液晶セルとその製造方法
【課題】光ピックアップ装置等の収差補正手段としての液晶セルにおいて、小型でありながら多数の接続端子を備えた高性能な液晶セルと、その製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板２、３に形成された電極パターン４、５に接続して、枠状シール１０の外側まで延出する引き出し配線７ａ〜７ｆと、枠状シール１０の外側で露出する引き出し配線に接続して基板端面２ａ、２ｂから導出する導電材１５とを有し、枠状シール１０は、基板端面２ａ、２ｂに至り、引き出し配線７ａ〜７ｆを露出する複数個の切り欠き部１１ａ〜１１ｆを有して形成されており、切り欠き部のそれぞれに導電材１５を充填することで、基板端面２ａ、２ｂで引き出し配線７ａ〜７ｆとの導通を取る構成とした。
【解決手段】透明基板２、３に形成された電極パターン４、５に接続して、枠状シール１０の外側まで延出する引き出し配線７ａ〜７ｆと、枠状シール１０の外側で露出する引き出し配線に接続して基板端面２ａ、２ｂから導出する導電材１５とを有し、枠状シール１０は、基板端面２ａ、２ｂに至り、引き出し配線７ａ〜７ｆを露出する複数個の切り欠き部１１ａ〜１１ｆを有して形成されており、切り欠き部のそれぞれに導電材１５を充填することで、基板端面２ａ、２ｂで引き出し配線７ａ〜７ｆとの導通を取る構成とした。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ピックアップ装置に搭載されて、収差補正等に用いられる小型の液晶セルとその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＤＶＤ等の光ディスクの再生又は記録を行う光ディスク装置に搭載される光ピックアップ装置は、種々の要因により発生する波面収差の影響を受けて性能が劣化することが問題となっている。この波面収差には、光ディスクのチルト角等に起因するコマ収差や、光ディスクのカバー層の厚み誤差や情報記録面の多層化に伴う球面収差などがあり、また、光学系に起因する非点収差も存在する。
【０００３】
これらの収差は、特に光ディスクの記録密度の高密度化に伴って影響が大きくなり、この収差を相殺して高精度に補正する収差補正手段が、光ディスクの高密度化、高容量化に向けて不可欠な技術となっている。そして、この収差補正手段として、光ピックアップ装置の光路中に液晶セルを配置し、この液晶セルに所定の電圧を印加することによって液晶の屈折率を変化させ、通過する光ビームに位相差を与えて各種の収差を補正する収差補正用の液晶セルが開発されている。
【０００４】
また、光ピックアップ装置が搭載される光ディスク装置は、ノートパソコン等の小型化薄型化に伴って小型化や軽量化の要求がますます高まっており、この光ピックアップ装置に組み込まれる収差補正手段としての液晶セルの小型化は、極めて重要な開発要素である。このような背景から、光ピックアップ装置の収差補正手段としての小型の液晶セルとその製造方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
以下、収差補正手段としての液晶セルを搭載した光ピックアップ装置の概略と、特許文献１に開示されている収差補正手段としての従来の液晶セルの概略を図面に基づいて説明する。ここで、図１３は光ピックアップ装置の概略を模式的に示す構成図である。
【０００６】
図１３において、１００は収差補正手段としての液晶セルを搭載した光ピックアップ装置である。１０１は、レーザ光源であり、コリメータレンズ１０３は、レーザ光源１０１から出射される光ビームを平行光に変換する。また、偏光ビームスプリッタ１０５は、レーザ光源１０１から出射される直線偏光を透過し、光ディスク１１０から反射するそれと直交する方向の直線偏光を反射するように設定されている。
【０００７】
そして、１２０は収差補正手段としての液晶セルであり、液晶への印加電圧を制御することにより、レーザ光源１０１から出射された光ビームに対して、例えばコマ収差等の収差補正を行う。
【０００８】
また、レーザ光源１０１から出射されたそれぞれの光ビームに対して、直線偏光で入射した光ビームを円偏光に変換するλ／４波長板１０７を、液晶セル１２０の光ディスク１１０側に設けている。これにより、レーザ光源１０１から出射された光ビームの往路光と、光ディスク１１０で反射される復路光の偏光方向を９０度変換させる。
【０００９】
また、対物レンズ１１１は、レーザ光源１０１からの光ビームを集光して光ディスク１１０上にビームスポットを形成する。また、集光レンズ１１２は、偏光ビームスプリッタ１０５で反射されてきた光ビームを受光器１１４に集光する働きを備えている。受光器１１４は、入射して来た光ビームをそれぞれ電気信号に変換し、光ディスク１１０に記録さ
れている情報を読み出す。
【００１０】
以上のように光ピックアップ装置１００は、収差を補正する液晶セル１２０を搭載することにより、光ディスクの高密度化、高容量化に対応する高性能な光ピックアップ装置を実現することが出来る。
【００１１】
次に、このような光ピックアップ装置１００に搭載される液晶セルの一例として、特許文献１に開示されている液晶セルを図１４（ａ）、図１４（ｂ）に基づいて説明する。図１４（ａ）は従来の液晶セル１２０の断面図であり、図１４（ｂ）は、その平面図である。なお、本図（ａ）は、（ｂ）図のＣ−Ｃ断面図である。
【００１２】
図１４（ａ）（ｂ）に示すように、液晶セル１２０は、一方の面に電極パターンを有する第１の透明基板１２１と第２の透明基板１２３を、電極パターン１２２、１２４を対向させて枠状シール１２５によって所定の隙間を有して固着して形成されている。この第１、第２の透明基板１２１、１２３の隙間、すなわち、第１、第２の透明基板１２１、１２３に形成された電極パターン１２２、１２４によって挟まれたスペースに、液晶１２６が注入口１２７から注入して形成されている。尚、電極パターン１２２には、コマ収差補正を行うためのパターンが形成されている。
【００１３】
また、この電極パターン１２２には、枠状シール１２５の外側に導出する引き出し配線１３０、１３１が形成されている。この引き出し配線１３０、１３１は、外部からの駆動信号を枠状シール１２５の内側の電極パターン１２２に供給するための配線パターンである。そして、この液晶セル１２０は、第１、第２の透明基板１２１、１２３に同形状で同サイズの基板を使用し、第１、第２の透明基板１２１、１２３の基板端面が位置を同じくして貼り合せて構成されている。なお、電極パターン１２４には、図示しない他の接続用配線および接続端子に繋がっており、電極パターン１２２、１２４にそれぞれ給電できるようになっている。
【００１４】
また、枠状シール１２５の外側から第１、第２の透明基板１２１、１２３の基板端面までの隙間に、引き出し配線１３０、１３１に電気的に接続する導電材１３２がそれぞれ充填され、更に、第１、第２の透明基板１２１、１２３の基板端面の外側には導電ペーストから成る接続端子１３３が固着されて導電材１３２と電気的に接続されている。また、この接続端子１３３には、それぞれに接続用配線１３５、１３６が固着され、接続端子１３３と接続用配線１３５、１３６とは電気的に接続される。また、補強材１３８によって、接続端子１３３と接続用配線１３５、１３６を被覆して、接続用配線１３５、１３６と第１、第２の透明基板１２１、１２３の端面が確実に固定されるように補強されている。
【００１５】
この構成によって、外部からの駆動信号が接続用配線１３５、１３６に入力されると、接続端子１３３、導電材１３２を介して引き出し配線１３０、１３１に伝達され、駆動信号は液晶セル１２０の電極パターン１２２、１２４に供給されて液晶セル１２０を駆動することが出来る。この液晶セル１２０によるならば、外部から液晶セルの電極パターン１２２、１２４に駆動信号を供給するための接続領域を設ける必要がなくなり、その分だけ液晶セル１２０の内側領域１４０（破線で囲んだ領域）に対する外形サイズを小さく出来るので、小型の収差補正用液晶セルを実現できる。
【００１６】
【特許文献１】特開２００５−２１５３５８号公報（第６頁、第１（ａ）、１（ｂ）、６図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
この特許文献１の液晶セルは、２枚の第１、第２の透明基板１２１、１２３の隙間に充填された導電材１３２が、枠状シール１２５の外側で基板端面に沿って広がり、一辺の大部分が導電材１３２の領域となる。この様に、導電材１３２の配設領域が基板端面に対して広くなると、第１、第２の透明基板１２１、１２３の一辺に複数の接続用配線１３５、１３６を設けることが困難となり、基本的にセルの一辺には一つの配線だけしか設けることが出来なくなる。このため、小型の液晶セルを実現できても、液晶セルへ多くの駆動信号を供給できないので、複数の収差を一つの液晶セルで補正することが出来ず、また、細かい電極パターンを形成して高精度に収差補正を行うことも困難となる。
【００１８】
そこで、本発明は上記課題を解決し、光ピックアップ装置等の収差補正手段としての液晶セルにおいて、小型でありながら多数の接続端子を備えた高性能な液晶セルと、その製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記課題を解決するために、本発明の液晶セルは、下記記載の構成と製造方法を採用する。
【００２０】
本発明の液晶セルは、透明基板と、他の透明基板と、透明基板と他の透明基板の内面に、分割して形成された電極パターンと、透明基板と他の透明基板の間隙であって、外延部を囲んで形成された枠状シールと、当該枠状シールの内側領域に配する液晶と、電極パターンに外部信号を給電する為の、複数本の引き出し配線とを備え、透明基板と他の透明基板とは、基板端面を一致させて、枠状シールでもって貼り合わされており、枠状シールは、基板端面に至り、当該基板端面に至る領域において、複数本の引き出し配線のそれぞれを露出させる、当該基板端面から複数個の切り欠き部を有する形状となっており、この複数個の切り欠き部のそれぞれに導電材を充填することで、基板端面で引き出し配線との導通を取ることができる様にしたことを特徴とするものである。
【００２１】
本発明の液晶セルによれば、枠状シールは基板端面に至り、引き出し配線を露出する複数個の切り欠き部を有しているので、その切り欠き部に導電材を充填することによって、導電材が枠状シールの切り欠き部から外にはみ出すことが無い。このため、引き出し配線のピッチを狭くしても、導電材が隣接する他の引き出し配線の導電材と繋がって電気的にショートすることが無くなり、透明基板の基板端面に複数の引き出し線を形成することが出来る。これにより、小型液晶セルでありながら、多くの配線をセルの外側に引き出すことが出来、液晶セルへ多くの駆動信号を供給することが可能となる。この結果、複数の収差を補正するための複合収差補正電極パターンが形成された液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度な収差補正を行う高性能な液晶セルを、極めて小型に実現することが出来る。
【００２２】
また、複数個の切り欠き部が形成された領域は、基板外周の内の少なくとも一部の領域であることを特徴とする。
【００２３】
これにより、基板外周の内の少なくとも一部の領域に複数個の切り欠きが形成されるので、多くの配線をセルの外側に引き出すことが可能となり、小型でありながら多くの電極パターンを有する液晶セルを実現することが出来る。
【００２４】
また、枠状シールは、閉環形状のシールであることを特徴とする。
【００２５】
これにより、液晶滴下方式で液晶セルを製造することが出来、製造工程を増やすことなく、多数の接続端子を有する信頼性に優れた液晶セルを実現することが出来る。
【００２６】
また、基板端面で露出する導電材を被覆する接続端子を、更に設けることを特徴とする。
【００２７】
この様に構成することで、基板端面で露出する導電領域が広がり、外部からの駆動信号の取り込みが容易となり、信頼性に優れた液晶セルを実現することが出来る。
【００２８】
本発明の液晶セルの製造方法は、透明基板と他の透明基板と、透明基板と他の透明基板の内面に、分割して形成された電極パターンと、透明基板と他方の透明基板の間隙であって、外延部を囲んで形成された枠状シールと、当該枠状シールの内側領域に配する液晶と、電極パターンに外部信号を給電する為の、複数本の引き出し配線とを備える液晶セルの製造方法において、電極パターンと、当該電極パターンに接続する複数本の引き出し配線とを、透明基板と他方の透明基板のそれぞれに形成するパターン形成工程と、透明基板の基板端面に至り、当該基板端面に至る領域において、複数本の引き出し配線のそれぞれが露出する複数個の切り欠き部を有する前記枠状シールを、透明基板に形成するシール形成工程と、複数個の切り欠き部で露出する複数本の引き出し配線に接続する導電材を、複数個の切り欠き部のそれぞれに充填する導電材充填工程と、透明基板と他の透明基板における基板端面を一致させて形成した基板の間隙に液晶を挟持する工程と、透明基板と他の透明基板とで挟持された、枠状シールおよび導電材を硬化する硬化工程と、を有することを特徴とするものである。
【００２９】
本発明の液晶セルの製造方法により、枠状シールは基板端面まで形成され、引き出し配線を露出する複数個の切り欠き部を有しているので、その切り欠き部に導電材を充填することによって、導電材が枠状シールの切り欠き部から外にはみ出すことが無い。これにより、小型液晶セルでありながら、多くの配線をセルの外側に引き出すことが出来るので、液晶セルへ多くの駆動信号を供給することが出来る。この結果、複数の収差を補正するための複合収差補正電極パターンが形成された液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度な収差補正を行う高性能な液晶セルを極めて小型に製造することが出来る。
【００３０】
