説明

多孔質膜のウィルス除去率評価方法

【課題】ウィルス除去性能を有する多孔質膜のウィルス除去性能を評価するに際し、膜素材等の条件に限定されることなく、かつ、簡便にウィルス除去性能をより正確に検査することを目的とする多孔質膜の評価手法を提供することを目的とする。
【解決手段】 下記の工程(1)〜(3)からなる多孔質膜のウィルス除去率評価方法を採用する。
工程(1):分子量が既知の有色デキストランを溶媒に分散しデキストラン標準溶液を作製する溶液調整工程
工程(2):評価される多孔質膜を用いて前記デキストラン標準溶液をろ過し、該デキストラン溶液を透過したろ液を採取するろ過工程
工程(3):前記標準溶液及びろ液それぞれの吸光度を測定することにより、多孔質膜のデキストラン除去率を求め、さらにその値からウイルス除去率を換算する測定工程

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、浄水処理や再生水処理等に用いる多孔質膜のウィルス除去率評価方法に関するものである。本発明により、MS2ファージなどのウィルスを除去率を簡便に推測することが可能である。
【背景技術】
【0002】
近年、上下水の除濁や高次処理、工業排水の清澄化などの浄水分野において多孔質膜を使用した多孔質膜モジュールが導入されるようになっている。これらの多孔質膜モジュールには、使用される多孔質膜には、限外ろ過膜が特に高いウィルス除去性能が要求性能を満たすとして好ましく用いられる(例えば、非特許文献1)。
【0003】
従来、ウィルス除去性能が要求される多孔質膜の性能評価手法としては、MS2ファージを用いた除去率測定が知られている(非特許文献2)。MS2ファージを用いた除去率測定より、ウィルス除去率の性能としては対数除去係数(Logarithmic Reduction Value:LRV)が用いられることが多く、例えば多孔質膜のウィルス除去性能としてLRVが4以上というようなウィルス除去性能が要求される。しかしながら、MS2ファージを用いたウィルス除去率測定はウィルスの培養が難しく、取扱いも極めて困難であるといった問題がある(特許文献1)。
【0004】
一方、ウィルス除去性能を有する多孔質膜においては、既に代替粒子を用いた膜のインテグリティ試験方法が開示されている。インテグリティ試験とは、タンパクや生理活性物質等を含む溶液の中からウィルスを除去する目的で使用されるウィルス除去膜の使用後(場合によっては、使用前の)の性能確認のために行われる試験のことである。インテグリティ試験として、(a)バブルポイント法、(b)膜が有する孔径分布の大きい孔の割合を測定する方法(例えば、液体−液体の低い界面張力を利用する方法)、(c)代替粒子の濾過による方法がすでに知られている(特許文献2)。
【0005】
特許文献2にも記載のとおり、(a)バブルポイント方法の測定原理は、気体−液体の表面張力差を利用し、気体圧力かけ最初に気泡が発生した圧力をバブルポイント値と定義するものである。従って、膜の孔のうち一番大きな孔を検出するものであり、孔数の割合など孔の分布に対しては考慮されておらず、ウィルス除去率との対応が必ずしも良好でなく、膜によってはバブルポイントまで圧を上昇する前に膜が物理的に破損するといった欠点がある。
【0006】
一方、(b)膜が有する孔径分布の大きい孔の割合を測定する方法(例えば、液体−液体の低い界面張力を利用する方法)も種々知られているが、前述のバブルポイント圧を用いて、下式(1)を用いて孔径を算出する方法が知られている(非特許文献1)。
【式1】
【0007】

(ここで、D:細孔径[m]、P:バブルポイント圧[Pa]、γ:液体の表面圧力[N/m]、θ:接触角[rad]である。)

