ｗを洗浄面１０２Ａに対して鋭角に噴出する状態で配置された第１，第２の水噴出ノズル２１９，２２０と、クリーンエアＣを洗浄面１０２Ａに対して略垂直に噴出する状態で配置された第１，第２のエア噴出ノズル２１５，２１６と、を設けている。
このため、水Ｗの水圧で除去された被洗浄物を、クリーンエアＣの圧力によりミストＭにすることができる。さらに、クリーンエアＣでエアカーテンを形成することで、このエアカーテンよりも吸引口２１１Ａと反対側へのミストＭの飛散を防止できる。したがって、洗浄面１０２Ａに、洗浄領域１０２Ａ１と、非洗浄領域１０２Ａ２とを区画する境界Ｋを確保することができ、洗浄領域１０２Ａ１のみを洗浄することができる。
【００２６】
（２）ヘッド部２１０に、前面基板１０２の上方に位置する状態で吸引口２１１Ａを設けている。
このため、除去された被洗浄物や水ＷのミストＭを前面基板１０２の上方へ吸引することができ、例えば吸引口を前面基板１０２の側方に設ける構成のように、洗浄領域１０２Ａ１における吸引口が位置する側の部分がミストＭで汚染されることがない。したがって、洗浄領域１０２Ａ１における洗浄むらを防止できる。
【００２７】
（３）ヘッド本体２１１における吸引口２１１Ａ側の縁に、下方に延出する第１の遮蔽板２１２を設けている。
このため、ミストＭを第１の遮蔽板２１２に付着させて、吸引口２１１Ａから吸引させることができる、したがって、第１の遮蔽板２１２よりも右側における被洗浄物の再付着を防止でき、洗浄領域１０２Ａ１における洗浄むらの発生を防止できる。
特に、ヘッド本体２１１の下面の縁に第１の遮蔽板２１２を設けているので、縁から離れた位置に第１の遮蔽板２１２を設ける構成のように、ヘッド本体２１１の下面にミストＭが付着することがない。したがって、ヘッド本体２１１の下面に付着したミストＭが水滴となり、洗浄領域１０２Ａ１に再付着することを防止できる。
【００２８】
（４）２個のヘッド部２１０を、ヘッド部移動方向に並び、かつ、それぞれにおけるクリーンエアＣの噴出位置が仮想線Ｌを挟むような状態で設けられている。
このため、洗浄面１０２Ａの中央部分を洗浄領域１０２Ａ１に、外側部分を非洗浄領域１０２Ａ２に設定することができ、前面基板１０２の用途に応じて適切に洗浄することができる。さらに、２個のヘッド部２１０の配置位置を仮想線Ｌに対して接離する方向へ調整することにより、洗浄領域１０２Ａ１の幅を任意に設定することができる。
【００２９】
（５）ヘッド部２１０に、第２の遮蔽板２２３を設けている。
このため、ミストＭを第２の遮蔽板２２３よりも左側へ飛散させることがないので、非洗浄領域１０２Ａ２におけるむらの発生を防止できる。
【００３０】
（６）吸引口２１１Ａを、スリット状に形成している。
このため、スリット状の開口面積を任意に設定することにより、吸引力や吸引面積を容易に調整することができる。特に、スリット状にしているので、吸気部の吸引力を強くしなくても、吸引口２１１Ａにおける吸引力を強めることができる。
【００３１】
［他の実施形態］
なお、本発明は前述の一実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
【００３２】
すなわち、ヘッド部２１０に吸引口２１１Ａを設けなくてもよい。
また、第１，第２の遮蔽板２１２，２２３のうち、少なくとも一方を設けなくてもよい。
そして、第１の遮蔽板２１２を、ヘッド本体２１１の下面の縁から離れた位置に設けてもよい。
さらに、ヘッド部２１０を１個のみ設けてもよいし、ヘッド部移動方向に沿って３個以上設けてもよい。また、複数のヘッド部２１０を、ヘッド部移動方向と直交する方向に並べて設けてもよい。
【００３３】
さらに、第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８のうち、１個または２個あるいは３個を設けなくてもよい。第１〜第４の水噴出ノズル２１９〜２２２も同様にしてもよい。
そして、ヘッド部２１０および前面基板１０２のうちヘッド部２１０のみを移動させたが、前面基板１０２のみを移動させてもよいし、両者を移動させてもよい。
【００３４】
