環状ビスジヌクレオチドの合成方法
一般式〔１〕
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基あるいは水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ１は保護されていても良い核酸塩基を表す。）で表される化合物から、一般式〔２〕
（式中、Ｒ２およびＲ３は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはヒドロキシル基を表し、Ｂ２およびＢ３は各々独立して核酸塩基を表す。）で表される化合物またはその塩を合成することができる。
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基あるいは水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ１は保護されていても良い核酸塩基を表す。）で表される化合物から、一般式〔２〕
（式中、Ｒ２およびＲ３は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはヒドロキシル基を表し、Ｂ２およびＢ３は各々独立して核酸塩基を表す。）で表される化合物またはその塩を合成することができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
本発明は環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドの合成方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、ジヌクレオチドの分子内環化反応により環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドを効率的に収率良く合成する方法に関する。
環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドは、がん細胞分裂阻止などの生理活性を示すことから抗がん剤などの医薬品としての開発が期待される有用な化合物であり、実用的な合成方法の開発が求められている。
【背景技術】
環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドのひとつである環状ビス（３’→５’）ジグアニル酸（以下、「ｃＧｐＧｐ」と略す。）は、セルロース生合成を調節する機能性物質として古くから知られているが、最近さらにＭｏｌｔ４およびＪｕｒｋａｔ細胞内に取り込まれるとＣＤ４レセプター量を増加させ、細胞分裂を減少させる生物活性をもつ物質であることが解明された。がん細胞分裂を阻止できる可能性があることから、抗がん剤としての研究や臨床応用が期待されている。そのため、ｃＧｐＧｐに代表される環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドの大量供給が緊急に必要とされている。
ｃＧｐＧｐの合成法としては、リン酸部位の保護基としてｐ−クロロフェニル基を用いた方法が既に報告されている（Ｎａｔｕｒｅ，１９８７，３２５，ｐ２７９、およびＪ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９９０，２６５，ｐ１８９９３参照）。また、リン酸部位の保護基としてｐ−クロロフェニル基を用いて環状ビス（３’→５’）ジアデニル酸や環状ビス（３’→５’）ジウリジル酸を合成した例が報告されている（Ｎｕｃｌｅｏｓｉｄｅｓ＆Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅｓ，１９８５，４（３），ｐ３７７参照）。
しかしながら、前記のＮａｔｕｒｅ，１９８７，３２５，ｐ２７９、およびＪ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９９０，２６５，ｐ１８９９３中に記載された方法では、環化反応の原料となるジヌクレオチドの合成収率が７５％（過剰に必要な基質を基準とした場合には６３％）と低く、実用的ではなかった。また、リン酸部位の保護基であるｏ−クロロフェニル基の脱保護と核酸塩基の保護基を脱保護する反応を別々に行う必要があったため、多工程を要していた。さらに、各脱保護工程に２０時間、４８時間、および１６時間と長時間を要していたため、実用的ではなかった。
前記のＮｕｃｌｅｏｓｉｄｅｓ＆Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅｓ，１９８５，４（３），ｐ３７７中に記載された方法でも同様に、環化反応の原料となるジヌクレオチドの合成収率が６３％と低く、実用的ではなかった。また、リン酸部位の保護基であるｐ−クロロフェニル基の脱保護と核酸塩基の保護基を脱保護する反応を別々に行う必要があったために多工程を要し、収率も５０〜６６％と低かった。さらに、各脱保護工程に何れも一昼夜を要していたため、実用的ではなかった。
したがって、本発明は、ｃＧｐＧｐを効率的に合成する方法を提供することを目的とする。
【発明の開示】
本発明者らは、低収率、多工程、且つ長い反応時間を要するといった従来の問題点を鑑み、工業的に実用的な合成方法を提供するため、環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドの合成に適用可能なリン酸部位の保護基について鋭意検討した。その結果、リン酸部位の保護基としてアリル基および２−シアノエチル基が有用であることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、一般式〔１〕
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ１は保護されていても良い核酸塩基を表す。）で表される化合物から、一般式〔２〕
（式中、Ｒ２およびＲ３は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはヒドロキシル基を表し、Ｂ２およびＢ３は各々独立して核酸塩基を表す。）で表される化合物またはその塩を合成する方法に関するものである。
本発明によれば、環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドを収率よく合成する方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の合成方法は、一般式〔１〕で表される化合物から一般式〔２〕で表される化合物またはその塩を得る方法である。
一般式〔１〕中のＲ１は、水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ１は保護されていても良い核酸塩基を表す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。
一般式〔１〕で表される化合物において、Ｒ１における水酸基の保護基とは、通常用いられる水酸基の保護基が使用可能で、加水素分解、加水分解、光分解のような化学的方法によって除去される保護基を指す。
水酸基の保護基としては、ホルミル基、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、シリル基、シリルオキシメチル基、アルコキシアルキル基、シリル基で置換されたアルコキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、オルトエステル基などが挙げられる。好ましくは、シリル基、シリルオキシメチル基、シリル基で置換されたアルコキシアルキル基、オルトエステル基は水酸基の保護基として好ましい。
シリル基としては、たとえばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などがあげられる。
シリルオキシメチル基としては、たとえばトリメチルシリルオキシメチル基、トリエチルシリルオキシメチル基、トリイソプロピルシリルオキシメチル基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル基などがあげられる。
シリル基で置換されたアルコキシアルキル基とは、たとえば２−トリメチルシリルエチルオキシメチル基などがあげられる。オルトエステル基とは、たとえばジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基、ビス（２−ヒドロキシエチルオキシ）メチル基、ビス（２−アセトキシエチルオキシ）メチル基などがあげられる。
水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基としては、たとえばトリメチルシリルオキシメチルオキシ基、トリエチルシリルオキシメチルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシメチルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチルオキシ基、２−トリメチルシリルエチルオキシメチルオキシ基、ジメトキシメチルオキシ基、ジエトキシメチルオキシ基、ビス（２−ヒドロキシエチルオキシ）メチルオキシ基、ビス（２−アセトキシエチルオキシ）メチルオキシ基などがあげられる。
核酸塩基としては、ピリミジン、プリン、アザプリンおよびデアザプリンなどの天然または非天然型の塩基類が挙げられ、それらはハロゲン原子、炭素数１から４のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数１から４のアルケニル基、炭素数１から４のハロアルケニル基、炭素数１から４のアルキニル基、アミノ基、炭素数１から４のアルキルアミノ基、水酸基、ヒドロキシアミノ基、アミノキシ基、炭素数１から４のアルキルオキシ基、メルカプト基、炭素数１から４のアルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基またはシアノ基によって置換されていてもよい。
置換基としてのハロゲン原子としては、塩素、フッ素、ヨウ素、臭素が例示される。アルキル基としては、メチル基、エチル基、１−プロピル基などが例示される。ハロアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基などが例示される。アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、３−ブテニル基などが例示される。ハロアルケニル基としては、ブロモビニル基、クロロビニル基などが例示される。アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基などが例示される。アルキルアミノ基としては、メチルアミノ、エチルアミノなどが例示される。アルキルオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基などが例示される。アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基などが例示される。アリール基としては、フェニル基；メチルフェニル基、エチルフェニル基などの炭素数１〜４のアルキル基を有するアルキルフェニル基；メトキシフェニル基、エトキシフェニル基などの炭素数１〜４のアルキルオキシ基を有するアルコキシフェニル基；ジメチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基などの炭素数１〜４のアルキルアミノ基を有するアルキルアミノフェニル基；クロロフェニル基、ブロモフェニル基などのハロゲノフェニル基などが例示される。
ピリミジン塩基を具体的に例示すれば、シトシン、ウラシル、５−フルオロシトシン、５−フルオロウラシル、５−クロロシトシン、５−クロロウラシル、５−ブロモシトシン、５−ブロモウラシル、５−ヨードシトシン、５−ヨードウラシル、５−メチルシトシン、５−メチルウラシル（チミン）、５−エチルシトシン、５−エチルウラシル、５−フルオロシトシン、５−フルオロウラシル、５−トリフルオロメチルシトシン、５−トリフルオロメチルウラシル、５−ビニルウラシル、５−（２−ブロモビニル）ウラシル、５−（２−クロロビニル）ウラシル、５−エチニルシトシン、５−エチニルウラシル、５−プロピニルウラシル、ピリミジン−２−オン、４−ヒドロキシアミノピリミジン−２−オン、４−アミノオキシピリミジン−２−オン、４−メトキシピリミジン−２−オン、４−アセトキシピリミジン−２−オン、４−フルオロピリミジン−２−オン、５−フルオロピリミジン−２−オン、５−アザシトシンなどが挙げられる。
プリン塩基を具体的に例示すれば、プリン、６−アミノプリン（アデニン）、６−ヒドロキシプリン、６−フルオロプリン、６−クロロプリン、６−メチルアミノプリン、６−ジメチルアミノプリン、６−トリフルオロメチルアミノプリン、６−ヒドロキシアミノプリン、６−アミノオキシプリン、６−メトキシプリン、６−アセトキシプリン、６−メチルプリン、６−エチルプリン、６−トリフルオロメチルプリン、６−フェニルプリン、６−メルカプトプリン、６−メチルメルカプトプリン、６−アミノプリン−１−オキシド、６−ヒドロキシプリン−１−オキシド、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン（グアニン）、２，６−ジアミノプリン、２−アミノ−６−クロロプリン、２−アミノ−６−ヨードプリン、２−アミノプリン、２−アミノ−６−メルカプトプリン、２−アミノ−６−メチルメルカプトプリン、２−アミノ−６−ヒドロキシアミノプリン、２−アミノ−６−メトキシプリン、２−アミノ−６−ベンゾイルオキシプリン、２−アミノ−６−アセトキシプリン、２−アミノ−６−メチルプリン、２−アミノ−６−シクロプロピルアミノプリン、２−アミノ−６−フェニルプリン、２−アミノ−８−ブロモプリン、６−シアノプリン、６−アミノ−２−クロロプリン（２−クロロアデニン）、６−アミノ−２−フルオロプリン（２−フルオロアデニン）などが挙げられる。
アザプリン塩基およびデアザプリン塩基を具体的に例示すれば、６−アミノ−３−デアザプリン、６−アミノ−８−アザプリン、２−アミノ−６−ヒドロキシ−８−アザプリン、６−アミノ−７−デアザプリン、６−アミノ−１−デアザプリン、６−アミノ−２−アザプリンなどが挙げられる。
保護された核酸塩基とは、前述の核酸塩基のアミノ基が通常用いられるアミノ基の保護基で保護されたものを指す。
アミノ基の保護基としては、特に限定されないが、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ジフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ベンゾイル基、トルオイル基などのアシル基類、あるいはアリルオキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基類、アリル基などのアルキル基類、ジメチルアミノメチレン基などのアミジン類などが挙げられる。
アミノ基の保護基として、一般式〔１〕で表される化合物のリン酸エステルの保護基である２−シアノエチル基またはアリル基いずれか一方の脱保護と同じ反応条件で脱保護できるような保護基を選ぶのが好ましい。
保護基として、アンモニア、アミン類、後記する０価のパラジウム、２価のパラジウム錯体または２価のパラジウム塩で脱保護可能な保護基は好ましい。
このような保護基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ジフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ベンゾイル基、トルオイル基などのアシル基類、ジメチルアミノメチレン基などのアミジン類、アリル基、あるいはアリルオキシカルボニル基などが例示される。
これらのなかで、ホルミル基、アセチル基、イソブチリル基、ベンゾイル基、フェノキシアセチル基、ジメチルアミノメチレン基、アリル基、あるいはアリルオキシカルボニル基は特に好ましい。
