【課題】パターン倒れの抑制およびラインエッジラフネスの改善を可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位および酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる繰り返し単位を含む樹脂と、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有する


一般式（１）中、Ｌは、２価の連結基を表し；Ｒ_１は、水素原子またはアルキル基を表し；Ｚは、環状酸無水物構造を表す。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（１）で表される繰り返し単位および酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる繰り返し単位を含む樹脂と、
（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と
を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物：
【化１】

一般式（１）中、
Ｌは、２価の連結基を表し；
Ｒ_１は、水素原子またはアルキル基を表し；
Ｚは、環状酸無水物構造を表す。
【請求項２】
前記一般式（１）におけるＬは、少なくとも１つの酸素原子を含むことを特徴とする請求項１に記載の感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
【請求項３】
前記一般式（１）におけるＺは、複環構造を含むことを特徴とする請求項１または２に記載の感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
【請求項４】
前記一般式（１）におけるＺは、下記一般式（２）で表されることを特徴とする請求項３に記載の感活性光線性または感放射線性樹脂組成物：
【化２】

一般式（２）中、
Ｌは、前記式（１）におけるＬを表し；
Ｗは、存在しないか、またはメチレン基、エチレン基、酸素原子、もしくは硫黄原子を表し；
ｐは、１以上の整数を表し；
ｑは、０〜２の整数を表し；
ｍは、それぞれ独立に０〜２の整数を表す。
【請求項５】
前記一般式（１）におけるＺは、下記一般式（３）で表されることを特徴とする請求項４に記載の感活性光線性または感放射線性樹脂組成物：
【化３】

一般式（３）中、
Ｌは、前記一般式（１）におけるＬを表し；
ｐは、１または２を表す。
【請求項６】
前記樹脂（Ａ）は、前記一般式（１）で表される繰り返し単位を５〜５０ｍｏｌ％含有し、前記酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる繰り返し単位を３０〜７０ｍｏｌ％含有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて形成された感活性光線性又は感放射線性膜。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いて膜を形成することと、該膜を露光することと、露光した膜を現像することとを含むパターン形成方法。
【請求項９】
請求項８に記載のパターン形成方法を含む、電子デバイスの製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の電子デバイスの製造方法により製造された電子デバイス。
【請求項１１】
下記一般式（４）で表される化合物：
【化４】

一般式（４）中、
Ｌは、２価の連結基を表し；
Ｒ_１は、水素原子またはアルキル基を表し；
Ｗは、存在しないか、またはメチレン基、エチレン基、酸素原子、もしくは硫黄原子を表し；
ｐは、１以上の整数を表し；
ｑは、０〜２の整数を表し；
ｍは、各々独立に０〜２の整数を表す。

【公開番号】特開２０１３−７６９４６（Ｐ２０１３−７６９４６Ａ）
【公開日】平成２５年４月２５日（２０１３．４．２５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２１８２７８（Ｐ２０１１−２１８２７８）
【出願日】平成２３年９月３０日（２０１１．９．３０）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】