また、シール形成工程では、枠状シールを閉環形状で形成する工程であり、液晶を挟持する工程は、枠状シールの内側領域に液晶を滴下した透明基板と、他の透明基板とを貼り合わせる、または枠状シールを設けた透明基板と、液晶を滴下した他の透明基板とを貼り合わせて行う工程であることを特徴とする。
【００３１】
上記工程によれば、枠状シールを閉環形状で形成し、液晶を透明基板に滴下する方法で液晶を封入し透明基板で挟持することが出来るので、製造工程を増やすことなく、多数の接続端子を有する信頼性に優れた液晶セルを製造することが出来る。
【００３２】
また、シール形成工程は、枠状シールに光硬化型樹脂を用いて行う工程であり、導電材充填工程は、導電材に熱硬化型樹脂を用いて行う工程であり、硬化工程は、枠状シールを光照射して硬化させた後に、導電材を加熱して形成する工程であることを特徴とする。
【００３３】
上記工程によれば、光硬化型樹脂の枠状シールは粘度が高いので、枠状シールの切り欠き部に充填された導電材が切り欠き部から流れ出すことを極力防ぐことが出来る。また、光硬化型樹脂の枠状シールは、光の照射によって短時間で硬化するので、硬化工程の時間短縮が可能となり、また、導電材の流れ出しを更に防ぐことが出来る。また、光の照射による枠状シールの硬化は、液晶が高温にならないので液晶のダメージを防ぐことが出来、信頼性に優れた液晶セルを製造出来る。また、導電材の加熱工程は、枠状シールの硬化後に行われるので、導電材は切り欠き部の中に充填された状態で確実に硬化し、これにより、導電材は引き出し配線と電気的に結合した状態で硬化して、基板端面で露出させることが出来る。また、導電材の加熱温度は低く設定できるので、液晶にダメージを与えること
なく、また、枠状シールを更に硬化させて透明基板の貼り合わせを確実にし、液晶セルの信頼性を更に高めることが出来る。
【００３４】
また、導電材充填工程は、他方の透明基板における切り欠き部に対応した位置に導電材を塗布する工程であることを特徴とする。
【００３５】
これにより、導電材の塗布と枠状シールの形成を２枚の透明基板で別々の工程で実施出来、その後、２枚の透明基板を貼り合わせることによって導電材を切り欠き部に充填させることが出来る。この結果、導電材を枠状シールの切り欠き部に確実に充填することが出来る。
【００３６】
また、硬化工程の後に、基板端面で露出する導電材を被覆する接続端子を形成する接続端子形成工程を、更に有することを特徴とする。
【００３７】
上記工程によれば、基板端面で露出する導電領域が広がり、外部からの駆動信号の取り込みが容易となり、信頼性に優れた液晶セルを製造することが出来る。
【００３８】
また、接続端子形成工程は、接続端子を印刷して形成する工程であることを特徴とする。
【００３９】
上記工程によれば、基板端面で露出している導電材に対して、接続端子を簡単に、且つ、確実に被覆出来るので、信頼性の高い接続端子を液晶セルの基板端面に形成することが出来る。
【発明の効果】
【００４０】
上記の如く本発明によれば、小型液晶セルでありながら、多数の配線をセルの外側に引き出すことが出来るので、液晶セルへ多くの駆動信号を供給することが可能となる。これにより、複数の収差を補正するための複合収差補正電極パターンが形成された液晶セルや、高精度な収差補正を行う高性能な液晶セルを、極めて小型に実現し提供することが出来る。また、小型で多数の接続端子を有する液晶セルを、製造工程を増やすことなく短時間で製造することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下図面により本発明の液晶セルの具体的な構成、その変形例および製造方法を詳述する。
【実施例１】
【００４２】
まず、本発明の実施例１の液晶セルの構成を図１（ａ）、図１（ｂ）に基づいて説明する。実施例１の特徴は、液晶滴下方式（以下、ＯＤＦ方式と略す）で液晶を封入する液晶セルを本発明に適応したことである。図１（ａ）は実施例１の液晶セル１の平面図であり、図１（ｂ）は液晶セル１を平面図の断面線Ａ−Ａで断面した断面図である。
【００４３】
図１（ａ）、図１（ｂ）において、液晶セル１は、略長方形状の第１の透明基板２と第２の透明基板３が、スペーサ（図示せず）によって、例えば、５μｍ〜１０μｍの間隔を置いて枠状シール１０によって固着され、周囲の基板端面を一致して貼り合わされている。この第１、第２の透明基板２、３は、略同一形状となっている。
【００４４】
そして、第１、第２の透明基板２、３は、その表面にインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）等からなる電極パターン４、５がそれぞれ形成され、対向して配置されている。この第１、第２の透明基板２、３の隙間、すなわち、電極パターン４、５によって挟まれたスペース
には液晶６が封入され、この液晶６は、第１、第２の透明基板２、３によって挟持されている。
【００４５】
また、電極パターン４、５には、収差補正のための特定のパターンが分割してそれぞれ形成されている。例えば、図１（ａ）においては、電極パターン４としてコマ収差補正のために分割された電極パターン４ａ〜４ｅが形成され、電極パターン５として電極パターン４ａ〜４ｅに対向するベタパターンで形成されている。尚、電極パターン４、５は、コマ収差補正に限定されず、球面収差や非点収差を補正するパターンでも良い。
【００４６】
また、図１（ａ）の７ａ〜７ｅは、それぞれ電極パターン４ａ〜４ｅに接続して枠状シール１０の外側に向けて延出して形成された引き出し配線である。また、図１（ｂ）の７ｆは、他方の対向する電極パターン５に接続して、枠状シール１０の外側に向けて延出して形成された引き出し配線である。これらの引き出し配線７ａ〜７ｆは、外部からの駆動信号を枠状シール１０の内側の電極パターン４ａ〜４ｅ、電極パターン５に供給するための配線パターンである。
【００４７】
また、枠状シール１０は、第１、第２の透明基板２、３の外周を囲うように形成される閉環形状のシールであり、従来例のような液晶を注入するための注入口は存在しない。すなわち、実施例１の液晶セル１は、ＯＤＦ方式によって液晶６を封入し、液晶６は枠状シール１０の内側に封入されて第１、第２の透明基板２、３に挟持されている。尚、本発明のＯＤＦ方式による製造方法は後述する。
【００４８】
また、枠状シール１０は、第１、第２の透明基板２、３の基板端面２ａ、２ｂまで至って延伸して形成され、基板端面２ａ側の枠状シール１０は、枠状シール１０の外側に向けて延出している引き出し配線７ａ〜７ｅを露出する複数の切り欠き部１１ａ〜１１ｅを有している。また、基板端面２ｂ側の枠状シール１０は、電極パターン５の引き出し配線７ｆを露出する切り欠き部１１ｆを有している。
【００４９】
また、枠状シール１０のこれらの切り欠き部１１ａ〜１１ｆには、カーボンペースト等の導電材１５がそれぞれ充填され、これによって、第１、第２の透明基板２、３の基板端面２ａ、２ｂから導電材１５が導出し、基板端面２ａ、２ｂの隙間から導電材１５を露出させることが出来る。
【００５０】
この導電材１５は、切り欠き部１１ａ〜１１ｆの内部で引き出し配線７ａ〜７ｆとそれぞれ導通を取り、これによって、基板端面２ａ、２ｂで露出するそれぞれの導電材１５は、引き出し配線７ａ〜７ｆを介して、枠状シール１０の内部に形成される電極パターン４ａ〜４ｅ、電極パターン５に電気的に接続される。尚、第１、第２の透明基板２、３は、一例として約０．４ｍｍの白板ガラスで成り、液晶６が封入される隙間は前述した如く５μｍ〜１０μｍ程度であるので、図１（ｂ）の断面図の第１、第２の透明基板２、３の隙間、及び、電極パターン４、５、液晶６等の厚みは、説明を分かりやすくするために実際のスケールより拡大して描いている。
【００５１】
次に、図２（ａ）の平面図と図２（ｂ）の側面図に基づいて、実施例１の液晶セル１の枠状シール１０と導電材１５の構成を詳細に説明する。尚、図２（ｂ）は基板端面２ａ側から見た液晶セル１の側面図である。
【００５２】
図２（ａ）において、枠状シール１０は、液晶セル１の外周を囲むように形成され、第１、第２の透明基板２、３の対面する基板端面２ａ、２ｂにまで至って形成されている。尚、図２（ａ）では、枠状シール１０の形状を分かりやすくするために、電極パターンと導電材を図示していない。
【００５３】
そして、基板端面２ａに至る枠状シール１０には、その基板端面２ａに切り欠き部１１ａ〜１１ｅが形成されている。この切り欠き部１１ａ〜１１ｅは、基板端面２ａに対して凹形状を有しており、基板端面２ａに沿って略等間隔に複数の小さな切り欠きが形成されている。この切り欠き部１１ａ〜１１ｅに、導電材１５が充填されることにより、図２（ｂ）で示すように、基板端面２ａから導電材１５が略等間隔で露出させることが出来る。
【００５４】
また、基板端面２ａに対面する基板端面２ｂ側の切り欠き部１１ｆも、切り欠き部１１ａ〜１１ｅと同様な形状であり、その切り欠き部１１ｆにも導電材１５が充填され、図示しないが基板端面２ｂから導電材１５を露出させる。このように、枠状シール１０の切り欠き部１１ａ〜１１ｆに導電材１５を充填することによって、導電材１５は切り欠き部１１ａ〜１１ｆに隣接する他の切り欠き部の方向に、流れ出したり、はみ出したりすることが無い。
【００５５】
このため、切り欠き部１１ａ〜１１ｅのピッチ、すなわち、引き出し配線７ａ〜７ｅ（図１（ａ）参照）のピッチをある程度狭くしたとしても、導電材１５が隣接する他の引き出し配線の導電材１５と繋がって電気的にショートすることが無くなり、液晶セルの基板端面に多数の配線を引き出すことが出来る。
【００５６】
また、実施例１の液晶セル１は、ＯＤＦ方式の液晶セルであるので、従来例のような液晶の注入口が不要である。このため、基板端面２ａに集約して設けた、枠状シール１０の切り欠き部１１ａ〜１１ｅを液晶セル１の４辺すべての基板端面に形成することが出来、これによって、より多くの配線を基板端面に引き出すことが出来る。よって、枠状シール１０に切り欠き部１１ａ〜１１ｆを有する本発明の液晶セル１は、ＯＤＦ方式による製造方法と組み合わせることによって、より大きな効果を発揮することが出来る。
【００５７】
この様に、実施例１において枠状シール１０の切り欠き部１１ａ〜１１ｆは、第１、第２の透明基板２、３の外周の一部にのみ形成されているが、この構成に限定されず、枠状シール１０は透明基板２、３のすべての外周の基板端面にまで至り、切り欠き部は第１、第２の透明基板２、３のすべての外周、すなわち、４辺の基板端面すべてに形成されても良い。また、切り欠き部１１ａ〜１１ｆの形状は、略長方形の凹形状で示しているが、この形状に限定されず、導電材１５を充填出来るならば、半円形や三角形等どのような形状でも良い。また、図２（ｂ）の側面図での第１、第２の透明基板２、３の隙間は、説明を分かりやすくするために、実際のスケールより拡大して描いている。
【００５８】
次に、図３に基づいて、基板端面で露出している導電材１５と、この導電材１５を被覆する接続端子１６について説明する。図３は液晶セル１の基板端面２ａ側から見た拡大側面図である。
【００５９】
図３に示すように、第１、第２の透明基板２、３の隙間には、枠状シール１０が形成され、この枠状シール１０に略等間隔に形成された切り欠き部１１ａ〜１１ｅに導電材１５が充填されて、基板端面２ａから露出する形態となっている。尚、第１、第２の透明基板２、３の隙間は、説明を分かりやすくするために、実際のスケールより拡大して描いている。
【００６０】
ここで１６は、露出している導電材１５を被覆する導電ペースト等で成る接続端子である。この接続端子１６は、説明を分かりやすくするために半透過で図示しており、接続端子１６が導電材１５に密着して被覆し、接続端子１６と基板端面２ａから露出している導電材１５が電気的に接続されている。尚、接続端子１６は、液晶セル１の厚み程度まで広げて導電材１５を被覆しても良く、または、液晶セル１の厚みを多少越えた形態としても
良い。尚、切り欠き部１１ａ〜１１ｅのピッチは、一例として８００μｍ程度であるので、接続端子１６のピッチも８００μｍ程度となる。
【００６１】
ここで、基板端面２ａから露出している導電材１５は、前述したように、第１、第２の透明基板２、３の、５μｍ〜１０μｍ程度の隙間から露出しているだけで、導電材１５の露出面積は非常に狭い。この導電材１５に外部からの駆動信号を供給するための接続用配線を結合するには、結合面積が狭過ぎるので、信頼性の高い結合を行うことは難しい。そこで、図３に示すように、接続端子１６によって導電材１５を被覆することで、基板端面で露出する導電領域が広がり、接続用配線を結合することが容易となるのである。
【００６２】
以上のように本発明の液晶セル１は、枠状シール１０が、第１、第２の透明基板２、３の外周を囲う閉環形状のシールであって、少なくとも枠状シール１０の一部が基板端面に至り、引き出し配線７ａ〜７ｆを露出する複数個の切り欠き部１１ａ〜１１ｆを有している。そして、その切り欠き部１１ａ〜１１ｆに導電材１５を充填することによって、その導電材１５と引き出し配線７ａ〜７ｆが導通するので、小型液晶セルでありながら、多くの配線を液晶セルの外側に引き出すことが出来、液晶セルへ多くの駆動信号を供給することが可能となる。
【００６３】
この結果、複数の収差を補正するための複合収差補正パターンが形成された液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度の収差補正を行う高性能な液晶セルを極めて小型に実現することが出来る。また、上述したように接続端子１６で導電材１５を被覆することによって、基板端面で露出する導電領域が広がり、外部からの駆動信号の取り込みが容易となり、信頼性に優れた液晶セルを実現することが出来る。
【実施例２】
【００６４】
次に、本発明の実施例２の液晶セルの構成を図４（ａ）と図４（ｂ）に基づいて説明する。図４（ａ）は実施例２に係わる本発明の液晶セル２０の平面図である。図４（ｂ）はこの液晶セル２０の側面図である。
【００６５】