また、基板洗浄装置２００の洗浄対象としては、液晶表示パネル、有機ＥＬパネル、ＦＥＤ、電気泳動ディスプレイパネルなどのディスプレイパネルのガラス基板などとしてもよい。
さらには、境界Ｋを形成できることから、本発明の基板洗浄装置を、基板上に形成された材料層のパターニングに適用してもよい。
【００３５】
その他、本発明の実施の際の具体的な構造および手順は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造などに適宜変更できる。
【００３６】
［実施形態の作用効果］
上記したように、基板洗浄装置２００のヘッド部２１０に、水Ｗを洗浄面１０２Ａに対して鋭角に噴出する状態で配置された第１，第２の水噴出ノズル２１９，２２０と、クリーンエアＣを洗浄面１０２Ａに対して略垂直に噴出する状態で配置された第１，第２のエア噴出ノズル２１５，２１６と、を設けている。
このため、水Ｗの水圧で除去された被洗浄物を、クリーンエアＣの圧力によりミストＭにすることができる。さらに、クリーンエアＣでエアカーテンを形成することで、このエアカーテンよりも吸引口２１１Ａと反対側へのミストＭの飛散を防止できる。したがって、洗浄面１０２Ａに、洗浄領域１０２Ａ１と、非洗浄領域１０２Ａ２と、を区画する境界Ｋを確保することができ、洗浄領域１０２Ａ１のみを洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の一実施形態にかかるＰＤＰを示した分解斜視図である。
【図２】前記一実施形態における基板洗浄装置の概略構成を示す平面図である。
【図３】前記一実施形態における基板洗浄装置の概略構成を示す正面図である。
【図４】前記一実施形態における基板洗浄装置の概略構成を示す下面図である。
【符号の説明】
【００３８】
１０２…前面基板
１０３…背面基板
２００…基板洗浄装置
２１０…ヘッド部
２１１Ａ…吸引口
２１２…第１の遮蔽板
２１５〜２１８…気体供給部としての第１〜第４のエア噴出ノズル
２１９〜２２２…洗浄液供給部としての第１〜第４の水噴出ノズル
Ｃ…気体としてのクリーンエア
Ｗ…洗浄液としての水
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄液を噴出して基板を洗浄する基板洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、洗浄液を噴出して基板を洗浄する各種基板洗浄装置が知られている。そして、基板洗浄装置として、プラズマディスプレイパネルに用いられる基板を洗浄する構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
この特許文献１に記載のものは、基板の周縁近傍を洗浄するものである。そして、洗浄工程では、洗浄面に対して略垂直に洗浄液を噴出するとともに、洗浄面に対して鋭角にクリーンエアを噴出することで、洗浄面上の被洗浄物を洗い流す。さらに、この洗い流された被洗浄物を、基板の周縁に位置する給気開口から吸気して回収する構成が採られている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−３８０８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のような構成では、洗浄面の洗浄領域と非洗浄領域との境界の確保が困難となり、洗浄に必要な部分のみを洗浄できないおそれがあるという問題点が一例として挙げられる。
【０００６】
本発明は、このような点などに鑑みて、基板を適切に洗浄可能な基板洗浄装置を提供することを１つの目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、基板に対して上側に設けられて洗浄液を前記基板に噴出する洗浄液供給部、および、気体を前記基板に噴出する気体供給部を備えたヘッド部と、このヘッド部が前記基板の面方向に略沿って移動する状態で前記ヘッド部および前記基板のうち少なくとも一方を相対的に移動させる移動制御部と、を具備し、前記洗浄液供給部は、前記基板の洗浄面に対して鋭角に前記洗浄液を噴出する様態で設けられ、前記気体供給部は、前記洗浄面に対して略垂直に前記気体を噴出する様態で設けられたことを特徴とする基板洗浄装置である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。
