多色表示装置
【課題】良好な視野角特性を備えながら、表示装置の基板作製の負荷が小さく、装置作製のスループットが高い多色表示装置を提供する。
【解決手段】各発光色の画素内部で光学距離の異なる領域４０、４１が設定されるように、全ての画素について共通に、反射電極層を構成する透明導電層２５、２６の厚さを二種類の異なる厚さに形成し、さらに緑色画素（もしくは青色画素）について、白色表示に対する視野角色ずれが最小となるように、前記光学距離の異なる領域４０、４１の面積比が決定されると共に、青色画素（もしくは緑色画素）では、青色単色(もしくは緑色単色)の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きく、赤色画素では、赤色単色の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きくなるように設定されている。
【解決手段】各発光色の画素内部で光学距離の異なる領域４０、４１が設定されるように、全ての画素について共通に、反射電極層を構成する透明導電層２５、２６の厚さを二種類の異なる厚さに形成し、さらに緑色画素（もしくは青色画素）について、白色表示に対する視野角色ずれが最小となるように、前記光学距離の異なる領域４０、４１の面積比が決定されると共に、青色画素（もしくは緑色画素）では、青色単色(もしくは緑色単色)の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きく、赤色画素では、赤色単色の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きくなるように設定されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光層を含む有機化合物層に電圧を印加して発光する有機発光素子（有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子）を用いた表示装置に係り、詳しくは、２以上の異なる発光色を示す有機発光素子を備えた多色表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光素子は、陽極と陰極との間に、発光層を含む有機化合物層を備えている。なお、以下の説明において、有機発光素子を単に「発光素子」もしくは「素子」と表記することもある。
【０００３】
図１５は、一般的な有機発光素子の積層構造を示す模式図である。図１５において、有機発光素子は、基板１の上に、反射層２、陽極（透明導電層）３、正孔輸送層４、発光層５、電子輸送層６、電子注入層７、半透明層８及び陰極（透明電極）９を順に備えている。この有機発光素子に電流を流すことで、陽極９から注入されたホールと陰極３から注入された電子が、発光層５において再結合する。この再結合の際に生じるエネルギーによって発光層５の発光材料が励起状態になり、この発光材料が基底状態に戻る際にエネルギーを光として放出して発光する。
【０００４】
このような有機発光素子では発光の一部が反射される。これにより、有機発光素子の内部で特定の波長の光が共振して強められる光学干渉効果が顕著に現れる。
【０００５】
具体的には、基板１上の反射層２と半透明層８の反射界面との間で共振器構造が構成される。ここで、反射層２と半透明層８の反射界面との間の光学距離をＬ、共振波長をλ、素子からの発光を視認する角度をθ（素子に正対して視認する場合を０°）とする。また、上下の各電極３、９にて発光が反射する際の位相シフトの和をφ（ｒａｄ）、光学干渉の次数をｍとした場合、各パラメータ間に下記式（１）を満足する関係があると、共振による発光の強め合いが生じる。
【０００６】
つまり、発光層５を光励起して生じる発光スペクトル（ＰＬスペクトル）の最大ピーク波長と共振波長とを合わせると、素子から出射される発光スペクトルの最大ピーク波長の強度を高めることができる。以下、「ＰＬスペクトル」と区別するため、素子から出射される発光スペクトルを「ＥＬスペクトル」と呼ぶ。
【０００７】
λ＝２Ｌｃｏｓθ／（ｍ−φ／２π） （ｍは正の整数）・・・（１）
【０００８】
式（１）において、光学距離Ｌは、各層の屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）を掛け合わせた値（ｎｄ積）の和である。また、実際に各電極にて発光が反射する際、反射界面を構成する電極材料及び有機材料の組み合わせにより、位相シフトの和φは変化する。各層の屈折率（ｎ）は、例えば、分光エリプソメーター等を用いて測定することができる。
【０００９】
式（１）より、強め合いの最大ピーク波長（共振波長）λは光学距離Ｌにより変化する。また、素子に対して視認する角度（視野角）θが大きくなるとｃｏｓθ値が減少し、共振波長λが短波長側にシフトする。そのため、光学距離Ｌを有する素子を観察する視野角を大きくしていくと、共振波長が発光層の発光スペクトル（ＰＬスペクトル）の最大ピーク波長からずれていき、その結果、ＥＬスペクトルの最大ピーク波長が強められない。さらには、最大ピーク波長が弱められることになり、視野角が大きくなる程暗く見えるという問題があった。
【００１０】
さらに、視野角が大きくなる場合、ｃｏｓθ値の減少に伴い、共振波長λが短波長側にシフト（ブルーシフト）するため、発光素子の色みが変わって見えることも問題であった。
【００１１】
そこで、１つの発光素子内部に光学距離の異なる部分を設け、視野角特性が異なる発光を組み合わせることで、視野角による特性変化を平均化、緩和した有機発光素子が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この特許文献１には、発光素子内部の光学距離を変更して、例えば、視野角０度における共振波長と次数をそれぞれ５１０ｎｍ／ｍ＝２，５７０ｎｍ／ｍ＝１に設定した緑色発光素子が開示されている。また、１つの発光素子内部において、光学距離の異なる領域の面積比を最適化し、視野角依存性を低減させた有機発光素子が開示されている。さらに、これらの有機発光素子を発光画素としたエレクトルミネセンスパネルが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００６−３２３２７号公報（段落番号［００３６］、図１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、特許文献１のエレクトロルミネッセンスパネルを構成する有機発光素子は、それぞれの色毎に視野角依存性を低減するように、画素内における光学距離や、光学距離の異なる領域の面積比を最適化している。
【００１４】
上述したように、有機発光素子は、基板上の反射層とその上方の半透明層の反射界面との間に共振器構造が形成される。ところが、発光を生じる発光層が、この反射層と半透明層との間に設けられていることから、発光の共振に関わる光学距離としては、主に、発光層から反射層までの光学距離と、反射層から半透明層の反射界面までの光学距離の二種類が影響する。この二種類のパラメータにより、有機発光素子の光学特性を調整することができる。
【００１５】
そのため、複数の発光色の有機発光素子を備える表示装置では、各色毎に少なくとも二種類の光学特性調整のパラメータがあると、各色毎に個別に発光特性を最適化することが好ましい。
【００１６】
このような光学距離の変化は、反射層上の透明導電層や、各有機化合物層、その上部の半透明層の膜厚や材料を変更することで調整可能である。特許文献１に記載の有機発光素子では、素子の基板側に設ける透明電極の膜厚を二種類にし、かつその発光面積も調整して光学距離を調整している。そのため、例えば、ＲＧＢ３色のフルカラーパネルを特許文献１の技術により実現しようとすると、１つのパネルに少なくとも６種類以上の異なる厚さの透明電極が必要となる。
【００１７】
このように１画素内にある透明電極の膜厚を変更するには、例えば、フォトリソグラフィーなどの手法を用いるが、その際、作製する膜厚の種類の数に相当するフォトリソグラフィー工程数が必要となる。
【００１８】
よって、特許文献１に記載の有機発光素子を多色表示装置の発光画素として適用しようとすると、表示装置用の基板作製の負荷が大きくなり、多色表示装置作製のスループットが低下するという問題があった。
【００１９】
さらに、特許文献１はＲＧＢの各色の色度の視野角特性を良化するもので、ＲＧＢを合成した色（例えば、白）の色度の視野角特性を必ずしも良化するものではない。ＲＧＢの合成色は、ＲＧＢの各色度および輝度により決まるもので、色度変化が小さくても輝度変化がＲＧＢごとに異なれば合成色としては視野角特性が悪化する。逆に、色度変化が各色で大きくても輝度変化を調整して合成色の色度の視野角特性を良化することは可能である。
【００２０】
本発明は、上記の課題に鑑み、良好な視野角特性を備えながら、表示装置の基板作製の負荷を小さくし、装置作製のスループットを高めることができる多色表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
上記の目的を達成すべく成された本発明の構成は以下の通りである。
【００２２】
即ち、本発明に係る多色表示装置は、基板の上に、少なくともＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）を含む多色の有機発光素子からなる複数の画素を配置し、該有機発光素子は、反射電極層と半透明電極層との間に発光層を含む有機化合物層を有する多色表示装置であって、
各発光色の画素内部で光学距離の異なる領域が設定されるように、全ての画素について共通に、上記反射電極層を構成する透明導電層が二種類の異なる厚さを有し、
さらに緑色画素（もしくは青色画素）について、白色表示に対する視野角色ずれが最小となるように、前記光学距離の異なる領域の面積比が決定されると共に、
青色画素（もしくは緑色画素）では、青色単色(もしくは緑色単色)の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きく、赤色画素では、赤色単色の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きくなるように設定されていることを特徴とする多色表示装置である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、表示装置上にある全ての画素において、反射電極層を構成する透明導電層の厚さを二種類の異なる厚さに形成したので、従来の表示装置に比べて工程数が少なくなる。
【００２４】
また、緑色画素（もしくは青色画素）について、白色表示に対する視野角色ずれが最小となるように、前記光学距離の異なる領域の面積比が決定される。さらに青色画素（もしくは緑色画素）では、青色単色(もしくは緑色単色)の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きく、赤色画素では、赤色単色の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きくなるように設定されている。したがって、良好な視野角特性を備えながら、表示装置の基板作製の負荷を小さくし、装置作製のスループットが高い多色表示装置を実現できるという優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明に係る多色表示装置の一実施形態の積層構造を示す模式図である。
【図２】緑色発光画素の視野角による色度変化特性を示す説明図である。
【図３】青色発光画素の視野角による色度変化特性を示す説明図である。
【図４】緑色の画素内部での透明導電層膜厚の異なる領域の面積割合をそれぞれ異ならせた場合の色度変化量δｘｙを示す説明図である。
【図５】青色の発光画素における、緑画素と同様な面積割合と合成光の色度変化量δｘｙの関係を示す説明図である。
【図６】赤色の発光画素における、緑画素と同様な面積割合と合成光の色度変化量δｘｙの関係を示す説明図である。
【図７】透明導電層１０ｎｍの緑色の発光画素におけるｍ＝２、１の視野角による共振波長変化を示す説明図である。
【図８】透明導電層１２５ｎｍの場合のｍ＝３、２の視野角による共振波長変化を示す説明図である。
【図９】透明導電層の厚さ２４ｎｍ、１６５ｎｍの表示装置における緑色発光画素の視野角による色度変化特性を示す説明図である。
【図１０】透明導電層の厚さ２４ｎｍ、１６５ｎｍの表示装置における緑色の画素内部での透明導電層膜厚の異なる領域の面積割合をそれぞれ異ならせた場合の色度変化量δｘｙを示す説明図である。