実施例２の特徴は、注入口からの注入によって液晶を封入する注入方式の液晶セルを本発明に適応したことである。尚、基本的な構成は実施例１と同様であるので、実施例１と同一要素には同一番号を付し重複する説明は省略する。
【００６６】
図４（ａ）、図４（ｂ）において、２０は本発明の実施例２の液晶セルである。液晶セル２０は、第１、第２の透明基板２、３が、スペーサ（図示せず）によって、例えば、５μｍ〜１０μｍの間隔を置いて枠状シール２１によって固着され貼り合わされる。
【００６７】
この枠状シール２１は、第１、第２の透明基板２、３の外周を囲うように形成され、基板端面２ｃ側に液晶（図示せず）を枠状シール２１の内側領域に注入するための注入口２２を有している。また、この注入口２２から液晶を注入後、液晶を封止するために注入口２２は封止材２３で封止される。また、枠状シール２１は実施例１と同様に、第１、第２の透明基板２、３の基板端面２ａ、２ｂまで至って形成され、基板端面２ａ側の枠状シール２１は、複数の切り欠き部１１ａ〜１１ｅを有し、さらに、基板端面２ｂ側の枠状シール２１は切り欠き部１１ｆを有している。
【００６８】
また、枠状シール２１のこれらの切り欠き部１１ａ〜１１ｆには、実施例１と同様にカーボンペースト等の導電材１５がそれぞれ充填され、第１、第２の透明基板２、３の基板端面２ａ、２ｂでそれぞれの引き出し配線７ａ〜７ｆ（本図では、対向する電極パターンと電気的に接続される引き出し配線７ｆは現れていない）と導通を取り、これによって、導電材１５は枠状シール２１の内部に形成される各電極パターンに電気的に接続される。
この導電材１５は、実施例１と同様に、図示しない接続端子によって被覆されるが、ここでの説明は省略する。尚、図４（ｂ）の側面図での第１、第２の透明基板２、３の隙間は、説明を分かりやすくするために、実際のスケールより拡大して描いている。
【００６９】
以上のように本発明の実施例２の液晶セル２０は、実施例１と同様に、枠状シール２１が基板端面２ａ、２ｂにまで至って形成され、複数個の切り欠き部１１ａ〜１１ｆに充填される導電材１５が基板端面２ａ、２ｂで露出した形態となっている。そして、この導電材１５と引き出し配線７ａ〜７ｆとが導通しているので、小型液晶セルでありながら、多くの配線を液晶セルの外側に引き出すことが出来る。これにより、複数の収差を補正するための複合収差補正パターンが形成された液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度の収差補正を行う高性能な液晶セルを極めて小型に実現することが出来る。
【００７０】
尚、実施例１の液晶セルは、ＯＤＦ方式によって液晶を封入し、実施例２の液晶セルは、注入方式によって液晶を封入するが、本発明は、どちらの方式の液晶セルにおいても適応することが出来る。ただし、実施例２の液晶セル２０は、図示するように、注入口２２のある基板端面２ｃは、切り欠き部を形成して配線を引き出すことが難しく、引き出し配線の数（すなわち、接続端子数）は減ることになる。
【実施例３】
【００７１】
次に、本発明の実施例３の液晶セルの構成を図５（ａ）と図５（ｂ）に基づいて説明する。図５（ａ）は実施例３に係わる本発明の液晶セル３０の平面図である。図５（ｂ）はこの液晶セル３０の側面図である。
【００７２】
実施例３の特徴は、ＯＤＦ方式で液晶を封入する円形状の液晶セルを本発明に適応したことである。尚、実施例３の液晶セル３０の外形形状は前述の実施例１と異なるが、基本的な構成は実施例１と同様であるので、重複する説明は一部省略する。
【００７３】
図５（ａ）、図５（ｂ）において、３０は本発明の実施例３の液晶セルである。液晶セル３０は、略円形状の第１の透明基板３１と第２の透明基板３２が、スペーサ（図示せず）によって、例えば、５μｍ〜１０μｍの間隔を置いて枠状シール３３によって固着され貼り合わされる。この第１、第２の透明基板３１、３２は略同一形状であり、全周の基板端面３１ａ、３２ａを一致させて貼り合わされている。そして、第１、第２の透明基板３１、３２の内側領域３４は、その表面にＩＴＯ等からなる分割された電極パターンが形成され、この電極パターンが対向する隙間には液晶が封入されるが、ここでは図示を省略する。
【００７４】
また、枠状シール３３は、第１、第２の透明基板３１、３２の外周を囲うように円形に形成される閉環形状のシールであり、ＯＤＦ方式によって封入された液晶（図示せず）を第１、第２の透明基板３１、３２で挟持して形成される。この枠状シール３３は、第１、第２の透明基板３１、３２の外周の基板端面３１ａ、３２ａまで至って形成され、電極パターン（図示せず）に接続される複数の引き出し配線３５を露出する複数の切り欠き部３６ａ〜３６ｊを有している。
【００７５】
また、この切り欠き部３６ａ〜３６ｊには、カーボンペースト等の導電材３７がそれぞれ充填され、基板端面３１ａ、３２ａで引き出し配線３５と導通を取り、これによって、基板端面３１ａ、３２ａで露出するそれぞれの導電材３７は、引き出し配線３６ａ〜３６ｊを介して、枠状シール３３の内側領域３４に形成される電極パターン（図示せず）と電気的に接続される。この導電材３７は、実施例１と同様に、接続端子（図示せず）によって被覆されるが、ここでの説明は省略する。
【００７６】
尚、切り欠き部３６ａ〜３６ｊは、本実施例においては、第１、第２の透明基板３１、３２の外周の全周に略等間隔に形成されているが、この構成に限定されるものではなく、外周の一部に形成されても良い。また、切り欠き部の個数も限定されず、形成される電極パターンに応じて、任意に形成して良い。また、図５（ｂ）の側面図での第１、第２の透明基板３１、３２の隙間は、説明を分かりやすくするために、実際のスケールより拡大して描いている。
【００７７】
以上のように本発明の実施例３の液晶セルは、実施例１と同様に、枠状シール３３は基板外周の基板端面３１ａ、３２ａにまで至って形成され、複数個の切り欠き部３６ａ〜２６ｊに充填される導電材３７が基板端面３１ａ、３２ａで露出して形成されている。そして、この導電材３７と引き出し配線３６ａ〜３６ｊとが導通しているので、小型液晶セルでありながら、多くの配線を液晶セルの外側に引き出すことが出来る。これにより、複数の収差を補正するための複合収差補正パターンが形成された液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度の収差補正を行う高性能な液晶セルを極めて小型に実現することが出来る。
【００７８】
尚、本発明の液晶セル３０は、光ピックアップ装置のレーザ光源から出射される光ビームの光路中に配置されるが、光ビームの光路の断面は略円形であるので、その光ビームの断面形状に合わせて本実施例のように液晶セルを円形状とすることで、液晶セルの面積効率が向上し、無駄な領域が無く、より小型の液晶セル３０を実現することが出来る。また、光ピックアップ装置に搭載される対物レンズ等は外形が円形状であるので、液晶セルを円形状とすることによって、これら光学レンズとの組み合わせが容易となり、光ピックアップ装置の更なる小型化を実現できる。
【実施例４】
【００７９】
次に、接続用配線が固着された本発明の実施例４に係わる液晶セルの構成を図６（ａ）と図６（ｂ）に基づいて説明する。図６（ａ）は実施例４に係わる液晶セル１に接続用配線６０を固着したことを示す平面図である。図６（ｂ）はこの液晶セル１に接続用配線６０を固着したことを示す断面図である。尚、図６（ｂ）は平面図におけるＢ−Ｂ断面図である。
【００８０】
図６（ａ）、図６（ｂ）において、液晶セル１は実施例１で示した液晶セルであり、枠状シート１０は、第１、第２の透明基板２、３の基板端面２ａ、２ｂに沿って切り欠き部１１ａ〜１１ｆを有し、この切り欠き部１１ａ〜１１ｆに導電材１５が充填されている。そして、導電材１５は基板端面２ａ、２ｂで露出し、導電ペースト等で成る接続端子１６によって被覆されている。６０はリード線などの接続用配線であり、その先端を接続端子１６によって覆われ、液晶セル１の基板端面２ａ、２ｂにそれぞれ固着されている。
【００８１】
この様に、接続用配線６０は、接続端子１６を介して導電材１５と電気的に接続すれば十分広い導電領域で確実に導電材１５と接続でき、電気的にも機械的にも信頼性の高い接続が可能となる。また、接続用配線６０は、液晶セル１の基板端面２ａ、２ｂに固着されるので、図示するように平面上の接続領域をほとんど必要とせず、平面積を広げることなく多数の接続が可能となり、この接続用配線６０によって多くの駆動信号を液晶セルへ供給することが出来る。
【００８２】
また、図示しないが、従来例の液晶セル（図１４（ａ）参照）で示したように、接続端子１６と接続用配線６０を補強材によって被覆し、接続用配線６０が更に確実に液晶セル１の基板端面２ａ、２ｂに固定されるようにしても良い。
【００８３】
以上のように本実施例によるならば、接続用配線６０は、接続端子１６を介して基板端
面２ａ、２ｂから露出している導電材１５と接続した形態となるので、液晶セル１は外部から駆動信号を供給するために広い接続領域を設ける必要がなくなり、狭い領域で多数の接続用配線６０を液晶セルの基板端面に配置出来る様になる。これにより、極めて小型でありながら、複数の収差を補正するための複合収差補正パターンが形成された液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度な収差補正を行う液晶セルを提供することが出来る。
【実施例５】
【００８４】
次に、本発明の実施例５に係わるＦＰＣ７０が固着される液晶セルの構成を図７に基づいて説明する。図７は実施例５に係わる複合液晶セル４０にＦＰＣ７０を固着することを示す斜視図である。
【００８５】
図７において、４０は略円形状の複合液晶セルであり、実施例３の液晶セル３０（図５（ａ）（ｂ）参照）と同様な略円形状の液晶セルを複数枚重ねて製造される。この複合液晶セル４０は、例えば、４枚の透明基板４１〜４４が重ね合わされ、その隙間に枠状シール４５〜４７が形成され、液晶（図示せず）が封入されている。この枠状シール４５〜４７は、実施例３と同様に、透明基板４１〜４４の基板端面に切り欠き部が形成され、導電材５０が充填されて、複合液晶セル４０の外周の基板端面に３列の接続ライン５１〜５３が形成される。尚、ここでは図示していないが、導電材５０は接続端子（図３参照）で被覆することが好ましい。
【００８６】
また、７０はＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）であり、その内側に、接続用配線としての銅箔等によって成る接続パターン７１が形成されている。この接続パターン７１は、複合液晶セル４０の基板端面で露出している接続ライン５１〜５３上の導電材５０と同じピッチで形成されている。そして、ＦＰＣ７０を複合液晶セル４０に巻き付け、その外側を熱収縮チューブ（商品名：ヒシチューブ）（図示せず）で覆うことによって、接続パターン７１と導電材５０を密着して導通させることが出来る。尚、導電材５０に接続端子（図示せず）を被覆すれば、導電材５０と接続パターン７１との結合は更に確実となる。
【００８７】
この構造により、複合液晶セル４０は、外部からの駆動信号を最小限のスペースで効率よく入力できるので、複合液晶セル４０が組み込まれる光ピックアップ装置の小型化に大きく貢献できる。また、このようなＦＰＣ７０が接続された複合液晶セル４０は、それぞれの透明基板４１〜４４に、例えば、コマ収差、球面収差、非点収差などの各収差を補正する電極パターンや、λ／４波長板としての電極パターンを形成することにより、光ビーム７２を入射して複合収差補正や偏光変換等を行う多機能型液晶セルを実現出来る。
【００８８】
尚、本実施例の複合液晶セル４０は、４枚の透明基板４１〜４４によって構成されるが、この基板枚数は限定されず、任意で良い。また、ＦＰＣ７０による接続は、本実施例のような円形状の液晶セルに限定されず、図示しないが、実施例１で示した略長方形状の液晶セルを重ねた複合液晶セルを用い、液晶セルの周囲を直角に曲げたＦＰＣで覆って、外部からの駆動信号を供給する構造でも良い。
【００８９】
以上のように本実施例によるならば、外部からの多数の駆動信号をＦＰＣ７０によって最小限のスペースで効率よく入力できるので、極めて小型でありながら、多機能な収差補正液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度の収差補正を行う高性能な液晶セルを提供することが出来る。
【実施例６】
【００９０】
次に、本発明の実施例６として、本発明の液晶セルの製造方法の一例を説明する。
尚、本発明の液晶セルの製造方法は、ＯＤＦ方式の液晶セルと注入方式の液晶セルの何
れの製法にも適応されるが、特に本発明に好適であるＯＤＦ方式の液晶セルの製造方法を中心に説明する。
【００９１】
ここで、本発明の液晶セルの製造方法は、第１、第２の透明基板へのパターン形成工程、配向膜形成工程、ラビング工程、一方の透明基板へのシール形成工程、他方の透明基板への導電材充填工程、スペーサ散布工程、第１、第２の透明基板に液晶を挟持する工程、枠状シール及び導電材を硬化する硬化工程、及び、接続端子形成工程の各工程を有するものである。また、以下の説明で示す液晶セルは、実施例３で示した略円形状の液晶セルであり、形成される電極パターンは、コマ収差、球面収差、非点収差を補正する複合収差補正パターンが形成された液晶セルである。尚、符号は実施例３と同一要素には同一番号を付し重複する説明は省略する。
【００９２】
最初に、パターン形成工程と配向膜形成工程について説明する。図８（ａ）、図８（ｂ）は、液晶に給電するための電極パターンと、この電極パターンに接続する引き出し配線とを第１、第２の透明基板３１、３２に形成するパターン形成工程を示している。
【００９３】
図８（ａ）に示すように、略円形状の第１の透明基板３１における内側領域３４に、ＩＴＯによって球面収差補正用の輪帯電極パターン３８を形成する。なお、図示しないが、この輪帯電極パターン３８から３本の引き出し配線が基板端面３１ａに向かって放射状に引き出されている。