ここで、気泡が放出される瞬間はθ=0となるため、式(1)は、式(2)のようになる。
【式2】
【0008】

【0009】
すなわち、式(1)及び式(2)によれば、微細な孔からの気泡を放出するには、高い圧力をかけなければならないという問題が生じる。特に、ウィルス除去性能を有する膜の場合必要な平均孔径は数十nmオーダーとなる(例えば、MS2ファージの直径は約30nm程度であることが知られている。)。してみると、その測定に必要なバブルポイント圧で少なくとも10MPa以上となることから、多孔質膜の素材によっては、このような圧力に耐えることができず、バブルポイントを測定するまでに膜が破壊あるいは破裂することで計測できないという問題がある。
【0010】
さらにまた、(c)代替粒子の濾過による方法としては、金コロイドを利用したインテグリティテスト方法が知られている。当該方法は、ウィルス粒子のかわりに金コロイド粒子を含む溶液でフィルターを濾過し、その除去性能を測定することを特徴とするものである(特許文献2)。しかしながら、当該金コロイド従来の金コロイド溶液を用いた方法では、限られたpHのみでしか使用できないため、膜中のpHを厳密に制御する洗浄処理が必要となり操作が非常に煩雑であった(特許文献3)。また、金コロイド溶液自体が高価で入手が困難という問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0011】
【特許文献1】特表平9−509831号公報
【特許文献2】特許第3328857号公報
【特許文献3】特開平7−132215号公報
【非特許文献】
【0012】
【非特許文献1】「膜ろ過技術」(株式会社工業調査会)、2006年発行、p10−13、p56−58
【非特許文献2】J.of Memb.sci.,326(2009)p111−116
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0013】
本発明は、上述のような課題を解決するものであり、ウィルス除去性能を有する多孔質膜のウィルス除去性能を評価するに際し、膜素材等の条件に限定されることなく、かつ、簡便にウィルス除去性能をより正確に検査することを目的とする多孔質膜の評価手法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0014】
かかる課題を解決しうる本願発明は、下記の工程(1)〜(3)からなる多孔質膜のウィルス除去率評価方法である。
工程(1):分子量既知の有色デキストランを溶媒に分散しデキストラン標準溶液を作製する溶液調整工程
工程(2):評価される多孔質膜を用いて前記デキストラン標準溶液をろ過し、該デキストラン溶液を透過したろ液を採取するろ過工程
工程(3):前記標準溶液及びろ液それぞれの吸光度を測定することにより、多孔質膜のデキストラン除去率を求め、さらにその値からウイルス除去率を換算する測定工程
【発明の効果】
【0015】
本発明のウィルス除去率評価方法によれば、ウィルスサイズ相当の分子量既知の有色デキストランを用いることより、ウィルス除去膜のウィルス除去性能が簡便に予測できる。また、有色デキストランであることで、吸光度測定のみでろ液濃度の測定が可能となる。以上により、培養と取り扱いとその除去率評価の難しいウィルスの代替粒子として毒性の低い親水性多糖類であるデキストランを用いてウィルス除去膜の評価が可能であるとの格別な効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【0016】
【図1】本発明の多孔質膜の評価に使用可能なデッドエンドろ過装置である。
【図2】実施例1のMS2除去率とデキストラン濃度の良好な相関性を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【0017】
以下、本発明の多孔質膜のウィルス除去率評価方法の一例を示して詳細に説明する。なお、本発明は以下の例示に必ずしも限定されない。
【0018】
(本発明の対象となる多孔質膜)
本発明の評価方法が対象とする多孔質膜は、ウィルス除去性能を有する膜である。平均孔径としては、数十〜数百nmの光景分を有する膜である、一般的にこのような多孔質膜は限外ろ過膜、精密ろ過膜と呼ばれている。膜の形状は平膜・中空糸膜等のいずれでも好適に用いることができる。さらに、膜基材も、通常膜基材に用いることができるいかなるものであっても用いることができ、例えば、ポリスルホン、セルロース、ポリフッ化ビニリデンなどからなる熱可塑性高分子である中空糸膜であってもよい。
【0019】
(有色デキストラン)
本発明の評価方法に用いるデキストランは、分子量が既知のものを用いる。ここで、デキストランの分子量は、一般的に、GPC(ゲルパーミネーションクロマトグラフィー)法等の公知のクロマト法という方法で分子量は測定できる。本発明においても、これらの準拠して測定したデキストランの分子量の値を用いるてもよい。
