情報記録媒体およびその製造方法
【課題】高速記録、高密度記録を達成する。
【解決手段】基板電位をマイナス方向に動かすバイアス電圧を印加しながら無機物膜をスパッタリングにより形成するか、または、有機膜を塗布した後エネルギーを与えて積層膜を形成し、積層後も凹凸形状を維持するようにさせる。
【効果】凹凸形状を保った多層記録層を達成できるので、安定な大容量高速記録を行える。
【解決手段】基板電位をマイナス方向に動かすバイアス電圧を印加しながら無機物膜をスパッタリングにより形成するか、または、有機膜を塗布した後エネルギーを与えて積層膜を形成し、積層後も凹凸形状を維持するようにさせる。
【効果】凹凸形状を保った多層記録層を達成できるので、安定な大容量高速記録を行える。
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【特許請求の範囲】
【請求項1】
傾斜のある凹凸形状が繰り返し形成された基板と、
複数の記録層と、
前記基板から離れた記録層は、ほぼ円弧状の繰り返し、または底辺のないほぼ三角形状の繰り返しの形状であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項2】
前記記録層の1部に記録マークが形成されることを特徴とする請求項1記載の情報記録媒体。
【請求項3】
前記基板から離れた記録層の凹凸高さは、前記基板の凹凸高さの0.5倍から0.9倍の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載の情報記録媒体。
【請求項4】
凹凸形状を有する基板に、基板電位をマイナス方向に動かすバイアス電圧を印加しながらダミー層をスパッタリングにより形成するステップと、
前記ダミー層上に記録層を形成するステップとを有することを特徴とする記録媒体の製造方法。
【請求項5】
前記記録層を形成するステップは、複数あることを特徴とする請求項4記載の記録媒体の製造方法。
【請求項6】
凹凸形状を有する基板に、第1の膜を塗布するステップと、
前記塗布した第1の膜に、エネルギーを照射するステップと、
前記第1の膜上に、記録層を形成するステップとを有することを特徴とする記録媒体の製造方法。
【請求項7】
前記記録層を形成するステップは、複数あることを特徴とする請求項6記載の記録媒体の製造方法。
【請求項8】
前記エネルギーを与えるステップは、前記基板の凹領域に前記第1の膜を凹形状に形成するステップであることを特徴とする請求項6記載の記録媒体の製造方法。
【請求項9】
前記エネルギーを与えるステップは、前記基板の凹領域に対応する前記第1の膜に、光ビームを照射するステップであることを特徴とする請求項6記載の記録媒体の製造方法。
【請求項10】
前記記録層を形成するステップの後にも前記基板の凹領域に対応する前記第1の膜に、エネルギーを与えるステップがあることを特徴とする請求項6記載の記録媒体の製造方法。
【請求項11】
前記第1の膜は、ダミー層であることを特徴とする請求項6記載の記録媒体の製造方法。
【請求項12】
前記第1の膜は有機膜であることを特徴とする請求項6記載の記録媒体の製造方法。
【請求項13】
基板上に、マスクを介して、前記マスクで覆われた領域が第1の開口部となるように、第1の記録膜を成膜する第1のステップと、
前記マスクの大きさまたは前記マスクと基板との相対位置の少なくとも何れかを変化させる第2のステップと、
前記第2のステップの後、前記第1の記録膜が形成された前記基板上に、前記マスクを介して、前記マスクで覆われた領域が第2の開口部となるように、第2の記録膜を成膜する第3のステップとを有し、
前記第2の開口部は、前記第1の開口部と大きさまたは形状が異なることを特徴とする多層記録媒体の製造方法。
【請求項14】
前記マスクは略円盤状であり、前記第1のステップでは第1の平均直径を有し、前記第3のステップでは前記第1の平均直径とは異なる第2の平均直径を有することを特徴とする請求項13記載の多層記録媒体の製造方法。
【請求項15】
前記第1のステップと前記第3のステップは、スパッタリングまたは蒸着により成膜するステップであることを特徴とする請求項13記載の多層記録媒体の製造方法。
【請求項16】
更に、第3のステップの後に、前記マスクの大きさまたは前記マスクと基板との相対位置の少なくとも何れかを変化させ、前記マスクを介して、第3の記録膜を成膜するステップを有することを特徴とする請求項13記載の多層記録媒体の製造方法。
【請求項17】
前記マスクは、窪み部が設けられた略円盤状であり、前記第1のステップと前記第3のステップでは、窪み部と前記基板との相対位置が変化することを特徴とする請求項13記載の多層記録媒体の製造方法。
【請求項18】
前記第1のステップと前記第3のステップは、1つの装置内で行われることを特徴とする請求項13記載の多層記録媒体の製造方法。
【請求項19】
基板を設置するための台と、
前記基板上に成膜する材料からなるターゲットと、
前記ターゲットをスパッタリングして、前記基板上に成膜させる手段と、
前記台と前記ターゲットとの間に設けられたマスクとを有し、
前記マスクは、その大きさが可変であることを特徴とする媒体製造装置。
【請求項20】
前記マスクは複数の羽を有し、前記複数の羽の重なり具合によって、その大きさが変化することを特徴とする請求項19記載の媒体製造装置。
【請求項21】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第1の開口部になるように形成された第1の記録膜と、
前記第1の記録膜上に、前記第1の開口部上が第2の開口部となるように形成された第2の記録膜とを有し、
前記第1の開口部の形状と、前記第2の開口部の形状が異なることを特徴とする多層記録媒体。