【００９４】
次に、図８（ｂ）に示すように、略円形状の第２の透明基板３２の内側領域３４に、ＩＴＯによって非点収差補正とコマ収差補正の複合補正電極パターン３９を形成する。ここでも図示しないが、この複合補正電極パターン３９から計７本の引き出し配線が基板端面３２ａに向かって放射状に引き出されている。
【００９５】
次に、上述したパターンを形成した後に、配向膜形成工程によって、第１の透明基板３１、第２の透明基板３２共に、ポリイミドの配向膜を印刷法で形成する。続けてこの配向膜を約２００℃で焼成した後、配向処理を施すラビング工程（図示せず）を実施するが、詳細は省略する。
【００９６】
次に、枠状シールを透明基板に形成するシール形成工程と、導電材を透明基板に充填する導電材充填工程を行う。図９（ａ）は第１の透明基板３１表面に枠状シール３３を形成する枠状シール形成工程を示す図面である。図９（ｂ）は第２の透明基板３２に導電材１５を充填する導電材充填工程を示す図面である。
【００９７】
図９（ａ）に示すように、第１の透明基板３１に、その外周を囲うように閉環形状の枠状シール３３を形成する。この枠状シール３３には、紫外線等の照射によって硬化する光硬化型樹脂を用いており、第１の透明基板３１の外周の基板端面３１ａまで至って形成する。このとき、輪帯電極パターン３８に接続される３本の引き出し配線（図示せず）と、第２の透明基板３２に形成される７本の引き出し配線（図示せず）をそれぞれ露出する１０個の切り欠き部３６ａ〜３６ｊを基板端面３１ａに沿って形成することが肝要である。
【００９８】
次に、図９（ｂ）に示すように、第２の透明基板３２における、第１の透明基板３１に形成される枠状シール３３の切り欠き部３６ａ〜３６ｊに対応した位置に、導電材１５を塗布する。すなわち、第１の透明基板３１の切り欠き部３６ａ〜３６ｊは１０個形成されているので、第２の透明基板３２の対応する位置の１０箇所に、それぞれ導電材１５を塗布する。これにより、第１の透明基板３１と第２の透明基板３２を後工程において貼り合わせることによって、枠状シール３３の切り欠き部３６ａ〜３６ｊに導電材１５が充填されることになる。
【００９９】
次に、液晶の滴下工程を行う。図１０は、枠状シール３３の内側領域３４に液晶８１を滴下する液晶滴下工程を示す図面である。
【０１００】
図１０に示すように、第１の透明基板３１に形成される枠状シール３３の内側領域３４に、液晶滴下ディスペンサ８０によって適量の液晶８１を滴下する。尚、ここでの液晶８１の滴下は、内側領域３４に対応する箇所の他方の基板である第２の透明基板３２の表面に滴下しても良い。
【０１０１】
次に、第１、第２の透明基板で液晶を挟持する工程を行う。図１１（ａ）は、第１、第２の透明基板を貼り合わせる工程を示している。
【０１０２】
図１１（ａ）に示すように、液晶が滴下された一方の透明基板である第１の透明基板３１と他方の透明基板である第２の透明基板３２を、真空チャンバー内で位置合わせしながら所定の加重Ｃを加えて貼り合わせる。このとき、第１の透明基板３１に形成された枠状シール３３の切り欠き部３６ａ〜３６ｊと、第２の透明基板３２に塗布された導電材１５との位置合わせを行い、切り欠き部３６ａ〜３６ｊに導電材１５を充填させることが重要である。
【０１０３】
尚、枠状シール３３は、光硬化型樹脂であって樹脂の粘度が高いので、第１、第２の透明基板３１、３２を貼り合わせたとき、導電材１５が切り欠き部３６ａ〜３６ｊから流れ出すことはほとんど無い。また、第１、第２の透明基板３１、３２は所定の加重Ｃで加圧されるので、枠状シール３３と導電材１５は潰れて基板端面３１ａ、３２ａの方向に広がり、導電材１５は基板端面３１ａ、３２ａから露出する。
【０１０４】
次に、貼り合わされた第１、第２の透明基板に挟持された枠状シールと導電材を硬化する硬化工程を行う。図１１（ｂ）は、この硬化工程を示す図面である。
【０１０５】
図１１（ｂ）に示すように、まず、第１、第２の透明基板３１、３２を貼り合わせた液晶セル３０に、紫外線（図示せず）を約４０秒間照射し（光照射工程）、挟持された枠状シール３３を硬化させる。これによって、まず枠状シール３３だけが硬化するので、導電材１５が切り欠き部３６ａ〜３６ｊから隣接する他の切り欠き部の方向に流れ出すことが無い。また、この紫外線照射では、液晶セル３０が高温になることはないので、封入される液晶にダメージを与えることが無く、信頼性に優れた液晶セルを製造出来る。
【０１０６】
次に、この光照射工程を行った後、液晶セル３０を加熱して、第１、第２の透明基板３１、３２に挟持された導電材１５を硬化させる。ここで、導電材１５の材料を選定することによって、硬化する加熱温度を１２０℃程度に低く設定できるので、液晶セル３０に封入されている液晶にダメージを与えることはほとんどない。また、この加熱工程は、導電材１５を硬化させると共に、枠状シール３３を更に硬化させるので、液晶の封止がより確実となり、液晶セルの信頼性を向上させることが出来る。
【０１０７】
このように、本実施例の液晶セルの製造方法は、液晶の封入をＯＤＦ方式とし、光硬化型樹脂である枠状シール３３を用いることによって、液晶セルの製造工程を増やすことなく、むしろ、一般の注入方式による製造工程より短時間で信頼性に優れた液晶セルを製造することが出来る。
【０１０８】
次に接続端子形成工程について説明する。図１２は、液晶セル３０に接続端子１６を形成する接続端子形成工程を示している。
【０１０９】
図１２に示すように、硬化工程によって完成した液晶セル３０の基板端面３１ａ、３２ａに略等間隔で露出している導電材１５（図１１（ｂ）参照）に導電ペースト等で成る接続端子１６を印刷等の手法で被覆する。ここで、接続端子１６を印刷によって形成することにより、簡単に、且つ位置精度良く確実に導電材１５（図１１（ｂ）参照）を被覆出来、信頼性の高い接続端子１６を液晶セル３０に形成することが出来る。尚、接続端子形成工程の前にダイシング工程を追加し、液晶セル３０の基板端面３１ａ、３２ａを研磨することによって、接続端子１６の形成をより確実にし、更に信頼性の高い接続端子１６を形成することが出来る。
【０１１０】
また、本実施例においては、円形状の液晶セル３０を例として、ＯＤＦ方式の液晶セル製造方法を説明したが、液晶セルは例えば実施例１で示した略長方形の液晶セルでも、その製造方法は同様である。また、実施例２で示したような注入方式の液晶セルの製造方法においては、一方の透明電極に切り欠き部を有する枠状シールを形成する工程と、他方の透明電極に導電材を塗布する工程が異なるだけで、他の工程は一般の液晶セル製造工程と同様であるので説明は省略する。
【０１１１】
以上のように本発明の液晶セルの製造方法は、ＯＤＦ方式の液晶セルであっても、注入方式の液晶セルであっても適応することが出来るが、ＯＤＦ方式の液晶セルに対して、最も効果的に、多数の接続端子１６を有する信頼性に優れた小型の液晶セルを短時間で製造することが出来る。尚、本発明の実施例で示した構成図等は、この構成に限定されるものではなく、本発明の要旨を満たすものであれば、どのような構成であっても良い。また、本発明の実施例においては、略長方形状や略円形状の液晶セルを提示したが、本発明の液晶セルは、これらの形状に限定されず、多角形状や楕円形状であっても適応される。
【図面の簡単な説明】
【０１１２】
【図１】本発明の実施例１に係わる液晶セルの平面図および断面図である。
【図２】本発明の実施例１に係わる液晶セルの枠状シールの切り欠き部を示す平面図および側面図である。
【図３】本発明の実施例１に係わる液晶セルの基板端面で露出する導電材を被覆する接続端子を示す拡大側面図である。
【図４】本発明の実施例２に係わる液晶セルの平面図および側面図である。
【図５】本発明の実施例３に係わる液晶セルの平面図および側面図である。
【図６】本発明の実施例４に係わる液晶セルに接続用配線を固着したことを示す平面図および断面図である。
【図７】本発明の実施例５に係わる液晶セルにＦＰＣを固着することを示す斜視図である。
【図８】本発明の実施例６に係わる液晶セルの製造工程において、電極パターンを一方および他方の透明基板に形成するパターン形成工程を説明するための斜視図である。
【図９】本発明の実施例６に係わる液晶セルの製造工程において、一方の透明基板に枠状シールを形成する枠状シール形成工程、および他方の透明基板に導電材を充填する導電材充填工程を説明するための斜視図である。
【図１０】本発明の実施例６に係わる液晶セルの製造工程において、透明基板の間に液晶を挟持する工程で液晶を滴下する工程を説明するための斜視図である。
【図１１】本発明の実施例６に係わる液晶セルの製造工程において、透明基板の間に液晶を挟持する工程で２枚の透明基板を貼り合わせる工程、および枠状シールと導電材を硬化する硬化工程を説明するための斜視図である。
【図１２】本発明の実施例６に係わる液晶セルの製造工程において、接続端子を形成する接続端子形成工程を説明する斜視図である。
【図１３】光ピックアップ装置の概略を示す構成図である。
【図１４】従来の液晶セルの断面図および平面図である。
【符号の説明】
【０１１３】
１、２０、３０ 液晶セル
２、３１ 第１の透明基板
３、３２ 第２の透明基板
４１〜４４ 透明基板
２ａ、２ｂ、２ｃ、３１ａ、３２ａ 基板端面
４、４ａ〜４ｅ、５ 電極パターン
６、８１ 液晶
７ａ〜７ｆ、３５ 引き出し配線
１０、２１、３３、４５〜４７ 枠状シール
１１ａ〜１１ｆ、３６ａ〜３６ｊ 切り欠き部
１５、３７、５０ 導電材
１６ 接続端子
２２ 注入口
２３ 封止材
３４ 内側領域
３８ 輪帯電極パターン
３９ 複合補正電極パターン
４０ 複合液晶セル
５１〜５３ 接続ライン
６０ 接続用配線
７０ ＦＰＣ
７１ 接続パターン
７２ 光ビーム
８０ 液晶滴下ディスペンサ
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ピックアップ装置に搭載されて、収差補正等に用いられる小型の液晶セルとその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ＤＶＤ等の光ディスクの再生又は記録を行う光ディスク装置に搭載される光ピックアップ装置は、種々の要因により発生する波面収差の影響を受けて性能が劣化することが問題となっている。この波面収差には、光ディスクのチルト角等に起因するコマ収差や、光ディスクのカバー層の厚み誤差や情報記録面の多層化に伴う球面収差などがあり、また、光学系に起因する非点収差も存在する。
【０００３】
これらの収差は、特に光ディスクの記録密度の高密度化に伴って影響が大きくなり、この収差を相殺して高精度に補正する収差補正手段が、光ディスクの高密度化、高容量化に向けて不可欠な技術となっている。そして、この収差補正手段として、光ピックアップ装置の光路中に液晶セルを配置し、この液晶セルに所定の電圧を印加することによって液晶の屈折率を変化させ、通過する光ビームに位相差を与えて各種の収差を補正する収差補正用の液晶セルが開発されている。
【０００４】
また、光ピックアップ装置が搭載される光ディスク装置は、ノートパソコン等の小型化薄型化に伴って小型化や軽量化の要求がますます高まっており、この光ピックアップ装置に組み込まれる収差補正手段としての液晶セルの小型化は、極めて重要な開発要素である。このような背景から、光ピックアップ装置の収差補正手段としての小型の液晶セルとその製造方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
以下、収差補正手段としての液晶セルを搭載した光ピックアップ装置の概略と、特許文献１に開示されている収差補正手段としての従来の液晶セルの概略を図面に基づいて説明する。ここで、図１３は光ピックアップ装置の概略を模式的に示す構成図である。
【０００６】
図１３において、１００は収差補正手段としての液晶セルを搭載した光ピックアップ装置である。１０１は、レーザ光源であり、コリメータレンズ１０３は、レーザ光源１０１から出射される光ビームを平行光に変換する。また、偏光ビームスプリッタ１０５は、レーザ光源１０１から出射される直線偏光を透過し、光ディスク１１０から反射するそれと直交する方向の直線偏光を反射するように設定されている。
【０００７】
そして、１２０は収差補正手段としての液晶セルであり、液晶への印加電圧を制御することにより、レーザ光源１０１から出射された光ビームに対して、例えばコマ収差等の収差補正を行う。
【０００８】
また、レーザ光源１０１から出射されたそれぞれの光ビームに対して、直線偏光で入射した光ビームを円偏光に変換するλ／４波長板１０７を、液晶セル１２０の光ディスク１１０側に設けている。これにより、レーザ光源１０１から出射された光ビームの往路光と、光ディスク１１０で反射される復路光の偏光方向を９０度変換させる。
【０００９】
また、対物レンズ１１１は、レーザ光源１０１からの光ビームを集光して光ディスク１１０上にビームスポットを形成する。また、集光レンズ１１２は、偏光ビームスプリッタ１０５で反射されてきた光ビームを受光器１１４に集光する働きを備えている。受光器１１４は、入射して来た光ビームをそれぞれ電気信号に変換し、光ディスク１１０に記録さ
れている情報を読み出す。
【００１０】
以上のように光ピックアップ装置１００は、収差を補正する液晶セル１２０を搭載することにより、光ディスクの高密度化、高容量化に対応する高性能な光ピックアップ装置を実現することが出来る。
【００１１】
次に、このような光ピックアップ装置１００に搭載される液晶セルの一例として、特許文献１に開示されている液晶セルを図１４（ａ）、図１４（ｂ）に基づいて説明する。図１４（ａ）は従来の液晶セル１２０の断面図であり、図１４（ｂ）は、その平面図である。なお、本図（ａ）は、（ｂ）図のＣ−Ｃ断面図である。
【００１２】