なお、本実施形態では、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）を構成する基板を洗浄する基板洗浄装置を例示して説明するが、この限りではなく、例えば液晶パネルや有機ＥＬ（Electro Luminescence）パネルなどの各種パネルを構成する基板、さらにはパネル自体を洗浄対象とすることができる。
【０００９】
［プラズマディスプレイパネル］
まず、本発明の一実施形態の基板洗浄装置で洗浄されるＰＤＰの構成について説明する。
図１は、ＰＤＰを示した分解斜視図である。
図１に示すように、ＰＤＰ１００は、放電空間１０１を介して互いに対向配置された前面基板１０２と背面基板１０３とを備えている。
【００１０】
前面基板１０２の内面側には、互いに平行に配設された複数の透明電極１０４と、この透明電極１０４に沿って設けられた図示しないバス電極と、吸光性材料からなる複数のブラックストライプ１０５と、誘電体層１０６と、保護層１０７と、などがそれぞれ設けられている。
背面基板１０３の内面側には、互いに平行に配設された複数のアドレス電極１０８と、アドレス電極保護層１０９と、井桁形状の隔壁１１０と、などがそれぞれ設けられている。
そして、隔壁１１０により形成された複数の表示セルとしての放電セル１１１の内部には、それぞれ赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３原色の蛍光体層１１２Ｒ，１１２Ｇ，１１２Ｂが順に形成されている。放電空間１０１の内部、すなわちそれぞれの放電セル１１１の内部は、ネオンガスなどの放電ガスが充填され、外気との間で密閉されている。
【００１１】
［基板洗浄装置の構成］
次に、ＰＤＰ１００の前面基板１０２の洗浄面１０２Ａや背面基板１０３の洗浄面を洗浄する基板洗浄装置について説明する。なお、ここでは、前面基板１０２を洗浄対象とした場合を例示して説明する。
図２は、基板洗浄装置の概略構成を示す平面図である。図３は、基板洗浄装置の概略構成を示す正面図である。図４は、基板洗浄装置の概略構成を示す下面図である。
【００１２】
図２〜図４に示すように、基板洗浄装置２００は、前面基板１０２の洗浄面１０２Ａにおける面内の洗浄領域１０２Ａ１を洗浄する。この基板洗浄装置２００は、洗浄領域１０２Ａ１を洗浄する例えば２個のヘッド部２１０と、この２個のヘッド部２１０を図２の矢印で示す方向（以下、ヘッド部移動方向と称す）に移動させる図示しない移動制御部と、ヘッド部２１０から噴出されるクリーンエアＣおよび水Ｗの噴出状態などを制御する図示しない洗浄制御部と、を備えている。
【００１３】
ヘッド部２１０は、図２〜図４に示すように、ヘッド本体２１１を有している。
このヘッド本体２１１は、平面視で略正方形の薄型の箱状に形成されている。そして、ヘッド本体２１１は、前面基板１０２の上方において、厚さ方向が洗浄面１０２Ａと略直交する状態で、移動制御部により支持されている。
このヘッド本体２１１の下面における一側縁側には、スリット状（ロ字状）の吸引口２１１Ａが開口形成されている。また、ヘッド本体２１１の下面における吸引口２１１Ａ側の縁には、下方に延出する状態で略板状の第１の遮蔽板２１２が取り付けられている。この第１の遮蔽板２１２は、その一面が洗浄面１０２Ａと略直交し、かつ、その延出先端が洗浄面１０２Ａの若干上方に位置する状態で取り付けられている。
また、ヘッド本体２１１の上面における略中央には、丸形状の排気排水口２１１Ｂが開口形成されている。そして、この排気排水口２１１Ｂの周縁には、円筒状の排気排水管２１３が連結されている。さらに、排気排水管２１３には、図示しない吸気部に連通するダクトが連結されている。
【００１４】
また、ヘッド本体２１１の吸引口２１１Ａ側の側面には、側方に延びるノズル支持部２１４が設けられている。このノズル支持部２１４は、平面視で略長方形の薄型の箱状に形成されている。