【請求項22】
前記第1、第2の開口部は、前記基板の中心部に向かって凸部を有し、
前記第1の開口部における凸部の位置と、前記第2の開口部における凸部の位置が、ずれていることを特徴とする請求項21記載の多層記録媒体。
【請求項23】
前記第1,第2の開口部の凸部は、それぞれ複数あることを特徴とする請求項22記載の多層記録媒体。
【請求項24】
前記第1の開口部と前記第2の開口部は、凸部を除く平均直径がほぼ等しいことを特徴とする請求項22記載の多層記録媒体。
【請求項25】
更に、第2の記録膜上に、前記第2の開口部上が第3の開口部となるように形成された第3の記録膜を有し、前記第3の開口部の平均直径は前記第2の開口部の凸部を除く平均直径と異なることを特徴とする請求項22記載の多層記録媒体。
【請求項26】
前記第1、2の記録膜は、電圧を印加することにより透過率または反射率が変化する記録膜であり、更に、前記第1,第2の記録膜の間には、前記第1,第2の記録膜に電圧を印加する電極膜が設けられていることを特徴とする請求項21記載の多層記録媒体。
【請求項27】
前記第1,第2の開口部内に、前記電極膜が露出していることを特徴とする請求項21記載の多層記録媒体。
【請求項28】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第1の開口部になるように形成された第1の記録膜と、
前記第1の記録膜上に、前記第1の開口部上が第2の開口部となるように形成された第2の記録膜とを有し、
前記第2の記録膜上に、前記第2の開口部上が第3の開口部となるように形成された第3の記録膜とを有し、
前記第1の開口部の平均直径と前記第2の開口部の平均直径との差は、前記第2の開口部の平均直径と前記第3の開口部の平均直径との差よりも大きいことを特徴とする多層記録媒体。
【請求項29】
回転軸と、
前記回転軸に固定されたディスク載置部と、
前記ディスク載置部に載置されるディスク状記録媒体を押えて固定し、ディスク状記録媒体と一体となって回転するディスク押え部と、
前記ディスク載置部のディスク接触面に露出し、前記ディスク載置部に載置されるディスク状記録媒体の記録層を挟む電極と接触する複数の接触電極と、
電源と、
前記電源に接続され、前記複数の接触電極に給電する導電路とを備えることを特徴とする情報記録装置。
【請求項30】
回転軸と、
前記回転軸に固定されたディスク載置部と、
前記ディスク載置部に載置されるディスク状記録媒体を押えて固定し、ディスク状記録媒体と一体となって回転するディスク押え部と、
前記ディスク押え部のディスク接触面に露出し、前記ディスク載置部に載置されるディスク状記録媒体の記録層を挟む電極と接触する複数の接触電極と、
電源と、
前記電源に接続され、前記複数の接触電極に給電する導電路とを備えることを特徴とする情報記録装置。
【請求項31】
請求項29又は30記載の情報記録装置において、前記複数の接触電極は前記ディスク接触面から突出する方向に付勢されていることを特徴とする情報記録装置。
【請求項32】
請求項29又は30記載の情報記録装置において、前記回転軸中又は回転軸表面に前記導電路が設置されていることを特徴とする情報記録装置。
【請求項33】
請求項29又は30記載の情報記録装置において、前記ディスク押え部中に前記導電路が設置されていることを特徴とする情報記録装置。
【請求項34】
請求項33記載の情報記録装置において、前記回転軸と接して接触位置が長手方向に可動な細長い導体を有し、当該導体が前記導電路の一部を構成していることを特徴とする情報記録装置。
【請求項35】
請求項29又は30記載の情報記録装置において、前記接触電極はピン状又は帯状の電極であり、前記ディスク載置部に載置されるディスク状記録媒体の記録層を挟む電極と直接又は他の導電性物質を介して接触することを特徴とする情報記録装置。
【請求項36】
それぞれが一対の電極で挟まれた電圧印加によって発色する複数の記録層を有するディスク状記録媒体を回転軸に固定されたディスク載置部に設置するステップと、
前記ディスク載置部に載置されたディスク状記録媒体を、当該ディスク状記録媒体と一体となって回転するディスク押え部により押えて固定するステップと、
前記ディスク載置部のディスク接触面あるいは前記ディスク押え部のディスク接触面に設けた複数の接触電極から前記複数の記録層のうちの1つの記録層を挟む一対の電極に、間に挟まれている記録層が発色する向きの電圧を印加するステップと、
前記ディスク状記録媒体に光照射し、前記電圧を印加されている一対の電極に挟まれた記録層に選択的に情報を記録するステップとを有することを特徴とする情報記録方法。
【請求項37】
請求項36記載の情報記録方法において、前記電圧印加によって発色する記録層はエレクトロクロミック材料を含むことを特徴とする情報記録方法。
【請求項38】
請求項36記載の情報記録方法において、前記選択的に情報を記録する記録層以外の記録層を挟む電極対に、間に挟まれている記録層の透過率が増大する向きの電圧を印加することを特徴とする情報記録方法。
【請求項39】
請求項38記載の情報記録方法において、複数の電極対に対して時分割的に電圧を印加することを特徴とする情報記録方法。
【請求項40】
請求項36記載の情報記録方法において、前記接触電極はピン状又は帯状の電極であり、前記ディスク載置部に載置されるディスク状記録媒体の記録層を挟む電極と直接又は他の導電性物質を介して接触することを特徴とする情報記録方法。
【請求項41】
一対の透明電極とその間のエレクトロクロミック材料層及び固体電解質材料層の組を複数組とそれらを挟む2枚の基板を有し、これら2枚の基板のうち一方が基板を貫通又は基板の中心穴近傍を迂回するピン状又は帯状の導電性材料より成る導電路を有し、それらがそれぞれ直接又は他の導電性材料を介して上記透明電極のいずれかに電気的に接続されていることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項42】