【図１１】透明導電層の厚さ２４ｎｍ、１６５ｎｍの表示装置における青色の発光画素における、緑画素と同様な面積割合と合成光の色度変化量δｘｙの関係を示す説明図である。
【図１２】本実施形態の多色表示装置の画素配置の一例を示す概略図である。
【図１３】本実施形態の多色表示装置の画素配置の一例を示す図である。
【図１４】本実施形態の多色表示装置の画素配置の一例を示す図である。
【図１５】一般的な有機発光素子の積層構造を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、説明の都合上から、図面では各層を認識可能な大きさで表しており、図面の縮尺は実際のものとは異なっている。また、本明細書で特に図示または記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知または公知技術を適用する。
【００２７】
図１は、本発明に係る多色表示装置の一実施形態の積層構造を示す模式図である。なお図１において、同一の名称の層が２層の積層構成である場合、説明上の便宜から、その２層の各層にＡ、Ｂの符号を付して説明している。
【００２８】
本実施形態で例示する多色表示装置は、基板２０の上に、少なくともＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）を含む多色の有機発光素子からなる複数の発光画素を配置したトップエミッション型のアクティブマトリックス表示装置である。具体的には、本実施形態の多色表示装置は、ＲＧＢの発光画素を備え、各発光色の有機発光素子は、反射電極層と半透明電極層との間に発光層を含む有機化合物層を有する共振器構造を構成している。なお、以下の説明において単に「画素」もしくは「発光画素」と表記しているが、ＲＧＢの３色一組を主画素、Ｒ、Ｇ、Ｂの各発光画素を副画素とする。
【００２９】
図１に示すように、基板２０上に、ＴＦＴ駆動回路２１、平坦化膜２２、コンタクトホール２３、反射層２４及び透明導電層Ａ２５を備えている。透明導電層Ａ２５は、ＲＧＢの各発光画素（副画素）で共通の膜厚に形成されている。さらに、各発光画素の透明導電層Ａ２５上の一部の領域には、各発光画素で共通の膜厚の透明導電層Ｂ２６が形成されている。反射層２４及び透明導電層Ａ２５、Ｂ２６は、上記反射電極層を構成している。
【００３０】
これら透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６の上には、ＲＧＢの各発光画素で共通の膜厚の正孔輸送層Ａ２７と、各発光画素でそれぞれ膜厚が異なる正孔輸送層Ｂ２８とが形成されている。すなわち、正孔輸送層Ａ２７、Ｂ２８の合計膜厚は各発光色で個別に設定されている。なお、本発明においては、正孔輸送層Ｂ２８は、各発光色で共通の膜厚でもよい。また、正孔輸送層Ｂ２８は、発光色によっては設けない構成であってもよい。
【００３１】
この膜厚が異なる正孔輸送層Ｂ２８の上には、ＲＧＢの各発光画素毎にそれぞれ赤色の発光層２９、緑色の発光層３０、青色の発光層３１が形成されている。また、ＲＧＢの異なる発光色の発光層２９、３０、３１は、個別の膜厚に設定されている。
【００３２】
各発光層２９、３０、３１の上には、各発光画素で共通に電子輸送層３２、電子注入層３３が形成されている。この電子注入層３３上に、上記半透明電極層を構成する電極Ａ３４及び電極Ｂ３５が形成されている。
【００３３】
また、ＲＧＢの各発光画素の間には、各色を離間する素子分離膜３６が形成されている。このように形成された多色発光素子の上には、乾燥窒素が充填される封止空間３７を介して、封止部材３８が形成されている。
【００３４】
この多色の有機発光素子では、透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６を陽極とし、電極Ａ３４及び電極Ｂ３５を陰極として、電流を流す。すると、透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６から正孔輸送層Ａ２７及び正孔輸送層Ｂ２８へ注入された正孔と、電極Ａ３４及び電極Ｂ３５から電子注入層３３へ注入された電子とが、各色の発光層２９、３０、３１まで移動して再結合する。この再結合の際に生じるエネルギーによって発光層２９、３０、３１の発光材料が励起状態になり、発光材料が基底状態に戻る際にエネルギーを光として放出し、素子が発光する。このとき生じた発光は、電極Ａ３４及び電極Ｂ３５を通じて素子の外部へと出射される。
【００３５】
本実施形態の多色表示装置は、このような多色の有機発光素子が基板２０上にマトリクス状に複数配置されている。基板２０は、特に限定されないが、金属、セラミックス、ガラス、石英等が用いられる。また、基板２０としてプラスティックシート等のフレキシブルシートを用いることにより、フレキシブルな表示装置を形成することも可能である。
【００３６】
反射層２４としては、透明導電層Ａ２５との界面における可視光の波長域における反射率が少なくとも５０％以上、好ましくは、８０％以上となる材料からなる層が望ましい。この条件を満たす材料としては、例えばアルミニウム、銀、クロム等の金属や、それらの合金が挙げられる。また、反射層２４は金属のような導電性部材で構成される必要はなく、誘電体多層膜ミラーのような絶縁性部材を反射層として用いることもできる。
【００３７】
透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６としては、例えば金属酸化物導電膜、具体的には、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）膜や、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ（商標））膜等を用いることができるが、これらに限定されない。なお、透明とは、可視光に対して７０％以上１００％以下の透過率を有することを意味する。透明であることを満たす透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６の条件としては、消衰係数のκが０．０５以下、好ましくは０．０１以下となることが、透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６で発光した光が減衰されることを抑制する観点で好ましい。
【００３８】
透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６は、例えばスパッタリング法等により成膜できるが、これに限定されない。また、発光画素内部の一部の領域に透明導電層Ａ２５のみを成膜し、他の領域に透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６を成膜することは、例えば、汎用のフォトリソグラフィー法を用いることにより対応可能である。なお、必要に応じ、透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６の段差となっている部分に絶縁性の樹脂部材を設けてもよい。このように構成することにより、段差部分で発光素子の透明導電層と電極Ａ３４とが短絡することを回避できる。
【００３９】
正孔輸送層Ａ２７、Ｂ２８、赤色の発光層２９、緑色の発光層３０、青色の発光層３１、電子輸送層３２、電子注入層３３に用いる有機化合物は、低分子材料もしくは高分子材料で構成しても、あるいは両者で構成してもよく、特に限定されない。また、必要に応じて公知の材料が使用できる。
【００４０】
図１では、５層型（正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層）の有機化合物層を例示している。これに限定されず、有機化合物層は単層型（発光層）、２層型（正孔輸送層／発光層）、３層型（正孔輸送層／発光層／電子輸送層）、４層型（正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層）のいずれの構成でもよい。また、有機化合物層の層数や積層順は、電極の構成によって適宜決定される。
【００４１】
有機化合物層は、一般には真空蒸着法、イオン化蒸着法、スパッタリング、プラズマ、あるいは適当な溶媒に溶解させて公知の塗布法（例えば、スピンコーティング、ディッピング、キャスト法、インクジェット法等）により形成される。
【００４２】
電子注入層３３としては、例えばフッ化リチウムや、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の一般に用いられる電子注入材料を用いることができる。また、電子輸送性の有機化合物材料に、アルカリ金属やアルカリ土類金属もしくはその化合物を０．１％以上数十％以下含有させて電子注入層３３とすることもできる。その際、電子注入層３３の膜厚を１０〜１００ｎｍ程度に設定すると、その後に形成する電極Ａ３４及び電極Ｂ３５の成膜ダメージを緩和できるので好ましい。
【００４３】
電極Ａ３４及び電極Ｂ３５は、発光層２９、３０、３１で発光した光を素子外に取り出すために、光透過性を有している必要がある。また、電極Ａ３４に薄膜金属電極を適用して半透明電極層となるように構成すれば、基板側に設けた反射層２４との間で共振器構造が形成されるので好ましい。本実施形態では、電極Ａ３４が半透明電極層である構成を採用し、反射層２４と半透明電極層Ａ３４との間に、複数の光透過層と発光層２９、３０、３１を有する。金属薄膜を電極Ａ３４として用いる場合、透過率の観点から、膜厚は５ｎｍ以上３０ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが望ましい。さらに、電極Ａ３４は、金属酸化物導電膜と金属薄膜との２層構成であってもよい。
【００４４】
また、電極Ｂ３５としては、透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６と同様に金属酸化物導電膜を用いることができる。金属酸化物導電膜を用いる場合、電極Ｂ３５の膜厚は１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲で設定すると、電極のシート抵抗及び透過率の観点から望ましい。電極Ａ３４で十分な抵抗が得られていれば、電極Ｂ３５は必須ではない。これらの電極Ａ３４及び電極Ｂ３５は、例えば、スパッタリング等の公知の方法で成膜することができる。これらの電極Ａ３４及び電極Ｂ３５の上に光学調整層などの層を形成してもよい。
【００４５】
封止としてガラス、金属のような材料で気体を封入して封止することに代えて、無機材料もしくは有機材料、またはそれらの多層膜で直接覆って封止してもよい。封止部材３８は、素子を外部環境の酸素や水分より保護する目的で設けられ、例えばガラス、気体不透過性フィルム、金属等を用いることができる。また、防湿性能を高めるために、封止空間３７内に吸湿材（不図示）を配置してもよい。
【００４６】
さらに、封止部材３８と有機発光素子との間の封止空間３７に乾燥窒素を充填する代わりに、保護膜を素子に直接成膜するようにしてもよい。この保護膜としては、例えば窒化シリコン、窒化酸化シリコン等の金属窒化物膜や、酸化タンタル等の金属酸化物膜、ダイヤモンド薄膜、樹脂膜等を単一の膜または複数の膜として用いることができる。この場合、より薄い有機発光素子が得られるので、特に好ましい。
【００４７】
図１の透明導電層Ａ２５とＢ２６は、積層順序を逆にしてもよい。あるいは、透明導電層Ａ２５とＢ２６の積層順序を逆にして、下に位置している透明導電層Ｂ２６を絶縁性透明膜にしてもよい。この場合、アノード側からのホールは、上に位置した透明導電層Ａ２５によって供給される。
【００４８】
続いて、本発明に係る多色表示装置の発光特性について説明する。下記表１は、本実施形態の多色表示装置を構成する各層の膜厚を示している。
【００４９】
【表１】
【００５０】
本実施形態の多色表示装置は、各発光画素内に、透明導電層の膜厚を１０ｎｍと、１２５ｎｍ（１０＋１１５ｎｍ）との二種類の厚さに形成している。正孔輸送層Ｂ及び発光層の膜厚は、発光色毎に変化させているが、それ以外の正孔輸送層Ａ、電子輸送層、電子注入層、電極Ａ及び電極Ｂの膜厚は、発光色によらず共通である。また、透明導電層の上に、形成する有機化合物層及び電極は、発光色毎に同一の膜厚で形成している。そのため、光学特性調整の自由度としては、ＲＧＢの個別膜厚３種類、追加する透明導電層膜厚、及び各色共通層の膜厚があり、表示装置の光学特性調整パラメータは合計５種類となる。
【００５１】