また、ノズル支持部２１４の下面には、ヘッド部移動方向の一側縁側から突出する気体供給部としての第１，第２のエア噴出ノズル２１５，２１６と、他側縁側から突出する気体供給部としての第３，第４のエア噴出ノズル２１７，２１８と、が設けられている。第３，第４のエア噴出ノズル２１７，２１８は、第１，第２のエア噴出ノズル２１５，２１６よりもヘッド本体２１１側に設けられている。
この第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８は、ヘッド部移動方向に並ぶ状態で設けられている。また、第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８は、その軸方向が洗浄面１０２Ａと略直交し、かつ、その突出先端が第１の遮蔽板２１２の延出先端よりも上方に位置する状態で設けられている。さらに、第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８は、ノズル支持部２１４の内部に位置する端部が図示しないエア供給部に接続されている。そして、洗浄制御部の制御により、図３に示すように、このエア供給部から供給される気体としてのクリーンエアＣを、洗浄面１０２Ａに対して略垂直に噴出して、エア吹きつけ位置Ｑ１に吹き付ける。
ここで、洗浄面１０２Ａに対して噴出する本発明の気体としては、空気や窒素などとしてもよい。
【００１５】
さらに、ノズル支持部２１４の下面には、図２〜図４に示すように、第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８のそれぞれに対して吸引口２１１Ａと反対側に配置された洗浄液供給部としての第１〜第４の水噴出ノズル２１９〜２２２が設けられている。第３，第４の水噴出ノズル２２１，２２２は、第１，第２の水噴出ノズル２１９，２２０よりもヘッド本体２１１側に設けられている。
この第１〜第４の水噴出ノズル２１９〜２２２は、その軸方向が洗浄面１０２Ａとのなす角度が鋭角となる状態で突出し、かつ、その突出先端が第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８の突出先端近傍に位置する状態で設けられている。また、第１〜第４の水噴出ノズル２１９〜２２２は、ノズル支持部２１４の内部に位置する端部が図示しない水供給部に接続されている。そして、洗浄制御部の制御により、図３に示すように、この水供給部から供給される洗浄液としての水Ｗを、洗浄面１０２Ａに対して鋭角に噴出して、クリーンエアＣのエア吹きつけ位置Ｑ１よりも吸引口２１１Ａ側の水吹きつけ位置Ｑ２に吹き付ける。
ここで、洗浄面１０２Ａに対して噴出する本発明の洗浄液としては、洗剤などとしてもよい。
【００１６】
また、ノズル支持部２１４の下面には、第１〜第４の水噴出ノズル２１９〜２２２に対して第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８と反対側に配置された第２の遮蔽板２２３が設けられている。この第２の遮蔽板２２３は、略板状に形成されている。そして、その一面が洗浄面１０２Ａと略直交するように下方に延出する状態で、かつ、その延出先端が洗浄面１０２Ａの若干上方に位置する状態で取り付けられている。
【００１７】
そして、２個のヘッド部２１０は、図２に示すように、ヘッド部移動方向に並び、かつ、それぞれにおけるクリーンエアＣの噴出位置がヘッド部移動方向に沿った仮想線Ｌを挟むような状態で設けられている。
【００１８】
［基板洗浄装置の動作］
次に、上述した基板洗浄装置２００の動作について説明する。
【００１９】
まず、前面基板１０２が図示しない基板載置部に載置されると、移動制御部は、２個のヘッド部２１０を同時に前面基板１０２の上方へ移動させる。
次に、洗浄制御部は、図３に示すように、洗浄面１０２Ａに向けて、第１〜第４の水噴出ノズル２１９〜２２２から水Ｗを噴出させるとともに、第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８からクリーンエアＣを噴出させる。さらに、吸気部を動作させて、吸引口２１１Ａを介して、吸引口２１１Ａ近傍の空気を吸気させる。
そして、移動制御部は、ヘッド部２１０をヘッド部移動方向に沿って移動させる。
【００２０】