本発明においては、多孔質膜のデキストラン除去率は、分散液の吸光度を用いて測定することから、有色デキストランを用いる。有色デキストランとしては、ブルーデキストラン、ビオチン化デキストラン、蛍光標識等が知られている。
【0020】
本発明においてデキストランの分子量は、1,000,000〜5,000,000Daのものを用いることが好ましい。かかる範囲の分子量を有するデキストランを用いることにより、多孔質膜のデキストラン除去率と当該多孔質膜とのウィルスの阻止率とにより高い良好な相関性があることが見出せる。
分子量が5,000,000Daより大きい場合は、デキストランの分子径サイズが大きすぎて、両条件ではウィルス阻止率との相関性が著しく低下するおそれがある。一方、デキストランの分子量が1,000,000Daより小さい場合は、分子径サイズが小さすぎ、また線状高分子であるデキストランに関しては、限外濾過膜の分離特性を明らかにするマーカー粒子としては適さないおそれもある。より好ましくは、分子量が1,500,000〜3,000,000Da、さらには2,000,000〜2,500,000Daであることが好ましい。
【0021】
作製するデキストラン溶液の濃度は、デキストラン標準溶液の濃度が0.001質量%より小さい場合は吸光度測定の際に濃度が低く検出が困難となる恐れがあり、デキストラン標準溶液の濃度が1質量%より大きい場合は次工程のろ過において多孔質膜の目詰まりの問題が懸念されることから。0.001〜1質量%であると好ましい。0.01〜1質量%より好ましい。さらにウィルス除去率との相関の厳密性の観点から、さらに好ましくは0.05〜0.5質量%である。
【0022】
(溶液調整工程)
本発明の溶液調整工程(工程(1))は、上述の有色デキストランを溶媒中に分散させた標準溶液を調製する。標準溶液の調整方法としては、有色デキストランを攪拌、等の公知の方法を溶媒中に分散させる。
本発明で用いることができる溶媒は、有色デキストランが好適に分散する常温で無色の液体であれば特に限定なく選択でき、例えば、多価アルコール、ポリエチレングリコール、ポリビニールアルコール、ポリビニルピロリドン界面活性剤若しくは、これらの混合溶液又はこれらの水溶液等を用いることができる。中でも、デキストランの溶液中分散安定性を向上させる、膜素材への吸着を抑制させる効果が付与されるという点で、界面活性剤又はその水溶液が好適である。
【0023】
界面活性剤としては、アルカリ性物質が接触したときに結晶が析出しない点で陰イオン界面活性剤、非イオン性界面活性剤はより好適に用いることができる。陰イオン界面活性剤としては、ドデシル硫酸又はその塩が挙げられる。塩のカウンターカチオンは、界面活性剤と高い反応性を有しない限り特に限定されず、市販で入手可能なリチウム塩、ナトリウム塩が挙げられる。好ましくはドデシル硫酸ナトリウムが例示される。非イオン性界面活性剤としてはポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルが挙げられ、Triton X−100 、Tween20、Tween80等を用いることができる。
【0024】
(ろ過工程)
本発明のろ過工程(工程(2))は、前述の溶液調整工程(工程(1))で作製したデキストラン標準溶液をろ過する工程である。本発明用いることができるろ過手段には、デッドエンドろ過、クロスフローろ過などがあるが、測定時間短縮、デキストラン液少量化、測定設備と工程の簡略化の理由からデッドエンドろ過であることが好ましい。
デッドエンドろ過は供給液を全液ろ過する方法である。図1を用いて簡便に説明すると、符号6の位置に多孔質膜モジュールをセットし、供給液タンク5または6から液を加圧供給し、供給液を全て膜ろ過したろ液が7から出てくる。これにより、ろ過する前のデキストラン溶液と多孔質膜でろ過されたデキストラン溶液を、各々採取する。
ろ過するためにデキストラン溶液は加圧されるが、加圧ろ過圧力は、多孔質膜の構造に影響しないような圧力以下であればよい。具体的には60kPa〜70kPaであることが好ましい。
ろ過する多孔質膜を用いて多孔質膜モジュールを作製し、評価に供する。多孔質膜モジュールの構造としては、多孔質中空糸膜を用いた場合には、膜端をウレタン樹脂、エポキシ樹脂等のポッティング樹脂を用いて枠体に固定した形状の膜モジュールが例示される。
【0025】
(測定工程)
次に、測定工程を以下に説明する。
まず、有色デキストランは種類ごとに極大吸収波長が異なることから、分光光度計であらかじめ種々の濃度のデキストラン溶液で測定して吸収スペクトルが極大となる波長を決定する。決定した吸収波長にてデキストラン標準溶液及び多孔質膜でろ過した後ろ液の吸光を測定する。
次に、ろ過前のデキストラン標準溶液の吸光度をCo、多孔質膜でろ過した後の吸光度をCfとすると、評価対象とする多孔質膜のデキストラン溶液の除去率(%)は、Beerの法則を用いて,入射光が溶質によって吸収される割合は濃度に比例する原理を用いて、式(3)より求められる。
【式3】
【0026】