各発光画素内部には、透明導電層の膜厚が異なる領域が形成されているため、画素内部における透明導電層が厚い領域と薄い領域とでは、反射層と電極Ａ及び電極Ｂとの間に形成される共振器構造の光学距離が異なる。そのため、既述した式（１）で示される共振波長λが変化し、各発光画素内部における透明導電層が厚い領域と薄い領域とから生じる発光特性は異なる。
【００５２】
下記表２には、各色発光画素において、透明導電層が１０ｎｍ、１２５ｎｍのそれぞれの領域における発光の色度を示す。表２に示すように、透明導電層の膜厚の違いにより共振器構造の光学距離が異なり、共振波長が変化するため、発光画素内部のそれぞれの領域における発光の発光色度が異なる。
【００５３】
【表２】
【００５４】
ところで、解像度にもよるが、一つの発光画素は、対角３インチ、ＱＶＧＡ解像度の表示装置の場合は約１９０μｍ程度、ＶＧＡ解像度の表示装置の場合は約９５μｍ程度と微小である。そのため、一つの発光画素より視認される発光特性としては、それぞれの領域の発光特性を合成したものと同等である。このような各発光画素における合成色度（ｘ，ｙ）は、色度座標と明るさがそれぞれ（ｘ1，ｙ1，Ｙ1）と（ｘ2，ｙ2，Ｙ2）の場合、下記数１の式により求められる。
【００５５】
【数１】
【００５６】
下記表３には、各色発光画素におけるそれぞれの領域の発光特性を画素内での面積比１：１で合成した場合における各色発光画素の合成色度を示している。
【００５７】
【表３】
【００５８】
表３に示すように、各発光画素の合成特性は、各発光画素内部のそれぞれの領域における発光特性により決定される。
【００５９】
図２は、緑色発光画素の視野角（０〜８５°）による色度変化特性を示す説明図である。透明導電層１０ｎｍの領域では、正面の色度座標（０．２６５，０．６８０）から視野角を傾けるにつれて、色度図上において左方向に色度が変化する。一方、透明導電層１２５ｎｍの領域では、正面色度座標（０．１７７，０．７３４）から、色度図上において、左回りに色度が変化する。また、それらを１：１で合成した合成色度は、色度座標（０．２３０，０．７０２）から、色度図上において、左方向に色度が変化する。
【００６０】
この合成光の視野角による色度変化量を、下記数２より算出される色度変化量δｘｙにより評価する。色度変化量δｘｙは、装置を正面から観測した場合の色度と、装置を視野角５０度から観測した場合の色度の変化量を示す。下記数２において、（ｘ0，ｙ0）は装置を正面から観測した時の色度、（ｘ50，ｙ50）は装置を視野角５０度から観測した時の色度である。
【００６１】
【数２】
【００６２】
図３は、青色発光画素の視野角による色度変化特性を示す説明図である。青色発光画素は、緑色発光画素と共に、表示装置の白色表示に対して視野角色ずれの影響が大きい。青色発光画素の色度変化特性は、左下から円弧を描くように右上がりに変化していることが判る。
【００６３】
図４は、緑色の画素内部での透明導電層膜厚の異なる領域の面積割合をそれぞれ異ならせた場合の色度変化量δｘｙを示す説明図である。図４の色度変化曲線に示すように、透明導電層膜厚の異なる領域の面積割合を調整することにより、合成光の、即ち発光画素の視野角特性を調整することが可能となる。また、面積割合を調整した合成光の色度変化量は、透明導電層が１０ｎｍ、１２５ｎｍの面積割合を１００％とした場合のそれぞれの色度変化量０．０８５，０．１６４よりも小さくすることができる。
【００６４】
図５は、青色の発光画素における、緑画素と同様な面積割合と合成光の色度変化量δｘｙの関係を示す説明図である。図５に示すように、青色画素では、透明導電層が１２５ｎｍの面積割合が増加するにつれて、色度変化量δｘｙが一様に増加する。
【００６５】
このように、光学距離が異なる領域面積割合を変化させ、視野角による発光色の変化を調整することが可能である。そこで、この面積割合を表示装置の光学特性を調整するパラメータとして取り入れ、本実施形態の表示装置では、先の膜厚による５つの調整パラメータと合わせて、合計６種類の調整パラメータを得た。
【００６６】
ところで、本実施形態のような多色表示装置は、主に、テレビジョンや携帯電話、デジタルカメラや、ビデオカメラ等のディスプレイとして使用される。そのような使用用途では、各発光画素を単独で発光させ原色表示させるような使い方よりも、各色発光画素からの光を加法混色して、例えば、白色や肌色等の中間色を表示させるような使い方が一般的である。例えば、ＲＧＢの３色を加法混色した合成発光の色度（ｘ，ｙ）は、各発光画素の発光色度と明るさをそれぞれＲ（ｘ1，ｙ1，Ｙ1）、Ｇ（ｘ2，ｙ2，Ｙ2）、Ｂ（ｘ3，ｙ3，Ｙ3）とすると数３より算出される。
【００６７】
【数３】
【００６８】
上述したように、本実施形態の多色表示装置では、６種類の調整パラメータにより、白色表示時の視野角色ずれが少なくなるようにする。より具体的には、二種類の透明導電層厚さと、各色個別層、各色共通層厚さ、及び各発光画素において光学距離の異なる領域の面積割合調整により、白色表示の視野角色ずれを軽減する。
【００６９】
また本実施形態では、緑色発光画素について、２つの領域からの発光の合成により、発光画素トータルの視野角色ずれを小さくする面積割合に設定する。さらに、青色発光画素については、透明導電層１０ｎｍの色度変化量δｘｙが、透明導電層１２５ｎｍに比べ小さく、透明導電層１０ｎｍの面積割合を多く設定すると、青色発光画素トータルの視野角色ずれを小さくできる。そこで、透明導電層１０ｎｍの領域が多くなるように設定する。
【００７０】
なお、面積割合は、必ずしも発光色毎の視野角色ずれを極小になるように設定する必要はなく、表示装置の白色表示の視野角色ずれが少なくなる観点で面積割合を選択する。
【００７１】
本実施形態では、各色発光画素内部で、透明導電層１０ｎｍと１２５ｎｍの領域の面積割合を下記表４のように設定した。
【００７２】
【表４】
【００７３】
このとき、各色発光画素の輝度比を、赤：緑：青＝２７．８：６４．４：７．８に設定し、表示装置を正面から視認した際に、色温度６５００ｋに相当する白色を表示するように調整した。赤色の各色個別層、面積比は、白色表示における視野角の色度変化が最小になるように調整するため、上述したように赤単色の色度の視野角特性は最小化するわけではない。この表示装置を視野角５０度までの色ずれ量をｕ’ｖ’色空間での変化量δｕ’ｖ’として算出すると、０．０００９と非常に小さな値を示した（後述する実施例１の表１０参照）。
【００７４】
一般にｕ’ｖ’空間において許容される色変化量δｕ’ｖ’は、０．０２程度であるため、本実施形態の表示装置は、視野角に色ずれが大幅に抑制され、良好な視野角特性を備えた表示装置といえる。
【００７５】
なお、δｕ’ｖ’は、下記数４により算出される。数４において、（ｕ’0，ｖ’0）は装置を正面から観測したときのｕ’ｖ’色空間における色度であり、（ｕ’50，ｖ’50）は装置を視野角５０度から観測したときの色度である。
【００７６】
【数４】
【００７７】
また、本実施形態の緑色画素のような視野角色ずれの設定を、光学距離や面積割合を調整して、他色の発光画素に適用することも可能である。ただし、白色表示時の輝度比は、他の色の画素に比べて、緑色発光画素が高い。そのため、緑色発光画素の視野角特性は、表示装置全体の視野角特性への影響が大きいため、緑色画素をこのような設定とすることが特に好ましい。
【００７８】
さらに、各画素を構成する各層の光学定数は、青色の波高波長付近で急峻に変化する。そのため、青色発光画素では、視野角を変化させると共振器構造の光学距離も、他の発光色の画素に比べて大きく変化し、視野角による特性変動が大きい。そのため、青色発光画素に、本実施形態の緑色発光画素のように、画素トータルの色ずれが少なくなるように設定してもよい。
【００７９】
そして図６は、赤色画素の面積比とδｘｙの関係を示す説明図である。赤色画素における光学距離の異なる領域の面積比は、表示装置の白色表示における視野角色度変化が小さくなるように調整する目的で決定され、赤色画素単色の視野角特性を最適化するわけではない。即ち、図６に示すように、緑色画素、青色画素の色ずれとの兼ね合いから、赤色画素では必ずしもδｘｙが最小になっていない。
【００８０】
なお、このような各色発光画素の面積割合の変更は、画素内部に透明導電層の異なる領域を形成するフォトリソグラフィー工程で同時に行うことができる。したがって、特別な工程を追加することなく、１つの工程の追加で２つの調整パラメータを増やすことができるため、好ましい。
【００８１】
また、本実施形態のような透明導電層や、発光画素内部の面積割合を変えずに、例えば、有機化合物層を発光色毎に正孔輸送層Ｂ２８、発光層以外の膜厚を変更して調整パラメータを増やすことも可能である。しかし、必要パラメータの数だけ、例えば、マスク蒸着等が必要となるため、表示装置作製のスループットの観点で課題となる。
【００８２】
ここで、本実施形態において、透明導電層として１０ｎｍと１２５ｎｍの膜厚を選択したのは、異なる次数の光学干渉条件を適用するためである。即ち、既述した式（１）において、素子内部での光学干渉効果によって強められる波長λは、光学距離Ｌ、視認角度θ（素子に正対する場合を０°）、光の反射界面での位相シフトの和φといった素子の構造パラメータ、及び光学干渉の次数ｍにより定まる。なお、これらの光学定数は、例えば分光エリプソメーター等を用いて測定することができる。
【００８３】
反射界面での位相シフトφは、界面を形成する２つ層の材料のうち、光が入射する側にある材料を媒質Ｉ、他方の材料を媒質ＩＩとし、それぞれの光学定数を（ｎ1，ｋ1）、（ｎ2，ｋ2）とすると、下記式（２）の関係式で表すことができる。
【００８４】
φ＝ｔａｎ-1（２ｎ1ｋ2／（ｎ12−ｎ22−ｋ22））・・・（２）
【００８５】
本実施形態の多色表示装置において、例えば、各層の屈折率を有機化合物層１．８５、光透過層（透明導電層）１．９２、陽極の屈折率０．１２、消衰係数を３．４６とする。この場合、上記表１の膜厚を用いて発光層内部の発光領域と陽極との間で生じる光学干渉の共振波長を上記式（１）の関係式より算出する。光透過層（透明導電層）厚さ１０ｎｍの共振波長を下記表５に、厚さ１２５ｎｍの共振波長を下記表６に示す。
【００８６】
なお、下記表５及び表６の共振波長の計算では、発光層内部での発光領域を、赤色発光画素では発光層中央部、緑色及び青色発光画素では発光層−電子輸送層界面とし、発光領域と陽極間の光学距離をＬとする。
【００８７】
【表５】
【００８８】
【表６】
【００８９】
表５及び表６より、光学干渉の共振波長は、各有機化合物層や、透明導電層の膜厚、光学干渉の次数、また視野角により変化する。
【００９０】
表５におけるｍ＝２条件と、表６におけるｍ＝３条件は、共振波長の差異が１８〜６７ｎｍ程度であり、略同等な光学干渉条件になっている。
【００９１】
本実施形態では、正孔輸送層Ｂを除き有機化合物層の膜厚が同一であるが、光学干渉の次数が異なり、かつ、その共振波長が同等となるように、透明導電層の膜厚を設定する。
【００９２】
また、視野角による共振波長の変化について考えてみる。透明導電層の厚さにより、共振波長の変化が異なる。例えば、透明導電層１０ｎｍの緑色の発光画素におけるｍ＝２、１の視野角による共振波長変化を図７に示す。また、同様に透明導電層１２５ｎｍの場合のｍ＝３、２の視野角による共振波長変化を図８に示す。
【００９３】
装置正面において、４９１ｎｍ（図７ ｍ＝２条件）、４７３ｎｍ（図８ ｍ＝３条件）にあった共振波長は、視野角の変化とともに短波長にシフトする。いずれも約３０度以上の視野角領域では、その共振波長は、可視の波長領域よりも短波長となる。さらに、視野角が３０度以上の領域では、正面よりも次数が低いｍ＝１条件（図７）、ｍ＝２条件（図８）の共振波長が、緑色の波長領域（５００〜６００ｎｍ）にオーバーラップするようになる。そのため、視野角３０度までの領域では、より次数の高い条件の共振波長変化に応じて、また、３０度以上の領域では、正面よりも次数の低い条件の共振波長変化に応じて、色度が変化する。
【００９４】
この正面よりも次数の低い共振波長の影響は、透明導電層を１２５ｎｍとした場合により顕著で、上記図２に示した透明導電層１２５ｎｍの色度変化は、このような高次、低次の干渉条件の組み合わせにより生じる。
【００９５】
一方、透明導電層１０ｎｍの場合は、正面よりも次数の低い干渉条件の影響が軽微であり、その色度変化は、主にｍ＝２条件の共振波長が視野角とともに短波長側へシフトする影響による。そのため図２において、右から左へと色度が一様に変化する様子を示す。
【００９６】