エネルギーを照射することによって、情報を記録する情報記録媒体であって、
基板と、前記基板上に形成された、電極層、エレクトロクロミック層、電解質層の組合せからなる記録層を、複数有し、
前記記録層の、ある1層の着色状態の反射率Rc、消色状態の反射率Re、前記記録層に記録された部分の反射率Rmの関係が、式(1)(2)(3)を満たすことを特徴とする多層光ディスク。
(Re−Rm)/(Rc−Rm)≦0.03 (1)
Re<Rc (2)
Rm<Rc (3)
【請求項43】
エネルギーを照射することによって、情報を記録する情報記録媒体に、
基板と、前記基板上に形成された、電極層、エレクトロクロミック層、電解質層の組合せからなる記録層を、複数有し、
前記記録層の、ある1層の着色状態の反射率Rc、消色状態の反射率Re、前記記録層に記録された
部分の反射率Rmの関係が、式(1)(2)(3)を満たすようにして、情報を記録することを特徴とする情報記録方法。
(Re−Rm)/(Rc−Rm)≦0.03 (1)
Re<Rc (2)
Rm<Rc (3)
【請求項44】
前記式(1)(2)(3)を満たすような、前記着色状態の反射率Rcとなる電圧を印加して、前記情報を記録することを特徴とする請求項43記載の情報記録方法。
【請求項45】
前記式(1)(2)(3)を満たすような、前記消色状態の反射率Reとなる電圧を印加して、前記情報を記録することを特徴とする請求項43記載の情報記録方法。
【請求項46】
前記式(1)(2)(3)を満たすような、前記記録層に記録された部分の反射率Rmとなる記録パワーで、前記情報を記録することを特徴とする請求項43記載の情報記録方法。
【請求項47】
エネルギーを照射することによって、記録・再生する情報記録媒体に、
基板と、前記基板上に形成された、電極層、エレクトロクロミック層、電解質層の組合せからなる、複数の記録層を有し、
電圧印加により前記記録層の選択を行う際、反射率変化開始電圧Esの1.5倍以上、3倍以下の電圧を印加する記録再生方法。
【請求項48】
前記複数の記録層のうちの何れかの記録層に記録を行う際、記録開始パワーの2.0倍以上のパワーで記録を行うことを特徴とする請求項43記載の情報記録方法。
【請求項49】
前記複数の記録層の記録膜間距離は、180nm以上500nm以下であることを特徴とする請求項1記載の情報記録媒体。
【請求項50】
前記複数の記録層の記録膜間距離は、180nm以上500nm以下であることを特徴とする請求項21記載の情報記録媒体。
【請求項51】
前記複数の記録層の記録膜間距離は、180nm以上500nm以下であることを特徴とする請求項41記載の情報記録媒体。
【請求項52】
前記第1の記録層は、電極層と、電解質層と、エレクトロクロミック層からなり、
前記第2の記録層は、電極層と、電解質層と、エレクトロクロミック層からなり、
前記第2の記録層の電極層の末端が、前記第1の記録層の電極層、電解質層、エレクトロクロミック層よりも、内周側になるように形成されていることを特徴とする請求項21記載の情報記録媒体。
【請求項53】
前記第1の記録層は、電極層と、電解質層と、エレクトロクロミック層からなり、前記電解質層とエレクトロクロミック層の少なくとも何れかは、前記電極層よりも外周側に突出していることを特徴とする請求項21記載の情報記録媒体。
【請求項54】
前記第1の記録膜と前記第2の記録膜との間に、前記媒体の外周側で、絶縁膜が設けられていることを特徴とする請求項21記載の情報記録媒体。
【請求項55】
前記電極は、ZnO含有量が10モル%以上90モル%以下であることを特徴とする請求項41記載の情報記録媒体。
【請求項56】
前記基板は凹凸形状を有し、前記凹凸の段差よりも前記透明電極の膜厚が厚いことを特徴とする請求項41記載の情報記録媒体。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
エネルギーを照射することによって、情報を記録する情報記録媒体であって、
基板と、前記基板上に形成された、電極層、エレクトロクロミック層、電解質層の組合せからなる記録層を、複数有し、
前記記録層の、ある1層の着色状態の反射率Rc、消色状態の反射率Re、前記記録層に記録された部分の反射率Rmの関係が、式(1)(2)(3)を満たすことを特徴とする多層光ディスク。
(Re-Rm) /(Rc-Rm)≦0.03 (1)
Re<Rc (2)
Rm<Rc (3)
【請求項2】
エネルギーを照射することによって、情報を記録する情報記録媒体に、
基板と、前記基板上に形成された、電極層、エレクトロクロミック層、電解質層の組合せからなる記録層を、複数有し、
前記記録層の、ある1層の着色状態の反射率Rc、消色状態の反射率Re、前記記録層に記録された部分の反射率Rmの関係が、式(1)(2)(3)を満たすようにして、情報を記録することを特徴とする情報記録方法。
(Re-Rm) /(Rc-Rm)≦0.03 (1)
Re<Rc (2)
Rm<Rc (3)
【請求項3】
前記式(1)(2)(3)を満たすような、前記着色状態の反射率Rcとなる電圧を印加して、前記情報を記録することを特徴とする請求項2記載の情報記録方法。
【請求項4】
前記式(1)(2)(3)を満たすような、前記消色状態の反射率Reとなる電圧を印加して、前記情報を記録することを特徴とする請求項2記載の情報記録方法。
【請求項5】
前記式(1)(2)(3)を満たすような、前記記録層に記録された部分の反射率Rmとなる記録パワーで、前記情報を記録することを特徴とする請求項2記載の情報記録方法。