Ｂ１における保護された核酸塩基としては、例えば、Ｎ４−アセチルシトシン、Ｎ４−ベンゾイルシトシン、Ｎ４−アセチル−５−フルオロシトシン、Ｎ４−ベンゾイル−５−フルオロシトシン、Ｎ４−アセチル−５−アザシトシン、Ｎ４−ベンゾイル−５−アザシトシン、Ｎ４−（フェノキシアセチル）シトシン、Ｎ４−（ジメチルアミノメチレン）シトシン、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）シトシン、Ｎ４−アセチル−５−メチルシトシン、Ｎ４−ベンゾイル−５−メチルシトシン、Ｎ４−（フェノキシアセチル）−５−メチルシトシン、Ｎ４−（ジメチルアミノメチレン）−５−メチルシトシン、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−５−メチルシトシン、Ｎ６−アセチルアデニン、Ｎ６−ベンゾイルアデニン、Ｎ６−（フェノキシアセチル）アデニン、Ｎ６−（ジメチルアミノメチレン）アデニン、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）アデニン、Ｎ６−アセチル−２−クロロアデニン、Ｎ６−ベンゾイル−２−クロロアデニン、Ｎ６−（フェノキシアセチル）−２−クロロアデニン、Ｎ６−（ジメチルアミノメチレン）−２−クロロアデニン、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２−クロロアデニン、Ｎ６−アセチル−２−フルオロアデニン、Ｎ６−ベンゾイル−２−フルオロアデニン、Ｎ６−（フェノキシアセチル）−２−フルオロアデニン、Ｎ６−（ジメチルアミノメチレン）−２−フルオロアデニン、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２−フルオロアデニン、Ｎ２，Ｎ６−ジアセチル−２，６−ジアミノプリン、Ｎ２，Ｎ６−ジベンゾイル−２，６−ジアミノプリン、Ｎ２，Ｎ６−ビス（フェノキシアセチル）−２，６−ジアミノプリン、Ｎ２，Ｎ６−ビス（ジメチルアミノメチレン）−２，６−ジアミノプリン、Ｎ２，Ｎ６−ビス（アリルオキシカルボニル）−２，６−ジアミノプリン、Ｎ２−アセチルグアニン、Ｎ２−ベンゾイルグアニン、Ｎ２−イソブチリルグアニン、Ｎ２−（フェノキシアセチル）グアニン、Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニン、Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）グアニン、Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリルグアニン、Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｎ１−アリルグアニンなどが挙げられる。
一般式〔１〕で表される化合物は、Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２００１，３，ｐ８１５；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，２００１，５７，ｐ８８２３に記載の方法を参考にして、合成することができる。
例えば、一般式〔１〕で表される化合物の合成方法としては、（１）下記一般式（Ａ）で表される化合物と２−シアノエタノールを、モレキュラーシーブ及び縮合活性化剤の存在下で反応させて下記一般式（Ｂ）で表される化合物を得る工程、（２）次いで、一般式（Ｂ）で表される化合物と酸化剤を反応させて下記一般式（Ｃ）で表される化合物を得る工程、（３）次いで、一般式（Ｃ）で表される化合物の脱保護を行い、一般式〔１〕で表される化合物を得る工程からなる方法が挙げられる（反応式〔１〕）。
一般式（Ａ）中の、Ｒ１およびＢ１は前記の一般式〔１〕中のＲ１およびＢ１と同義であり、Ｒ６は水酸基の保護基を表し、Ｒ９およびＲ１０は各々独立して炭素数１から４のアルキル基を表すか、またはＲ９およびＲ１０はこれらが結合する窒素原子を含む環を形成しても良い。
一般式（Ａ）で表される化合物において、Ｒ６の水酸基の保護基としては、前記の一般式〔１〕中のＲ１における水酸基の保護基として例示されたものが挙げられる。
一般式（Ａ）で表される化合物において、Ｒ９およびＲ１０が炭素数１から４のアルキル基である場合、Ｒ９（Ｒ１０）Ｎ基としては、ジエチルアミノ基、ジ（ｎ−プロピル）アミノ基、エチル（ｎ−プロピル）アミノ基、エチル（イソプロピル）アミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ（ｎ−ブチル）アミノ基、ジイソブチルアミノ基などが挙げられる。
一般式（Ａ）で表される化合物において、Ｒ９およびＲ１０がこれらが結合する窒素原子を含む環を形成する場合、そのような環を形成したＲ９（Ｒ１０）Ｎ基としては、ピロリジノ基、ピペリジノ基などがあげられる。
一般式（Ａ）で表される化合物において、Ｒ９（Ｒ１０）Ｎ基として、ジイソプロピルアミノ基、ピロリジノ基あるいはピペリジノ基は好ましい。
一般式（Ｂ）および一般式（Ｃ）中のＲ１、Ｒ６およびＢ１はそれぞれ、前記の一般式（Ａ）中のＲ１、Ｒ６およびＢ１と同義である。
前記（１）の工程で用いられるモレキュラーシーブとしては、例えば、モレキュラーシーブ３Ａおよびモレキュラーシーブ４Ａが挙げられる。
前記（１）の工程で用いられる縮合活性化剤としては、例えば、テトラゾール、５−メチルチオテトラゾール、５−エチルチオテトラゾールなどのテトラゾール類、４，５−ジシアノイミダゾール、４，５−ジクロロイミダゾールなどのイミダゾール類、Ｎ−フェニルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、イミダゾール テトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−フェニルイミダゾール テトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−（ｐ−アセチルフェニル）イミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、２−フェニルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、４−メチルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、４−メチルイミダゾール ｐ−トルエンスルホン酸塩、４−メチルイミダゾール トリフルオロ酢酸塩、４−フェニルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、４−フェニルイミダゾール トリフルオロ酢酸塩、ベンズイミダゾール テトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−メチルベンズイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、２−フェニルベンズイミダゾールトリフルオロメタンスルホン酸塩、２−フェニルベンズイミダゾール 過塩素酸塩、過塩素酸イミダゾリウムなどのイミダゾリウム塩やベンズイミダゾール塩類などがあげられる。過塩素酸イミダゾリウムが特に好ましい。
前記（１）の工程において、２−シアノエタノールは、一般式（Ａ）で表される化合物に対して、通常、１から２当量となる量が用いられる。
モルキュラーシーブスは、一般式（Ａ）で表される化合物の重量に対して、通常、１％から１００％となる量が用いられる。５％から３０％が好ましい。
縮合活性化剤は、一般式（Ａ）で表される化合物に対して、通常、０．１から４当量となる量が用いられる。０．２から２当量が好ましい。
前記（１）の工程の反応には、通常、溶媒を用いる。溶媒としては、反応を阻害しない限り限定されないが、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサンなどが好ましい。
前記（１）の工程の反応温度は、通常、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、０℃から室温の範囲が好ましい。
一般式（Ｂ）で表される化合物は、前記（１）の工程で得られる一般式（Ｂ）で表される化合物を含む反応混合物から単離することなく、前記（２）の工程に用いられる。
前記（２）の工程で用いられる酸化剤としては、例えば、通常亜リン酸の酸化に用いられるものなら限定されないが、過酸化水素水などの過酸化水素類、過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸などの過酸類、アセトン パーオキシド、２−ブタノン パーオキシドなどのケトン過酸化物類、ｔ−ブチルヒドロパーオキシドなどのアルコール過酸化物類、パーオキシ硫酸カリウムなどの過硫酸類などがあげられる。
酸化剤として、特に２−ブタノン パーオキシドが好ましい。
前記の酸化剤は、安定性を保持する目的で、溶液として用いることができる。溶液を調整する際に用いる溶媒としては、酸化剤を溶解し、酸化を阻害しない限り特に限定されないが、水、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、２−ブタノンなどのケトン類、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルフタレートなどのエステル類などが好ましい。
酸化剤は、一般式（Ｂ）で表わされる化合物に対して、通常１から３当量となる量が用いられる。
前記（２）の工程の反応は、通常、溶媒を用いて行う。溶媒としては、反応を阻害しない限り限定されないが、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサンなどが好ましい。
前記（２）の工程の反応温度は、通常、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、０℃から室温の範囲が好ましい。
一般式（Ｃ）で表される化合物は、前記（１）および（２）の工程で得られる一般式（Ｃ）で表される化合物を含む反応混合物を，分液などの通常の後処理操作を行い、精製することなく前記（３）の工程に用いることができる。
一般式（Ｃ）におけるＲ６基としては、通常用いられる水酸基の保護基であれば特に限定されないが、Ｒ６基を脱保護する反応条件において、Ｒ１で示される保護基が脱離しないような保護基を用いることが好ましい。そのような保護基としては、４，４’−ジメトキシトリチル基などのアラルキル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ビス（トリメチルシロキシ）ジフェニルメトキシシリル基、およびビス（トリメチルシロキシ）シクロドデシルオキシシリル基などのシリル基があげられる。
これらの保護基のなかでも４，４’−ジメトキシトリチル基は好ましい。
前記（３）の工程で脱保護する際の反応条件は、使用するＲ６基により異なる。
一般式（Ｃ）におけるＲ６基がアラルキル基の場合には、酸を用いて脱保護するのが好ましい。そのような酸としては、硫酸、塩酸、トリフルオロ酢酸、過塩素酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸などが使用できる。ジクロロ酢酸が好ましい。
一般式（Ｃ）におけるＲ６基がシリル基の場合には、フルオリドを用いて脱保護するのが好ましい。そのようなフルオリドとしては、ピリジニウム フルオリド、テトラブチルアンモニウム フルオリド、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムなどが使用できる。テトラブチルアンモニウム フルオリドが好ましい。
酸は、一般式（Ｃ）で表わされる化合物に対して、通常１から４０当量となる量が用いられる。１０から３０当量が好ましい。
前記（２）の工程の反応には、通常、溶媒を用いる。溶媒としては、反応を阻害しない限り限定されないが、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサンなどが好ましい。
前記（２）の工程の反応温度は、通常、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、０℃から室温の範囲が好ましい。
前記（１）、（２）および（３）の各工程の反応は、通常大気圧下で行われる。
前記（３）の工程で得られる一般式〔１〕で表される化合物は、公知の方法、例えば、カラムクロマトグラフィー手法や晶析手法等により、反応混合物から分離し、回収することができる。
一般式〔２〕中のＲ２およびＲ３は、各々独立して水素原子、ハロゲン原子またはヒドロキシル基を表し、Ｂ２およびＢ３は各々独立して核酸塩基を表す。
ハロゲン原子および核酸塩基としては、前記の一般式〔１〕中のＲ１およびＢ１の説明個所に例示したものを挙げることができる。
一般式〔２〕で表される化合物の塩としては、通常リン酸と塩を形成するような塩基から成る塩なら限定されないが、アルカリ金属、アルカリ土類金属あるいは有機アミンなどの塩が好ましい。アルカリ金属の塩としては、たとえばリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩などがあげられる。アルカリ土類金属の塩としては、たとえばマグネシウム塩、カルシウム塩、バリウム塩などがあげられる。有機アミンの塩としては、たとえばトリエチルアンモニウム塩、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム塩などの３級アミン塩、ジエチルアンモニウム塩、ジシクロヘキシルアンモニウム塩などの２級アミン塩、アンモニウム塩、ｎ−ブチルアンモニウム塩、シクロヘキシルアンモニウム塩などの１級アミン塩、テトラ（ｎ−ブチル）アンモニウム塩、トリメチル ベンジルアンモニウム塩などの４級アミン塩などがあげられる。
例えば、一般式〔１〕中のＲ１が水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物から、一般式〔２〕中のＲ２およびＲ３が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはヒドロキシル基である化合物またはその塩を合成することができる。
一般式〔１〕で表される化合物から一般式〔２〕で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、例えば、下記反応式〔２〕に示したように、一般式〔５〕および一般式〔６〕で表される化合物を経て合成する方法があげられる。
すなわち、一般式〔１〕で表される化合物を一般式〔５〕で表される化合物に誘導する工程、次いで一般式〔５〕で表される化合物を一般式〔６〕で表される化合物に誘導する工程、そして一般式〔６〕で表される化合物を一般式〔２〕で表される化合物に誘導する工程からなる合成方法を例示することができる。
例えば、一般式〔１〕中のＲ１が水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物から、一般式〔５〕および一般式〔６〕中のＲ１およびＲ４が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物を経て、一般式〔２〕中のＲ２およびＲ３が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基およびヒドロキシル基である化合物を合成することができる。
一般式〔５〕中のＲ１およびＲ４は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ１およびＢ４は各々独立して保護されていても良い核酸塩基を表し、Ｒ５はアリル基または２−シアノエチル基を表す。なお、水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基および保護されていても良い核酸塩基としては、前記の一般式〔１〕中のＲ１およびＢ１の説明個所に例示したものを挙げることができる。
一般式〔６〕中のＲ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４は、前記の一般式〔５〕中のＲ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４と同義である。
一般式〔１〕で表される化合物から一般式〔２〕で表される化合物の合成方法を具体的に示すとすれば、例えば、下記反応式〔３〕または反応式〔４〕に示したように、一般式〔３〕あるいは〔４〕で表される化合物と、一般式〔１〕で表される化合物から合成する方法があげられる。