そのため、透明導電層１０ｎｍの素子と透明導電層１２５ｎｍの素子を混色して得る合成光の色度は、視野角により色度が、それぞれが略反対方向に変化する二種類の素子を混合していることから、合成色としての色度変化を少なくできる。
【００９７】
また、透明導電層の膜厚としては、共振波長が上記の関係を満たしていればよく、１０ｎｍ、１２５ｎｍの以外の組み合わせでもよい。ただし、二種類の素子を混色して得る合成光の色度を小さくするためには、視野角により色度がそれぞれ略反対方向に変化する二種類の素子となるような組み合わせでないと効果はない。したがって、数値を限定するのは困難であるが、透明導電層としては１０ｎｍ乃至２００ｎｍが製造容易性・小型化の観点から好ましい。
【００９８】
例えば、下記表７のような積層構成でも、上記と同等の特性を得ることができる。
【００９９】
【表７】
【０１００】
このような積層構成の表示装置の各発光色の発光画素の面積割合を下記表８に、この表示装置の各発光色の色度及び視野角５０度における白色の色ずれ量δｕ’ｖ’を下記表９にそれぞれ示す。
【０１０１】
【表８】
【０１０２】
【表９】
【０１０３】
さらに図９は、透明導電層の膜厚が２４ｎｍ、１６５ｎｍの場合の表示装置の緑色の発光画素における０〜８０度の範囲で視野角を変化させた場合の色度変化を示す説明図である。図９に示すように、透明導電層の膜厚が２４ｎｍ、１６５ｎｍの表示装置は、透明導電層の膜厚が１０ｎｍ、１２５ｎｍの表示装置と同様の作用効果により、その合成色の色度変化を小さくすることが可能である。即ち、表７及び図９に示すように、透明導電層の膜厚、段差が異なっても同様な傾向を示している。
【０１０４】
図１０は、表７に示した積層構成の表示装置の緑色発光画素の面積比と色度変化量δｘｙの特性を示す説明図である。図１１は、表７に示した積層構成の表示装置の青色発光画素の面積比と色度変化量δｘｙの特性を示す説明図である。図１０及び図１１に示すように、色度変化量δｘｙの特性は、透明導電層の膜厚や段差（膜厚の差）が異なっても同様の傾向で現れる。
【０１０５】
図１２から図１４は、本実施形態の多色表示装置の画素配置の例示する概略図である。これらの図面において、４０は光学距離が異なる領域の光学領域Ａの部分、４１は光学距離が異なる領域の光学領域Ｂの部分を示している。
【０１０６】
発光画素内部の光学距離が異なる領域４０、４１の配置は特に制限がなく、図１２に示すように、光学距離の異なる領域４０、４１が発光画素によらず、同一面積比及び同一配置で配列されていてもよい。
【０１０７】
また、光学距離の異なる領域がモアレやムラを回避するように配置されていると、より好ましい。適切な配置としては、例えば、図１３に示す光学距離の異なる領域４０、４１は、隣接する同色の画素同士の面積比及び配置を同一に維持しながら、複数の発光色を有する主画素単位（ＲＧＢの３色からなる主画素単位）で領域４０、４１の相互位置を交互（千鳥状）に変えることが好ましい。さらに、図１４に示す光学距離の異なる領域４０、４１は、隣接する同色の画素同士の面積比及び配置を同一に維持しながら、異なる発光色の副画素同士で上記領域４０、４１の相互位置を交互（千鳥状）に変えることが好ましい。
【０１０８】
以上説明したように、本実施形態の多色表示装置は、表示装置上にある全ての画素において、反射電極層を構成する透明導電層Ａ２５、Ｂ２５の厚さを二種類の異なる厚さ（１０ｎｍ、１２５ｎｍ）に形成している。したがって、従来の表示装置に比べて工程数が少なくなる。
【０１０９】
また、緑色画素（もしくは青色画素）について、白色表示に対する視野角色ずれが最小となるように、前記光学距離の異なる領域４０、４１の面積比が決定している。さらに青色画素（もしくは緑色画素）では、青色単色(もしくは緑色単色)の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きく、赤色画素では、赤色単色の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きくなるように設定されている。したがって、表示装置の基板作製の負荷を小さくし、装置作製のスループットが高く、良好な視野角特性を備える多色表示装置を実現できる。
【０１１０】
また、図１３及び図１４のように、隣接画素で光学距離の異なる二種類の領域４０、４１を交互に配置することで、合成色の色度の視野角特性を良化でき、画質の良好な多色表示装置を実現できる。
【０１１１】
以上、本発明の好適な実施形態を説明したが、これは本発明の説明のための例示であり、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、上記実施形態とは異なる種々の態様で実施することができる。
【０１１２】
例えば、上記実施形態では、基板２０の上に陽極を形成した構成の一例を示したが、基板側より陰極、有機化合物層、陽極の順序で構成されていてもよく、電極の積層順序に特に制限はない。
【実施例】
【０１１３】
以下、実施例を挙げて、本発明に係る多色表示装置をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１１４】
＜実施例１＞
実施例１では、図１に示す構成の多色表示装置を以下に示す工程で作製した。
【０１１５】
支持体として、ガラス基板２０上に、低温ポリシリコンからなるＴＦＴ駆動回路２１を形成し、その上にアクリル樹脂からなる平坦化層２２を形成し、フォトリソグラフィー技術によりコンタクトホール２３を形成した。
【０１１６】
この上に、スパッタリング法により、反射層２４としてアルミニウム合金（ＡｌＮｄ）を１５０ｎｍの膜厚で成膜し、パターニングした。
【０１１７】
次に、スパッタリング法により、透明導電層Ａ２５としてＩＴＯを１０ｎｍの膜厚で成膜し、画素毎にパターニングした。続いて、スパッタリング法により、透明導電層Ｂ２６としてＩＴＯを１１５ｎｍの膜厚で成膜し、画素内における一部の領域のＩＴＯ厚さが１０ｎｍ、他方の領域のＩＴＯ厚さが１２５ｎｍになるように、パターニングをした。このとき、画素内部におけるＩＴＯ厚さが１０ｎｍと１２５ｎｍとなる領域の面積比は、上記表４に記載の面積比となるようにパターニングを行った。
【０１１８】
その後、アクリル樹脂により素子分離膜３６を形成した。これをイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で超音波洗浄し、次いで煮沸洗浄後乾燥した。さらに、ＵＶ／オゾン洗浄し後、有機化合物を真空蒸着により成膜する。
【０１１９】
有機化合物層の成膜は、まず、正孔輸送層Ａ２７として下記化１の化学式で示される化合物をすべての画素に共通に１１８ｎｍの膜厚で成膜した。その成膜の際の真空度は１×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．２ｎｍ／ｓｅｃであった。
【０１２０】
次に、シャドーマスクを用いて、赤色、緑色、青色の各発光画素に対して、正孔輸送層Ｂ２８として下記化１の化学式で示される化合物［Ｉ］をそれぞれ１３５ｎｍ、５２ｎｍ、８ｎｍの膜厚で成膜した。
【０１２１】
【化１】
【０１２２】
その後、シャドーマスクを用いて、赤色の発光層２９、緑色の発光層３０、青色の発光層３１をそれぞれ３０ｎｍ、４０ｎｍ、２４ｎｍの厚さで成膜した。赤色の発光層２９としては、最大ピーク波長６２０ｎｍ、半値幅９７ｎｍのＰＬスペクトルを示す発光材料を用いた。緑色の発光層３０としては、最大ピーク波長５２５ｎｍ、半値幅６８ｎｍのＰＬスペクトルを示す発光材料を用いた。青色の発光層３１としては、最大ピーク波長４６０ｎｍ、半値幅４５ｎｍのＰＬスペクトルを示す発光材料を用いた。
【０１２３】
さらに、共通の電子輸送層３２として、真空蒸着法にてバソフェナントロリン（Ｂｐｈｅｎ）を２０ｎｍの厚さで成膜した。蒸着時の真空度は１×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．２ｎｍ／ｓｅｃの条件であった。
【０１２４】
次に、共通の電子注入層３３として、ＢｐｈｅｎとＣｓ2ＣＯ3を共蒸着（重量比９０：１０）して２８ｎｍの厚さで成膜した。蒸着時の真空度は３×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．２ｎｍ／ｓｅｃの条件であった。
【０１２５】
その後、各画素共通の電極Ａ３４として、銀を１２ｎｍの厚さで成膜した。蒸着時の真空度は２×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．２ｎｍ／ｓｅｃの条件であった。
【０１２６】
続いて、この電極Ａ３４までを成膜した基板を、真空を保持したままでスパッタ装置に移動し、電極Ｂ３５としてＩＴＯを５０ｎｍの厚さで成膜した
その後、この基板を乾燥窒素が充填されているグローブボックス内に移動し、この基板の周辺部にＵＶ硬化樹脂をシールディスペンサーにより塗布した。そして、有機発光素子に対応する部分が０．３ｍｍの深さで掘り込まれた、厚さ０．７ｍｍの凹型のガラス板（封止部材３８）をこの基板の上から覆い被せた。基板上の周辺樹脂部に紫外線を照射し、樹脂の硬化で基板とガラス板を密着させ、表示装置を得た。なお、図１には、ＵＶ硬化樹脂は示されていない。
【０１２７】
下記表１０に、以上のようにして得られた表示装置の各色の発光色度及び視野角５０度における白色の色ずれ量δｕ’ｖ’を示す。
【０１２８】
【表１０】
【０１２９】
＜比較例１＞
比較例１では、反射層２４上に設ける透明導電層の膜厚を発光画素内部の全面において一律に１０ｎｍとした。それ以外は実施例１と同様にして、多色表示装置を作成した。
【０１３０】
下記表１１は、比較例１の素子の各層の膜厚を示している。なお、表示装置の正面において、各色の発光色度を実施例１の表示装置と略一致させるため、正孔輸送層Ａ２７及び正孔輸送層Ｂ２８の膜厚を調整している。
【０１３１】
【表１１】
【０１３２】
さらに下記表１２は、以上のようにして得られた比較例１の多色表示装置の各色の発光色度及び視野角５０度における白色の色ずれ量δｕ’ｖ’を示している。
【０１３３】
【表１２】
【０１３４】
表１０及び表１２より、実施例１の多色表示装置は、比較例１の多色表示装置に比して、視野角による白色の色ずれ量δｕ’ｖ’が大幅に軽減され、良好な発光特性を示すことが判った。
【産業上の利用可能性】
【０１３５】
本発明に係る表示装置は、照明や、電子機器のディスプレイとして、また、表示装置用のバックライト等の様々な用途に適用できる。電子機器のディプレイとしては、テレビ受像機、パーソナルコンピュータのディスプレイ、撮像装置の背面表示部、携帯電話の表示部、携帯ゲーム機の表示部等が挙げられる。その他、携帯音楽再生装置の表示部、携帯情報端末（ＰＤＡ）の表示部、カーナビゲーションシステムの表示部等が挙げられる。
【符号の説明】
【０１３６】
２０ 基板、２４ 反射層、２５ 透明導電層Ａ、２６ 透明導電層Ｂ、２７ 正孔輸送層Ａ、２８ 正孔輸送層Ｂ、２９ 赤色発光層、３０ 緑色発光層、３１ 青色発光層、３２ 電子輸送層、３３ 電子注入層、３４ 電極Ａ、３５ 電極Ｂ、４０ 領域（光学距離Ａの部分）、４１ 領域（光学距離Ｂの部分）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発光層を含む有機化合物層に電圧を印加して発光する有機発光素子（有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子）を用いた表示装置に係り、詳しくは、２以上の異なる発光色を示す有機発光素子を備えた多色表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光素子は、陽極と陰極との間に、発光層を含む有機化合物層を備えている。なお、以下の説明において、有機発光素子を単に「発光素子」もしくは「素子」と表記することもある。
【０００３】
図１５は、一般的な有機発光素子の積層構造を示す模式図である。図１５において、有機発光素子は、基板１の上に、反射層２、陽極（透明導電層）３、正孔輸送層４、発光層５、電子輸送層６、電子注入層７、半透明層８及び陰極（透明電極）９を順に備えている。この有機発光素子に電流を流すことで、陽極９から注入されたホールと陰極３から注入された電子が、発光層５において再結合する。この再結合の際に生じるエネルギーによって発光層５の発光材料が励起状態になり、この発光材料が基底状態に戻る際にエネルギーを光として放出して発光する。
【０００４】
このような有機発光素子では発光の一部が反射される。これにより、有機発光素子の内部で特定の波長の光が共振して強められる光学干渉効果が顕著に現れる。
【０００５】