【請求項6】
エネルギーを照射することによって、記録・再生する情報記録媒体に、
基板と、前記基板上に形成された、電極層、エレクトロクロミック層、電解質層の組合せからなる、複数の記録層を有し、
電圧印加により前記記録層の選択を行う際、反射率変化開始電圧Esの1.5倍以上、3倍以下の電圧を印加する記録再生方法。
【請求項7】
前記複数の記録層のうちの何れかの記録層に記録を行う際、記録開始パワーの2.0倍以上のパワーで記録を行うことを特徴とする請求項2記載の情報記録方法。
【請求項8】
傾斜のある凹凸形状が繰り返し形成された基板と、
複数の記録層と、
前記基板から離れた記録層は、ほぼ円弧状の繰り返し、または底辺のないほぼ三角形状の繰り返しの形状であり、
前記複数の記録層の記録膜間距離は、180nm以上500nm以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項9】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第1の開口部になるように形成された第1の記録膜と、
前記第1の記録膜上に、前記第1の開口部上が第2の開口部となるように形成された第2の記録膜とを有し、
前記第1の開口部の形状と、前記第2の開口部の形状が異なり、
前記複数の記録層の記録膜間距離は、180nm以上500nm以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項10】
一対の透明電極とその間のエレクトロクロミック材料層及び固体電解質材料層の組を複数組とそれらを挟む2枚の基板を有し、これら2枚の基板のうち一方が基板を貫通又は基板の中心穴近傍を迂回するピン状又は帯状の導電性材料より成る導電路を有し、それらがそれぞれ直接又は他の導電性材料を介して上記透明電極のいずれかに電気的に接続されており、
前記複数の記録層の記録膜間距離は、180nm以上500nm以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項11】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第1の開口部になるように形成された第1の記録膜と、
前記第1の記録膜上に、前記第1の開口部上が第2の開口部となるように形成された第2の記録膜とを有し、
前記第1の開口部の形状と、前記第2の開口部の形状が異なり、
前記第1の記録層は、電極層と、電解質層と、エレクトロクロミック層からなり、
前記第2の記録層は、電極層と、電解質層と、エレクトロクロミック層からなり、
前記第2の記録層の電極層の末端が、前記第1の記録層の電極層、電解質層、エレクトロクロミック層よりも、内周側になるように形成されていることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項12】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第1の開口部になるように形成された第1の記録膜と、
前記第1の記録膜上に、前記第1の開口部上が第2の開口部となるように形成された第2の記録膜とを有し、
前記第1の開口部の形状と、前記第2の開口部の形状が異なり、
前記第1の記録層は、電極層と、電解質層と、エレクトロクロミック層からなり、前記電解質層とエレクトロクロミック層の少なくとも何れかは、前記電極層よりも外周側に突出していることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項13】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第1の開口部になるように形成された第1の記録膜と、
前記第1の記録膜上に、前記第1の開口部上が第2の開口部となるように形成された第2の記録膜とを有し、
前記第1の開口部の形状と、前記第2の開口部の形状が異なり、
前記第1の記録膜と前記第2の記録膜との間に、前記媒体の外周側で、絶縁膜が設けられていることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項14】
一対の透明電極とその間のエレクトロクロミック材料層及び固体電解質材料層の組を複数組とそれらを挟む2枚の基板を有し、これら2枚の基板のうち一方が基板を貫通又は基板の中心穴近傍を迂回するピン状又は帯状の導電性材料より成る導電路を有し、それらがそれぞれ直接又は他の導電性材料を介して上記透明電極のいずれかに電気的に接続され、
前記電極は、ZnO含有量が10モル%以上90モル%以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項15】
一対の透明電極とその間のエレクトロクロミック材料層及び固体電解質材料層の組を複数組とそれらを挟む2枚の基板を有し、これら2枚の基板のうち一方が基板を貫通又は基板の中心穴近傍を迂回するピン状又は帯状の導電性材料より成る導電路を有し、それらがそれぞれ直接又は他の導電性材料を介して上記透明電極のいずれかに電気的に接続され、
前記基板は凹凸形状を有し、前記凹凸の段差よりも前記透明電極の膜厚が厚いことを特徴とする情報記録媒体。
【請求項1】
傾斜のある凹凸形状が繰り返し形成された基板と、
複数の記録層と、
前記基板から離れた記録層は、ほぼ円弧状の繰り返し、または底辺のないほぼ三角形状の繰り返しの形状であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項2】
前記記録層の1部に記録マークが形成されることを特徴とする請求項1記載の情報記録媒体。
【請求項3】
前記基板から離れた記録層の凹凸高さは、前記基板の凹凸高さの0.5倍から0.9倍の範囲にあることを特徴とする請求項1に記載の情報記録媒体。