一般式〔５〕で表される化合物の合成方法としては、通常のリン酸エステル化合物を合成するのに用いられる方法ならば特に限定されないが、例えば、下記反応式〔５〕に示したように、一般式〔１〕で表される化合物を一般式〔３〕で表される化合物と縮合してから酸化する方法、または下記反応式〔６〕に示したように、一般式〔１〕で表される化合物を一般式〔４〕で表される化合物と縮合する方法があげられる。
一般式〔３〕中の、Ｂ４およびＲ４は前記の一般式〔５〕中のＢ４およびＲ４と同義であり、Ｒ６は前記の一般式（Ａ）中のＲ６とそれぞれ同義であり、Ｒ７およびＲ８は各々独立して炭素数１から４のアルキル基を表すか、またはＲ７およびＲ８が結合して窒素原子を含む環を形成しても良い。
一般式〔３〕で表される化合物において、Ｒ７およびＲ８が炭素数１から４のアルキル基である場合、Ｒ７（Ｒ８）Ｎ基としては、ジエチルアミノ基、ジ（ｎ−プロピル）アミノ基、エチル（ｎ−プロピル）アミノ基、エチル（イソプロピル）アミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ（ｎ−ブチル）アミノ基、ジイソブチルアミノ基などが挙げられる。
一般式〔３〕中で表される化合物において、Ｒ７およびＲ８が結合して窒素原子を含む環を形成する場合、そのような環を形成したＲ７（Ｒ８）Ｎ基としては、ピロリジノ基、ピペリジノ基などがあげられる。
一般式〔３〕で表される化合物において、Ｒ７（Ｒ８）Ｎ基として、ジイソプロピルアミノ基、ピロリジノ基あるいはピペリジノ基は好ましい。
一般式〔４〕中のＢ４、Ｒ４およびＲ６は前記の一般式〔３〕中のＢ４、Ｒ４およびＲ６とそれぞれ同義である。
一般式〔１〕で表される化合物を一般式〔３〕で表される化合物と縮合する際に用いる縮合活性化剤としては、例えば、テトラゾール、５−メチルチオテトラゾール、５−エチルチオテトラゾールなどのテトラゾール類、４，５−ジシアノイミダゾール、４，５−ジクロロイミダゾールなどのイミダゾール類、Ｎ−フェニルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、イミダゾール テトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−フェニルイミダゾール テトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−（ｐ−アセチルフェニル）イミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、２−フェニルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、４−メチルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、４−メチルイミダゾール ｐ−トルエンスルホン酸塩、４−メチルイミダゾール トリフルオロ酢酸塩、４−フェニルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、４−フェニルイミダゾール トリフルオロ酢酸塩、ベンズイミダゾール テトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−メチルベンズイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、２−フェニルベンズイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、２−フェニルベンズイミダゾール 過塩素酸塩、過塩素酸イミダゾリウムなどのイミダゾリウム塩やベンズイミダゾール塩類などがあげられる。
縮合活性化剤として、過塩素酸イミダゾリウムは好ましい。
縮合活性化剤を用いる反応の反応温度としては、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、特に０から４０℃が好ましい。
一般式〔１〕で表される化合物を一般式〔３〕で表される化合物と縮合させてから酸化する際に用いられる酸化剤としては、通常亜リン酸の酸化に用いられるものなら限定されないが、過酸化水素水などの過酸化水素類、過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸などの過酸類、アセトン パーオキシド、２−ブタノン パーオキシドなどのケトン過酸化物類、ｔ−ブチルヒドロパーオキシドなどのアルコール過酸化物類、パーオキシ硫酸カリウムなどの過硫酸類などがあげられる。
酸化剤として、２−ブタノン パーオキシドは好ましい。
前記の酸化剤は、安定性を保持する目的で、溶液として用いることができる。
溶液を調整する際に用いる溶媒としては、酸化剤を溶解し、酸化を阻害しない限り特に限定されないが、水、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、２−ブタノンなどのケトン類、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルフタレートなどのエステル類などが好ましい。
酸化する際の反応温度としては、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、特に０から４０℃が好ましい。
酸化する際の反応溶媒としては、酸化反応に影響を与えない限り、限定されるものではないが、非プロトン性の溶媒が好ましく、特にアセトニトリル、ジクロロメタン、ＴＨＦが好ましい。
一般式〔１〕で表される化合物を一般式〔４〕で表される化合物と縮合する際の縮合剤としては、塩化メタンスルフォニル、塩化トルエンスルフォニル、塩化２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニル、塩化メシチレン−２−スルフォニルなどの塩化スルフォニル類、１−トルエンスルフォニルテトラゾール、１−（メシチレンスルフォニル−２−スルフォニル）テトラゾール、１−（２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニル）テトラゾールなどのスルフォニルテトラゾール類、３−ニトロ−１−トルエンスルフォニル−１，２，４−トリアゾール、３−ニトロ−１−（メシチレンスルフォニル−２−スルフォニル）−１，２，４−トリアゾール、３−ニトロ−１−（２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニル）−１，２，４−トリアゾールなどのスルフォニルトリアゾール類などがあげられる。特に塩化トリイソプロピルベンゼンスルフォニルが好ましい。
縮合の際に塩基を共存させても良い。用いられる塩基としては、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、ルチジン、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、Ｎ−メチルベンズイミダゾールなどがあげられる。特にＮ−メチルイミダゾールが好ましい。
縮合する際の反応温度としては、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、特に０から４０℃が好ましい。
縮合の際には、水分の影響を少なくするために脱水剤を添加して行うこともできる。脱水剤としては、通常反応に用いられるものが使用できるが、特にモルキュラーシーブスが好ましい。
縮合する際には、通常、反応溶媒を用いる。反応溶媒としては、縮合に影響を与えない限り、限定されるものではないが、非プロトン性の溶媒が好ましく、特にアセトニトリル、ジクロロメタン、ＴＨＦが好ましい。
一般式〔３〕および一般式〔４〕中のＲ６基としては、通常用いられる水酸基の保護基であれば特に限定されないが、Ｒ６基を脱保護する反応条件でＲ１あるいはＲ４の水酸基の保護基やＲ５基が脱離しないような保護基を用いることが好ましい。
そのような保護基Ｒ６としては、４，４’−ジメトキシトリチル基などのアラルキル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ビス（トリメチルシロキシ）ジフェニルメトキシシリル基、およびビス（トリメチルシロキシ）シクロドデシルオキシシリル基などのシリル基が挙げられる。
これらの保護基のなかでも、４，４’−ジメトキシトリチル基は好ましい。
Ｒ６基を脱保護する際の反応条件は、使用するＲ６基により異なる。
Ｒ６基がアラルキル基の場合には、酸を用いて脱保護するのが好ましい。そのような酸としては、硫酸、塩酸、トリフルオロ酢酸、過塩素酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸などが使用できる。ジクロロ酢酸が好ましい。
Ｒ６基がシリル基の場合には、フルオリドを用いて脱保護するのが好ましい。そのようなフルオリドとしては、ピリジニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムフルオリド、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムなどが使用できる。テトラブチルアンモニウムフルオリドが好ましい。
脱保護に用いられる酸は、一般式〔５〕で表わされる化合物の理論生成量に対して、通常、１から４０当量となる量が用いられるが、１０から３０当量が好ましい。
前記のＲ６基を脱保護する工程の反応には、通常、溶媒を用いる。溶媒としては、反応を阻害しない限り限定されないが、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサンなどが好ましい。
前記のＲ６基を脱保護する工程の反応温度は、通常、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、０℃から室温の範囲が好ましい。
一般式〔６〕で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、例えば、下記反応式〔７〕に示したように、一般式〔５〕で表される化合物のＲ５基が２−シアノエチル基の場合には、アリル基を脱保護した後に環化反応を行い、一般式〔５〕で表される化合物のＲ５基がアリル基の場合には、２−シアノエチル基を脱保護した後に環化反応を行う方法があげられる。
２−シアノエチル基の脱保護反応に用いられる試薬は、特に限定されないが、例えば、アンモニアまたはアミン類を用いることができる。
アミン類としては、メチルアミン、エチルアミンなどの１級アミン類、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ピペリジンなどの２級アミン類、トリメチルアミン、トリエチルアミン、１−メチルピペリジンなどの３級アミンが例示される。
アンモニアまたはアミン類で脱保護する際の反応温度としては、−１０℃から使用する溶媒の沸点で行うことが可能で、室温から７０℃の間で行うことが好ましい。
アリル基の脱保護反応に用いられる試薬は、特に限定されないが、０価のパラジウム、２価のパラジウム錯体または２価のパラジウム塩を用いることができる。
０価のパラジウム、２価のパラジウム錯体または２価のパラジウム塩としては、特に限定されないが、例えば、パラジウム炭素、水酸化パラジウム炭素などのパラジウム担体類、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、ジクロロ（１，５−シクロオクタンジエン）パラジウムなどの酸パラジウム塩類、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、ビス（トリシクロヘキシルフォスフィン）パラジウムなどのリン錯体類、パラジウム２，４−ペンタンジオネート、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム−クロロホルムなどのジケト錯体類などが好ましいものとして挙げられる。
０価のパラジウム、２価のパラジウム錯体または２価のパラジウム塩で脱保護する際の反応温度としては、−１０℃から使用する溶媒の沸点で行うことが可能で、０℃から５０℃の間で行うことが好ましい。
一般式〔５〕中のＲ５基を脱離させずにアリル基または２−シアノエチル基を脱保護するに際して、一般式〔５〕中のＲ５がアリル基であり、Ｒ１またはＲ４が水酸基の保護基であり、Ｂ１またはＢ４が保護された核酸塩基である場合には、Ｒ１、Ｒ４、Ｂ１およびＢ４のいずれかの保護基は２−シアノエチル基を脱離する反応条件に対して安定であることが好ましい。また、一般式〔５〕中のＲ５が２−シアノエチル基であり、Ｒ１またはＲ４が水酸基の保護基であり、Ｂ１またはＢ４が保護された核酸塩基である場合には、Ｒ１、Ｒ４、Ｂ１およびＢ４のいずれかの保護基はアリル基を脱離する反応条件に対して安定なことが好ましい。
一般式〔５〕中のＲ５が２−シアノエチル基である場合、一般式〔５〕中のＲ１およびＲ４における水酸基の保護基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ジフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ベンゾイル基、トルオイル基などのアシル基類、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのシリル基、トリメチルシリルオキシメチル基、トリエチルシリルオキシメチル基、トリイソプロピルシリルオキシメチル基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル基などのシリルオキシメチル基、２−トリメチルシリルエチルオキシメチル基などのシリル基で置換されたアルコキシアルキル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基、ビス（２−ヒドロキシエチルオキシ）メチル基あるいはビス（２−アセトキシエチルオキシ）メチル基などのオルトエステル基などが挙げられる。
一般式〔５〕中のＲ５が２−シアノエチル基である場合、一般式〔５〕中のＢ１およびＢ４の保護された核酸塩基の保護基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ジフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ベンゾイル基、トルオイル基などのアシル基類、ジメチルアミノメチレン基などのアミジン類などが挙げられる。
一般式〔５〕中のＲ５がアリル基である場合、一般式〔５〕中のＲ１およびＲ４における水酸基の保護基としては、例えば、アリル基、アリルオキシカルボニル基などのアリル基類、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのシリル基、トリメチルシリルオキシメチル基、トリエチルシリルオキシメチル基、トリイソプロピルシリルオキシメチル基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル基などのシリルオキシメチル基あるいは２−トリメチルシリルエチルオキシメチル基などのシリル基で置換されたアルコキシアルキル基などが挙げられる。
一般式〔５〕中のＲ５がアリル基である場合、一般式〔５〕中のＢ１およびＢ４の保護された核酸塩基の保護基としては、例えば、アリル基、アリルオキシカルボニル基などのアリル基類が挙げられる。
環化反応には、通常のリン酸エステルの合成方法を用いることができる。
環化反応に用いられる縮合剤としては、特に限定されないが、塩化メタンスルフォニル、塩化トルエンスルフォニル、塩化２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニル、塩化メシチレン−２−スルフォニルなどの塩化スルフォニル類、１−トルエンスルフォニルテトラゾール、１−（メシチレンスルフォニル−２−スルフォニル）テトラゾール、１−（２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニル）テトラゾールなどのスルフォニルテトラゾール類、３−ニトロ−１−トルエンスルフォニル−１，２，４−トリアゾール、３−ニトロ−１−（メシチレンスルフォニル−２−スルフォニル）−１，２，４−トリアゾール、３−ニトロ−１−（２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニル）−１，２，４−トリアゾールなどのスルフォニルトリアゾール類などがあげられる。特に塩化２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニルが好ましい。