具体的には、基板１上の反射層２と半透明層８の反射界面との間で共振器構造が構成される。ここで、反射層２と半透明層８の反射界面との間の光学距離をＬ、共振波長をλ、素子からの発光を視認する角度をθ（素子に正対して視認する場合を０°）とする。また、上下の各電極３、９にて発光が反射する際の位相シフトの和をφ（ｒａｄ）、光学干渉の次数をｍとした場合、各パラメータ間に下記式（１）を満足する関係があると、共振による発光の強め合いが生じる。
【０００６】
つまり、発光層５を光励起して生じる発光スペクトル（ＰＬスペクトル）の最大ピーク波長と共振波長とを合わせると、素子から出射される発光スペクトルの最大ピーク波長の強度を高めることができる。以下、「ＰＬスペクトル」と区別するため、素子から出射される発光スペクトルを「ＥＬスペクトル」と呼ぶ。
【０００７】
λ＝２Ｌｃｏｓθ／（ｍ−φ／２π） （ｍは正の整数）・・・（１）
【０００８】
式（１）において、光学距離Ｌは、各層の屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ）を掛け合わせた値（ｎｄ積）の和である。また、実際に各電極にて発光が反射する際、反射界面を構成する電極材料及び有機材料の組み合わせにより、位相シフトの和φは変化する。各層の屈折率（ｎ）は、例えば、分光エリプソメーター等を用いて測定することができる。
【０００９】
式（１）より、強め合いの最大ピーク波長（共振波長）λは光学距離Ｌにより変化する。また、素子に対して視認する角度（視野角）θが大きくなるとｃｏｓθ値が減少し、共振波長λが短波長側にシフトする。そのため、光学距離Ｌを有する素子を観察する視野角を大きくしていくと、共振波長が発光層の発光スペクトル（ＰＬスペクトル）の最大ピーク波長からずれていき、その結果、ＥＬスペクトルの最大ピーク波長が強められない。さらには、最大ピーク波長が弱められることになり、視野角が大きくなる程暗く見えるという問題があった。
【００１０】
さらに、視野角が大きくなる場合、ｃｏｓθ値の減少に伴い、共振波長λが短波長側にシフト（ブルーシフト）するため、発光素子の色みが変わって見えることも問題であった。
【００１１】
そこで、１つの発光素子内部に光学距離の異なる部分を設け、視野角特性が異なる発光を組み合わせることで、視野角による特性変化を平均化、緩和した有機発光素子が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この特許文献１には、発光素子内部の光学距離を変更して、例えば、視野角０度における共振波長と次数をそれぞれ５１０ｎｍ／ｍ＝２，５７０ｎｍ／ｍ＝１に設定した緑色発光素子が開示されている。また、１つの発光素子内部において、光学距離の異なる領域の面積比を最適化し、視野角依存性を低減させた有機発光素子が開示されている。さらに、これらの有機発光素子を発光画素としたエレクトルミネセンスパネルが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００６−３２３２７号公報（段落番号［００３６］、図１）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、特許文献１のエレクトロルミネッセンスパネルを構成する有機発光素子は、それぞれの色毎に視野角依存性を低減するように、画素内における光学距離や、光学距離の異なる領域の面積比を最適化している。
【００１４】
上述したように、有機発光素子は、基板上の反射層とその上方の半透明層の反射界面との間に共振器構造が形成される。ところが、発光を生じる発光層が、この反射層と半透明層との間に設けられていることから、発光の共振に関わる光学距離としては、主に、発光層から反射層までの光学距離と、反射層から半透明層の反射界面までの光学距離の二種類が影響する。この二種類のパラメータにより、有機発光素子の光学特性を調整することができる。
【００１５】
そのため、複数の発光色の有機発光素子を備える表示装置では、各色毎に少なくとも二種類の光学特性調整のパラメータがあると、各色毎に個別に発光特性を最適化することが好ましい。
【００１６】
このような光学距離の変化は、反射層上の透明導電層や、各有機化合物層、その上部の半透明層の膜厚や材料を変更することで調整可能である。特許文献１に記載の有機発光素子では、素子の基板側に設ける透明電極の膜厚を二種類にし、かつその発光面積も調整して光学距離を調整している。そのため、例えば、ＲＧＢ３色のフルカラーパネルを特許文献１の技術により実現しようとすると、１つのパネルに少なくとも６種類以上の異なる厚さの透明電極が必要となる。
【００１７】
このように１画素内にある透明電極の膜厚を変更するには、例えば、フォトリソグラフィーなどの手法を用いるが、その際、作製する膜厚の種類の数に相当するフォトリソグラフィー工程数が必要となる。
【００１８】
よって、特許文献１に記載の有機発光素子を多色表示装置の発光画素として適用しようとすると、表示装置用の基板作製の負荷が大きくなり、多色表示装置作製のスループットが低下するという問題があった。
【００１９】
さらに、特許文献１はＲＧＢの各色の色度の視野角特性を良化するもので、ＲＧＢを合成した色（例えば、白）の色度の視野角特性を必ずしも良化するものではない。ＲＧＢの合成色は、ＲＧＢの各色度および輝度により決まるもので、色度変化が小さくても輝度変化がＲＧＢごとに異なれば合成色としては視野角特性が悪化する。逆に、色度変化が各色で大きくても輝度変化を調整して合成色の色度の視野角特性を良化することは可能である。
【００２０】
本発明は、上記の課題に鑑み、良好な視野角特性を備えながら、表示装置の基板作製の負荷を小さくし、装置作製のスループットを高めることができる多色表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
上記の目的を達成すべく成された本発明の構成は以下の通りである。
【００２２】
即ち、本発明に係る多色表示装置は、基板の上に、少なくともＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）を含む多色の有機発光素子からなる複数の画素を配置し、該有機発光素子は、反射電極層と半透明電極層との間に発光層を含む有機化合物層を有する多色表示装置であって、
各発光色の画素内部で光学距離の異なる領域が設定されるように、全ての画素について共通に、上記反射電極層を構成する透明導電層が二種類の異なる厚さを有し、
さらに緑色画素（もしくは青色画素）について、白色表示に対する視野角色ずれが最小となるように、前記光学距離の異なる領域の面積比が決定されると共に、
青色画素（もしくは緑色画素）では、青色単色(もしくは緑色単色)の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きく、赤色画素では、赤色単色の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きくなるように設定されていることを特徴とする多色表示装置である。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、表示装置上にある全ての画素において、反射電極層を構成する透明導電層の厚さを二種類の異なる厚さに形成したので、従来の表示装置に比べて工程数が少なくなる。
【００２４】
また、緑色画素（もしくは青色画素）について、白色表示に対する視野角色ずれが最小となるように、前記光学距離の異なる領域の面積比が決定される。さらに青色画素（もしくは緑色画素）では、青色単色(もしくは緑色単色)の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きく、赤色画素では、赤色単色の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きくなるように設定されている。したがって、良好な視野角特性を備えながら、表示装置の基板作製の負荷を小さくし、装置作製のスループットが高い多色表示装置を実現できるという優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明に係る多色表示装置の一実施形態の積層構造を示す模式図である。
【図２】緑色発光画素の視野角による色度変化特性を示す説明図である。
【図３】青色発光画素の視野角による色度変化特性を示す説明図である。
【図４】緑色の画素内部での透明導電層膜厚の異なる領域の面積割合をそれぞれ異ならせた場合の色度変化量δｘｙを示す説明図である。
【図５】青色の発光画素における、緑画素と同様な面積割合と合成光の色度変化量δｘｙの関係を示す説明図である。
【図６】赤色の発光画素における、緑画素と同様な面積割合と合成光の色度変化量δｘｙの関係を示す説明図である。
【図７】透明導電層１０ｎｍの緑色の発光画素におけるｍ＝２、１の視野角による共振波長変化を示す説明図である。
【図８】透明導電層１２５ｎｍの場合のｍ＝３、２の視野角による共振波長変化を示す説明図である。
【図９】透明導電層の厚さ２４ｎｍ、１６５ｎｍの表示装置における緑色発光画素の視野角による色度変化特性を示す説明図である。
【図１０】透明導電層の厚さ２４ｎｍ、１６５ｎｍの表示装置における緑色の画素内部での透明導電層膜厚の異なる領域の面積割合をそれぞれ異ならせた場合の色度変化量δｘｙを示す説明図である。
【図１１】透明導電層の厚さ２４ｎｍ、１６５ｎｍの表示装置における青色の発光画素における、緑画素と同様な面積割合と合成光の色度変化量δｘｙの関係を示す説明図である。
【図１２】本実施形態の多色表示装置の画素配置の一例を示す概略図である。
【図１３】本実施形態の多色表示装置の画素配置の一例を示す図である。
【図１４】本実施形態の多色表示装置の画素配置の一例を示す図である。
【図１５】一般的な有機発光素子の積層構造を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、説明の都合上から、図面では各層を認識可能な大きさで表しており、図面の縮尺は実際のものとは異なっている。また、本明細書で特に図示または記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知または公知技術を適用する。
【００２７】
図１は、本発明に係る多色表示装置の一実施形態の積層構造を示す模式図である。なお図１において、同一の名称の層が２層の積層構成である場合、説明上の便宜から、その２層の各層にＡ、Ｂの符号を付して説明している。
【００２８】
本実施形態で例示する多色表示装置は、基板２０の上に、少なくともＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）を含む多色の有機発光素子からなる複数の発光画素を配置したトップエミッション型のアクティブマトリックス表示装置である。具体的には、本実施形態の多色表示装置は、ＲＧＢの発光画素を備え、各発光色の有機発光素子は、反射電極層と半透明電極層との間に発光層を含む有機化合物層を有する共振器構造を構成している。なお、以下の説明において単に「画素」もしくは「発光画素」と表記しているが、ＲＧＢの３色一組を主画素、Ｒ、Ｇ、Ｂの各発光画素を副画素とする。
【００２９】
図１に示すように、基板２０上に、ＴＦＴ駆動回路２１、平坦化膜２２、コンタクトホール２３、反射層２４及び透明導電層Ａ２５を備えている。透明導電層Ａ２５は、ＲＧＢの各発光画素（副画素）で共通の膜厚に形成されている。さらに、各発光画素の透明導電層Ａ２５上の一部の領域には、各発光画素で共通の膜厚の透明導電層Ｂ２６が形成されている。反射層２４及び透明導電層Ａ２５、Ｂ２６は、上記反射電極層を構成している。
【００３０】
これら透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６の上には、ＲＧＢの各発光画素で共通の膜厚の正孔輸送層Ａ２７と、各発光画素でそれぞれ膜厚が異なる正孔輸送層Ｂ２８とが形成されている。すなわち、正孔輸送層Ａ２７、Ｂ２８の合計膜厚は各発光色で個別に設定されている。なお、本発明においては、正孔輸送層Ｂ２８は、各発光色で共通の膜厚でもよい。また、正孔輸送層Ｂ２８は、発光色によっては設けない構成であってもよい。
【００３１】
この膜厚が異なる正孔輸送層Ｂ２８の上には、ＲＧＢの各発光画素毎にそれぞれ赤色の発光層２９、緑色の発光層３０、青色の発光層３１が形成されている。また、ＲＧＢの異なる発光色の発光層２９、３０、３１は、個別の膜厚に設定されている。
【００３２】
