説明

水系顔料分散物、その製造方法及びインクジェット記録用インク

【課題】インクジェット記録用インク使用した際に、好適な印字濃度及び光沢性を有するイエローアゾ顔料の顔料分散物、分散方法の提供。
【解決手段】CuKα特性X線回折における特定位置に特徴的X線回折ピークを有する、式(1)のアゾ顔料、又は式(2)のアゾ顔料を着色剤とした、分散剤、水を含む水系顔料分散物。


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【特許請求の範囲】
【請求項1】
着色剤、分散剤、水を含む顔料分散物であって、
前記着色剤が(1)CuKα特性X線回折におけるブラッグ角(2θ±0.2°)が7.2°、13.4°、15.0°及び25.9°に特徴的X線回折ピークを有する下記式(1)又はその互変異性体で表される分子の集合体であるアゾ顔料、又は
(2)CuKα特性X線回折におけるブラッグ角(2θ±0.2°)が、4.8°、7.2°及び9.7°に特徴的X線回折ピークを有する下記式(2)若しくはその互変異性体で表される分子の集合体であるアゾ顔料
を含むことを特徴とする水系顔料分散物。
【化1】

【請求項2】
前記分散剤が水溶性高分子であることを特徴とする請求項1記載の水系顔料分散物。
【請求項3】
前記水溶性高分子分散剤の重量平均分子量が10000以上200000以下であることを特徴とする請求項2に記載の水系顔料分散物。
【請求項4】
前記水溶性高分子分散剤が少なくとも1つのカルボキシ基を有し、少なくとも50mgKOH/g以上の酸価を有することを特徴とする請求項2又は3に記載の水系顔料分散物。
【請求項5】
前記水溶性高分子分散剤が70〜160mgKOH/gの酸価を有することを特徴とする請求項4に記載の水系顔料分散物。
【請求項6】
前記顔料分散物中の着色剤の含有量をP、分散剤の含有量をDとし、含有量Dと含有量Pとの比をD/P値としたときに、D/P値が0.15以上1.0以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の水系顔料分散物。
【請求項7】
前記式(1)又はその互変異性体で表される分子の集合体であるアゾ顔料の分散前の一次粒子径が、0.01〜10μmであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の水系顔料分散物。
【請求項8】
前記式(2)又はその互変異性体で表される分子の集合体であるアゾ顔料の分散前の一次粒子径が、0.01〜20μmであることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の水系顔料分散物。
【請求項9】
前記分散前の一次粒子径が、0.01〜0.2μmであることを特徴とする請求項8記載の水系顔料分散物。
【請求項10】
前記水系分散物が、架橋剤により架橋されていることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の水系顔料分散物。
【請求項11】
前記架橋剤が少なくとも2つのエポキシ基を含むことを特徴とする請求項10に記載の水系顔料分散物。
【請求項12】
カルボキシ基とエポキシ基の間の架橋反応を100℃以下、pH6以上で行うことを特徴とする請求項11に記載の水系顔料分散物。
【請求項13】
架橋反応を40〜85℃で行うことを特徴とする請求項12に記載の水系顔料分散物。
【請求項14】
架橋反応をpH7〜10で行うことを特徴とする請求項12または13のいずれか1項に記載の水系顔料分散物。
【請求項15】
以下の(a)〜(d)の成分を混合して、架橋反応を行うことを特徴とする請求項1〜14のいずれか1項に記載の水系顔料分散物の製造方法。
(a)30〜99.7部の水
(b)0.1〜50部の前記式(1)で表される分子の集合体であるアゾ顔料又は式(2)で表される分子の集合体であるアゾ顔料
(c)0.1〜40部のビニルポリマー
(d)0.00001〜10部の架橋剤
部は質量を表し、顔料分散物の総重量を100質量部とした際に(a)+(b)+(c)+(d)の和は100質量部以下である。
【請求項16】
前記架橋反応を100℃以下、pH6以上で行うことを特徴とする請求項15に記載の水系顔料分散物の製造方法。
【請求項17】
さらに膜精製を行うことを特徴とする請求項15記載の水系顔料分散物の製造方法。
【請求項18】
請求項1〜14のいずれか1項に記載の水系顔料分散物を含有するインクジェット記録用インク。

【図1】
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【図2】
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【図3】
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【図4】
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【図5】
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【図6】
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【図7】
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【図8】
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【図9】
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【図10】
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【図11】
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【図12】
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【図13】
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【図14】
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【公開番号】特開2012−177110(P2012−177110A)
【公開日】平成24年9月13日(2012.9.13)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2012−21974(P2012−21974)
【出願日】平成24年2月3日(2012.2.3)
【出願人】(306037311)富士フイルム株式会社 (25,513)
【Fターム(参考)】