【0027】
そして、かかる方法により測定したデキストラン除去率とあらかじめ作成した検量線とを用いてウィルス除去率を換算する。
【実施例】
【0028】
以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の記載によっては限定されない。
【0029】
(有色デキストラン標準溶液の調製)
GE Healthcare製の分子量が2,000,000Da(カタログ値)のブルーデキストラン2000を用い、これをポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルを溶媒として、0.1質量%のデキストラン溶液を作製し、多孔質膜の評価に用いた。
【0030】
(ろ過工程)
図1に示すデッドエンドろ過装置を用い、以下の手順にてデキストラン溶液のろ過試験を行った。膜モジュールをろ過試験装置に取り付け、膜モジュール内を和光純薬製のポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルを用いて作製した0.1質量%水溶液(通水液)で満たした。次いで、デキストラン溶液をフィルターに対し70kPaで加圧して10mlろ過した。その後膜モジュールに通水液を70kPaで加圧して流し、10mlづつろ液を採取した。
各ろ液の吸光度と原液の吸光度を測定し、吸光度からろ液に残存するブルーデキストランの濃度を算出し、以下の式から除去率を求めた。
【式4】
【0031】


ここで、ろ過前のデキストラン溶液の吸光度をCo、多孔質膜でろ過した後の吸光度をCfとした。
【0032】
(MS2阻止率試験)
本実施例においては、デキストラン除去率とウィルス除去率の良好な相関性を示すために中空糸膜モジュールのMS2ウィルス除去率(対数除去率:LRV)を測定した。対数除去率は下記の式により求められる。
【式5】
【0033】

【0034】

ろ過前のMS2原液及びろ過液1ml中のMS2の定量は、宿主と混釈した平板培地に形成されるプラーク(pfu)を計数してMS2の値とした。定量は設定した希釈段階の10倍きざみで原倍から106倍までの6段階とし、30〜200個のプラークが形成されたプレートの計数値からそのプレートの希釈倍数を掛けた値とした。
(培養条件:培地Peptone 10g,Yeast extract 2g,MgS04・7HO lg,精製水1L,Agar下層15g(上層6g);pH7.0 36± 1℃ で約1日培養)
【0035】
(デキストラン除去率からMS2ウィルス阻止率の換算)
デキストラン除去率を横軸に、前記MS2ウィルス阻止率を縦軸に相関図をMicrosoft Excel上でプロットした。
【0036】
[実施例1]
【0037】
(中空糸膜)
多孔質膜は、ポリエステル製編紐を支持体とし、その上に膜基材ポリマーとしてポリフッ化ビニリデン、添加剤ポリマーとしてポリビニルピロリドンを用い非溶媒誘起相分離法による乾湿式賦形にて、製造された複合中空糸膜(商品名SADF(登録商標))を使用し、有効膜面積0.0036m2となるように多孔質中空糸膜モジュール作成した。
このモジュールを用いて上記のMS2阻止率試験、及びデキストラン除去率測定を行い、その結果を表1と図2に示す。デキストラン除去率とMS2阻止率(LRV)に相関が見られ、例えば、限外ろ過膜に求められるウィルス除去性能LRV4以上を満たす多孔質膜のデキストラン除去率は以下の式から96%以上となることが推測される。
[MS2ファージの阻止率(LRV)=0.7143×デキストラン溶液除去率(%)−64.583]
【0038】
【表1】