図１４（ａ）（ｂ）に示すように、液晶セル１２０は、一方の面に電極パターンを有する第１の透明基板１２１と第２の透明基板１２３を、電極パターン１２２、１２４を対向させて枠状シール１２５によって所定の隙間を有して固着して形成されている。この第１、第２の透明基板１２１、１２３の隙間、すなわち、第１、第２の透明基板１２１、１２３に形成された電極パターン１２２、１２４によって挟まれたスペースに、液晶１２６が注入口１２７から注入して形成されている。尚、電極パターン１２２には、コマ収差補正を行うためのパターンが形成されている。
【００１３】
また、この電極パターン１２２には、枠状シール１２５の外側に導出する引き出し配線１３０、１３１が形成されている。この引き出し配線１３０、１３１は、外部からの駆動信号を枠状シール１２５の内側の電極パターン１２２に供給するための配線パターンである。そして、この液晶セル１２０は、第１、第２の透明基板１２１、１２３に同形状で同サイズの基板を使用し、第１、第２の透明基板１２１、１２３の基板端面が位置を同じくして貼り合せて構成されている。なお、電極パターン１２４には、図示しない他の接続用配線および接続端子に繋がっており、電極パターン１２２、１２４にそれぞれ給電できるようになっている。
【００１４】
また、枠状シール１２５の外側から第１、第２の透明基板１２１、１２３の基板端面までの隙間に、引き出し配線１３０、１３１に電気的に接続する導電材１３２がそれぞれ充填され、更に、第１、第２の透明基板１２１、１２３の基板端面の外側には導電ペーストから成る接続端子１３３が固着されて導電材１３２と電気的に接続されている。また、この接続端子１３３には、それぞれに接続用配線１３５、１３６が固着され、接続端子１３３と接続用配線１３５、１３６とは電気的に接続される。また、補強材１３８によって、接続端子１３３と接続用配線１３５、１３６を被覆して、接続用配線１３５、１３６と第１、第２の透明基板１２１、１２３の端面が確実に固定されるように補強されている。
【００１５】
この構成によって、外部からの駆動信号が接続用配線１３５、１３６に入力されると、接続端子１３３、導電材１３２を介して引き出し配線１３０、１３１に伝達され、駆動信号は液晶セル１２０の電極パターン１２２、１２４に供給されて液晶セル１２０を駆動することが出来る。この液晶セル１２０によるならば、外部から液晶セルの電極パターン１２２、１２４に駆動信号を供給するための接続領域を設ける必要がなくなり、その分だけ液晶セル１２０の内側領域１４０（破線で囲んだ領域）に対する外形サイズを小さく出来るので、小型の収差補正用液晶セルを実現できる。
【００１６】
【特許文献１】特開２００５−２１５３５８号公報（第６頁、第１（ａ）、１（ｂ）、６図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
この特許文献１の液晶セルは、２枚の第１、第２の透明基板１２１、１２３の隙間に充填された導電材１３２が、枠状シール１２５の外側で基板端面に沿って広がり、一辺の大部分が導電材１３２の領域となる。この様に、導電材１３２の配設領域が基板端面に対して広くなると、第１、第２の透明基板１２１、１２３の一辺に複数の接続用配線１３５、１３６を設けることが困難となり、基本的にセルの一辺には一つの配線だけしか設けることが出来なくなる。このため、小型の液晶セルを実現できても、液晶セルへ多くの駆動信号を供給できないので、複数の収差を一つの液晶セルで補正することが出来ず、また、細かい電極パターンを形成して高精度に収差補正を行うことも困難となる。
【００１８】
そこで、本発明は上記課題を解決し、光ピックアップ装置等の収差補正手段としての液晶セルにおいて、小型でありながら多数の接続端子を備えた高性能な液晶セルと、その製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記課題を解決するために、本発明の液晶セルは、下記記載の構成と製造方法を採用する。
【００２０】
本発明の液晶セルは、透明基板と、他の透明基板と、透明基板と他の透明基板の内面に、分割して形成された電極パターンと、透明基板と他の透明基板の間隙であって、外延部を囲んで形成された枠状シールと、当該枠状シールの内側領域に配する液晶と、電極パターンに外部信号を給電する為の、複数本の引き出し配線とを備え、透明基板と他の透明基板とは、基板端面を一致させて、枠状シールでもって貼り合わされており、枠状シールは、基板端面に至り、当該基板端面に至る領域において、複数本の引き出し配線のそれぞれを露出させる、当該基板端面から複数個の切り欠き部を有する形状となっており、この複数個の切り欠き部のそれぞれに導電材を充填することで、基板端面で引き出し配線との導通を取ることができる様にしたことを特徴とするものである。
【００２１】
本発明の液晶セルによれば、枠状シールは基板端面に至り、引き出し配線を露出する複数個の切り欠き部を有しているので、その切り欠き部に導電材を充填することによって、導電材が枠状シールの切り欠き部から外にはみ出すことが無い。このため、引き出し配線のピッチを狭くしても、導電材が隣接する他の引き出し配線の導電材と繋がって電気的にショートすることが無くなり、透明基板の基板端面に複数の引き出し線を形成することが出来る。これにより、小型液晶セルでありながら、多くの配線をセルの外側に引き出すことが出来、液晶セルへ多くの駆動信号を供給することが可能となる。この結果、複数の収差を補正するための複合収差補正電極パターンが形成された液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度な収差補正を行う高性能な液晶セルを、極めて小型に実現することが出来る。
【００２２】
また、複数個の切り欠き部が形成された領域は、基板外周の内の少なくとも一部の領域であることを特徴とする。
【００２３】
これにより、基板外周の内の少なくとも一部の領域に複数個の切り欠きが形成されるので、多くの配線をセルの外側に引き出すことが可能となり、小型でありながら多くの電極パターンを有する液晶セルを実現することが出来る。
【００２４】
また、枠状シールは、閉環形状のシールであることを特徴とする。
【００２５】
これにより、液晶滴下方式で液晶セルを製造することが出来、製造工程を増やすことなく、多数の接続端子を有する信頼性に優れた液晶セルを実現することが出来る。
【００２６】
また、基板端面で露出する導電材を被覆する接続端子を、更に設けることを特徴とする。
【００２７】
この様に構成することで、基板端面で露出する導電領域が広がり、外部からの駆動信号の取り込みが容易となり、信頼性に優れた液晶セルを実現することが出来る。
【００２８】
本発明の液晶セルの製造方法は、透明基板と他の透明基板と、透明基板と他の透明基板の内面に、分割して形成された電極パターンと、透明基板と他方の透明基板の間隙であって、外延部を囲んで形成された枠状シールと、当該枠状シールの内側領域に配する液晶と、電極パターンに外部信号を給電する為の、複数本の引き出し配線とを備える液晶セルの製造方法において、電極パターンと、当該電極パターンに接続する複数本の引き出し配線とを、透明基板と他方の透明基板のそれぞれに形成するパターン形成工程と、透明基板の基板端面に至り、当該基板端面に至る領域において、複数本の引き出し配線のそれぞれが露出する複数個の切り欠き部を有する前記枠状シールを、透明基板に形成するシール形成工程と、複数個の切り欠き部で露出する複数本の引き出し配線に接続する導電材を、複数個の切り欠き部のそれぞれに充填する導電材充填工程と、透明基板と他の透明基板における基板端面を一致させて形成した基板の間隙に液晶を挟持する工程と、透明基板と他の透明基板とで挟持された、枠状シールおよび導電材を硬化する硬化工程と、を有することを特徴とするものである。
【００２９】
本発明の液晶セルの製造方法により、枠状シールは基板端面まで形成され、引き出し配線を露出する複数個の切り欠き部を有しているので、その切り欠き部に導電材を充填することによって、導電材が枠状シールの切り欠き部から外にはみ出すことが無い。これにより、小型液晶セルでありながら、多くの配線をセルの外側に引き出すことが出来るので、液晶セルへ多くの駆動信号を供給することが出来る。この結果、複数の収差を補正するための複合収差補正電極パターンが形成された液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度な収差補正を行う高性能な液晶セルを極めて小型に製造することが出来る。
【００３０】
また、シール形成工程では、枠状シールを閉環形状で形成する工程であり、液晶を挟持する工程は、枠状シールの内側領域に液晶を滴下した透明基板と、他の透明基板とを貼り合わせる、または枠状シールを設けた透明基板と、液晶を滴下した他の透明基板とを貼り合わせて行う工程であることを特徴とする。
【００３１】
上記工程によれば、枠状シールを閉環形状で形成し、液晶を透明基板に滴下する方法で液晶を封入し透明基板で挟持することが出来るので、製造工程を増やすことなく、多数の接続端子を有する信頼性に優れた液晶セルを製造することが出来る。
【００３２】
また、シール形成工程は、枠状シールに光硬化型樹脂を用いて行う工程であり、導電材充填工程は、導電材に熱硬化型樹脂を用いて行う工程であり、硬化工程は、枠状シールを光照射して硬化させた後に、導電材を加熱して形成する工程であることを特徴とする。
【００３３】
上記工程によれば、光硬化型樹脂の枠状シールは粘度が高いので、枠状シールの切り欠き部に充填された導電材が切り欠き部から流れ出すことを極力防ぐことが出来る。また、光硬化型樹脂の枠状シールは、光の照射によって短時間で硬化するので、硬化工程の時間短縮が可能となり、また、導電材の流れ出しを更に防ぐことが出来る。また、光の照射による枠状シールの硬化は、液晶が高温にならないので液晶のダメージを防ぐことが出来、信頼性に優れた液晶セルを製造出来る。また、導電材の加熱工程は、枠状シールの硬化後に行われるので、導電材は切り欠き部の中に充填された状態で確実に硬化し、これにより、導電材は引き出し配線と電気的に結合した状態で硬化して、基板端面で露出させることが出来る。また、導電材の加熱温度は低く設定できるので、液晶にダメージを与えること
なく、また、枠状シールを更に硬化させて透明基板の貼り合わせを確実にし、液晶セルの信頼性を更に高めることが出来る。
【００３４】
また、導電材充填工程は、他方の透明基板における切り欠き部に対応した位置に導電材を塗布する工程であることを特徴とする。
【００３５】
これにより、導電材の塗布と枠状シールの形成を２枚の透明基板で別々の工程で実施出来、その後、２枚の透明基板を貼り合わせることによって導電材を切り欠き部に充填させることが出来る。この結果、導電材を枠状シールの切り欠き部に確実に充填することが出来る。
【００３６】
また、硬化工程の後に、基板端面で露出する導電材を被覆する接続端子を形成する接続端子形成工程を、更に有することを特徴とする。
【００３７】
上記工程によれば、基板端面で露出する導電領域が広がり、外部からの駆動信号の取り込みが容易となり、信頼性に優れた液晶セルを製造することが出来る。
【００３８】
また、接続端子形成工程は、接続端子を印刷して形成する工程であることを特徴とする。
【００３９】
上記工程によれば、基板端面で露出している導電材に対して、接続端子を簡単に、且つ、確実に被覆出来るので、信頼性の高い接続端子を液晶セルの基板端面に形成することが出来る。
【発明の効果】
【００４０】
上記の如く本発明によれば、小型液晶セルでありながら、多数の配線をセルの外側に引き出すことが出来るので、液晶セルへ多くの駆動信号を供給することが可能となる。これにより、複数の収差を補正するための複合収差補正電極パターンが形成された液晶セルや、高精度な収差補正を行う高性能な液晶セルを、極めて小型に実現し提供することが出来る。また、小型で多数の接続端子を有する液晶セルを、製造工程を増やすことなく短時間で製造することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下図面により本発明の液晶セルの具体的な構成、その変形例および製造方法を詳述する。
【実施例１】
【００４２】
まず、本発明の実施例１の液晶セルの構成を図１（ａ）、図１（ｂ）に基づいて説明する。実施例１の特徴は、液晶滴下方式（以下、ＯＤＦ方式と略す）で液晶を封入する液晶セルを本発明に適応したことである。図１（ａ）は実施例１の液晶セル１の平面図であり、図１（ｂ）は液晶セル１を平面図の断面線Ａ−Ａで断面した断面図である。
【００４３】
図１（ａ）、図１（ｂ）において、液晶セル１は、略長方形状の第１の透明基板２と第２の透明基板３が、スペーサ（図示せず）によって、例えば、５μｍ〜１０μｍの間隔を置いて枠状シール１０によって固着され、周囲の基板端面を一致して貼り合わされている。この第１、第２の透明基板２、３は、略同一形状となっている。
【００４４】
そして、第１、第２の透明基板２、３は、その表面にインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）等からなる電極パターン４、５がそれぞれ形成され、対向して配置されている。この第１、第２の透明基板２、３の隙間、すなわち、電極パターン４、５によって挟まれたスペース
には液晶６が封入され、この液晶６は、第１、第２の透明基板２、３によって挟持されている。
【００４５】
また、電極パターン４、５には、収差補正のための特定のパターンが分割してそれぞれ形成されている。例えば、図１（ａ）においては、電極パターン４としてコマ収差補正のために分割された電極パターン４ａ〜４ｅが形成され、電極パターン５として電極パターン４ａ〜４ｅに対向するベタパターンで形成されている。尚、電極パターン４、５は、コマ収差補正に限定されず、球面収差や非点収差を補正するパターンでも良い。
【００４６】
また、図１（ａ）の７ａ〜７ｅは、それぞれ電極パターン４ａ〜４ｅに接続して枠状シール１０の外側に向けて延出して形成された引き出し配線である。また、図１（ｂ）の７ｆは、他方の対向する電極パターン５に接続して、枠状シール１０の外側に向けて延出して形成された引き出し配線である。これらの引き出し配線７ａ〜７ｆは、外部からの駆動信号を枠状シール１０の内側の電極パターン４ａ〜４ｅ、電極パターン５に供給するための配線パターンである。