【請求項4】
凹凸形状を有する基板に、基板電位をマイナス方向に動かすバイアス電圧を印加しながらダミー層をスパッタリングにより形成するステップと、
前記ダミー層上に記録層を形成するステップとを有することを特徴とする記録媒体の製造方法。
【請求項5】
前記記録層を形成するステップは、複数あることを特徴とする請求項4記載の記録媒体の製造方法。
【請求項6】
凹凸形状を有する基板に、第1の膜を塗布するステップと、
前記塗布した第1の膜に、エネルギーを照射するステップと、
前記第1の膜上に、記録層を形成するステップとを有することを特徴とする記録媒体の製造方法。
【請求項7】
前記記録層を形成するステップは、複数あることを特徴とする請求項6記載の記録媒体の製造方法。
【請求項8】
前記エネルギーを与えるステップは、前記基板の凹領域に前記第1の膜を凹形状に形成するステップであることを特徴とする請求項6記載の記録媒体の製造方法。
【請求項9】
前記エネルギーを与えるステップは、前記基板の凹領域に対応する前記第1の膜に、光ビームを照射するステップであることを特徴とする請求項6記載の記録媒体の製造方法。
【請求項10】
前記記録層を形成するステップの後にも前記基板の凹領域に対応する前記第1の膜に、エネルギーを与えるステップがあることを特徴とする請求項6記載の記録媒体の製造方法。
【請求項11】
前記第1の膜は、ダミー層であることを特徴とする請求項6記載の記録媒体の製造方法。
【請求項12】
前記第1の膜は有機膜であることを特徴とする請求項6記載の記録媒体の製造方法。
【請求項13】
基板上に、マスクを介して、前記マスクで覆われた領域が第1の開口部となるように、第1の記録膜を成膜する第1のステップと、
前記マスクの大きさまたは前記マスクと基板との相対位置の少なくとも何れかを変化させる第2のステップと、
前記第2のステップの後、前記第1の記録膜が形成された前記基板上に、前記マスクを介して、前記マスクで覆われた領域が第2の開口部となるように、第2の記録膜を成膜する第3のステップとを有し、
前記第2の開口部は、前記第1の開口部と大きさまたは形状が異なることを特徴とする多層記録媒体の製造方法。
【請求項14】
前記マスクは略円盤状であり、前記第1のステップでは第1の平均直径を有し、前記第3のステップでは前記第1の平均直径とは異なる第2の平均直径を有することを特徴とする請求項13記載の多層記録媒体の製造方法。
【請求項15】
前記第1のステップと前記第3のステップは、スパッタリングまたは蒸着により成膜するステップであることを特徴とする請求項13記載の多層記録媒体の製造方法。
【請求項16】
更に、第3のステップの後に、前記マスクの大きさまたは前記マスクと基板との相対位置の少なくとも何れかを変化させ、前記マスクを介して、第3の記録膜を成膜するステップを有することを特徴とする請求項13記載の多層記録媒体の製造方法。
【請求項17】
前記マスクは、窪み部が設けられた略円盤状であり、前記第1のステップと前記第3のステップでは、窪み部と前記基板との相対位置が変化することを特徴とする請求項13記載の多層記録媒体の製造方法。
【請求項18】
前記第1のステップと前記第3のステップは、1つの装置内で行われることを特徴とする請求項13記載の多層記録媒体の製造方法。
【請求項19】
基板を設置するための台と、
前記基板上に成膜する材料からなるターゲットと、
前記ターゲットをスパッタリングして、前記基板上に成膜させる手段と、
前記台と前記ターゲットとの間に設けられたマスクとを有し、
前記マスクは、その大きさが可変であることを特徴とする媒体製造装置。
【請求項20】
前記マスクは複数の羽を有し、前記複数の羽の重なり具合によって、その大きさが変化することを特徴とする請求項19記載の媒体製造装置。
【請求項21】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第1の開口部になるように形成された第1の記録膜と、
前記第1の記録膜上に、前記第1の開口部上が第2の開口部となるように形成された第2の記録膜とを有し、
前記第1の開口部の形状と、前記第2の開口部の形状が異なることを特徴とする多層記録媒体。
【請求項22】
前記第1、第2の開口部は、前記基板の中心部に向かって凸部を有し、
前記第1の開口部における凸部の位置と、前記第2の開口部における凸部の位置が、ずれていることを特徴とする請求項21記載の多層記録媒体。
【請求項23】
前記第1,第2の開口部の凸部は、それぞれ複数あることを特徴とする請求項22記載の多層記録媒体。
【請求項24】
前記第1の開口部と前記第2の開口部は、凸部を除く平均直径がほぼ等しいことを特徴とする請求項22記載の多層記録媒体。
【請求項25】
更に、第2の記録膜上に、前記第2の開口部上が第3の開口部となるように形成された第3の記録膜を有し、前記第3の開口部の平均直径は前記第2の開口部の凸部を除く平均直径と異なることを特徴とする請求項22記載の多層記録媒体。
【請求項26】
前記第1、2の記録膜は、電圧を印加することにより透過率または反射率が変化する記録膜であり、更に、前記第1,第2の記録膜の間には、前記第1,第2の記録膜に電圧を印加する電極膜が設けられていることを特徴とする請求項21記載の多層記録媒体。
【請求項27】
前記第1,第2の開口部内に、前記電極膜が露出していることを特徴とする請求項21記載の多層記録媒体。
【請求項28】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第1の開口部になるように形成された第1の記録膜と、
前記第1の記録膜上に、前記第1の開口部上が第2の開口部となるように形成された第2の記録膜とを有し、