環化反応は塩基の共存下に行うこともできる。環化反応に用いられる塩基としては、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、ルチジン、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、Ｎ−メチルベンズイミダゾールなどがあげられる。特にＮ−メチルイミダゾールが好ましい。
環化反応の反応温度としては、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、特に１０から４０℃が好ましい。
環化反応は、水分の影響を少なくするために脱水剤を添加して行うこともできる。環化反応に用いられる脱水剤としては、通常反応に用いられるものが使用できるが、特にモルキュラーシーブスが好ましい。
環化反応には、通常、反応溶媒を用いる。反応溶媒としては、縮合に影響を与えない限り、限定されるものではないが、非プロトン性の溶媒が好ましく、特にアセトニトリル、ジクロロメタン、ＴＨＦが好ましい。
一般式〔２〕で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、例えば、下記反応式〔８〕に示したように、一般式〔６〕で表される化合物のＢ１、Ｂ４、Ｒ１、Ｒ４およびＲ５の保護基を所望により脱保護する方法があげられる。
各保護基を脱保護する順番については、一部の保護基が残存する段階で精製する必要がある場合や、脱保護する順番により化合物の安定性が異なる場合など、特に考慮する必要がある場合を除き、特に限定されない。工程数を削減する目的で、同じ反応条件を用いて複数の保護基を同時に脱保護することもできる。
一般式〔６〕で表される化合物のＲ５で示される保護基としては、反応式〔５〕や〔６〕においてＲ６基を脱離する反応条件や、一般式〔５〕で表される化合物を環化して一般式〔６〕で表される化合物を合成する反応条件に、一般式〔３〕、〔４〕、〔５〕および〔６〕で表される化合物のＲ５基が安定なことが好ましい。さらに、一般式〔６〕で表される化合物から一般式〔２〕で表される化合物を合成する工程を短縮する目的で、一般式〔６〕で表される化合物におけるＲ１、Ｒ４、Ｂ１あるいはＢ４の保護基を脱保護する反応条件と同じ条件で脱離することができるような保護基を一般式〔６〕で表される化合物のＲ５基として用いることが特に好ましい。このような保護基としては、アリル基もしくは２−シアノエチル基が好ましい。
一般式〔６〕で表される化合物のＲ１、Ｒ４、Ｂ１あるいはＢ４の保護基としては、前記の一般式〔５〕で表される化合物におけるＲ１、Ｒ４、Ｂ１あるいはＢ４と同様なものが好ましい。
例えば、一般式〔６〕中のＲ５がアリル基である場合には、前記の０価のパラジウム、２価のパラジウム錯体または２価のパラジウム塩を用い、これらを用いる前記の反応条件でＲ１、Ｒ４、Ｂ１あるいはＢ４の脱保護とＲ５基の脱離を同時に行うことができる。
このような一般式〔６〕で表される化合物のＲ１、Ｒ４、Ｂ１およびＢ４の保護基としては、前記のアリル基類があげられる。
一般式〔６〕で表される化合物のＲ１あるいはＲ４における水酸基の保護基が、前記一般式〔５〕で表される化合物のＲ１あるいはＲ４におけるシリル基類やシリル基で置換されたアルコキシアルキル類で、Ｂ１あるいはＢ４の保護基が前記のアリル基類の場合には、前記の０価のパラジウム、２価のパラジウム錯体または２価のパラジウム塩を用い、これらを用いる前記の反応条件でＢ１あるいはＢ４の脱保護とＲ５基の脱離を同時に行った後に、Ｒ１あるいはＲ４の脱保護を、前記のフルオリドを用い、これらを用いる前記の反応条件で行うことができる。
また、一般式〔６〕中のＲ５が２−シアノエチル基である場合には、前記のアンモニアまたはアミン類を用い、これらを用いる前記の反応条件でＲ１、Ｒ４、Ｂ１あるいはＢ４の脱保護とＲ５基の脱離を同時に行うことができる。
このような一般式〔６〕で表される化合物のＲ１あるいはＲ４の保膜基としては、前記、一般式〔５〕で表される化合物のＲ１あるいはＲ４におけるアシル基類があげられ、Ｂ１およびＢ４の保護基としては、前記一般式〔５〕で表される化合物のＢ１あるいはＢ４におけるアシル基類あるいはアミジン類があげられる。
一般式〔６〕で表される化合物のＲ１、Ｒ４における水酸基の保護基が、前記シリル基類やシリル基で置換されたアルコキシアルキル類で、Ｂ１およびＢ４の保護基が前記のアシル基類あるいはアミジン類の場合には、前記のアンモニアまたはアミン類を用い、これらを用いる前記の反応条件でＢ１あるいはＢ４の脱保護とＲ５基の脱離を同時に行った後に、Ｒ１あるいはＲ４の脱保護を、前記のフルオリドを用い、これらを用いる前記の反応条件で行うことができる。
一般式〔６〕で表される化合物から一般式〔２〕で表される化合物を合成する際に、一般式〔６〕で表される化合物のＢ１、Ｂ４、Ｒ１、Ｒ４の脱保護およびＲ５基の脱離を行う反応条件としては、一般式〔２〕で表される化合物が安定な条件を用いるのが好ましい。
本発明の一般式〔１〕で表される化合物としては、例えば、Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）シチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−ベンゾイルシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−デオキシグアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２−クロロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシ−２−クロロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−５−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシ−５−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−５−アザシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシ−５−アザシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−５−フルオロウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシ−５−フルオロウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−デオキシ−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−ベンゾイル−２’デオキシ−２’−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシ−２’−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）などが挙げられる。
本発明の一般式〔５〕で表される化合物としては、例えば、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニルイル］（３’→５’）［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）シチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニルイル］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）ウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニルイル］（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニルイル］（３’→５’）［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）シチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアニルイル］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアニルイル］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアニルイル］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−ベンゾイルシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−アセチルシチジン］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−ベンゾイルシチジン］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−ベンゾイルシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−デオキシグアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアニルイル］（３’→５’）［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２−クロロアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２−クロロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２−フルオロアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイルシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチルシチジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイルシチジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイルシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−デオキシ−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアニルイル］（３’→５’）［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−２’−フルオロウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２’−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−２’−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチル−２’−フルオロシチジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２’−フルオロアデノシン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２’−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−２’−フルオロシチジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−２’−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−５−フルオロシチジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−５−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−５−アザシチジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−５−アザシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２−シアノエチル［２’−デオキシ−５−フルオロウリジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−５−フルオロウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２−シアノエチル［２’−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）などが挙げられる。
本発明の一般式〔６〕で表される化合物としては、例えば、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）シチジル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−アセチルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−ベンゾイルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ６−ベンゾイルアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニル］［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニル酸］ジアリルエステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニリル］［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）シチジル酸］ジアリルエステル、環状ビス（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−アセチルシチジリル］［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニリル］［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−アセチルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）ウリジリル］［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−ベンゾイルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニリル］［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ６−ベンゾイルアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニル酸］ジアリルエステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシシチジル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイルアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２−クロロアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２−フルオロアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニル］［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニリル］［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシシチジル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチルシチジリル］［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニリル］［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシウリジリル］［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニリル］［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイルアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロシチジル酸］ジアリルエステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチル−２’−フルオロシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−２’−フルオロシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチル−５−フルオロシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−５−フルオロシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチル−５−アザシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−５−アザシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−５−フルオロウリジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２’−フルオロアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニル］［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニリル］［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロシチジル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチル−２’−フルオロシチジリル］［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニリル］［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチル−２’−フルオロシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−２’−フルオロウリジリル］［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−２’−フルオロシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニリル］［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２’−フルオロアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステルなどが挙げられる。
前記の一般式〔２〕で表される化合物、一般式〔５〕で表される化合物および一般式〔６〕で表される化合物は、それぞれの化合物の合成工程で得られる反応混合物から、公知の方法、例えば、カラムクロマトグラフィー手法や晶析手法等により分離し、回収することができる。
以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【実施例１】
Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）（化合物〔８〕）の合成）
Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン３’−Ｏ−（アリルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスフォロアミダイト）（Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２００１，３，ｐ８１５に記載の方法で合成した。）２．０ｇ（２．０ｍｍｏｌ）、モルキュラーシーブス３Ａ ２００ｍｇの乾燥アセトニトリル溶液に２−シアノエタノール０．１６ｍＬ（２．４ｍｍｏｌ）を添加して３０分間室温で攪拌後、過塩素酸イミダゾリウム０．６７ｇ（４．０ｍｍｏｌ）を加えて３０分間攪拌した。さらに２−ブタノン パーオキシドの１．０Ｍジメチルフタレート／トルエン溶液４ｍＬを加えて５分間攪拌した。モルキュラーシーブス３Ａをろ去後、酢酸エチルを加えて飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄、乾燥して減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン２０ｍＬに溶解し、氷冷攪拌下にジクロロ酢酸３．３ｍＬ（４０ｍｍｏｌ）を滴下して５分間攪拌した。反応溶液を飽和重曹水１００ｍＬに滴下し、有機層を分液後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル４０ｇ、ヘキサン：酢酸エチル（１：１）〜ヘキサン：酢酸エチル：メタノール（１０：１０：１）で精製し、表題化合物１．３８ｇを無色アモルファスとして得た。収率９５％。
ＩＲ（ＣＨ２Ｃｌ２）：ｃｍ−１３４２０，３０４８，２３０５，１７５７，１６０７，１５２４，１４６２，１４１２，１２９４，１１９０，１０３８，７５６；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．２７（ｓ，３Ｈ），−０．０３（ｓ，３Ｈ），０．７４（ｓ，９Ｈ），２．９４（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），３．８５−３．９７（ｍ，２Ｈ），４．３０−４．４３（ｍ，３Ｈ），４．７０（ｍ，４Ｈ），５．００（ｍ，１Ｈ），５．０８−５．１０（ｍ，２Ｈ），５．２４−５．５２（ｍ，７Ｈ），６．００−６．２０（ｍ，４Ｈ），８．３９（ｓ，１Ｈ）；３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ−４．６９，−４．５４．
【実施例２】
アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］（化合物〔９〕）の合成
Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン３’−Ｏ−（アリルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスフォロアミダイト）１．６ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、化合物〔８〕１．１ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、モルキュラーシーブス３Ａ ０．２ｇの乾燥アセトニトリル溶液１５ｍＬを室温で３０分間攪拌後、過塩素酸イミダゾリウム０．５４ｇ（３．２ｍｍｏｌ）を加えて３０分間攪拌した。さらに２−ブタノン パーオキシドの１．０Ｍジメチルフタレート／トルエン溶液３．２ｍＬを加えて５分間攪拌した。モルキュラーシーブス３Ａをろ去後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン２０ｍＬに溶解し、氷冷攪拌下にジクロロ酢酸３．３ｍＬ（４０ｍｍｏｌ）を滴下して５分間攪拌した。反応溶液を飽和重曹水１００ｍＬに滴下し、有機層を分液後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル４０ｇ、ヘキサン：酢酸エチル（１：１）〜ヘキサン：酢酸エチル：メタノール（２０：２０：１）で精製し、表題化合物１．９５ｇ（ジアステレオマー混合物）を無色アモルファスとして得た。収率９４％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．３６−０．０３（ｍ，１２Ｈ），−０．６８−０．７７（ｍ，１８Ｈ），１．７８（ｂｒｓ，１Ｈ），２．７９−２．８１（ｍ，２Ｈ），３．７９−３．９６（ｍ，４Ｈ），４．３０−４．３６（ｍ，４Ｈ），４．４８−４．７１（ｍ，１４Ｈ），４．９９−５．５０（ｍ，１４Ｈ），５．７５−６．１９（ｍ，８Ｈ），７．２６−８．６７（ｍ，４Ｈ）；３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ−１．３２，−１．２４，−１．１１，−１．０５，−０．８８，−０．８１；ＨＲＭＳ（ＭＡＬＤＩ＋）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ５５Ｈ８３Ｎ１１Ｏ１９Ｐ２Ｓｉ２＋（Ｍ＋Ｈ＋）１３１８．４７９７，ｆｏｕｎｄ １３１８．５２６７．
【実施例３】
環状ビス（３’−５’）ビス［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニル酸］ジアリルエステル（化合物〔１０〕：ジアステレオマー〔１０ａ〕および〔１０ｂ〕の混合物）の合成
化合物〔９〕０．６６ｇ（０．５ｍｍｏｌ）のメタノール１０ｍＬ溶液に２８％アンモニア水１ｍＬを滴下し、室温で３０分間攪拌した。減圧濃縮後、さらにトルエン２０ｍＬを加えて減圧濃縮（３回）した。残渣をＴＨＦ１００ｍＬに溶解し、モルキュラーシーブス４Ａを加えて脱水後、Ｎ−メチルイミダゾール０．０８ｍＬ（１．０ｍｍｏｌ）および塩化トリイソプロピルベンゼンスルホニル０．３ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を加えて室温で２０時間攪拌した。反応液を減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル４０ｇ、ヘキサン：酢酸エチル（２：１）〜ヘキサン：酢酸エチル：メタノール（３０：３０：１）で精製し、表題化合物０．４７ｇ（ジアステレオマー〔１０ａ〕２７０ｍｇおよび〔１０ｂ〕２００ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。収率７５％。
〔１０ａ〕１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．３１，−０．２１，−０．０３，０．０４（４ｓ’ｓ，１２Ｈ），０．７６（ｓ，１８Ｈ），４．０３−４．０９（ｍ，２Ｈ），４．２６−４．３４（ｍ，２Ｈ），４．５４−４．６９（ｍ，８Ｈ），４．７４−５．８６（ｍ，４Ｈ），４．９７−５．１５（ｍ，６Ｈ），５．２１−５．５２（ｍ，１２Ｈ），５．６４−５．６８（ｍ，１Ｈ），５．７４−５．８２（ｍ，３Ｈ），５．９４−６．０１（ｍ，４Ｈ），６．０８−６．１８（ｍ，２Ｈ），７．５３（ｓ，１Ｈ），７．７８（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），８．０３（ｓ，１Ｈ）；３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−２．３１，１．９１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ５２Ｈ７７Ｎ１０Ｏ１８Ｐ２Ｓｉ２＋（Ｍ＋Ｈ＋）１２４７．４４２６，ｆｏｕｎｄ １２４７．４４９６．
〔１０ｂ〕１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．２２，−０．０８（２ｓ’ｓ，１２Ｈ），０．７４（ｓ，１８Ｈ），４．０７（ｍ，２Ｈ），４．４８−４．５１（ｍ，２Ｈ），４．６５−４．６８（ｍ，８Ｈ），４．９６（ｑ，Ｊ＝１１Ｈｚ，２Ｈ），５．０３−５．１３（ｍ，４Ｈ），５．１９−５．５８（ｍ，１６Ｈ），５．７７（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），５．９３−５．９７（ｍ，４Ｈ），６．１１−６．１７（ｍ，２Ｈ），７．７８（ｓ，２Ｈ），７．８５（ｓ，２Ｈ）；３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ１．５０；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ５２Ｈ７７Ｎ１０Ｏ１８Ｐ２Ｓｉ２＋（Ｍ＋Ｈ＋）１２４７．４４２６，ｆｏｕｎｄ １２４７．４４３５．
【実施例４】
環状ビス（３’→５’）ジグアニル酸（化合物〔１１〕）の合成
化合物〔１０〕５０ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１．６ｍＬにトリフェニルフォスフィン１６ｍｇ（０．０６０ｍｍｏｌ）、ｎ−ブチルアミン０．０４９ｍＬ（０．４８ｍｍｏｌ）、ギ酸０．０１８ｍＬ（０．４８ｍｍｏｌ）およびＰｄ２［（Ｃ６Ｈ５ＣＨ＝ＣＨ）２ＣＯ］３・ＣＨＣｌ３ １２ｍｇ（０．０１２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１０分間攪拌した。酢酸エチル１０ｍＬを加えて得た析出物をろ取し、減圧乾燥した。得られた白色粉末にトリエチルアミン／３ＨＦ錯体０．３ｍＬを加え、室温で１２時間攪拌した。反応液３０μＬを０．１Ｍ Ｎａ２ＨＰＯ４水溶液４０μＬと重水５００μＬに溶解し、３１Ｐ ＮＭＲを測定したところ、反応収率７７％であった。測定後、反応液と合わせ、１ｍＭ酢酸アンモニウム水溶液１ｍＬを加えて３０〜４０℃で攪拌した。析出物を遠心分離し、ＨＰＬＣで精製して表題化合物１２ｍｇを得た。収率４０％。
［ＨＰＬＣ条件］
カラム：ＣＯＳＭＯＳＩＬ ５Ｃ１８−ＡＲ−３００（２５φ×２００ｍｍ）
溶離液：Ａ液、１ｍＭ酢酸アンモニア水溶液；Ｂ液、０．２ｍＭ酢酸アンモニア／水−アセトニトリル（２０：８０）溶液
グラジェント条件：
時間（分）０ ８ ５５ ６３
Ｂ％ ０ ０ ６０ １００
検出波長：２５４ｎｍ、流速：１０ｍＬ／分
ＵＶ（５０ｍＭ ＮＨ４ＯＡｃ）λ２５４ｎｍ（ε２３，７００）；１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）δ４．０４−４．０６（ｍ，２Ｈ），４．３８−４．４４（ｍ，４Ｈ），５．０８（ｓ，２Ｈ），５．３３（ｓ，２Ｈ），６．１２（ｓ，２Ｈ），８．２５（ｓ，２Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）δ６２．８，７０．９，７３．７，８０．８，９０．６，１１６．４，１３６．９（ｗｅａｋ），１５０．４（ｗｅａｋ），１５４．１，１５７．８；３１Ｐ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）δ−０．８６；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ−）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２０Ｈ２３Ｎ１０Ｏ１８Ｐ２−（Ｍ−Ｈ−）６８９．０８７６，ｆｏｕｎｄ ６８９．０８５３．
参考例１
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−３’，５’−Ｏ−（ジ−ｔ−ブチルシリル）グアノシン（化合物〔１２〕）の合成
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３’，５’−Ｏ−（ジ−ｔ−ブチルシリル）グアノシン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．Ｌｅｔｔ．２００２，４３，ｐ１９８３に記載の方法で合成した。）１４．３ｇ（２５ｍｍｏｌ）のメタノール溶液１５０ｍＬに、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルエーテル１１．９ｇ（１３．３ｍＬ，１００ｍｏｌ）を加えて５０℃で５時間攪拌した。冷却後に析出物を濾取し、冷メタノールで洗浄後、減圧乾燥して表題化合物１４．５ｇを白色粉末として得た。収率９８％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．１４（ｓ，６Ｈ），０．９３（ｓ，９Ｈ），１．０５（ｓ，９Ｈ），１．０７（ｓ，９Ｈ），３．１３（ｓ，３Ｈ），３．３４（ｓ，３Ｈ），４．００−４．０６（ｍ，１Ｈ），４．１８−４．２１（ｍ，２Ｈ），４．４２（ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ），４．４９−４．５２（ｍ，１Ｈ），５．９３（ｓ，１Ｈ），７．６０（ｓ，１ｈ），８．５９（ｓ，１Ｈ）．