【００４７】
また、枠状シール１０は、第１、第２の透明基板２、３の外周を囲うように形成される閉環形状のシールであり、従来例のような液晶を注入するための注入口は存在しない。すなわち、実施例１の液晶セル１は、ＯＤＦ方式によって液晶６を封入し、液晶６は枠状シール１０の内側に封入されて第１、第２の透明基板２、３に挟持されている。尚、本発明のＯＤＦ方式による製造方法は後述する。
【００４８】
また、枠状シール１０は、第１、第２の透明基板２、３の基板端面２ａ、２ｂまで至って延伸して形成され、基板端面２ａ側の枠状シール１０は、枠状シール１０の外側に向けて延出している引き出し配線７ａ〜７ｅを露出する複数の切り欠き部１１ａ〜１１ｅを有している。また、基板端面２ｂ側の枠状シール１０は、電極パターン５の引き出し配線７ｆを露出する切り欠き部１１ｆを有している。
【００４９】
また、枠状シール１０のこれらの切り欠き部１１ａ〜１１ｆには、カーボンペースト等の導電材１５がそれぞれ充填され、これによって、第１、第２の透明基板２、３の基板端面２ａ、２ｂから導電材１５が導出し、基板端面２ａ、２ｂの隙間から導電材１５を露出させることが出来る。
【００５０】
この導電材１５は、切り欠き部１１ａ〜１１ｆの内部で引き出し配線７ａ〜７ｆとそれぞれ導通を取り、これによって、基板端面２ａ、２ｂで露出するそれぞれの導電材１５は、引き出し配線７ａ〜７ｆを介して、枠状シール１０の内部に形成される電極パターン４ａ〜４ｅ、電極パターン５に電気的に接続される。尚、第１、第２の透明基板２、３は、一例として約０．４ｍｍの白板ガラスで成り、液晶６が封入される隙間は前述した如く５μｍ〜１０μｍ程度であるので、図１（ｂ）の断面図の第１、第２の透明基板２、３の隙間、及び、電極パターン４、５、液晶６等の厚みは、説明を分かりやすくするために実際のスケールより拡大して描いている。
【００５１】
次に、図２（ａ）の平面図と図２（ｂ）の側面図に基づいて、実施例１の液晶セル１の枠状シール１０と導電材１５の構成を詳細に説明する。尚、図２（ｂ）は基板端面２ａ側から見た液晶セル１の側面図である。
【００５２】
図２（ａ）において、枠状シール１０は、液晶セル１の外周を囲むように形成され、第１、第２の透明基板２、３の対面する基板端面２ａ、２ｂにまで至って形成されている。尚、図２（ａ）では、枠状シール１０の形状を分かりやすくするために、電極パターンと導電材を図示していない。
【００５３】
そして、基板端面２ａに至る枠状シール１０には、その基板端面２ａに切り欠き部１１ａ〜１１ｅが形成されている。この切り欠き部１１ａ〜１１ｅは、基板端面２ａに対して凹形状を有しており、基板端面２ａに沿って略等間隔に複数の小さな切り欠きが形成されている。この切り欠き部１１ａ〜１１ｅに、導電材１５が充填されることにより、図２（ｂ）で示すように、基板端面２ａから導電材１５が略等間隔で露出させることが出来る。
【００５４】
また、基板端面２ａに対面する基板端面２ｂ側の切り欠き部１１ｆも、切り欠き部１１ａ〜１１ｅと同様な形状であり、その切り欠き部１１ｆにも導電材１５が充填され、図示しないが基板端面２ｂから導電材１５を露出させる。このように、枠状シール１０の切り欠き部１１ａ〜１１ｆに導電材１５を充填することによって、導電材１５は切り欠き部１１ａ〜１１ｆに隣接する他の切り欠き部の方向に、流れ出したり、はみ出したりすることが無い。
【００５５】
このため、切り欠き部１１ａ〜１１ｅのピッチ、すなわち、引き出し配線７ａ〜７ｅ（図１（ａ）参照）のピッチをある程度狭くしたとしても、導電材１５が隣接する他の引き出し配線の導電材１５と繋がって電気的にショートすることが無くなり、液晶セルの基板端面に多数の配線を引き出すことが出来る。
【００５６】
また、実施例１の液晶セル１は、ＯＤＦ方式の液晶セルであるので、従来例のような液晶の注入口が不要である。このため、基板端面２ａに集約して設けた、枠状シール１０の切り欠き部１１ａ〜１１ｅを液晶セル１の４辺すべての基板端面に形成することが出来、これによって、より多くの配線を基板端面に引き出すことが出来る。よって、枠状シール１０に切り欠き部１１ａ〜１１ｆを有する本発明の液晶セル１は、ＯＤＦ方式による製造方法と組み合わせることによって、より大きな効果を発揮することが出来る。
【００５７】
この様に、実施例１において枠状シール１０の切り欠き部１１ａ〜１１ｆは、第１、第２の透明基板２、３の外周の一部にのみ形成されているが、この構成に限定されず、枠状シール１０は透明基板２、３のすべての外周の基板端面にまで至り、切り欠き部は第１、第２の透明基板２、３のすべての外周、すなわち、４辺の基板端面すべてに形成されても良い。また、切り欠き部１１ａ〜１１ｆの形状は、略長方形の凹形状で示しているが、この形状に限定されず、導電材１５を充填出来るならば、半円形や三角形等どのような形状でも良い。また、図２（ｂ）の側面図での第１、第２の透明基板２、３の隙間は、説明を分かりやすくするために、実際のスケールより拡大して描いている。
【００５８】
次に、図３に基づいて、基板端面で露出している導電材１５と、この導電材１５を被覆する接続端子１６について説明する。図３は液晶セル１の基板端面２ａ側から見た拡大側面図である。
【００５９】
図３に示すように、第１、第２の透明基板２、３の隙間には、枠状シール１０が形成され、この枠状シール１０に略等間隔に形成された切り欠き部１１ａ〜１１ｅに導電材１５が充填されて、基板端面２ａから露出する形態となっている。尚、第１、第２の透明基板２、３の隙間は、説明を分かりやすくするために、実際のスケールより拡大して描いている。
【００６０】
ここで１６は、露出している導電材１５を被覆する導電ペースト等で成る接続端子である。この接続端子１６は、説明を分かりやすくするために半透過で図示しており、接続端子１６が導電材１５に密着して被覆し、接続端子１６と基板端面２ａから露出している導電材１５が電気的に接続されている。尚、接続端子１６は、液晶セル１の厚み程度まで広げて導電材１５を被覆しても良く、または、液晶セル１の厚みを多少越えた形態としても
良い。尚、切り欠き部１１ａ〜１１ｅのピッチは、一例として８００μｍ程度であるので、接続端子１６のピッチも８００μｍ程度となる。
【００６１】
ここで、基板端面２ａから露出している導電材１５は、前述したように、第１、第２の透明基板２、３の、５μｍ〜１０μｍ程度の隙間から露出しているだけで、導電材１５の露出面積は非常に狭い。この導電材１５に外部からの駆動信号を供給するための接続用配線を結合するには、結合面積が狭過ぎるので、信頼性の高い結合を行うことは難しい。そこで、図３に示すように、接続端子１６によって導電材１５を被覆することで、基板端面で露出する導電領域が広がり、接続用配線を結合することが容易となるのである。
【００６２】
以上のように本発明の液晶セル１は、枠状シール１０が、第１、第２の透明基板２、３の外周を囲う閉環形状のシールであって、少なくとも枠状シール１０の一部が基板端面に至り、引き出し配線７ａ〜７ｆを露出する複数個の切り欠き部１１ａ〜１１ｆを有している。そして、その切り欠き部１１ａ〜１１ｆに導電材１５を充填することによって、その導電材１５と引き出し配線７ａ〜７ｆが導通するので、小型液晶セルでありながら、多くの配線を液晶セルの外側に引き出すことが出来、液晶セルへ多くの駆動信号を供給することが可能となる。
【００６３】
この結果、複数の収差を補正するための複合収差補正パターンが形成された液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度の収差補正を行う高性能な液晶セルを極めて小型に実現することが出来る。また、上述したように接続端子１６で導電材１５を被覆することによって、基板端面で露出する導電領域が広がり、外部からの駆動信号の取り込みが容易となり、信頼性に優れた液晶セルを実現することが出来る。
【実施例２】
【００６４】
次に、本発明の実施例２の液晶セルの構成を図４（ａ）と図４（ｂ）に基づいて説明する。図４（ａ）は実施例２に係わる本発明の液晶セル２０の平面図である。図４（ｂ）はこの液晶セル２０の側面図である。
【００６５】
実施例２の特徴は、注入口からの注入によって液晶を封入する注入方式の液晶セルを本発明に適応したことである。尚、基本的な構成は実施例１と同様であるので、実施例１と同一要素には同一番号を付し重複する説明は省略する。
【００６６】
図４（ａ）、図４（ｂ）において、２０は本発明の実施例２の液晶セルである。液晶セル２０は、第１、第２の透明基板２、３が、スペーサ（図示せず）によって、例えば、５μｍ〜１０μｍの間隔を置いて枠状シール２１によって固着され貼り合わされる。
【００６７】
この枠状シール２１は、第１、第２の透明基板２、３の外周を囲うように形成され、基板端面２ｃ側に液晶（図示せず）を枠状シール２１の内側領域に注入するための注入口２２を有している。また、この注入口２２から液晶を注入後、液晶を封止するために注入口２２は封止材２３で封止される。また、枠状シール２１は実施例１と同様に、第１、第２の透明基板２、３の基板端面２ａ、２ｂまで至って形成され、基板端面２ａ側の枠状シール２１は、複数の切り欠き部１１ａ〜１１ｅを有し、さらに、基板端面２ｂ側の枠状シール２１は切り欠き部１１ｆを有している。
【００６８】
また、枠状シール２１のこれらの切り欠き部１１ａ〜１１ｆには、実施例１と同様にカーボンペースト等の導電材１５がそれぞれ充填され、第１、第２の透明基板２、３の基板端面２ａ、２ｂでそれぞれの引き出し配線７ａ〜７ｆ（本図では、対向する電極パターンと電気的に接続される引き出し配線７ｆは現れていない）と導通を取り、これによって、導電材１５は枠状シール２１の内部に形成される各電極パターンに電気的に接続される。
この導電材１５は、実施例１と同様に、図示しない接続端子によって被覆されるが、ここでの説明は省略する。尚、図４（ｂ）の側面図での第１、第２の透明基板２、３の隙間は、説明を分かりやすくするために、実際のスケールより拡大して描いている。
【００６９】
以上のように本発明の実施例２の液晶セル２０は、実施例１と同様に、枠状シール２１が基板端面２ａ、２ｂにまで至って形成され、複数個の切り欠き部１１ａ〜１１ｆに充填される導電材１５が基板端面２ａ、２ｂで露出した形態となっている。そして、この導電材１５と引き出し配線７ａ〜７ｆとが導通しているので、小型液晶セルでありながら、多くの配線を液晶セルの外側に引き出すことが出来る。これにより、複数の収差を補正するための複合収差補正パターンが形成された液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度の収差補正を行う高性能な液晶セルを極めて小型に実現することが出来る。
【００７０】
尚、実施例１の液晶セルは、ＯＤＦ方式によって液晶を封入し、実施例２の液晶セルは、注入方式によって液晶を封入するが、本発明は、どちらの方式の液晶セルにおいても適応することが出来る。ただし、実施例２の液晶セル２０は、図示するように、注入口２２のある基板端面２ｃは、切り欠き部を形成して配線を引き出すことが難しく、引き出し配線の数（すなわち、接続端子数）は減ることになる。
【実施例３】
【００７１】
次に、本発明の実施例３の液晶セルの構成を図５（ａ）と図５（ｂ）に基づいて説明する。図５（ａ）は実施例３に係わる本発明の液晶セル３０の平面図である。図５（ｂ）はこの液晶セル３０の側面図である。
【００７２】
実施例３の特徴は、ＯＤＦ方式で液晶を封入する円形状の液晶セルを本発明に適応したことである。尚、実施例３の液晶セル３０の外形形状は前述の実施例１と異なるが、基本的な構成は実施例１と同様であるので、重複する説明は一部省略する。
【００７３】
図５（ａ）、図５（ｂ）において、３０は本発明の実施例３の液晶セルである。液晶セル３０は、略円形状の第１の透明基板３１と第２の透明基板３２が、スペーサ（図示せず）によって、例えば、５μｍ〜１０μｍの間隔を置いて枠状シール３３によって固着され貼り合わされる。この第１、第２の透明基板３１、３２は略同一形状であり、全周の基板端面３１ａ、３２ａを一致させて貼り合わされている。そして、第１、第２の透明基板３１、３２の内側領域３４は、その表面にＩＴＯ等からなる分割された電極パターンが形成され、この電極パターンが対向する隙間には液晶が封入されるが、ここでは図示を省略する。
【００７４】
また、枠状シール３３は、第１、第２の透明基板３１、３２の外周を囲うように円形に形成される閉環形状のシールであり、ＯＤＦ方式によって封入された液晶（図示せず）を第１、第２の透明基板３１、３２で挟持して形成される。この枠状シール３３は、第１、第２の透明基板３１、３２の外周の基板端面３１ａ、３２ａまで至って形成され、電極パターン（図示せず）に接続される複数の引き出し配線３５を露出する複数の切り欠き部３６ａ〜３６ｊを有している。
【００７５】
また、この切り欠き部３６ａ〜３６ｊには、カーボンペースト等の導電材３７がそれぞれ充填され、基板端面３１ａ、３２ａで引き出し配線３５と導通を取り、これによって、基板端面３１ａ、３２ａで露出するそれぞれの導電材３７は、引き出し配線３６ａ〜３６ｊを介して、枠状シール３３の内側領域３４に形成される電極パターン（図示せず）と電気的に接続される。この導電材３７は、実施例１と同様に、接続端子（図示せず）によって被覆されるが、ここでの説明は省略する。
【００７６】
尚、切り欠き部３６ａ〜３６ｊは、本実施例においては、第１、第２の透明基板３１、３２の外周の全周に略等間隔に形成されているが、この構成に限定されるものではなく、外周の一部に形成されても良い。また、切り欠き部の個数も限定されず、形成される電極パターンに応じて、任意に形成して良い。また、図５（ｂ）の側面図での第１、第２の透明基板３１、３２の隙間は、説明を分かりやすくするために、実際のスケールより拡大して描いている。