【0039】
[比較例1]
有色デキストランの代わりに、MS2ウィルス相当の大きさを有する直径33nmのラテックス粒子(マグスフェア社製)を用い、吸光度の測定波長を当該ラテックスの極大吸収波長である320nmとした以外は、実施例1と同様に多孔質膜のろ過試験を行った。しかし、ラテックス粒子では吸光度の値が安定しなかったため吸光度測定が困難であり、ラテックス粒子の除去率(濃度)を決定することができなかった。
【0040】
[比較例2]
デキストランの代わりにMS2ウィルス相当の大きさを有する直径35nmの酸化亜鉛粒子(堺化学社製)を用い、吸光度の測定波長を当該粒子の極大吸収波長である380nmとした以外は実施例1と同様に多孔質膜のろ過試験を行った。しかし、酸化亜鉛は凝集体での存在確率が高く、分散が困難であったため、MS2阻止率との相関を見出せなかった。
【0041】
[比較例3]
デキストランの代わりにMS2ウィルス相当の大きさを有する直径25nmのコロイダルシリカ粒子(扶桑化学社製)を用い、吸光度の測定波長を当該粒子の極大吸収波長である320nmとした以外は実施例1と同様に多孔質膜のろ過試験を行った。しかし、コロイダルシリカは化学結合した2次粒子径での存在確率が高く、MS2阻止率との相関を見出せなかった。
【符号の説明】
【0042】
1:原液投入口
2:通液側三方コック(ボールバルブ)
3:デキストラン溶液タンク
4:通水液タンク
5:吐出側三方コック
6:多孔質膜モジュール
7:ろ液吐出口

【特許請求の範囲】
【請求項1】
下記の工程(1)〜(3)からなる多孔質膜のウィルス除去率評価方法。
工程(1):分子量が既知の有色デキストランを溶媒に分散しデキストラン標準溶液を作製する溶液調整工程
工程(2):評価される多孔質膜を用いて前記デキストラン標準溶液をろ過し、該デキストラン溶液を透過したろ液を採取するろ過工程
工程(3):前記標準溶液及びろ液それぞれの吸光度を測定することにより、多孔質膜のデキストラン除去率を求め、さらにその値からウイルス除去率を換算する測定工程
【請求項2】
工程(1)で作製するデキストラン標準溶液が、分子量1,000,000〜5,000,000Daのデキストランを用いたものであり、かつ、濃度が0.01〜1質量%である請求項1記載の多孔質膜の評価方法。
【請求項3】
前記溶媒が、非イオン界面活性剤又はその水溶液である請求項1又は2に記載の多孔質膜のウィルス除去率評価方法。
【請求項4】
前記工程(2)におけるろ過がデッドエンドろ過である請求項1〜3いずれかに記載の多孔質膜のウィルス除去率評価方法。
【請求項5】
前記多孔質膜が中空糸膜である請求項1〜4いずれかに記載の多孔質膜のウィルス除去率評価方法。
【請求項6】
中空糸膜がポリフッ化ビニリデンからなる限外ろ過膜又は精密ろ過膜である請求項5に記載の多孔質膜のウィルス除去率評価方法。

【図1】
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【図2】
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【公開番号】特開2013−111541(P2013−111541A)
【公開日】平成25年6月10日(2013.6.10)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2011−260731(P2011−260731)
【出願日】平成23年11月29日(2011.11.29)
【出願人】(000006035)三菱レイヨン株式会社 (2,875)
【Fターム(参考)】