前記第2の記録膜上に、前記第2の開口部上が第3の開口部となるように形成された第3の記録膜とを有し、
前記第1の開口部の平均直径と前記第2の開口部の平均直径との差は、前記第2の開口部の平均直径と前記第3の開口部の平均直径との差よりも大きいことを特徴とする多層記録媒体。
【請求項29】
回転軸と、
前記回転軸に固定されたディスク載置部と、
前記ディスク載置部に載置されるディスク状記録媒体を押えて固定し、ディスク状記録媒体と一体となって回転するディスク押え部と、
前記ディスク載置部のディスク接触面に露出し、前記ディスク載置部に載置されるディスク状記録媒体の記録層を挟む電極と接触する複数の接触電極と、
電源と、
前記電源に接続され、前記複数の接触電極に給電する導電路とを備えることを特徴とする情報記録装置。
【請求項30】
回転軸と、
前記回転軸に固定されたディスク載置部と、
前記ディスク載置部に載置されるディスク状記録媒体を押えて固定し、ディスク状記録媒体と一体となって回転するディスク押え部と、
前記ディスク押え部のディスク接触面に露出し、前記ディスク載置部に載置されるディスク状記録媒体の記録層を挟む電極と接触する複数の接触電極と、
電源と、
前記電源に接続され、前記複数の接触電極に給電する導電路とを備えることを特徴とする情報記録装置。
【請求項31】
請求項29又は30記載の情報記録装置において、前記複数の接触電極は前記ディスク接触面から突出する方向に付勢されていることを特徴とする情報記録装置。
【請求項32】
請求項29又は30記載の情報記録装置において、前記回転軸中又は回転軸表面に前記導電路が設置されていることを特徴とする情報記録装置。
【請求項33】
請求項29又は30記載の情報記録装置において、前記ディスク押え部中に前記導電路が設置されていることを特徴とする情報記録装置。
【請求項34】
請求項33記載の情報記録装置において、前記回転軸と接して接触位置が長手方向に可動な細長い導体を有し、当該導体が前記導電路の一部を構成していることを特徴とする情報記録装置。
【請求項35】
請求項29又は30記載の情報記録装置において、前記接触電極はピン状又は帯状の電極であり、前記ディスク載置部に載置されるディスク状記録媒体の記録層を挟む電極と直接又は他の導電性物質を介して接触することを特徴とする情報記録装置。
【請求項36】
それぞれが一対の電極で挟まれた電圧印加によって発色する複数の記録層を有するディスク状記録媒体を回転軸に固定されたディスク載置部に設置するステップと、
前記ディスク載置部に載置されたディスク状記録媒体を、当該ディスク状記録媒体と一体となって回転するディスク押え部により押えて固定するステップと、
前記ディスク載置部のディスク接触面あるいは前記ディスク押え部のディスク接触面に設けた複数の接触電極から前記複数の記録層のうちの1つの記録層を挟む一対の電極に、間に挟まれている記録層が発色する向きの電圧を印加するステップと、
前記ディスク状記録媒体に光照射し、前記電圧を印加されている一対の電極に挟まれた記録層に選択的に情報を記録するステップとを有することを特徴とする情報記録方法。
【請求項37】
請求項36記載の情報記録方法において、前記電圧印加によって発色する記録層はエレクトロクロミック材料を含むことを特徴とする情報記録方法。
【請求項38】
請求項36記載の情報記録方法において、前記選択的に情報を記録する記録層以外の記録層を挟む電極対に、間に挟まれている記録層の透過率が増大する向きの電圧を印加することを特徴とする情報記録方法。
【請求項39】
請求項38記載の情報記録方法において、複数の電極対に対して時分割的に電圧を印加することを特徴とする情報記録方法。
【請求項40】
請求項36記載の情報記録方法において、前記接触電極はピン状又は帯状の電極であり、前記ディスク載置部に載置されるディスク状記録媒体の記録層を挟む電極と直接又は他の導電性物質を介して接触することを特徴とする情報記録方法。
【請求項41】
一対の透明電極とその間のエレクトロクロミック材料層及び固体電解質材料層の組を複数組とそれらを挟む2枚の基板を有し、これら2枚の基板のうち一方が基板を貫通又は基板の中心穴近傍を迂回するピン状又は帯状の導電性材料より成る導電路を有し、それらがそれぞれ直接又は他の導電性材料を介して上記透明電極のいずれかに電気的に接続されていることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項42】
エネルギーを照射することによって、情報を記録する情報記録媒体であって、
基板と、前記基板上に形成された、電極層、エレクトロクロミック層、電解質層の組合せからなる記録層を、複数有し、
前記記録層の、ある1層の着色状態の反射率Rc、消色状態の反射率Re、前記記録層に記録された部分の反射率Rmの関係が、式(1)(2)(3)を満たすことを特徴とする多層光ディスク。
(Re−Rm)/(Rc−Rm)≦0.03 (1)
Re<Rc (2)
Rm<Rc (3)
【請求項43】
エネルギーを照射することによって、情報を記録する情報記録媒体に、
基板と、前記基板上に形成された、電極層、エレクトロクロミック層、電解質層の組合せからなる記録層を、複数有し、
前記記録層の、ある1層の着色状態の反射率Rc、消色状態の反射率Re、前記記録層に記録された
部分の反射率Rmの関係が、式(1)(2)(3)を満たすようにして、情報を記録することを特徴とする情報記録方法。
(Re−Rm)/(Rc−Rm)≦0.03 (1)
Re<Rc (2)
Rm<Rc (3)
【請求項44】
前記式(1)(2)(3)を満たすような、前記着色状態の反射率Rcとなる電圧を印加して、前記情報を記録することを特徴とする請求項43記載の情報記録方法。
【請求項45】