【００７７】
以上のように本発明の実施例３の液晶セルは、実施例１と同様に、枠状シール３３は基板外周の基板端面３１ａ、３２ａにまで至って形成され、複数個の切り欠き部３６ａ〜２６ｊに充填される導電材３７が基板端面３１ａ、３２ａで露出して形成されている。そして、この導電材３７と引き出し配線３６ａ〜３６ｊとが導通しているので、小型液晶セルでありながら、多くの配線を液晶セルの外側に引き出すことが出来る。これにより、複数の収差を補正するための複合収差補正パターンが形成された液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度の収差補正を行う高性能な液晶セルを極めて小型に実現することが出来る。
【００７８】
尚、本発明の液晶セル３０は、光ピックアップ装置のレーザ光源から出射される光ビームの光路中に配置されるが、光ビームの光路の断面は略円形であるので、その光ビームの断面形状に合わせて本実施例のように液晶セルを円形状とすることで、液晶セルの面積効率が向上し、無駄な領域が無く、より小型の液晶セル３０を実現することが出来る。また、光ピックアップ装置に搭載される対物レンズ等は外形が円形状であるので、液晶セルを円形状とすることによって、これら光学レンズとの組み合わせが容易となり、光ピックアップ装置の更なる小型化を実現できる。
【実施例４】
【００７９】
次に、接続用配線が固着された本発明の実施例４に係わる液晶セルの構成を図６（ａ）と図６（ｂ）に基づいて説明する。図６（ａ）は実施例４に係わる液晶セル１に接続用配線６０を固着したことを示す平面図である。図６（ｂ）はこの液晶セル１に接続用配線６０を固着したことを示す断面図である。尚、図６（ｂ）は平面図におけるＢ−Ｂ断面図である。
【００８０】
図６（ａ）、図６（ｂ）において、液晶セル１は実施例１で示した液晶セルであり、枠状シート１０は、第１、第２の透明基板２、３の基板端面２ａ、２ｂに沿って切り欠き部１１ａ〜１１ｆを有し、この切り欠き部１１ａ〜１１ｆに導電材１５が充填されている。そして、導電材１５は基板端面２ａ、２ｂで露出し、導電ペースト等で成る接続端子１６によって被覆されている。６０はリード線などの接続用配線であり、その先端を接続端子１６によって覆われ、液晶セル１の基板端面２ａ、２ｂにそれぞれ固着されている。
【００８１】
この様に、接続用配線６０は、接続端子１６を介して導電材１５と電気的に接続すれば十分広い導電領域で確実に導電材１５と接続でき、電気的にも機械的にも信頼性の高い接続が可能となる。また、接続用配線６０は、液晶セル１の基板端面２ａ、２ｂに固着されるので、図示するように平面上の接続領域をほとんど必要とせず、平面積を広げることなく多数の接続が可能となり、この接続用配線６０によって多くの駆動信号を液晶セルへ供給することが出来る。
【００８２】
また、図示しないが、従来例の液晶セル（図１４（ａ）参照）で示したように、接続端子１６と接続用配線６０を補強材によって被覆し、接続用配線６０が更に確実に液晶セル１の基板端面２ａ、２ｂに固定されるようにしても良い。
【００８３】
以上のように本実施例によるならば、接続用配線６０は、接続端子１６を介して基板端
面２ａ、２ｂから露出している導電材１５と接続した形態となるので、液晶セル１は外部から駆動信号を供給するために広い接続領域を設ける必要がなくなり、狭い領域で多数の接続用配線６０を液晶セルの基板端面に配置出来る様になる。これにより、極めて小型でありながら、複数の収差を補正するための複合収差補正パターンが形成された液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度な収差補正を行う液晶セルを提供することが出来る。
【実施例５】
【００８４】
次に、本発明の実施例５に係わるＦＰＣ７０が固着される液晶セルの構成を図７に基づいて説明する。図７は実施例５に係わる複合液晶セル４０にＦＰＣ７０を固着することを示す斜視図である。
【００８５】
図７において、４０は略円形状の複合液晶セルであり、実施例３の液晶セル３０（図５（ａ）（ｂ）参照）と同様な略円形状の液晶セルを複数枚重ねて製造される。この複合液晶セル４０は、例えば、４枚の透明基板４１〜４４が重ね合わされ、その隙間に枠状シール４５〜４７が形成され、液晶（図示せず）が封入されている。この枠状シール４５〜４７は、実施例３と同様に、透明基板４１〜４４の基板端面に切り欠き部が形成され、導電材５０が充填されて、複合液晶セル４０の外周の基板端面に３列の接続ライン５１〜５３が形成される。尚、ここでは図示していないが、導電材５０は接続端子（図３参照）で被覆することが好ましい。
【００８６】
また、７０はＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）であり、その内側に、接続用配線としての銅箔等によって成る接続パターン７１が形成されている。この接続パターン７１は、複合液晶セル４０の基板端面で露出している接続ライン５１〜５３上の導電材５０と同じピッチで形成されている。そして、ＦＰＣ７０を複合液晶セル４０に巻き付け、その外側を熱収縮チューブ（商品名：ヒシチューブ）（図示せず）で覆うことによって、接続パターン７１と導電材５０を密着して導通させることが出来る。尚、導電材５０に接続端子（図示せず）を被覆すれば、導電材５０と接続パターン７１との結合は更に確実となる。
【００８７】
この構造により、複合液晶セル４０は、外部からの駆動信号を最小限のスペースで効率よく入力できるので、複合液晶セル４０が組み込まれる光ピックアップ装置の小型化に大きく貢献できる。また、このようなＦＰＣ７０が接続された複合液晶セル４０は、それぞれの透明基板４１〜４４に、例えば、コマ収差、球面収差、非点収差などの各収差を補正する電極パターンや、λ／４波長板としての電極パターンを形成することにより、光ビーム７２を入射して複合収差補正や偏光変換等を行う多機能型液晶セルを実現出来る。
【００８８】
尚、本実施例の複合液晶セル４０は、４枚の透明基板４１〜４４によって構成されるが、この基板枚数は限定されず、任意で良い。また、ＦＰＣ７０による接続は、本実施例のような円形状の液晶セルに限定されず、図示しないが、実施例１で示した略長方形状の液晶セルを重ねた複合液晶セルを用い、液晶セルの周囲を直角に曲げたＦＰＣで覆って、外部からの駆動信号を供給する構造でも良い。
【００８９】
以上のように本実施例によるならば、外部からの多数の駆動信号をＦＰＣ７０によって最小限のスペースで効率よく入力できるので、極めて小型でありながら、多機能な収差補正液晶セルや、細かい電極パターンによって高精度の収差補正を行う高性能な液晶セルを提供することが出来る。
【実施例６】
【００９０】
次に、本発明の実施例６として、本発明の液晶セルの製造方法の一例を説明する。
尚、本発明の液晶セルの製造方法は、ＯＤＦ方式の液晶セルと注入方式の液晶セルの何
れの製法にも適応されるが、特に本発明に好適であるＯＤＦ方式の液晶セルの製造方法を中心に説明する。
【００９１】
ここで、本発明の液晶セルの製造方法は、第１、第２の透明基板へのパターン形成工程、配向膜形成工程、ラビング工程、一方の透明基板へのシール形成工程、他方の透明基板への導電材充填工程、スペーサ散布工程、第１、第２の透明基板に液晶を挟持する工程、枠状シール及び導電材を硬化する硬化工程、及び、接続端子形成工程の各工程を有するものである。また、以下の説明で示す液晶セルは、実施例３で示した略円形状の液晶セルであり、形成される電極パターンは、コマ収差、球面収差、非点収差を補正する複合収差補正パターンが形成された液晶セルである。尚、符号は実施例３と同一要素には同一番号を付し重複する説明は省略する。
【００９２】
最初に、パターン形成工程と配向膜形成工程について説明する。図８（ａ）、図８（ｂ）は、液晶に給電するための電極パターンと、この電極パターンに接続する引き出し配線とを第１、第２の透明基板３１、３２に形成するパターン形成工程を示している。
【００９３】
図８（ａ）に示すように、略円形状の第１の透明基板３１における内側領域３４に、ＩＴＯによって球面収差補正用の輪帯電極パターン３８を形成する。なお、図示しないが、この輪帯電極パターン３８から３本の引き出し配線が基板端面３１ａに向かって放射状に引き出されている。
【００９４】
次に、図８（ｂ）に示すように、略円形状の第２の透明基板３２の内側領域３４に、ＩＴＯによって非点収差補正とコマ収差補正の複合補正電極パターン３９を形成する。ここでも図示しないが、この複合補正電極パターン３９から計７本の引き出し配線が基板端面３２ａに向かって放射状に引き出されている。
【００９５】
次に、上述したパターンを形成した後に、配向膜形成工程によって、第１の透明基板３１、第２の透明基板３２共に、ポリイミドの配向膜を印刷法で形成する。続けてこの配向膜を約２００℃で焼成した後、配向処理を施すラビング工程（図示せず）を実施するが、詳細は省略する。
【００９６】
次に、枠状シールを透明基板に形成するシール形成工程と、導電材を透明基板に充填する導電材充填工程を行う。図９（ａ）は第１の透明基板３１表面に枠状シール３３を形成する枠状シール形成工程を示す図面である。図９（ｂ）は第２の透明基板３２に導電材１５を充填する導電材充填工程を示す図面である。
【００９７】
図９（ａ）に示すように、第１の透明基板３１に、その外周を囲うように閉環形状の枠状シール３３を形成する。この枠状シール３３には、紫外線等の照射によって硬化する光硬化型樹脂を用いており、第１の透明基板３１の外周の基板端面３１ａまで至って形成する。このとき、輪帯電極パターン３８に接続される３本の引き出し配線（図示せず）と、第２の透明基板３２に形成される７本の引き出し配線（図示せず）をそれぞれ露出する１０個の切り欠き部３６ａ〜３６ｊを基板端面３１ａに沿って形成することが肝要である。
【００９８】
次に、図９（ｂ）に示すように、第２の透明基板３２における、第１の透明基板３１に形成される枠状シール３３の切り欠き部３６ａ〜３６ｊに対応した位置に、導電材１５を塗布する。すなわち、第１の透明基板３１の切り欠き部３６ａ〜３６ｊは１０個形成されているので、第２の透明基板３２の対応する位置の１０箇所に、それぞれ導電材１５を塗布する。これにより、第１の透明基板３１と第２の透明基板３２を後工程において貼り合わせることによって、枠状シール３３の切り欠き部３６ａ〜３６ｊに導電材１５が充填されることになる。
【００９９】
次に、液晶の滴下工程を行う。図１０は、枠状シール３３の内側領域３４に液晶８１を滴下する液晶滴下工程を示す図面である。
【０１００】
図１０に示すように、第１の透明基板３１に形成される枠状シール３３の内側領域３４に、液晶滴下ディスペンサ８０によって適量の液晶８１を滴下する。尚、ここでの液晶８１の滴下は、内側領域３４に対応する箇所の他方の基板である第２の透明基板３２の表面に滴下しても良い。
【０１０１】
次に、第１、第２の透明基板で液晶を挟持する工程を行う。図１１（ａ）は、第１、第２の透明基板を貼り合わせる工程を示している。
【０１０２】
図１１（ａ）に示すように、液晶が滴下された一方の透明基板である第１の透明基板３１と他方の透明基板である第２の透明基板３２を、真空チャンバー内で位置合わせしながら所定の加重Ｃを加えて貼り合わせる。このとき、第１の透明基板３１に形成された枠状シール３３の切り欠き部３６ａ〜３６ｊと、第２の透明基板３２に塗布された導電材１５との位置合わせを行い、切り欠き部３６ａ〜３６ｊに導電材１５を充填させることが重要である。
【０１０３】
尚、枠状シール３３は、光硬化型樹脂であって樹脂の粘度が高いので、第１、第２の透明基板３１、３２を貼り合わせたとき、導電材１５が切り欠き部３６ａ〜３６ｊから流れ出すことはほとんど無い。また、第１、第２の透明基板３１、３２は所定の加重Ｃで加圧されるので、枠状シール３３と導電材１５は潰れて基板端面３１ａ、３２ａの方向に広がり、導電材１５は基板端面３１ａ、３２ａから露出する。
【０１０４】
次に、貼り合わされた第１、第２の透明基板に挟持された枠状シールと導電材を硬化する硬化工程を行う。図１１（ｂ）は、この硬化工程を示す図面である。
【０１０５】
図１１（ｂ）に示すように、まず、第１、第２の透明基板３１、３２を貼り合わせた液晶セル３０に、紫外線（図示せず）を約４０秒間照射し（光照射工程）、挟持された枠状シール３３を硬化させる。これによって、まず枠状シール３３だけが硬化するので、導電材１５が切り欠き部３６ａ〜３６ｊから隣接する他の切り欠き部の方向に流れ出すことが無い。また、この紫外線照射では、液晶セル３０が高温になることはないので、封入される液晶にダメージを与えることが無く、信頼性に優れた液晶セルを製造出来る。
【０１０６】
次に、この光照射工程を行った後、液晶セル３０を加熱して、第１、第２の透明基板３１、３２に挟持された導電材１５を硬化させる。ここで、導電材１５の材料を選定することによって、硬化する加熱温度を１２０℃程度に低く設定できるので、液晶セル３０に封入されている液晶にダメージを与えることはほとんどない。また、この加熱工程は、導電材１５を硬化させると共に、枠状シール３３を更に硬化させるので、液晶の封止がより確実となり、液晶セルの信頼性を向上させることが出来る。
【０１０７】
このように、本実施例の液晶セルの製造方法は、液晶の封入をＯＤＦ方式とし、光硬化型樹脂である枠状シール３３を用いることによって、液晶セルの製造工程を増やすことなく、むしろ、一般の注入方式による製造工程より短時間で信頼性に優れた液晶セルを製造することが出来る。
【０１０８】
次に接続端子形成工程について説明する。図１２は、液晶セル３０に接続端子１６を形成する接続端子形成工程を示している。
【０１０９】