参考例２
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン（化合物〔１３〕）の合成
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−３’，５’−Ｏ−（ジ−ｔ−ブチルシリル）グアノシン（化合物〔１２〕）１４．８ｇ（２５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン１００ｍＬ溶液に、氷冷下、冷ＨＦ−ピリジン２．０ｍＬ（１００ｍｍｏｌ）のピリジン１２ｍＬ溶液を添加し、２時間攪拌した。反応液を水および飽和重曹水で洗浄後、減圧濃縮した。残渣をピリジン５０ｍＬに溶解し、塩化４，４’−ジメトキシトリチル９．３ｇ（２７．５ｍｍｏｌ）を加えて１２時間攪拌した。メタノール５ｍＬを加えて濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解し、水、飽和重曹水、および飽和食塩水で洗浄した。有機層をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル４００ｇ）で精製し、表題化合物１６ｇを無色アモルファスとして得た。収率８６％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．０１（ｓ，３Ｈ），０．８３（ｓ，９Ｈ），２．８０（ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ，２Ｈ），３．０２（ｓ，３Ｈ），３．０７（ｓ，３Ｈ），３．３５（ｄｄ，Ｊ＝４．０，１０．５Ｈｚ，２Ｈ），３．７７（ｓ，６Ｈ），４．２０（ｑ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），４．３０（ｑ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），４．６９（ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ），５．９７（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），６．８０−６．８２（ｍ，４Ｈ），７．１８−７．３２（ｍ，１３Ｈ），７．４１−７．４３（ｍ，２Ｈ），７．８０（ｓ，１Ｈ），８．５１（ｓ，１Ｈ），９．４６（ｓ，１Ｈ）．
参考例３
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン３’−Ｏ−（２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスフォロアミダイト）（化合物〔１４〕）の合成
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン（化合物〔１３〕）３．８ｇ（５ｍｍｏｌ）、２，４，６−コリジン４．４ｇ（４．８ｍＬ，３６ｍｍｏｌ）、およびＮ−メチルイミダゾール２０５ｍｇ（０．２ｍＬ，２．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ２５ｍＬ溶液に、氷冷下、２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピル クロロホスフォロアミダイト３．０ｇ（１２．５ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１時間攪拌した。酢酸エチルを加え、水、飽和重曹水、および飽和食塩水で洗浄後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン２０ｍＬに溶解し、ヘキサン１Ｌに滴下した。性既出物を濾取し、減圧乾燥して表題化合物３．７ｇ（純度：約９０％）を白色粉末として得た。収率７８％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．１３，−０．１０，０．０２，０．０３（４ｓ，６Ｈ），０．８１，０．８２（２ｓ，９Ｈ），１．１６−１．３０（ｍ，１２Ｈ），２．２４−２．３９（ｍ，２Ｈ），２．９５，３．０７，３．０８，３．０９（４ｓ，６Ｈ），３．２４−３．２８（ｍ，１Ｈ），３．５３−３．６４（ｍ，４Ｈ），３．７８，３．７９，３．８０，３．８１（４ｓ，６Ｈ），４．２７−４．３９（ｍ，２Ｈ），４．６７−４．７４（ｍ，１Ｈ），５．９７，６．０４（２ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），６．７１−６．８５（ｍ，４Ｈ），７．２１−７．４８（ｍ，１３Ｈ），７．８５，７．８８（２ｓ，１Ｈ），８．５０，８．５８（ｓ，１Ｈ），８．６７，８．６９（２ｓ，１Ｈ）；３１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ１４８．８８，１５０．０２．
【実施例５】
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）（化合物〔１５〕）の合成
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン３’−Ｏ−（２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスフォロアミダイト）（化合物〔１４〕）３．８２ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、モルキュラーシーブス３Ａ ２００ｍｇの乾燥アセトニトリル（１６ｍＬ）溶液にアリルアルコール０．３３ｍＬ（２７９ｍｇ，４．８ｍｍｏｌ）を添加して３０分間室温で攪拌後、過塩素酸イミダゾリウム１．３５ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を加えて３０分間攪拌した。さらに２−ブタノン パーオキシド／ジメチルフタレートの６．７％トルエン溶液８ｍＬを加えて５分間攪拌した。モルキュラーシーブス３Ａをろ去後、酢酸エチルを加えて飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄、乾燥して減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン３０ｍＬに溶解し、氷冷攪拌下にジクロロ酢酸６．６ｍＬ（１０．４ｇ，８０ｍｍｏｌ）を滴下して５分間攪拌した。反応溶液を飽和重曹水１００ｍＬに滴下し、有機層を分液後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー〔シリカゲル１００ｇ、メタノール：ジクロロメタン（１：２０）〜（１：１０）〕で精製し、表題化合物２．１５ｇを無色アモルファスとして得た。収率８６％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．２７，−０．２３（２ｓ，３Ｈ），−０．０９（ｓ，３Ｈ），０．７８，０．７９（２ｓ，９Ｈ），２．８０（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），３．１２（ｓ，３Ｈ），３．１９（ｓ，３Ｈ），３．７６（ｑ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ，１Ｈ），３．８８−３．９１（ｍ，１Ｈ），４．２７−４．３５（ｍ，２Ｈ），４．４６−４．４８（ｍ，１Ｈ），４．６３−４．６７（ｍ，２Ｈ），４．９７（ｍ，１Ｈ），５．０８−５．１７（ｍ，１Ｈ），５．３１−５．３７（ｍ，１Ｈ），５．４１−５．４５（ｍ，１Ｈ），５．６９−５．７２（ｍ，１Ｈ），５．９５−６．０３（ｍ，１Ｈ），７．６３（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｓ，１Ｈ），９．３７（ｂｒ，１Ｈ）；３１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−２．３４；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２５Ｈ４０Ｎ７Ｏ８ＰＳｉ＋（Ｍ＋Ｈ＋）ｍ／ｚ ６２６．２５１８，ｆｏｕｎｄ ｍ／ｚ ６２６．２６２８．
【実施例６】
２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニルイル］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］（化合物〔１６〕）の合成
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン３’−Ｏ−（２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスフォロアミダイト）１．７ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、化合物〔１５〕０．９８ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、モルキュラーシーブス３Ａ ０．２ｇの乾燥アセトニトリル溶液１０ｍＬを室温で３０分間攪拌後、過塩素酸イミダゾリウム０．５４ｇ（３．２ｍｍｏｌ）を加えて３０分間攪拌した。さらに２−ブタノン パーオキシド／ジメチルフタレートの６．７％トルエン溶液３．２ｍＬを加えて５分間攪拌した。モルキュラーシーブス３Ａをろ去後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン２０ｍＬに溶解し、氷冷攪拌下にジクロロ酢酸３．３ｍＬ（５．２ｇ，４０ｍｍｏｌ）を滴下して５分間攪拌した。反応溶液を飽和重曹水１００ｍＬに滴下し、有機層を分液後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ、メタノール：ジクロロメタン（１：２０）〜（１：１０）で精製し、表題化合物１．５３ｇ（ジアステレオマー混合物）を無色アモルファスとして得た。収率８２％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．２６−０．０３（ｍ，１２Ｈ），−０．７４−０．９６（ｍ，１８Ｈ），２．７２−２．８０（ｍ，４Ｈ），３．０９，３．１１，３．２２（４ｓ，１２Ｈ），３．７０−３．８１（ｍ，２Ｈ），４．１７−４．６４（ｍ，１１Ｈ），４．８８−５．２５（ｍ，４Ｈ），５．３１−５．４４（ｍ，２Ｈ），５．７３−６．００（ｍ，３Ｈ），７．５１−７．８２（ｍ，４Ｈ），８．３７（ｓ，１Ｈ），８．６１（ｓ，１Ｈ），９．２４（ｂｒ，２Ｈ）；３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−１．７８，−１．７２，−１．４５，−１．３２，−１．０４，−０．８３；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４７Ｈ７４Ｎ１４Ｏ１５Ｐ２Ｓｉ２＋（Ｍ＋Ｈ＋）１１９３．４５４５，ｆｏｕｎｄ １１９３．５９７１．
【実施例７】
環状ビス（３’→５’）ビス［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル（化合物〔１７〕）の合成
化合物〔１６〕８４８ｍｇ（０．７１ｍｍｏｌ）のアセトン１０ｍＬ溶液に沃化ナトリウム１．０６ｇ（７．１ｍｍｏｌ）を加えて２時間加熱還流した。析出物を濾取し、冷アセトン５０ｍＬで洗浄し、乾燥した。得られた粉末をＴＨＦに懸濁し、Ｎ−メチルイミダゾール０．１１ｍＬ（１１５ｍｇ，１．４ｍｍｏｌ）および塩化トリイソプロピルベンゼンスルホニル４２４ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を加えて室温で３６時間攪拌した。反応液に水を添加して１時間攪拌後、酢酸エチルで抽出した。減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ、メタノール：ジクロロメタン（１：２０）〜（１：１０）で精製し、表題化合物６７６ｍｇを無色アモルファスとして得た。収率８５％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ−０．１４（ｓ，６Ｈ），０．０９（ｓ，６Ｈ），０．７６（ｓ，１８Ｈ），２．９５（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，４Ｈ），３．１４（ｓ，６Ｈ），４．１３−４．２１（ｍ，２Ｈ），４．３５−４．６８（ｍ，１０Ｈ），５．３６，５．３８（２ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），５．３１−５．４４（ｍ，２ｈ），５．９１−５．９６（ｍ，４Ｈ），７．０８（ｓ，２Ｈ），７．９４（ｓ，２Ｈ），８．６９（ｓ，２Ｈ）；３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ１．０２；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４４Ｈ６９Ｎ１４Ｏ１４Ｐ２Ｓｉ２＋（Ｍ＋Ｈ＋）１１３５．４１２６，ｆｏｕｎｄ １１３５．４４５５．
【実施例８】
環状ビス（３’→５’）ジグアニル酸（化合物〔１１〕）の合成
化合物〔１７〕１１６ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）のメタノール溶液８ｍＬにアンモニア水８ｍＬを添加し、５０℃で１２時間攪拌した。反応液を濃縮し、減圧乾燥した。得られた残渣にトリエチルアミン／３ＨＦ錯体１．０ｍＬを加え、室温で１２時間攪拌した。反応液に１Ｍ 酢酸アンモニア緩衝液１０ｍＬを加えて３０〜４０℃で攪拌した。析出物を除去し、得られた溶液をＨＰＬＣで精製して表題化合物６７ｍｇを得た。収率８９％。
［ＨＰＬＣ条件］
カラム：ＣＯＳＭＯＳＩＬ ５Ｃ１８−ＡＲ−３００（２５φ×２００ｍｍ）
溶離液：Ａ液、１ｍＭ酢酸アンモニア水溶液；Ｂ液、０．２ｍＭ酢酸アンモニア／水−アセトニトリル（２０：８０）溶液
グラジェント条件：
時間（分）０ ８ ５５ ６３
Ｂ％ ０ ０ ６０ １００
検出波長：２５４ｎｍ、流速：１０ｍＬ／分
【産業上の利用可能性】
本発明の合成方法は、環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドを収率良く合成でき、工業的製法として有用である。また、本発明の合成方法で得られる環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドは、抗がん剤などの医薬品として有用である。
【技術分野】
本発明は環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドの合成方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、ジヌクレオチドの分子内環化反応により環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドを効率的に収率良く合成する方法に関する。
環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドは、がん細胞分裂阻止などの生理活性を示すことから抗がん剤などの医薬品としての開発が期待される有用な化合物であり、実用的な合成方法の開発が求められている。
【背景技術】
環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドのひとつである環状ビス（３’→５’）ジグアニル酸（以下、「ｃＧｐＧｐ」と略す。）は、セルロース生合成を調節する機能性物質として古くから知られているが、最近さらにＭｏｌｔ４およびＪｕｒｋａｔ細胞内に取り込まれるとＣＤ４レセプター量を増加させ、細胞分裂を減少させる生物活性をもつ物質であることが解明された。がん細胞分裂を阻止できる可能性があることから、抗がん剤としての研究や臨床応用が期待されている。そのため、ｃＧｐＧｐに代表される環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドの大量供給が緊急に必要とされている。