各発光層２９、３０、３１の上には、各発光画素で共通に電子輸送層３２、電子注入層３３が形成されている。この電子注入層３３上に、上記半透明電極層を構成する電極Ａ３４及び電極Ｂ３５が形成されている。
【００３３】
また、ＲＧＢの各発光画素の間には、各色を離間する素子分離膜３６が形成されている。このように形成された多色発光素子の上には、乾燥窒素が充填される封止空間３７を介して、封止部材３８が形成されている。
【００３４】
この多色の有機発光素子では、透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６を陽極とし、電極Ａ３４及び電極Ｂ３５を陰極として、電流を流す。すると、透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６から正孔輸送層Ａ２７及び正孔輸送層Ｂ２８へ注入された正孔と、電極Ａ３４及び電極Ｂ３５から電子注入層３３へ注入された電子とが、各色の発光層２９、３０、３１まで移動して再結合する。この再結合の際に生じるエネルギーによって発光層２９、３０、３１の発光材料が励起状態になり、発光材料が基底状態に戻る際にエネルギーを光として放出し、素子が発光する。このとき生じた発光は、電極Ａ３４及び電極Ｂ３５を通じて素子の外部へと出射される。
【００３５】
本実施形態の多色表示装置は、このような多色の有機発光素子が基板２０上にマトリクス状に複数配置されている。基板２０は、特に限定されないが、金属、セラミックス、ガラス、石英等が用いられる。また、基板２０としてプラスティックシート等のフレキシブルシートを用いることにより、フレキシブルな表示装置を形成することも可能である。
【００３６】
反射層２４としては、透明導電層Ａ２５との界面における可視光の波長域における反射率が少なくとも５０％以上、好ましくは、８０％以上となる材料からなる層が望ましい。この条件を満たす材料としては、例えばアルミニウム、銀、クロム等の金属や、それらの合金が挙げられる。また、反射層２４は金属のような導電性部材で構成される必要はなく、誘電体多層膜ミラーのような絶縁性部材を反射層として用いることもできる。
【００３７】
透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６としては、例えば金属酸化物導電膜、具体的には、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）膜や、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ（商標））膜等を用いることができるが、これらに限定されない。なお、透明とは、可視光に対して７０％以上１００％以下の透過率を有することを意味する。透明であることを満たす透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６の条件としては、消衰係数のκが０．０５以下、好ましくは０．０１以下となることが、透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６で発光した光が減衰されることを抑制する観点で好ましい。
【００３８】
透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６は、例えばスパッタリング法等により成膜できるが、これに限定されない。また、発光画素内部の一部の領域に透明導電層Ａ２５のみを成膜し、他の領域に透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６を成膜することは、例えば、汎用のフォトリソグラフィー法を用いることにより対応可能である。なお、必要に応じ、透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６の段差となっている部分に絶縁性の樹脂部材を設けてもよい。このように構成することにより、段差部分で発光素子の透明導電層と電極Ａ３４とが短絡することを回避できる。
【００３９】
正孔輸送層Ａ２７、Ｂ２８、赤色の発光層２９、緑色の発光層３０、青色の発光層３１、電子輸送層３２、電子注入層３３に用いる有機化合物は、低分子材料もしくは高分子材料で構成しても、あるいは両者で構成してもよく、特に限定されない。また、必要に応じて公知の材料が使用できる。
【００４０】
図１では、５層型（正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層）の有機化合物層を例示している。これに限定されず、有機化合物層は単層型（発光層）、２層型（正孔輸送層／発光層）、３層型（正孔輸送層／発光層／電子輸送層）、４層型（正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子注入層）のいずれの構成でもよい。また、有機化合物層の層数や積層順は、電極の構成によって適宜決定される。
【００４１】
有機化合物層は、一般には真空蒸着法、イオン化蒸着法、スパッタリング、プラズマ、あるいは適当な溶媒に溶解させて公知の塗布法（例えば、スピンコーティング、ディッピング、キャスト法、インクジェット法等）により形成される。
【００４２】
電子注入層３３としては、例えばフッ化リチウムや、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の一般に用いられる電子注入材料を用いることができる。また、電子輸送性の有機化合物材料に、アルカリ金属やアルカリ土類金属もしくはその化合物を０．１％以上数十％以下含有させて電子注入層３３とすることもできる。その際、電子注入層３３の膜厚を１０〜１００ｎｍ程度に設定すると、その後に形成する電極Ａ３４及び電極Ｂ３５の成膜ダメージを緩和できるので好ましい。
【００４３】
電極Ａ３４及び電極Ｂ３５は、発光層２９、３０、３１で発光した光を素子外に取り出すために、光透過性を有している必要がある。また、電極Ａ３４に薄膜金属電極を適用して半透明電極層となるように構成すれば、基板側に設けた反射層２４との間で共振器構造が形成されるので好ましい。本実施形態では、電極Ａ３４が半透明電極層である構成を採用し、反射層２４と半透明電極層Ａ３４との間に、複数の光透過層と発光層２９、３０、３１を有する。金属薄膜を電極Ａ３４として用いる場合、透過率の観点から、膜厚は５ｎｍ以上３０ｎｍ以下、好ましくは５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが望ましい。さらに、電極Ａ３４は、金属酸化物導電膜と金属薄膜との２層構成であってもよい。
【００４４】
また、電極Ｂ３５としては、透明導電層Ａ２５及び透明導電層Ｂ２６と同様に金属酸化物導電膜を用いることができる。金属酸化物導電膜を用いる場合、電極Ｂ３５の膜厚は１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲で設定すると、電極のシート抵抗及び透過率の観点から望ましい。電極Ａ３４で十分な抵抗が得られていれば、電極Ｂ３５は必須ではない。これらの電極Ａ３４及び電極Ｂ３５は、例えば、スパッタリング等の公知の方法で成膜することができる。これらの電極Ａ３４及び電極Ｂ３５の上に光学調整層などの層を形成してもよい。
【００４５】
封止としてガラス、金属のような材料で気体を封入して封止することに代えて、無機材料もしくは有機材料、またはそれらの多層膜で直接覆って封止してもよい。封止部材３８は、素子を外部環境の酸素や水分より保護する目的で設けられ、例えばガラス、気体不透過性フィルム、金属等を用いることができる。また、防湿性能を高めるために、封止空間３７内に吸湿材（不図示）を配置してもよい。
【００４６】
さらに、封止部材３８と有機発光素子との間の封止空間３７に乾燥窒素を充填する代わりに、保護膜を素子に直接成膜するようにしてもよい。この保護膜としては、例えば窒化シリコン、窒化酸化シリコン等の金属窒化物膜や、酸化タンタル等の金属酸化物膜、ダイヤモンド薄膜、樹脂膜等を単一の膜または複数の膜として用いることができる。この場合、より薄い有機発光素子が得られるので、特に好ましい。
【００４７】
図１の透明導電層Ａ２５とＢ２６は、積層順序を逆にしてもよい。あるいは、透明導電層Ａ２５とＢ２６の積層順序を逆にして、下に位置している透明導電層Ｂ２６を絶縁性透明膜にしてもよい。この場合、アノード側からのホールは、上に位置した透明導電層Ａ２５によって供給される。
【００４８】
続いて、本発明に係る多色表示装置の発光特性について説明する。下記表１は、本実施形態の多色表示装置を構成する各層の膜厚を示している。
【００４９】
【表１】
【００５０】
本実施形態の多色表示装置は、各発光画素内に、透明導電層の膜厚を１０ｎｍと、１２５ｎｍ（１０＋１１５ｎｍ）との二種類の厚さに形成している。正孔輸送層Ｂ及び発光層の膜厚は、発光色毎に変化させているが、それ以外の正孔輸送層Ａ、電子輸送層、電子注入層、電極Ａ及び電極Ｂの膜厚は、発光色によらず共通である。また、透明導電層の上に、形成する有機化合物層及び電極は、発光色毎に同一の膜厚で形成している。そのため、光学特性調整の自由度としては、ＲＧＢの個別膜厚３種類、追加する透明導電層膜厚、及び各色共通層の膜厚があり、表示装置の光学特性調整パラメータは合計５種類となる。
【００５１】
各発光画素内部には、透明導電層の膜厚が異なる領域が形成されているため、画素内部における透明導電層が厚い領域と薄い領域とでは、反射層と電極Ａ及び電極Ｂとの間に形成される共振器構造の光学距離が異なる。そのため、既述した式（１）で示される共振波長λが変化し、各発光画素内部における透明導電層が厚い領域と薄い領域とから生じる発光特性は異なる。
【００５２】
下記表２には、各色発光画素において、透明導電層が１０ｎｍ、１２５ｎｍのそれぞれの領域における発光の色度を示す。表２に示すように、透明導電層の膜厚の違いにより共振器構造の光学距離が異なり、共振波長が変化するため、発光画素内部のそれぞれの領域における発光の発光色度が異なる。
【００５３】
【表２】
【００５４】
ところで、解像度にもよるが、一つの発光画素は、対角３インチ、ＱＶＧＡ解像度の表示装置の場合は約１９０μｍ程度、ＶＧＡ解像度の表示装置の場合は約９５μｍ程度と微小である。そのため、一つの発光画素より視認される発光特性としては、それぞれの領域の発光特性を合成したものと同等である。このような各発光画素における合成色度（ｘ，ｙ）は、色度座標と明るさがそれぞれ（ｘ1，ｙ1，Ｙ1）と（ｘ2，ｙ2，Ｙ2）の場合、下記数１の式により求められる。
【００５５】
【数１】
【００５６】
下記表３には、各色発光画素におけるそれぞれの領域の発光特性を画素内での面積比１：１で合成した場合における各色発光画素の合成色度を示している。
【００５７】
【表３】
【００５８】
表３に示すように、各発光画素の合成特性は、各発光画素内部のそれぞれの領域における発光特性により決定される。
【００５９】
図２は、緑色発光画素の視野角（０〜８５°）による色度変化特性を示す説明図である。透明導電層１０ｎｍの領域では、正面の色度座標（０．２６５，０．６８０）から視野角を傾けるにつれて、色度図上において左方向に色度が変化する。一方、透明導電層１２５ｎｍの領域では、正面色度座標（０．１７７，０．７３４）から、色度図上において、左回りに色度が変化する。また、それらを１：１で合成した合成色度は、色度座標（０．２３０，０．７０２）から、色度図上において、左方向に色度が変化する。
【００６０】
この合成光の視野角による色度変化量を、下記数２より算出される色度変化量δｘｙにより評価する。色度変化量δｘｙは、装置を正面から観測した場合の色度と、装置を視野角５０度から観測した場合の色度の変化量を示す。下記数２において、（ｘ0，ｙ0）は装置を正面から観測した時の色度、（ｘ50，ｙ50）は装置を視野角５０度から観測した時の色度である。
【００６１】
【数２】
【００６２】
図３は、青色発光画素の視野角による色度変化特性を示す説明図である。青色発光画素は、緑色発光画素と共に、表示装置の白色表示に対して視野角色ずれの影響が大きい。青色発光画素の色度変化特性は、左下から円弧を描くように右上がりに変化していることが判る。
【００６３】
図４は、緑色の画素内部での透明導電層膜厚の異なる領域の面積割合をそれぞれ異ならせた場合の色度変化量δｘｙを示す説明図である。図４の色度変化曲線に示すように、透明導電層膜厚の異なる領域の面積割合を調整することにより、合成光の、即ち発光画素の視野角特性を調整することが可能となる。また、面積割合を調整した合成光の色度変化量は、透明導電層が１０ｎｍ、１２５ｎｍの面積割合を１００％とした場合のそれぞれの色度変化量０．０８５，０．１６４よりも小さくすることができる。