このとき、洗浄面１０２Ａの洗浄領域１０２Ａ１に付着した被洗浄物は、水Ｗの水圧により除去される。さらに、この除去された被洗浄物は、クリーンエアＣの圧力により、水ＷとともにミストＭになる。そして、このミストＭは、吸引口２１１Ａ、排気排水口２１１Ｂ、排気排水管２１３を介して、吸引されて除去される。
また、ミストＭが図３における右側に飛散しても、このミストＭは、第１の遮蔽板２１２に付着して、吸引口２１１Ａから吸引される。このため、第１の遮蔽板２１２よりも右側へミストＭが飛散することがなく、この右側の領域における被洗浄物の再付着を防止できる。
なお、被洗浄物としては、粉やペーストなどが例示できる。
【００２１】
また、第１，第２のエア噴出ノズル２１５，２１６から洗浄面１０２Ａに対して略垂直に噴出されるクリーンエアＣにより、第１，第２のエア噴出ノズル２１５，２１６の先端からエア吹きつけ位置Ｑ１にかけて、いわゆるエアカーテンが形成される。そして、ミストＭは、エアカーテンよりも吸引口２１１Ａと反対側（図２、図３における左側）へ飛散しなくなる。これにより、洗浄面１０２Ａに境界Ｋが発生し、この境界Ｋよりも吸引口２１１Ａ側が洗浄領域１０２Ａ１として、吸引口２１１Ａと反対側が非洗浄領域１０２Ａ２として確保される。
【００２２】
さらに、第２の遮蔽板２２３を設けているので、ミストＭは、第２の遮蔽板２２３よりも図３における左側へ飛散することがない。よって、非洗浄領域１０２Ａ２におけるむらの発生を防止できる。
【００２３】
また、２個のヘッド部２１０を、それぞれにおけるクリーンエアＣの噴出位置が仮想線Ｌを挟むような状態で設けているので、図２に示すように、前面基板１０２の中央部分が洗浄領域１０２Ａ１として、外側部分が非洗浄領域１０２Ａ２として設定される。
【００２４】
［基板洗浄装置の作用効果］
以上の基板洗浄装置２００の製造方法によれば、以下の作用効果が期待できる。
【００２５】
（１）基板洗浄装置２００のヘッド部２１０に、水Ｗを洗浄面１０２Ａに対して鋭角に噴出する状態で配置された第１，第２の水噴出ノズル２１９，２２０と、クリーンエアＣを洗浄面１０２Ａに対して略垂直に噴出する状態で配置された第１，第２のエア噴出ノズル２１５，２１６と、を設けている。
このため、水Ｗの水圧で除去された被洗浄物を、クリーンエアＣの圧力によりミストＭにすることができる。さらに、クリーンエアＣでエアカーテンを形成することで、このエアカーテンよりも吸引口２１１Ａと反対側へのミストＭの飛散を防止できる。したがって、洗浄面１０２Ａに、洗浄領域１０２Ａ１と、非洗浄領域１０２Ａ２とを区画する境界Ｋを確保することができ、洗浄領域１０２Ａ１のみを洗浄することができる。
【００２６】
（２）ヘッド部２１０に、前面基板１０２の上方に位置する状態で吸引口２１１Ａを設けている。
このため、除去された被洗浄物や水ＷのミストＭを前面基板１０２の上方へ吸引することができ、例えば吸引口を前面基板１０２の側方に設ける構成のように、洗浄領域１０２Ａ１における吸引口が位置する側の部分がミストＭで汚染されることがない。したがって、洗浄領域１０２Ａ１における洗浄むらを防止できる。
【００２７】
（３）ヘッド本体２１１における吸引口２１１Ａ側の縁に、下方に延出する第１の遮蔽板２１２を設けている。
このため、ミストＭを第１の遮蔽板２１２に付着させて、吸引口２１１Ａから吸引させることができる、したがって、第１の遮蔽板２１２よりも右側における被洗浄物の再付着を防止でき、洗浄領域１０２Ａ１における洗浄むらの発生を防止できる。
特に、ヘッド本体２１１の下面の縁に第１の遮蔽板２１２を設けているので、縁から離れた位置に第１の遮蔽板２１２を設ける構成のように、ヘッド本体２１１の下面にミストＭが付着することがない。したがって、ヘッド本体２１１の下面に付着したミストＭが水滴となり、洗浄領域１０２Ａ１に再付着することを防止できる。
【００２８】
（４）２個のヘッド部２１０を、ヘッド部移動方向に並び、かつ、それぞれにおけるクリーンエアＣの噴出位置が仮想線Ｌを挟むような状態で設けられている。
このため、洗浄面１０２Ａの中央部分を洗浄領域１０２Ａ１に、外側部分を非洗浄領域１０２Ａ２に設定することができ、前面基板１０２の用途に応じて適切に洗浄することができる。さらに、２個のヘッド部２１０の配置位置を仮想線Ｌに対して接離する方向へ調整することにより、洗浄領域１０２Ａ１の幅を任意に設定することができる。