ｃＧｐＧｐの合成法としては、リン酸部位の保護基としてｐ−クロロフェニル基を用いた方法が既に報告されている（Ｎａｔｕｒｅ，１９８７，３２５，ｐ２７９、およびＪ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９９０，２６５，ｐ１８９９３参照）。また、リン酸部位の保護基としてｐ−クロロフェニル基を用いて環状ビス（３’→５’）ジアデニル酸や環状ビス（３’→５’）ジウリジル酸を合成した例が報告されている（Ｎｕｃｌｅｏｓｉｄｅｓ＆Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅｓ，１９８５，４（３），ｐ３７７参照）。
しかしながら、前記のＮａｔｕｒｅ，１９８７，３２５，ｐ２７９、およびＪ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９９０，２６５，ｐ１８９９３中に記載された方法では、環化反応の原料となるジヌクレオチドの合成収率が７５％（過剰に必要な基質を基準とした場合には６３％）と低く、実用的ではなかった。また、リン酸部位の保護基であるｏ−クロロフェニル基の脱保護と核酸塩基の保護基を脱保護する反応を別々に行う必要があったため、多工程を要していた。さらに、各脱保護工程に２０時間、４８時間、および１６時間と長時間を要していたため、実用的ではなかった。
前記のＮｕｃｌｅｏｓｉｄｅｓ＆Ｎｕｃｌｅｏｔｉｄｅｓ，１９８５，４（３），ｐ３７７中に記載された方法でも同様に、環化反応の原料となるジヌクレオチドの合成収率が６３％と低く、実用的ではなかった。また、リン酸部位の保護基であるｐ−クロロフェニル基の脱保護と核酸塩基の保護基を脱保護する反応を別々に行う必要があったために多工程を要し、収率も５０〜６６％と低かった。さらに、各脱保護工程に何れも一昼夜を要していたため、実用的ではなかった。
したがって、本発明は、ｃＧｐＧｐを効率的に合成する方法を提供することを目的とする。
【発明の開示】
本発明者らは、低収率、多工程、且つ長い反応時間を要するといった従来の問題点を鑑み、工業的に実用的な合成方法を提供するため、環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドの合成に適用可能なリン酸部位の保護基について鋭意検討した。その結果、リン酸部位の保護基としてアリル基および２−シアノエチル基が有用であることを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、一般式〔１〕
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ１は保護されていても良い核酸塩基を表す。）で表される化合物から、一般式〔２〕
（式中、Ｒ２およびＲ３は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはヒドロキシル基を表し、Ｂ２およびＢ３は各々独立して核酸塩基を表す。）で表される化合物またはその塩を合成する方法に関するものである。
本発明によれば、環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドを収率よく合成する方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の合成方法は、一般式〔１〕で表される化合物から一般式〔２〕で表される化合物またはその塩を得る方法である。
一般式〔１〕中のＲ１は、水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ１は保護されていても良い核酸塩基を表す。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子が挙げられる。
一般式〔１〕で表される化合物において、Ｒ１における水酸基の保護基とは、通常用いられる水酸基の保護基が使用可能で、加水素分解、加水分解、光分解のような化学的方法によって除去される保護基を指す。
水酸基の保護基としては、ホルミル基、脂肪族アシル基、芳香族アシル基、シリル基、シリルオキシメチル基、アルコキシアルキル基、シリル基で置換されたアルコキシアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アラルキル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、オルトエステル基などが挙げられる。好ましくは、シリル基、シリルオキシメチル基、シリル基で置換されたアルコキシアルキル基、オルトエステル基は水酸基の保護基として好ましい。
シリル基としては、たとえばトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などがあげられる。
シリルオキシメチル基としては、たとえばトリメチルシリルオキシメチル基、トリエチルシリルオキシメチル基、トリイソプロピルシリルオキシメチル基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル基などがあげられる。
シリル基で置換されたアルコキシアルキル基とは、たとえば２−トリメチルシリルエチルオキシメチル基などがあげられる。オルトエステル基とは、たとえばジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基、ビス（２−ヒドロキシエチルオキシ）メチル基、ビス（２−アセトキシエチルオキシ）メチル基などがあげられる。
水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基としては、たとえばトリメチルシリルオキシメチルオキシ基、トリエチルシリルオキシメチルオキシ基、トリイソプロピルシリルオキシメチルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチルオキシ基、２−トリメチルシリルエチルオキシメチルオキシ基、ジメトキシメチルオキシ基、ジエトキシメチルオキシ基、ビス（２−ヒドロキシエチルオキシ）メチルオキシ基、ビス（２−アセトキシエチルオキシ）メチルオキシ基などがあげられる。
核酸塩基としては、ピリミジン、プリン、アザプリンおよびデアザプリンなどの天然または非天然型の塩基類が挙げられ、それらはハロゲン原子、炭素数１から４のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数１から４のアルケニル基、炭素数１から４のハロアルケニル基、炭素数１から４のアルキニル基、アミノ基、炭素数１から４のアルキルアミノ基、水酸基、ヒドロキシアミノ基、アミノキシ基、炭素数１から４のアルキルオキシ基、メルカプト基、炭素数１から４のアルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基またはシアノ基によって置換されていてもよい。
置換基としてのハロゲン原子としては、塩素、フッ素、ヨウ素、臭素が例示される。アルキル基としては、メチル基、エチル基、１−プロピル基などが例示される。ハロアルキル基としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ブロモメチル基、ブロモエチル基などが例示される。アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、３−ブテニル基などが例示される。ハロアルケニル基としては、ブロモビニル基、クロロビニル基などが例示される。アルキニル基としては、エチニル基、プロピニル基などが例示される。アルキルアミノ基としては、メチルアミノ、エチルアミノなどが例示される。アルキルオキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基などが例示される。アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基などが例示される。アリール基としては、フェニル基；メチルフェニル基、エチルフェニル基などの炭素数１〜４のアルキル基を有するアルキルフェニル基；メトキシフェニル基、エトキシフェニル基などの炭素数１〜４のアルキルオキシ基を有するアルコキシフェニル基；ジメチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基などの炭素数１〜４のアルキルアミノ基を有するアルキルアミノフェニル基；クロロフェニル基、ブロモフェニル基などのハロゲノフェニル基などが例示される。
ピリミジン塩基を具体的に例示すれば、シトシン、ウラシル、５−フルオロシトシン、５−フルオロウラシル、５−クロロシトシン、５−クロロウラシル、５−ブロモシトシン、５−ブロモウラシル、５−ヨードシトシン、５−ヨードウラシル、５−メチルシトシン、５−メチルウラシル（チミン）、５−エチルシトシン、５−エチルウラシル、５−フルオロシトシン、５−フルオロウラシル、５−トリフルオロメチルシトシン、５−トリフルオロメチルウラシル、５−ビニルウラシル、５−（２−ブロモビニル）ウラシル、５−（２−クロロビニル）ウラシル、５−エチニルシトシン、５−エチニルウラシル、５−プロピニルウラシル、ピリミジン−２−オン、４−ヒドロキシアミノピリミジン−２−オン、４−アミノオキシピリミジン−２−オン、４−メトキシピリミジン−２−オン、４−アセトキシピリミジン−２−オン、４−フルオロピリミジン−２−オン、５−フルオロピリミジン−２−オン、５−アザシトシンなどが挙げられる。
プリン塩基を具体的に例示すれば、プリン、６−アミノプリン（アデニン）、６−ヒドロキシプリン、６−フルオロプリン、６−クロロプリン、６−メチルアミノプリン、６−ジメチルアミノプリン、６−トリフルオロメチルアミノプリン、６−ヒドロキシアミノプリン、６−アミノオキシプリン、６−メトキシプリン、６−アセトキシプリン、６−メチルプリン、６−エチルプリン、６−トリフルオロメチルプリン、６−フェニルプリン、６−メルカプトプリン、６−メチルメルカプトプリン、６−アミノプリン−１−オキシド、６−ヒドロキシプリン−１−オキシド、２−アミノ−６−ヒドロキシプリン（グアニン）、２，６−ジアミノプリン、２−アミノ−６−クロロプリン、２−アミノ−６−ヨードプリン、２−アミノプリン、２−アミノ−６−メルカプトプリン、２−アミノ−６−メチルメルカプトプリン、２−アミノ−６−ヒドロキシアミノプリン、２−アミノ−６−メトキシプリン、２−アミノ−６−ベンゾイルオキシプリン、２−アミノ−６−アセトキシプリン、２−アミノ−６−メチルプリン、２−アミノ−６−シクロプロピルアミノプリン、２−アミノ−６−フェニルプリン、２−アミノ−８−ブロモプリン、６−シアノプリン、６−アミノ−２−クロロプリン（２−クロロアデニン）、６−アミノ−２−フルオロプリン（２−フルオロアデニン）などが挙げられる。
アザプリン塩基およびデアザプリン塩基を具体的に例示すれば、６−アミノ−３−デアザプリン、６−アミノ−８−アザプリン、２−アミノ−６−ヒドロキシ−８−アザプリン、６−アミノ−７−デアザプリン、６−アミノ−１−デアザプリン、６−アミノ−２−アザプリンなどが挙げられる。
保護された核酸塩基とは、前述の核酸塩基のアミノ基が通常用いられるアミノ基の保護基で保護されたものを指す。
アミノ基の保護基としては、特に限定されないが、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ジフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ベンゾイル基、トルオイル基などのアシル基類、あるいはアリルオキシカルボニル基などのアルコキシカルボニル基類、アリル基などのアルキル基類、ジメチルアミノメチレン基などのアミジン類などが挙げられる。
アミノ基の保護基として、一般式〔１〕で表される化合物のリン酸エステルの保護基である２−シアノエチル基またはアリル基いずれか一方の脱保護と同じ反応条件で脱保護できるような保護基を選ぶのが好ましい。
保護基として、アンモニア、アミン類、後記する０価のパラジウム、２価のパラジウム錯体または２価のパラジウム塩で脱保護可能な保護基は好ましい。
このような保護基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ジフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ベンゾイル基、トルオイル基などのアシル基類、ジメチルアミノメチレン基などのアミジン類、アリル基、あるいはアリルオキシカルボニル基などが例示される。
これらのなかで、ホルミル基、アセチル基、イソブチリル基、ベンゾイル基、フェノキシアセチル基、ジメチルアミノメチレン基、アリル基、あるいはアリルオキシカルボニル基は特に好ましい。
Ｂ１における保護された核酸塩基としては、例えば、Ｎ４−アセチルシトシン、Ｎ４−ベンゾイルシトシン、Ｎ４−アセチル−５−フルオロシトシン、Ｎ４−ベンゾイル−５−フルオロシトシン、Ｎ４−アセチル−５−アザシトシン、Ｎ４−ベンゾイル−５−アザシトシン、Ｎ４−（フェノキシアセチル）シトシン、Ｎ４−（ジメチルアミノメチレン）シトシン、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）シトシン、Ｎ４−アセチル−５−メチルシトシン、Ｎ４−ベンゾイル−５−メチルシトシン、Ｎ４−（フェノキシアセチル）−５−メチルシトシン、Ｎ４−（ジメチルアミノメチレン）−５−メチルシトシン、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−５−メチルシトシン、Ｎ６−アセチルアデニン、Ｎ６−ベンゾイルアデニン、Ｎ６−（フェノキシアセチル）アデニン、Ｎ６−（ジメチルアミノメチレン）アデニン、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）アデニン、Ｎ６−アセチル−２−クロロアデニン、Ｎ６−ベンゾイル−２−クロロアデニン、Ｎ６−（フェノキシアセチル）−２−クロロアデニン、Ｎ６−（ジメチルアミノメチレン）−２−クロロアデニン、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２−クロロアデニン、Ｎ６−アセチル−２−フルオロアデニン、Ｎ６−ベンゾイル−２−フルオロアデニン、Ｎ６−（フェノキシアセチル）−２−フルオロアデニン、Ｎ６−（ジメチルアミノメチレン）−２−フルオロアデニン、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２−フルオロアデニン、Ｎ２，Ｎ６−ジアセチル−２，６−ジアミノプリン、Ｎ２，Ｎ６−ジベンゾイル−２，６−ジアミノプリン、Ｎ２，Ｎ６−ビス（フェノキシアセチル）−２，６−ジアミノプリン、Ｎ２，Ｎ６−ビス（ジメチルアミノメチレン）−２，６−ジアミノプリン、Ｎ２，Ｎ６−ビス（アリルオキシカルボニル）−２，６−ジアミノプリン、Ｎ２−アセチルグアニン、Ｎ２−ベンゾイルグアニン、Ｎ２−イソブチリルグアニン、Ｎ２−（フェノキシアセチル）グアニン、Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニン、Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）グアニン、Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリルグアニン、Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｎ１−アリルグアニンなどが挙げられる。
一般式〔１〕で表される化合物は、Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２００１，３，ｐ８１５；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，２００１，５７，ｐ８８２３に記載の方法を参考にして、合成することができる。
例えば、一般式〔１〕で表される化合物の合成方法としては、（１）下記一般式（Ａ）で表される化合物と２−シアノエタノールを、モレキュラーシーブ及び縮合活性化剤の存在下で反応させて下記一般式（Ｂ）で表される化合物を得る工程、（２）次いで、一般式（Ｂ）で表される化合物と酸化剤を反応させて下記一般式（Ｃ）で表される化合物を得る工程、（３）次いで、一般式（Ｃ）で表される化合物の脱保護を行い、一般式〔１〕で表される化合物を得る工程からなる方法が挙げられる（反応式〔１〕）。