【００６４】
図５は、青色の発光画素における、緑画素と同様な面積割合と合成光の色度変化量δｘｙの関係を示す説明図である。図５に示すように、青色画素では、透明導電層が１２５ｎｍの面積割合が増加するにつれて、色度変化量δｘｙが一様に増加する。
【００６５】
このように、光学距離が異なる領域面積割合を変化させ、視野角による発光色の変化を調整することが可能である。そこで、この面積割合を表示装置の光学特性を調整するパラメータとして取り入れ、本実施形態の表示装置では、先の膜厚による５つの調整パラメータと合わせて、合計６種類の調整パラメータを得た。
【００６６】
ところで、本実施形態のような多色表示装置は、主に、テレビジョンや携帯電話、デジタルカメラや、ビデオカメラ等のディスプレイとして使用される。そのような使用用途では、各発光画素を単独で発光させ原色表示させるような使い方よりも、各色発光画素からの光を加法混色して、例えば、白色や肌色等の中間色を表示させるような使い方が一般的である。例えば、ＲＧＢの３色を加法混色した合成発光の色度（ｘ，ｙ）は、各発光画素の発光色度と明るさをそれぞれＲ（ｘ1，ｙ1，Ｙ1）、Ｇ（ｘ2，ｙ2，Ｙ2）、Ｂ（ｘ3，ｙ3，Ｙ3）とすると数３より算出される。
【００６７】
【数３】
【００６８】
上述したように、本実施形態の多色表示装置では、６種類の調整パラメータにより、白色表示時の視野角色ずれが少なくなるようにする。より具体的には、二種類の透明導電層厚さと、各色個別層、各色共通層厚さ、及び各発光画素において光学距離の異なる領域の面積割合調整により、白色表示の視野角色ずれを軽減する。
【００６９】
また本実施形態では、緑色発光画素について、２つの領域からの発光の合成により、発光画素トータルの視野角色ずれを小さくする面積割合に設定する。さらに、青色発光画素については、透明導電層１０ｎｍの色度変化量δｘｙが、透明導電層１２５ｎｍに比べ小さく、透明導電層１０ｎｍの面積割合を多く設定すると、青色発光画素トータルの視野角色ずれを小さくできる。そこで、透明導電層１０ｎｍの領域が多くなるように設定する。
【００７０】
なお、面積割合は、必ずしも発光色毎の視野角色ずれを極小になるように設定する必要はなく、表示装置の白色表示の視野角色ずれが少なくなる観点で面積割合を選択する。
【００７１】
本実施形態では、各色発光画素内部で、透明導電層１０ｎｍと１２５ｎｍの領域の面積割合を下記表４のように設定した。
【００７２】
【表４】
【００７３】
このとき、各色発光画素の輝度比を、赤：緑：青＝２７．８：６４．４：７．８に設定し、表示装置を正面から視認した際に、色温度６５００ｋに相当する白色を表示するように調整した。赤色の各色個別層、面積比は、白色表示における視野角の色度変化が最小になるように調整するため、上述したように赤単色の色度の視野角特性は最小化するわけではない。この表示装置を視野角５０度までの色ずれ量をｕ’ｖ’色空間での変化量δｕ’ｖ’として算出すると、０．０００９と非常に小さな値を示した（後述する実施例１の表１０参照）。
【００７４】
一般にｕ’ｖ’空間において許容される色変化量δｕ’ｖ’は、０．０２程度であるため、本実施形態の表示装置は、視野角に色ずれが大幅に抑制され、良好な視野角特性を備えた表示装置といえる。
【００７５】
なお、δｕ’ｖ’は、下記数４により算出される。数４において、（ｕ’0，ｖ’0）は装置を正面から観測したときのｕ’ｖ’色空間における色度であり、（ｕ’50，ｖ’50）は装置を視野角５０度から観測したときの色度である。
【００７６】
【数４】
【００７７】
また、本実施形態の緑色画素のような視野角色ずれの設定を、光学距離や面積割合を調整して、他色の発光画素に適用することも可能である。ただし、白色表示時の輝度比は、他の色の画素に比べて、緑色発光画素が高い。そのため、緑色発光画素の視野角特性は、表示装置全体の視野角特性への影響が大きいため、緑色画素をこのような設定とすることが特に好ましい。
【００７８】
さらに、各画素を構成する各層の光学定数は、青色の波高波長付近で急峻に変化する。そのため、青色発光画素では、視野角を変化させると共振器構造の光学距離も、他の発光色の画素に比べて大きく変化し、視野角による特性変動が大きい。そのため、青色発光画素に、本実施形態の緑色発光画素のように、画素トータルの色ずれが少なくなるように設定してもよい。
【００７９】
そして図６は、赤色画素の面積比とδｘｙの関係を示す説明図である。赤色画素における光学距離の異なる領域の面積比は、表示装置の白色表示における視野角色度変化が小さくなるように調整する目的で決定され、赤色画素単色の視野角特性を最適化するわけではない。即ち、図６に示すように、緑色画素、青色画素の色ずれとの兼ね合いから、赤色画素では必ずしもδｘｙが最小になっていない。
【００８０】
なお、このような各色発光画素の面積割合の変更は、画素内部に透明導電層の異なる領域を形成するフォトリソグラフィー工程で同時に行うことができる。したがって、特別な工程を追加することなく、１つの工程の追加で２つの調整パラメータを増やすことができるため、好ましい。
【００８１】
また、本実施形態のような透明導電層や、発光画素内部の面積割合を変えずに、例えば、有機化合物層を発光色毎に正孔輸送層Ｂ２８、発光層以外の膜厚を変更して調整パラメータを増やすことも可能である。しかし、必要パラメータの数だけ、例えば、マスク蒸着等が必要となるため、表示装置作製のスループットの観点で課題となる。
【００８２】
ここで、本実施形態において、透明導電層として１０ｎｍと１２５ｎｍの膜厚を選択したのは、異なる次数の光学干渉条件を適用するためである。即ち、既述した式（１）において、素子内部での光学干渉効果によって強められる波長λは、光学距離Ｌ、視認角度θ（素子に正対する場合を０°）、光の反射界面での位相シフトの和φといった素子の構造パラメータ、及び光学干渉の次数ｍにより定まる。なお、これらの光学定数は、例えば分光エリプソメーター等を用いて測定することができる。
【００８３】
反射界面での位相シフトφは、界面を形成する２つ層の材料のうち、光が入射する側にある材料を媒質Ｉ、他方の材料を媒質ＩＩとし、それぞれの光学定数を（ｎ1，ｋ1）、（ｎ2，ｋ2）とすると、下記式（２）の関係式で表すことができる。
【００８４】
φ＝ｔａｎ-1（２ｎ1ｋ2／（ｎ12−ｎ22−ｋ22））・・・（２）
【００８５】
本実施形態の多色表示装置において、例えば、各層の屈折率を有機化合物層１．８５、光透過層（透明導電層）１．９２、陽極の屈折率０．１２、消衰係数を３．４６とする。この場合、上記表１の膜厚を用いて発光層内部の発光領域と陽極との間で生じる光学干渉の共振波長を上記式（１）の関係式より算出する。光透過層（透明導電層）厚さ１０ｎｍの共振波長を下記表５に、厚さ１２５ｎｍの共振波長を下記表６に示す。
【００８６】
なお、下記表５及び表６の共振波長の計算では、発光層内部での発光領域を、赤色発光画素では発光層中央部、緑色及び青色発光画素では発光層−電子輸送層界面とし、発光領域と陽極間の光学距離をＬとする。
【００８７】
【表５】
【００８８】
【表６】
【００８９】
表５及び表６より、光学干渉の共振波長は、各有機化合物層や、透明導電層の膜厚、光学干渉の次数、また視野角により変化する。
【００９０】
表５におけるｍ＝２条件と、表６におけるｍ＝３条件は、共振波長の差異が１８〜６７ｎｍ程度であり、略同等な光学干渉条件になっている。
【００９１】
本実施形態では、正孔輸送層Ｂを除き有機化合物層の膜厚が同一であるが、光学干渉の次数が異なり、かつ、その共振波長が同等となるように、透明導電層の膜厚を設定する。
【００９２】
また、視野角による共振波長の変化について考えてみる。透明導電層の厚さにより、共振波長の変化が異なる。例えば、透明導電層１０ｎｍの緑色の発光画素におけるｍ＝２、１の視野角による共振波長変化を図７に示す。また、同様に透明導電層１２５ｎｍの場合のｍ＝３、２の視野角による共振波長変化を図８に示す。
【００９３】
装置正面において、４９１ｎｍ（図７ ｍ＝２条件）、４７３ｎｍ（図８ ｍ＝３条件）にあった共振波長は、視野角の変化とともに短波長にシフトする。いずれも約３０度以上の視野角領域では、その共振波長は、可視の波長領域よりも短波長となる。さらに、視野角が３０度以上の領域では、正面よりも次数が低いｍ＝１条件（図７）、ｍ＝２条件（図８）の共振波長が、緑色の波長領域（５００〜６００ｎｍ）にオーバーラップするようになる。そのため、視野角３０度までの領域では、より次数の高い条件の共振波長変化に応じて、また、３０度以上の領域では、正面よりも次数の低い条件の共振波長変化に応じて、色度が変化する。
【００９４】
この正面よりも次数の低い共振波長の影響は、透明導電層を１２５ｎｍとした場合により顕著で、上記図２に示した透明導電層１２５ｎｍの色度変化は、このような高次、低次の干渉条件の組み合わせにより生じる。
【００９５】
一方、透明導電層１０ｎｍの場合は、正面よりも次数の低い干渉条件の影響が軽微であり、その色度変化は、主にｍ＝２条件の共振波長が視野角とともに短波長側へシフトする影響による。そのため図２において、右から左へと色度が一様に変化する様子を示す。
【００９６】
そのため、透明導電層１０ｎｍの素子と透明導電層１２５ｎｍの素子を混色して得る合成光の色度は、視野角により色度が、それぞれが略反対方向に変化する二種類の素子を混合していることから、合成色としての色度変化を少なくできる。
【００９７】
また、透明導電層の膜厚としては、共振波長が上記の関係を満たしていればよく、１０ｎｍ、１２５ｎｍの以外の組み合わせでもよい。ただし、二種類の素子を混色して得る合成光の色度を小さくするためには、視野角により色度がそれぞれ略反対方向に変化する二種類の素子となるような組み合わせでないと効果はない。したがって、数値を限定するのは困難であるが、透明導電層としては１０ｎｍ乃至２００ｎｍが製造容易性・小型化の観点から好ましい。
【００９８】
例えば、下記表７のような積層構成でも、上記と同等の特性を得ることができる。
【００９９】
【表７】
【０１００】
このような積層構成の表示装置の各発光色の発光画素の面積割合を下記表８に、この表示装置の各発光色の色度及び視野角５０度における白色の色ずれ量δｕ’ｖ’を下記表９にそれぞれ示す。
【０１０１】
【表８】
【０１０２】
【表９】
【０１０３】
さらに図９は、透明導電層の膜厚が２４ｎｍ、１６５ｎｍの場合の表示装置の緑色の発光画素における０〜８０度の範囲で視野角を変化させた場合の色度変化を示す説明図である。図９に示すように、透明導電層の膜厚が２４ｎｍ、１６５ｎｍの表示装置は、透明導電層の膜厚が１０ｎｍ、１２５ｎｍの表示装置と同様の作用効果により、その合成色の色度変化を小さくすることが可能である。即ち、表７及び図９に示すように、透明導電層の膜厚、段差が異なっても同様な傾向を示している。
【０１０４】
図１０は、表７に示した積層構成の表示装置の緑色発光画素の面積比と色度変化量δｘｙの特性を示す説明図である。図１１は、表７に示した積層構成の表示装置の青色発光画素の面積比と色度変化量δｘｙの特性を示す説明図である。図１０及び図１１に示すように、色度変化量δｘｙの特性は、透明導電層の膜厚や段差（膜厚の差）が異なっても同様の傾向で現れる。
【０１０５】
図１２から図１４は、本実施形態の多色表示装置の画素配置の例示する概略図である。これらの図面において、４０は光学距離が異なる領域の光学領域Ａの部分、４１は光学距離が異なる領域の光学領域Ｂの部分を示している。
【０１０６】
発光画素内部の光学距離が異なる領域４０、４１の配置は特に制限がなく、図１２に示すように、光学距離の異なる領域４０、４１が発光画素によらず、同一面積比及び同一配置で配列されていてもよい。
【０１０７】
また、光学距離の異なる領域がモアレやムラを回避するように配置されていると、より好ましい。適切な配置としては、例えば、図１３に示す光学距離の異なる領域４０、４１は、隣接する同色の画素同士の面積比及び配置を同一に維持しながら、複数の発光色を有する主画素単位（ＲＧＢの３色からなる主画素単位）で領域４０、４１の相互位置を交互（千鳥状）に変えることが好ましい。さらに、図１４に示す光学距離の異なる領域４０、４１は、隣接する同色の画素同士の面積比及び配置を同一に維持しながら、異なる発光色の副画素同士で上記領域４０、４１の相互位置を交互（千鳥状）に変えることが好ましい。
【０１０８】