前記式(1)(2)(3)を満たすような、前記消色状態の反射率Reとなる電圧を印加して、前記情報を記録することを特徴とする請求項43記載の情報記録方法。
【請求項46】
前記式(1)(2)(3)を満たすような、前記記録層に記録された部分の反射率Rmとなる記録パワーで、前記情報を記録することを特徴とする請求項43記載の情報記録方法。
【請求項47】
エネルギーを照射することによって、記録・再生する情報記録媒体に、
基板と、前記基板上に形成された、電極層、エレクトロクロミック層、電解質層の組合せからなる、複数の記録層を有し、
電圧印加により前記記録層の選択を行う際、反射率変化開始電圧Esの1.5倍以上、3倍以下の電圧を印加する記録再生方法。
【請求項48】
前記複数の記録層のうちの何れかの記録層に記録を行う際、記録開始パワーの2.0倍以上のパワーで記録を行うことを特徴とする請求項43記載の情報記録方法。
【請求項49】
前記複数の記録層の記録膜間距離は、180nm以上500nm以下であることを特徴とする請求項1記載の情報記録媒体。
【請求項50】
前記複数の記録層の記録膜間距離は、180nm以上500nm以下であることを特徴とする請求項21記載の情報記録媒体。
【請求項51】
前記複数の記録層の記録膜間距離は、180nm以上500nm以下であることを特徴とする請求項41記載の情報記録媒体。
【請求項52】
前記第1の記録層は、電極層と、電解質層と、エレクトロクロミック層からなり、
前記第2の記録層は、電極層と、電解質層と、エレクトロクロミック層からなり、
前記第2の記録層の電極層の末端が、前記第1の記録層の電極層、電解質層、エレクトロクロミック層よりも、内周側になるように形成されていることを特徴とする請求項21記載の情報記録媒体。
【請求項53】
前記第1の記録層は、電極層と、電解質層と、エレクトロクロミック層からなり、前記電解質層とエレクトロクロミック層の少なくとも何れかは、前記電極層よりも外周側に突出していることを特徴とする請求項21記載の情報記録媒体。
【請求項54】
前記第1の記録膜と前記第2の記録膜との間に、前記媒体の外周側で、絶縁膜が設けられていることを特徴とする請求項21記載の情報記録媒体。
【請求項55】
前記電極は、ZnO含有量が10モル%以上90モル%以下であることを特徴とする請求項41記載の情報記録媒体。
【請求項56】
前記基板は凹凸形状を有し、前記凹凸の段差よりも前記透明電極の膜厚が厚いことを特徴とする請求項41記載の情報記録媒体。
【特許請求の範囲】
【請求項1】
エネルギーを照射することによって、情報を記録する情報記録媒体であって、
基板と、前記基板上に形成された、電極層、エレクトロクロミック層、電解質層の組合せからなる記録層を、複数有し、
前記記録層の、ある1層の着色状態の反射率Rc、消色状態の反射率Re、前記記録層に記録された部分の反射率Rmの関係が、式(1)(2)(3)を満たすことを特徴とする多層光ディスク。
(Re-Rm) /(Rc-Rm)≦0.03 (1)
Re<Rc (2)
Rm<Rc (3)
【請求項2】
エネルギーを照射することによって、情報を記録する情報記録媒体に、
基板と、前記基板上に形成された、電極層、エレクトロクロミック層、電解質層の組合せからなる記録層を、複数有し、
前記記録層の、ある1層の着色状態の反射率Rc、消色状態の反射率Re、前記記録層に記録された部分の反射率Rmの関係が、式(1)(2)(3)を満たすようにして、情報を記録することを特徴とする情報記録方法。
(Re-Rm) /(Rc-Rm)≦0.03 (1)
Re<Rc (2)
Rm<Rc (3)
【請求項3】
前記式(1)(2)(3)を満たすような、前記着色状態の反射率Rcとなる電圧を印加して、前記情報を記録することを特徴とする請求項2記載の情報記録方法。
【請求項4】
前記式(1)(2)(3)を満たすような、前記消色状態の反射率Reとなる電圧を印加して、前記情報を記録することを特徴とする請求項2記載の情報記録方法。
【請求項5】
前記式(1)(2)(3)を満たすような、前記記録層に記録された部分の反射率Rmとなる記録パワーで、前記情報を記録することを特徴とする請求項2記載の情報記録方法。
【請求項6】
エネルギーを照射することによって、記録・再生する情報記録媒体に、
基板と、前記基板上に形成された、電極層、エレクトロクロミック層、電解質層の組合せからなる、複数の記録層を有し、
電圧印加により前記記録層の選択を行う際、反射率変化開始電圧Esの1.5倍以上、3倍以下の電圧を印加する記録再生方法。
【請求項7】
前記複数の記録層のうちの何れかの記録層に記録を行う際、記録開始パワーの2.0倍以上のパワーで記録を行うことを特徴とする請求項2記載の情報記録方法。
【請求項8】
傾斜のある凹凸形状が繰り返し形成された基板と、
複数の記録層と、
前記基板から離れた記録層は、ほぼ円弧状の繰り返し、または底辺のないほぼ三角形状の繰り返しの形状であり、
前記複数の記録層の記録膜間距離は、180nm以上500nm以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項9】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第1の開口部になるように形成された第1の記録膜と、
前記第1の記録膜上に、前記第1の開口部上が第2の開口部となるように形成された第2の記録膜とを有し、
前記第1の開口部の形状と、前記第2の開口部の形状が異なり、
前記複数の記録層の記録膜間距離は、180nm以上500nm以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項10】