【００２９】
（５）ヘッド部２１０に、第２の遮蔽板２２３を設けている。
このため、ミストＭを第２の遮蔽板２２３よりも左側へ飛散させることがないので、非洗浄領域１０２Ａ２におけるむらの発生を防止できる。
【００３０】
（６）吸引口２１１Ａを、スリット状に形成している。
このため、スリット状の開口面積を任意に設定することにより、吸引力や吸引面積を容易に調整することができる。特に、スリット状にしているので、吸気部の吸引力を強くしなくても、吸引口２１１Ａにおける吸引力を強めることができる。
【００３１】
［他の実施形態］
なお、本発明は前述の一実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
【００３２】
すなわち、ヘッド部２１０に吸引口２１１Ａを設けなくてもよい。
また、第１，第２の遮蔽板２１２，２２３のうち、少なくとも一方を設けなくてもよい。
そして、第１の遮蔽板２１２を、ヘッド本体２１１の下面の縁から離れた位置に設けてもよい。
さらに、ヘッド部２１０を１個のみ設けてもよいし、ヘッド部移動方向に沿って３個以上設けてもよい。また、複数のヘッド部２１０を、ヘッド部移動方向と直交する方向に並べて設けてもよい。
【００３３】
さらに、第１〜第４のエア噴出ノズル２１５〜２１８のうち、１個または２個あるいは３個を設けなくてもよい。第１〜第４の水噴出ノズル２１９〜２２２も同様にしてもよい。
そして、ヘッド部２１０および前面基板１０２のうちヘッド部２１０のみを移動させたが、前面基板１０２のみを移動させてもよいし、両者を移動させてもよい。
【００３４】
また、基板洗浄装置２００の洗浄対象としては、液晶表示パネル、有機ＥＬパネル、ＦＥＤ、電気泳動ディスプレイパネルなどのディスプレイパネルのガラス基板などとしてもよい。
さらには、境界Ｋを形成できることから、本発明の基板洗浄装置を、基板上に形成された材料層のパターニングに適用してもよい。
【００３５】
その他、本発明の実施の際の具体的な構造および手順は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造などに適宜変更できる。
【００３６】
［実施形態の作用効果］
上記したように、基板洗浄装置２００のヘッド部２１０に、水Ｗを洗浄面１０２Ａに対して鋭角に噴出する状態で配置された第１，第２の水噴出ノズル２１９，２２０と、クリーンエアＣを洗浄面１０２Ａに対して略垂直に噴出する状態で配置された第１，第２のエア噴出ノズル２１５，２１６と、を設けている。
このため、水Ｗの水圧で除去された被洗浄物を、クリーンエアＣの圧力によりミストＭにすることができる。さらに、クリーンエアＣでエアカーテンを形成することで、このエアカーテンよりも吸引口２１１Ａと反対側へのミストＭの飛散を防止できる。したがって、洗浄面１０２Ａに、洗浄領域１０２Ａ１と、非洗浄領域１０２Ａ２と、を区画する境界Ｋを確保することができ、洗浄領域１０２Ａ１のみを洗浄することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の一実施形態にかかるＰＤＰを示した分解斜視図である。
【図２】前記一実施形態における基板洗浄装置の概略構成を示す平面図である。
【図３】前記一実施形態における基板洗浄装置の概略構成を示す正面図である。
【図４】前記一実施形態における基板洗浄装置の概略構成を示す下面図である。
【符号の説明】
【００３８】
１０２…前面基板
１０３…背面基板
２００…基板洗浄装置
２１０…ヘッド部
２１１Ａ…吸引口
２１２…第１の遮蔽板
２１５〜２１８…気体供給部としての第１〜第４のエア噴出ノズル
２１９〜２２２…洗浄液供給部としての第１〜第４の水噴出ノズル
Ｃ…気体としてのクリーンエア
Ｗ…洗浄液としての水
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に対して上側に設けられて洗浄液を前記基板に噴出する洗浄液供給部、および、気体を前記基板に噴出する気体供給部を備えたヘッド部と、