以上説明したように、本実施形態の多色表示装置は、表示装置上にある全ての画素において、反射電極層を構成する透明導電層Ａ２５、Ｂ２５の厚さを二種類の異なる厚さ（１０ｎｍ、１２５ｎｍ）に形成している。したがって、従来の表示装置に比べて工程数が少なくなる。
【０１０９】
また、緑色画素（もしくは青色画素）について、白色表示に対する視野角色ずれが最小となるように、前記光学距離の異なる領域４０、４１の面積比が決定している。さらに青色画素（もしくは緑色画素）では、青色単色(もしくは緑色単色)の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きく、赤色画素では、赤色単色の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きくなるように設定されている。したがって、表示装置の基板作製の負荷を小さくし、装置作製のスループットが高く、良好な視野角特性を備える多色表示装置を実現できる。
【０１１０】
また、図１３及び図１４のように、隣接画素で光学距離の異なる二種類の領域４０、４１を交互に配置することで、合成色の色度の視野角特性を良化でき、画質の良好な多色表示装置を実現できる。
【０１１１】
以上、本発明の好適な実施形態を説明したが、これは本発明の説明のための例示であり、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、上記実施形態とは異なる種々の態様で実施することができる。
【０１１２】
例えば、上記実施形態では、基板２０の上に陽極を形成した構成の一例を示したが、基板側より陰極、有機化合物層、陽極の順序で構成されていてもよく、電極の積層順序に特に制限はない。
【実施例】
【０１１３】
以下、実施例を挙げて、本発明に係る多色表示装置をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１１４】
＜実施例１＞
実施例１では、図１に示す構成の多色表示装置を以下に示す工程で作製した。
【０１１５】
支持体として、ガラス基板２０上に、低温ポリシリコンからなるＴＦＴ駆動回路２１を形成し、その上にアクリル樹脂からなる平坦化層２２を形成し、フォトリソグラフィー技術によりコンタクトホール２３を形成した。
【０１１６】
この上に、スパッタリング法により、反射層２４としてアルミニウム合金（ＡｌＮｄ）を１５０ｎｍの膜厚で成膜し、パターニングした。
【０１１７】
次に、スパッタリング法により、透明導電層Ａ２５としてＩＴＯを１０ｎｍの膜厚で成膜し、画素毎にパターニングした。続いて、スパッタリング法により、透明導電層Ｂ２６としてＩＴＯを１１５ｎｍの膜厚で成膜し、画素内における一部の領域のＩＴＯ厚さが１０ｎｍ、他方の領域のＩＴＯ厚さが１２５ｎｍになるように、パターニングをした。このとき、画素内部におけるＩＴＯ厚さが１０ｎｍと１２５ｎｍとなる領域の面積比は、上記表４に記載の面積比となるようにパターニングを行った。
【０１１８】
その後、アクリル樹脂により素子分離膜３６を形成した。これをイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）で超音波洗浄し、次いで煮沸洗浄後乾燥した。さらに、ＵＶ／オゾン洗浄し後、有機化合物を真空蒸着により成膜する。
【０１１９】
有機化合物層の成膜は、まず、正孔輸送層Ａ２７として下記化１の化学式で示される化合物をすべての画素に共通に１１８ｎｍの膜厚で成膜した。その成膜の際の真空度は１×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．２ｎｍ／ｓｅｃであった。
【０１２０】
次に、シャドーマスクを用いて、赤色、緑色、青色の各発光画素に対して、正孔輸送層Ｂ２８として下記化１の化学式で示される化合物［Ｉ］をそれぞれ１３５ｎｍ、５２ｎｍ、８ｎｍの膜厚で成膜した。
【０１２１】
【化１】
【０１２２】
その後、シャドーマスクを用いて、赤色の発光層２９、緑色の発光層３０、青色の発光層３１をそれぞれ３０ｎｍ、４０ｎｍ、２４ｎｍの厚さで成膜した。赤色の発光層２９としては、最大ピーク波長６２０ｎｍ、半値幅９７ｎｍのＰＬスペクトルを示す発光材料を用いた。緑色の発光層３０としては、最大ピーク波長５２５ｎｍ、半値幅６８ｎｍのＰＬスペクトルを示す発光材料を用いた。青色の発光層３１としては、最大ピーク波長４６０ｎｍ、半値幅４５ｎｍのＰＬスペクトルを示す発光材料を用いた。
【０１２３】
さらに、共通の電子輸送層３２として、真空蒸着法にてバソフェナントロリン（Ｂｐｈｅｎ）を２０ｎｍの厚さで成膜した。蒸着時の真空度は１×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．２ｎｍ／ｓｅｃの条件であった。
【０１２４】
次に、共通の電子注入層３３として、ＢｐｈｅｎとＣｓ2ＣＯ3を共蒸着（重量比９０：１０）して２８ｎｍの厚さで成膜した。蒸着時の真空度は３×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．２ｎｍ／ｓｅｃの条件であった。
【０１２５】
その後、各画素共通の電極Ａ３４として、銀を１２ｎｍの厚さで成膜した。蒸着時の真空度は２×１０-4Ｐａ、成膜速度は０．２ｎｍ／ｓｅｃの条件であった。
【０１２６】
続いて、この電極Ａ３４までを成膜した基板を、真空を保持したままでスパッタ装置に移動し、電極Ｂ３５としてＩＴＯを５０ｎｍの厚さで成膜した
その後、この基板を乾燥窒素が充填されているグローブボックス内に移動し、この基板の周辺部にＵＶ硬化樹脂をシールディスペンサーにより塗布した。そして、有機発光素子に対応する部分が０．３ｍｍの深さで掘り込まれた、厚さ０．７ｍｍの凹型のガラス板（封止部材３８）をこの基板の上から覆い被せた。基板上の周辺樹脂部に紫外線を照射し、樹脂の硬化で基板とガラス板を密着させ、表示装置を得た。なお、図１には、ＵＶ硬化樹脂は示されていない。
【０１２７】
下記表１０に、以上のようにして得られた表示装置の各色の発光色度及び視野角５０度における白色の色ずれ量δｕ’ｖ’を示す。
【０１２８】
【表１０】
【０１２９】
＜比較例１＞
比較例１では、反射層２４上に設ける透明導電層の膜厚を発光画素内部の全面において一律に１０ｎｍとした。それ以外は実施例１と同様にして、多色表示装置を作成した。
【０１３０】
下記表１１は、比較例１の素子の各層の膜厚を示している。なお、表示装置の正面において、各色の発光色度を実施例１の表示装置と略一致させるため、正孔輸送層Ａ２７及び正孔輸送層Ｂ２８の膜厚を調整している。
【０１３１】
【表１１】
【０１３２】
さらに下記表１２は、以上のようにして得られた比較例１の多色表示装置の各色の発光色度及び視野角５０度における白色の色ずれ量δｕ’ｖ’を示している。
【０１３３】
【表１２】
【０１３４】
表１０及び表１２より、実施例１の多色表示装置は、比較例１の多色表示装置に比して、視野角による白色の色ずれ量δｕ’ｖ’が大幅に軽減され、良好な発光特性を示すことが判った。
【産業上の利用可能性】
【０１３５】
本発明に係る表示装置は、照明や、電子機器のディスプレイとして、また、表示装置用のバックライト等の様々な用途に適用できる。電子機器のディプレイとしては、テレビ受像機、パーソナルコンピュータのディスプレイ、撮像装置の背面表示部、携帯電話の表示部、携帯ゲーム機の表示部等が挙げられる。その他、携帯音楽再生装置の表示部、携帯情報端末（ＰＤＡ）の表示部、カーナビゲーションシステムの表示部等が挙げられる。
【符号の説明】
【０１３６】
２０ 基板、２４ 反射層、２５ 透明導電層Ａ、２６ 透明導電層Ｂ、２７ 正孔輸送層Ａ、２８ 正孔輸送層Ｂ、２９ 赤色発光層、３０ 緑色発光層、３１ 青色発光層、３２ 電子輸送層、３３ 電子注入層、３４ 電極Ａ、３５ 電極Ｂ、４０ 領域（光学距離Ａの部分）、４１ 領域（光学距離Ｂの部分）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の上に、少なくともＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）を含む多色の有機発光素子からなる複数の画素を配置し、該有機発光素子は、反射電極層と半透明電極層との間に発光層を含む有機化合物層を有する多色表示装置であって、
各発光色の画素内部で光学距離の異なる領域が設定されるように、全ての画素について共通に、前記反射電極層を構成する透明導電層が二種類の異なる厚さを有し、
さらに緑色画素（もしくは青色画素）について、白色表示に対する視野角色ずれが最小となるように、前記光学距離の異なる領域の面積比が決定されると共に、
青色画素（もしくは緑色画素）では、青色単色(もしくは緑色単色)の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きく、赤色画素では、赤色単色の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きくなるように設定されていることを特徴とする多色表示装置。
【請求項２】
前記発光層の膜厚と前記有機化合物層を構成する正孔輸送層の膜厚が、各発光色で個別に設定されていることを特徴とする請求項１に記載の多色表示装置。
【請求項３】
前記光学距離の異なる領域が画素によらず、同一面積比及び同一配置で配列されていることを特徴とする請求項１または２に記載の多色表示装置。
【請求項４】
前記光学距離の異なる領域は、隣接する同色の画素同士の面積比及び配置を同一に維持しながら、ＲＧＢの画素単位で前記光学距離の異なる領域の相互位置を交互に変えることを特徴とする請求項１または２に記載の多色表示装置。
【請求項５】
前記光学距離の異なる領域は、隣接する同色の画素同士の面積比及び配置を同一に維持しながら、異なる発光色の画素同士の前記光学距離の異なる領域の相互位置を交互に変えることを特徴とする請求項１または２に記載の多色表示装置。
【請求項１】
基板の上に、少なくともＲ（赤色）、Ｇ（緑色）、Ｂ（青色）を含む多色の有機発光素子からなる複数の画素を配置し、該有機発光素子は、反射電極層と半透明電極層との間に発光層を含む有機化合物層を有する多色表示装置であって、
各発光色の画素内部で光学距離の異なる領域が設定されるように、全ての画素について共通に、前記反射電極層を構成する透明導電層が二種類の異なる厚さを有し、
さらに緑色画素（もしくは青色画素）について、白色表示に対する視野角色ずれが最小となるように、前記光学距離の異なる領域の面積比が決定されると共に、
青色画素（もしくは緑色画素）では、青色単色(もしくは緑色単色)の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きく、赤色画素では、赤色単色の視野角色ずれの少ない光学距離の領域の面積が大きくなるように設定されていることを特徴とする多色表示装置。
【請求項２】
前記発光層の膜厚と前記有機化合物層を構成する正孔輸送層の膜厚が、各発光色で個別に設定されていることを特徴とする請求項１に記載の多色表示装置。
【請求項３】
前記光学距離の異なる領域が画素によらず、同一面積比及び同一配置で配列されていることを特徴とする請求項１または２に記載の多色表示装置。
【請求項４】
前記光学距離の異なる領域は、隣接する同色の画素同士の面積比及び配置を同一に維持しながら、ＲＧＢの画素単位で前記光学距離の異なる領域の相互位置を交互に変えることを特徴とする請求項１または２に記載の多色表示装置。
【請求項５】
前記光学距離の異なる領域は、隣接する同色の画素同士の面積比及び配置を同一に維持しながら、異なる発光色の画素同士の前記光学距離の異なる領域の相互位置を交互に変えることを特徴とする請求項１または２に記載の多色表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【公開番号】特開２０１２−５４０９１（Ｐ２０１２−５４０９１Ａ）
【公開日】平成２４年３月１５日（２０１２．３．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１９５５４１（Ｐ２０１０−１９５５４１）
【出願日】平成２２年９月１日（２０１０．９．１）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月１５日（２０１２．３．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月１日（２０１０．９．１）
【出願人】（０００００１００７）キヤノン株式会社 (59,756)
【Ｆターム（参考）】
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