一対の透明電極とその間のエレクトロクロミック材料層及び固体電解質材料層の組を複数組とそれらを挟む2枚の基板を有し、これら2枚の基板のうち一方が基板を貫通又は基板の中心穴近傍を迂回するピン状又は帯状の導電性材料より成る導電路を有し、それらがそれぞれ直接又は他の導電性材料を介して上記透明電極のいずれかに電気的に接続されており、
前記複数の記録層の記録膜間距離は、180nm以上500nm以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項11】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第1の開口部になるように形成された第1の記録膜と、
前記第1の記録膜上に、前記第1の開口部上が第2の開口部となるように形成された第2の記録膜とを有し、
前記第1の開口部の形状と、前記第2の開口部の形状が異なり、
前記第1の記録層は、電極層と、電解質層と、エレクトロクロミック層からなり、
前記第2の記録層は、電極層と、電解質層と、エレクトロクロミック層からなり、
前記第2の記録層の電極層の末端が、前記第1の記録層の電極層、電解質層、エレクトロクロミック層よりも、内周側になるように形成されていることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項12】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第1の開口部になるように形成された第1の記録膜と、
前記第1の記録膜上に、前記第1の開口部上が第2の開口部となるように形成された第2の記録膜とを有し、
前記第1の開口部の形状と、前記第2の開口部の形状が異なり、
前記第1の記録層は、電極層と、電解質層と、エレクトロクロミック層からなり、前記電解質層とエレクトロクロミック層の少なくとも何れかは、前記電極層よりも外周側に突出していることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項13】
中心に穴を有する基板と、
前記基板上に、前記基板の穴上が第1の開口部になるように形成された第1の記録膜と、
前記第1の記録膜上に、前記第1の開口部上が第2の開口部となるように形成された第2の記録膜とを有し、
前記第1の開口部の形状と、前記第2の開口部の形状が異なり、
前記第1の記録膜と前記第2の記録膜との間に、前記媒体の外周側で、絶縁膜が設けられていることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項14】
一対の透明電極とその間のエレクトロクロミック材料層及び固体電解質材料層の組を複数組とそれらを挟む2枚の基板を有し、これら2枚の基板のうち一方が基板を貫通又は基板の中心穴近傍を迂回するピン状又は帯状の導電性材料より成る導電路を有し、それらがそれぞれ直接又は他の導電性材料を介して上記透明電極のいずれかに電気的に接続され、
前記電極は、ZnO含有量が10モル%以上90モル%以下であることを特徴とする情報記録媒体。
【請求項15】
一対の透明電極とその間のエレクトロクロミック材料層及び固体電解質材料層の組を複数組とそれらを挟む2枚の基板を有し、これら2枚の基板のうち一方が基板を貫通又は基板の中心穴近傍を迂回するピン状又は帯状の導電性材料より成る導電路を有し、それらがそれぞれ直接又は他の導電性材料を介して上記透明電極のいずれかに電気的に接続され、
前記基板は凹凸形状を有し、前記凹凸の段差よりも前記透明電極の膜厚が厚いことを特徴とする情報記録媒体。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図38】
【図39】
【図40】
【図41】
【図42】
【図43】
【図44】
【図45】
【図46】
【図47】
【図48】
【図50】
【図51】
【図52】
【図53】
【図54】
【図55】
【図56】
【図57】
【図58】
【図59】
【図60】
【図61】
【図62】
【図63】
【図37】
【図49】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図12】
【図13】
【図14】
【図15】
【図16】
【図17】
【図18】
【図19】
【図20】
【図21】
【図22】
【図23】
【図24】
【図25】
【図26】
【図27】
【図28】
【図29】
【図30】
【図31】
【図32】
【図33】
【図34】
【図35】
【図36】
【図38】
【図39】
【図40】
【図41】
【図42】
【図43】
【図44】
【図45】
【図46】
【図47】
【図48】
【図50】
【図51】
【図52】
【図53】
【図54】
【図55】
【図56】
【図57】
【図58】
【図59】
【図60】
【図61】
【図62】
【図63】
【図37】
【図49】
【公開番号】特開2006−228358(P2006−228358A)
【公開日】平成18年8月31日(2006.8.31)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2005−43363(P2005−43363)
【出願日】平成17年2月21日(2005.2.21)
【出願人】(000005810)日立マクセル株式会社 (2,366)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成18年8月31日(2006.8.31)
【国際特許分類】
【出願日】平成17年2月21日(2005.2.21)
【出願人】(000005810)日立マクセル株式会社 (2,366)
【Fターム(参考)】
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