このヘッド部が前記基板の面方向に略沿って移動する状態で前記ヘッド部および前記基板のうち少なくとも一方を相対的に移動させる移動制御部と、
を具備し、
前記洗浄液供給部は、前記基板の洗浄面に対して鋭角に前記洗浄液を噴出する様態で設けられ、
前記気体供給部は、前記洗浄面に対して略垂直に前記気体を噴出する様態で設けられた
ことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板洗浄装置において、
前記ヘッド部は、前記基板の洗浄後の洗浄液を吸引する吸引口を備え、
この吸引口は、前記基板に対して上側に設けられた
ことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板洗浄装置において、
前記洗浄液供給部および前記気体供給部は、前記吸引口に対して一方側に設けられ、
前記ヘッド部は、前記吸引口に対して他方側に設けられた遮蔽板を備え、
この遮蔽板は、前記基板の洗浄面に対して略垂直な状態で、かつ、前記吸引口の周縁に略沿った状態で設けられた
ことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項４】
請求項１に記載の基板洗浄装置において、
前記ヘッド部は、前記相対的な移動方向に略沿って複数配置され、
この複数のヘッド部は、前記気体の噴出位置が前記移動方向に沿った仮想線を挟む状態で配置された
ことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項１】
基板に対して上側に設けられて洗浄液を前記基板に噴出する洗浄液供給部、および、気体を前記基板に噴出する気体供給部を備えたヘッド部と、
このヘッド部が前記基板の面方向に略沿って移動する状態で前記ヘッド部および前記基板のうち少なくとも一方を相対的に移動させる移動制御部と、
を具備し、
前記洗浄液供給部は、前記基板の洗浄面に対して鋭角に前記洗浄液を噴出する様態で設けられ、
前記気体供給部は、前記洗浄面に対して略垂直に前記気体を噴出する様態で設けられた
ことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板洗浄装置において、
前記ヘッド部は、前記基板の洗浄後の洗浄液を吸引する吸引口を備え、
この吸引口は、前記基板に対して上側に設けられた
ことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板洗浄装置において、
前記洗浄液供給部および前記気体供給部は、前記吸引口に対して一方側に設けられ、
前記ヘッド部は、前記吸引口に対して他方側に設けられた遮蔽板を備え、
この遮蔽板は、前記基板の洗浄面に対して略垂直な状態で、かつ、前記吸引口の周縁に略沿った状態で設けられた
ことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項４】
請求項１に記載の基板洗浄装置において、
前記ヘッド部は、前記相対的な移動方向に略沿って複数配置され、
この複数のヘッド部は、前記気体の噴出位置が前記移動方向に沿った仮想線を挟む状態で配置された
ことを特徴とする基板洗浄装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００９−１３６７４２（Ｐ２００９−１３６７４２Ａ）
【公開日】平成２１年６月２５日（２００９．６．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３１４３９５（Ｐ２００７−３１４３９５）
【出願日】平成１９年１２月５日（２００７．１２．５）
【出願人】（０００００５０１６）パイオニア株式会社 (3,620)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年６月２５日（２００９．６．２５）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１２月５日（２００７．１２．５）
【出願人】（０００００５０１６）パイオニア株式会社 (3,620)
【Ｆターム（参考）】
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