図１２に示すように、硬化工程によって完成した液晶セル３０の基板端面３１ａ、３２ａに略等間隔で露出している導電材１５（図１１（ｂ）参照）に導電ペースト等で成る接続端子１６を印刷等の手法で被覆する。ここで、接続端子１６を印刷によって形成することにより、簡単に、且つ位置精度良く確実に導電材１５（図１１（ｂ）参照）を被覆出来、信頼性の高い接続端子１６を液晶セル３０に形成することが出来る。尚、接続端子形成工程の前にダイシング工程を追加し、液晶セル３０の基板端面３１ａ、３２ａを研磨することによって、接続端子１６の形成をより確実にし、更に信頼性の高い接続端子１６を形成することが出来る。
【０１１０】
また、本実施例においては、円形状の液晶セル３０を例として、ＯＤＦ方式の液晶セル製造方法を説明したが、液晶セルは例えば実施例１で示した略長方形の液晶セルでも、その製造方法は同様である。また、実施例２で示したような注入方式の液晶セルの製造方法においては、一方の透明電極に切り欠き部を有する枠状シールを形成する工程と、他方の透明電極に導電材を塗布する工程が異なるだけで、他の工程は一般の液晶セル製造工程と同様であるので説明は省略する。
【０１１１】
以上のように本発明の液晶セルの製造方法は、ＯＤＦ方式の液晶セルであっても、注入方式の液晶セルであっても適応することが出来るが、ＯＤＦ方式の液晶セルに対して、最も効果的に、多数の接続端子１６を有する信頼性に優れた小型の液晶セルを短時間で製造することが出来る。尚、本発明の実施例で示した構成図等は、この構成に限定されるものではなく、本発明の要旨を満たすものであれば、どのような構成であっても良い。また、本発明の実施例においては、略長方形状や略円形状の液晶セルを提示したが、本発明の液晶セルは、これらの形状に限定されず、多角形状や楕円形状であっても適応される。
【図面の簡単な説明】
【０１１２】
【図１】本発明の実施例１に係わる液晶セルの平面図および断面図である。
【図２】本発明の実施例１に係わる液晶セルの枠状シールの切り欠き部を示す平面図および側面図である。
【図３】本発明の実施例１に係わる液晶セルの基板端面で露出する導電材を被覆する接続端子を示す拡大側面図である。
【図４】本発明の実施例２に係わる液晶セルの平面図および側面図である。
【図５】本発明の実施例３に係わる液晶セルの平面図および側面図である。
【図６】本発明の実施例４に係わる液晶セルに接続用配線を固着したことを示す平面図および断面図である。
【図７】本発明の実施例５に係わる液晶セルにＦＰＣを固着することを示す斜視図である。
【図８】本発明の実施例６に係わる液晶セルの製造工程において、電極パターンを一方および他方の透明基板に形成するパターン形成工程を説明するための斜視図である。
【図９】本発明の実施例６に係わる液晶セルの製造工程において、一方の透明基板に枠状シールを形成する枠状シール形成工程、および他方の透明基板に導電材を充填する導電材充填工程を説明するための斜視図である。
【図１０】本発明の実施例６に係わる液晶セルの製造工程において、透明基板の間に液晶を挟持する工程で液晶を滴下する工程を説明するための斜視図である。
【図１１】本発明の実施例６に係わる液晶セルの製造工程において、透明基板の間に液晶を挟持する工程で２枚の透明基板を貼り合わせる工程、および枠状シールと導電材を硬化する硬化工程を説明するための斜視図である。
【図１２】本発明の実施例６に係わる液晶セルの製造工程において、接続端子を形成する接続端子形成工程を説明する斜視図である。
【図１３】光ピックアップ装置の概略を示す構成図である。
【図１４】従来の液晶セルの断面図および平面図である。
【符号の説明】
【０１１３】
１、２０、３０ 液晶セル
２、３１ 第１の透明基板
３、３２ 第２の透明基板
４１〜４４ 透明基板
２ａ、２ｂ、２ｃ、３１ａ、３２ａ 基板端面
４、４ａ〜４ｅ、５ 電極パターン
６、８１ 液晶
７ａ〜７ｆ、３５ 引き出し配線
１０、２１、３３、４５〜４７ 枠状シール
１１ａ〜１１ｆ、３６ａ〜３６ｊ 切り欠き部
１５、３７、５０ 導電材
１６ 接続端子
２２ 注入口
２３ 封止材
３４ 内側領域
３８ 輪帯電極パターン
３９ 複合補正電極パターン
４０ 複合液晶セル
５１〜５３ 接続ライン
６０ 接続用配線
７０ ＦＰＣ
７１ 接続パターン
７２ 光ビーム
８０ 液晶滴下ディスペンサ
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
他の透明基板と、
前記透明基板と他の透明基板の内面に、分割して形成された電極パターンと、
前記透明基板と他の透明基板の間隙であって、外延部を囲んで形成された枠状シールと、
当該枠状シールの内側領域に配する液晶と、
前記電極パターンに外部信号を給電する為の、複数本の引き出し配線と、を備え、
前記透明基板と他の透明基板とは、基板端面を一致させて、前記枠状シールでもって貼り合わされており、
前記枠状シールは、前記基板端面に至り、当該基板端面に至る領域において、前記複数本の引き出し配線のそれぞれを露出させる、当該基板端面から複数個の切り欠き部を有する形状となっており、
この複数個の切り欠き部のそれぞれに導電材を充填することで、前記基板端面で前記引き出し配線との導通を取ることができる様にした
ことを特徴とする液晶セル。
【請求項２】
前記複数個の切り欠き部が形成された領域は、基板外周の内の少なくとも一部の領域である
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶セル。
【請求項３】
前記枠状シールは、閉環形状のシールである
ことを特徴とする請求項１または２に記載の液晶セル。
【請求項４】
前記基板端面で露出する前記導電材を被覆する接続端子を、更に設ける
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の液晶セル。
【請求項５】
透明基板と他の透明基板と、前記透明基板と他の透明基板の内面に、分割して形成された電極パターンと、前記透明基板と他方の透明基板の間隙であって、外延部を囲んで形成された枠状シールと、当該枠状シールの内側領域に配する液晶と、前記電極パターンに外部信号を給電する為の、複数本の引き出し配線と、を備える液晶セルの製造方法において、
前記電極パターンと、当該電極パターンに接続する前記複数本の引き出し配線とを、前記透明基板と他方の透明基板のそれぞれに形成するパターン形成工程と、
前記透明基板の基板端面に至り、当該基板端面に至る領域において、前記複数本の引き出し配線のそれぞれが露出する複数個の切り欠き部を有する前記枠状シールを、前記透明基板に形成するシール形成工程と、
前記複数個の切り欠き部で露出する前記複数本の引き出し配線に接続する導電材を、前記複数個の切り欠き部のそれぞれに充填する導電材充填工程と、
前記透明基板と前記他の透明基板における前記基板端面を一致させて形成した基板の間隙に液晶を挟持する工程と、
前記透明基板と前記他の透明基板とで挟持された、前記枠状シールおよび前記導電材を硬化する硬化工程と、を有する
ことを特徴とする液晶セルの製造方法。
【請求項６】
前記シール形成工程では、前記枠状シールを閉環形状で形成する工程であり、
前記液晶を挟持する工程は、前記枠状シールの内側領域に前記液晶を滴下した前記透明基板と他の透明基板とを貼り合わせる、または前記枠状シールを設けた前記透明基板と、前記液晶を滴下した前記他の透明基板とを貼り合わせて行う工程である
ことを特徴とする請求項５に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項７】
前記シール形成工程は、前記枠状シールに光硬化型樹脂を用いて行う工程であり、
前記導電材充填工程は、前記導電材に熱硬化型樹脂を用いて行う工程であり、
前記硬化工程は、前記枠状シールを光照射して硬化させた後に、前記導電材を加熱して形成する工程である
ことを特徴とする請求項５または６に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項８】
前記導電材充填工程は、前記他方の透明基板における前記切り欠き部に対応した位置に前記導電材を塗布する工程である
ことを特徴とする請求項５から７のいずれか一項に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項９】
前記硬化工程の後に、前記基板端面で露出する前記導電材を被覆する接続端子を形成する接続端子形成工程を、更に有する
ことを特徴とする請求項５から８のいずれか一項に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項１０】
前記接続端子形成工程は、前記接続端子を印刷して形成する工程である
ことを特徴とする請求項９に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項１】
透明基板と、
他の透明基板と、
前記透明基板と他の透明基板の内面に、分割して形成された電極パターンと、
前記透明基板と他の透明基板の間隙であって、外延部を囲んで形成された枠状シールと、
当該枠状シールの内側領域に配する液晶と、
前記電極パターンに外部信号を給電する為の、複数本の引き出し配線と、を備え、
前記透明基板と他の透明基板とは、基板端面を一致させて、前記枠状シールでもって貼り合わされており、
前記枠状シールは、前記基板端面に至り、当該基板端面に至る領域において、前記複数本の引き出し配線のそれぞれを露出させる、当該基板端面から複数個の切り欠き部を有する形状となっており、
この複数個の切り欠き部のそれぞれに導電材を充填することで、前記基板端面で前記引き出し配線との導通を取ることができる様にした
ことを特徴とする液晶セル。
【請求項２】
前記複数個の切り欠き部が形成された領域は、基板外周の内の少なくとも一部の領域である
ことを特徴とする請求項１に記載の液晶セル。
【請求項３】
前記枠状シールは、閉環形状のシールである
ことを特徴とする請求項１または２に記載の液晶セル。
【請求項４】
前記基板端面で露出する前記導電材を被覆する接続端子を、更に設ける
ことを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の液晶セル。
【請求項５】
透明基板と他の透明基板と、前記透明基板と他の透明基板の内面に、分割して形成された電極パターンと、前記透明基板と他方の透明基板の間隙であって、外延部を囲んで形成された枠状シールと、当該枠状シールの内側領域に配する液晶と、前記電極パターンに外部信号を給電する為の、複数本の引き出し配線と、を備える液晶セルの製造方法において、
前記電極パターンと、当該電極パターンに接続する前記複数本の引き出し配線とを、前記透明基板と他方の透明基板のそれぞれに形成するパターン形成工程と、
前記透明基板の基板端面に至り、当該基板端面に至る領域において、前記複数本の引き出し配線のそれぞれが露出する複数個の切り欠き部を有する前記枠状シールを、前記透明基板に形成するシール形成工程と、
前記複数個の切り欠き部で露出する前記複数本の引き出し配線に接続する導電材を、前記複数個の切り欠き部のそれぞれに充填する導電材充填工程と、
前記透明基板と前記他の透明基板における前記基板端面を一致させて形成した基板の間隙に液晶を挟持する工程と、
前記透明基板と前記他の透明基板とで挟持された、前記枠状シールおよび前記導電材を硬化する硬化工程と、を有する
ことを特徴とする液晶セルの製造方法。
【請求項６】
前記シール形成工程では、前記枠状シールを閉環形状で形成する工程であり、
前記液晶を挟持する工程は、前記枠状シールの内側領域に前記液晶を滴下した前記透明基板と他の透明基板とを貼り合わせる、または前記枠状シールを設けた前記透明基板と、前記液晶を滴下した前記他の透明基板とを貼り合わせて行う工程である
ことを特徴とする請求項５に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項７】
前記シール形成工程は、前記枠状シールに光硬化型樹脂を用いて行う工程であり、
前記導電材充填工程は、前記導電材に熱硬化型樹脂を用いて行う工程であり、
前記硬化工程は、前記枠状シールを光照射して硬化させた後に、前記導電材を加熱して形成する工程である
ことを特徴とする請求項５または６に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項８】
前記導電材充填工程は、前記他方の透明基板における前記切り欠き部に対応した位置に前記導電材を塗布する工程である
ことを特徴とする請求項５から７のいずれか一項に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項９】
前記硬化工程の後に、前記基板端面で露出する前記導電材を被覆する接続端子を形成する接続端子形成工程を、更に有する
ことを特徴とする請求項５から８のいずれか一項に記載の液晶セルの製造方法。
【請求項１０】
前記接続端子形成工程は、前記接続端子を印刷して形成する工程である
ことを特徴とする請求項９に記載の液晶セルの製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【公開番号】特開２００９−１８０７７５（Ｐ２００９−１８０７７５Ａ）
【公開日】平成２１年８月１３日（２００９．８．１３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−１７３１１（Ｐ２００８−１７３１１）
【出願日】平成２０年１月２９日（２００８．１．２９）
【出願人】（０００００１９６０）シチズンホールディングス株式会社 (1,939)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年８月１３日（２００９．８．１３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１月２９日（２００８．１．２９）
【出願人】（０００００１９６０）シチズンホールディングス株式会社 (1,939)
【Ｆターム（参考）】
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