一般式（Ａ）中の、Ｒ１およびＢ１は前記の一般式〔１〕中のＲ１およびＢ１と同義であり、Ｒ６は水酸基の保護基を表し、Ｒ９およびＲ１０は各々独立して炭素数１から４のアルキル基を表すか、またはＲ９およびＲ１０はこれらが結合する窒素原子を含む環を形成しても良い。
一般式（Ａ）で表される化合物において、Ｒ６の水酸基の保護基としては、前記の一般式〔１〕中のＲ１における水酸基の保護基として例示されたものが挙げられる。
一般式（Ａ）で表される化合物において、Ｒ９およびＲ１０が炭素数１から４のアルキル基である場合、Ｒ９（Ｒ１０）Ｎ基としては、ジエチルアミノ基、ジ（ｎ−プロピル）アミノ基、エチル（ｎ−プロピル）アミノ基、エチル（イソプロピル）アミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ（ｎ−ブチル）アミノ基、ジイソブチルアミノ基などが挙げられる。
一般式（Ａ）で表される化合物において、Ｒ９およびＲ１０がこれらが結合する窒素原子を含む環を形成する場合、そのような環を形成したＲ９（Ｒ１０）Ｎ基としては、ピロリジノ基、ピペリジノ基などがあげられる。
一般式（Ａ）で表される化合物において、Ｒ９（Ｒ１０）Ｎ基として、ジイソプロピルアミノ基、ピロリジノ基あるいはピペリジノ基は好ましい。
一般式（Ｂ）および一般式（Ｃ）中のＲ１、Ｒ６およびＢ１はそれぞれ、前記の一般式（Ａ）中のＲ１、Ｒ６およびＢ１と同義である。
前記（１）の工程で用いられるモレキュラーシーブとしては、例えば、モレキュラーシーブ３Ａおよびモレキュラーシーブ４Ａが挙げられる。
前記（１）の工程で用いられる縮合活性化剤としては、例えば、テトラゾール、５−メチルチオテトラゾール、５−エチルチオテトラゾールなどのテトラゾール類、４，５−ジシアノイミダゾール、４，５−ジクロロイミダゾールなどのイミダゾール類、Ｎ−フェニルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、イミダゾール テトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−フェニルイミダゾール テトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−（ｐ−アセチルフェニル）イミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、２−フェニルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、４−メチルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、４−メチルイミダゾール ｐ−トルエンスルホン酸塩、４−メチルイミダゾール トリフルオロ酢酸塩、４−フェニルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、４−フェニルイミダゾール トリフルオロ酢酸塩、ベンズイミダゾール テトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−メチルベンズイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、２−フェニルベンズイミダゾールトリフルオロメタンスルホン酸塩、２−フェニルベンズイミダゾール 過塩素酸塩、過塩素酸イミダゾリウムなどのイミダゾリウム塩やベンズイミダゾール塩類などがあげられる。過塩素酸イミダゾリウムが特に好ましい。
前記（１）の工程において、２−シアノエタノールは、一般式（Ａ）で表される化合物に対して、通常、１から２当量となる量が用いられる。
モルキュラーシーブスは、一般式（Ａ）で表される化合物の重量に対して、通常、１％から１００％となる量が用いられる。５％から３０％が好ましい。
縮合活性化剤は、一般式（Ａ）で表される化合物に対して、通常、０．１から４当量となる量が用いられる。０．２から２当量が好ましい。
前記（１）の工程の反応には、通常、溶媒を用いる。溶媒としては、反応を阻害しない限り限定されないが、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサンなどが好ましい。
前記（１）の工程の反応温度は、通常、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、０℃から室温の範囲が好ましい。
一般式（Ｂ）で表される化合物は、前記（１）の工程で得られる一般式（Ｂ）で表される化合物を含む反応混合物から単離することなく、前記（２）の工程に用いられる。
前記（２）の工程で用いられる酸化剤としては、例えば、通常亜リン酸の酸化に用いられるものなら限定されないが、過酸化水素水などの過酸化水素類、過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸などの過酸類、アセトン パーオキシド、２−ブタノン パーオキシドなどのケトン過酸化物類、ｔ−ブチルヒドロパーオキシドなどのアルコール過酸化物類、パーオキシ硫酸カリウムなどの過硫酸類などがあげられる。
酸化剤として、特に２−ブタノン パーオキシドが好ましい。
前記の酸化剤は、安定性を保持する目的で、溶液として用いることができる。溶液を調整する際に用いる溶媒としては、酸化剤を溶解し、酸化を阻害しない限り特に限定されないが、水、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、２−ブタノンなどのケトン類、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルフタレートなどのエステル類などが好ましい。
酸化剤は、一般式（Ｂ）で表わされる化合物に対して、通常１から３当量となる量が用いられる。
前記（２）の工程の反応は、通常、溶媒を用いて行う。溶媒としては、反応を阻害しない限り限定されないが、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサンなどが好ましい。
前記（２）の工程の反応温度は、通常、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、０℃から室温の範囲が好ましい。
一般式（Ｃ）で表される化合物は、前記（１）および（２）の工程で得られる一般式（Ｃ）で表される化合物を含む反応混合物を，分液などの通常の後処理操作を行い、精製することなく前記（３）の工程に用いることができる。
一般式（Ｃ）におけるＲ６基としては、通常用いられる水酸基の保護基であれば特に限定されないが、Ｒ６基を脱保護する反応条件において、Ｒ１で示される保護基が脱離しないような保護基を用いることが好ましい。そのような保護基としては、４，４’−ジメトキシトリチル基などのアラルキル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ビス（トリメチルシロキシ）ジフェニルメトキシシリル基、およびビス（トリメチルシロキシ）シクロドデシルオキシシリル基などのシリル基があげられる。
これらの保護基のなかでも４，４’−ジメトキシトリチル基は好ましい。
前記（３）の工程で脱保護する際の反応条件は、使用するＲ６基により異なる。
一般式（Ｃ）におけるＲ６基がアラルキル基の場合には、酸を用いて脱保護するのが好ましい。そのような酸としては、硫酸、塩酸、トリフルオロ酢酸、過塩素酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸などが使用できる。ジクロロ酢酸が好ましい。
一般式（Ｃ）におけるＲ６基がシリル基の場合には、フルオリドを用いて脱保護するのが好ましい。そのようなフルオリドとしては、ピリジニウム フルオリド、テトラブチルアンモニウム フルオリド、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムなどが使用できる。テトラブチルアンモニウム フルオリドが好ましい。
酸は、一般式（Ｃ）で表わされる化合物に対して、通常１から４０当量となる量が用いられる。１０から３０当量が好ましい。
前記（２）の工程の反応には、通常、溶媒を用いる。溶媒としては、反応を阻害しない限り限定されないが、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサンなどが好ましい。
前記（２）の工程の反応温度は、通常、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、０℃から室温の範囲が好ましい。
前記（１）、（２）および（３）の各工程の反応は、通常大気圧下で行われる。
前記（３）の工程で得られる一般式〔１〕で表される化合物は、公知の方法、例えば、カラムクロマトグラフィー手法や晶析手法等により、反応混合物から分離し、回収することができる。
一般式〔２〕中のＲ２およびＲ３は、各々独立して水素原子、ハロゲン原子またはヒドロキシル基を表し、Ｂ２およびＢ３は各々独立して核酸塩基を表す。
ハロゲン原子および核酸塩基としては、前記の一般式〔１〕中のＲ１およびＢ１の説明個所に例示したものを挙げることができる。
一般式〔２〕で表される化合物の塩としては、通常リン酸と塩を形成するような塩基から成る塩なら限定されないが、アルカリ金属、アルカリ土類金属あるいは有機アミンなどの塩が好ましい。アルカリ金属の塩としては、たとえばリチウム塩、ナトリウム塩、カリウム塩などがあげられる。アルカリ土類金属の塩としては、たとえばマグネシウム塩、カルシウム塩、バリウム塩などがあげられる。有機アミンの塩としては、たとえばトリエチルアンモニウム塩、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム塩などの３級アミン塩、ジエチルアンモニウム塩、ジシクロヘキシルアンモニウム塩などの２級アミン塩、アンモニウム塩、ｎ−ブチルアンモニウム塩、シクロヘキシルアンモニウム塩などの１級アミン塩、テトラ（ｎ−ブチル）アンモニウム塩、トリメチル ベンジルアンモニウム塩などの４級アミン塩などがあげられる。
例えば、一般式〔１〕中のＲ１が水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物から、一般式〔２〕中のＲ２およびＲ３が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはヒドロキシル基である化合物またはその塩を合成することができる。
一般式〔１〕で表される化合物から一般式〔２〕で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、例えば、下記反応式〔２〕に示したように、一般式〔５〕および一般式〔６〕で表される化合物を経て合成する方法があげられる。
すなわち、一般式〔１〕で表される化合物を一般式〔５〕で表される化合物に誘導する工程、次いで一般式〔５〕で表される化合物を一般式〔６〕で表される化合物に誘導する工程、そして一般式〔６〕で表される化合物を一般式〔２〕で表される化合物に誘導する工程からなる合成方法を例示することができる。
例えば、一般式〔１〕中のＲ１が水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物から、一般式〔５〕および一般式〔６〕中のＲ１およびＲ４が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基である化合物を経て、一般式〔２〕中のＲ２およびＲ３が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基およびヒドロキシル基である化合物を合成することができる。
一般式〔５〕中のＲ１およびＲ４は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ１およびＢ４は各々独立して保護されていても良い核酸塩基を表し、Ｒ５はアリル基または２−シアノエチル基を表す。なお、水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基および保護されていても良い核酸塩基としては、前記の一般式〔１〕中のＲ１およびＢ１の説明個所に例示したものを挙げることができる。
一般式〔６〕中のＲ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４は、前記の一般式〔５〕中のＲ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４と同義である。
一般式〔１〕で表される化合物から一般式〔２〕で表される化合物の合成方法を具体的に示すとすれば、例えば、下記反応式〔３〕または反応式〔４〕に示したように、一般式〔３〕あるいは〔４〕で表される化合物と、一般式〔１〕で表される化合物から合成する方法があげられる。
一般式〔５〕で表される化合物の合成方法としては、通常のリン酸エステル化合物を合成するのに用いられる方法ならば特に限定されないが、例えば、下記反応式〔５〕に示したように、一般式〔１〕で表される化合物を一般式〔３〕で表される化合物と縮合してから酸化する方法、または下記反応式〔６〕に示したように、一般式〔１〕で表される化合物を一般式〔４〕で表される化合物と縮合する方法があげられる。
一般式〔３〕中の、Ｂ４およびＲ４は前記の一般式〔５〕中のＢ４およびＲ４と同義であり、Ｒ６は前記の一般式（Ａ）中のＲ６とそれぞれ同義であり、Ｒ７およびＲ８は各々独立して炭素数１から４のアルキル基を表すか、またはＲ７およびＲ８が結合して窒素原子を含む環を形成しても良い。
一般式〔３〕で表される化合物において、Ｒ７およびＲ８が炭素数１から４のアルキル基である場合、Ｒ７（Ｒ８）Ｎ基としては、ジエチルアミノ基、ジ（ｎ−プロピル）アミノ基、エチル（ｎ−プロピル）アミノ基、エチル（イソプロピル）アミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ（ｎ−ブチル）アミノ基、ジイソブチルアミノ基などが挙げられる。
一般式〔３〕中で表される化合物において、Ｒ７およびＲ８が結合して窒素原子を含む環を形成する場合、そのような環を形成したＲ７（Ｒ８）Ｎ基としては、ピロリジノ基、ピペリジノ基などがあげられる。
一般式〔３〕で表される化合物において、Ｒ７（Ｒ８）Ｎ基として、ジイソプロピルアミノ基、ピロリジノ基あるいはピペリジノ基は好ましい。
一般式〔４〕中のＢ４、Ｒ４およびＲ６は前記の一般式〔３〕中のＢ４、Ｒ４およびＲ６とそれぞれ同義である。
一般式〔１〕で表される化合物を一般式〔３〕で表される化合物と縮合する際に用いる縮合活性化剤としては、例えば、テトラゾール、５−メチルチオテトラゾール、５−エチルチオテトラゾールなどのテトラゾール類、４，５−ジシアノイミダゾール、４，５−ジクロロイミダゾールなどのイミダゾール類、Ｎ−フェニルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、イミダゾール テトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−フェニルイミダゾール テトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−（ｐ−アセチルフェニル）イミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、２−フェニルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、４−メチルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、４−メチルイミダゾール ｐ−トルエンスルホン酸塩、４−メチルイミダゾール トリフルオロ酢酸塩、４−フェニルイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、４−フェニルイミダゾール トリフルオロ酢酸塩、ベンズイミダゾール テトラフルオロホウ酸塩、Ｎ−メチルベンズイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、２−フェニルベンズイミダゾール トリフルオロメタンスルホン酸塩、２−フェニルベンズイミダゾール 過塩素酸塩、過塩素酸イミダゾリウムなどのイミダゾリウム塩やベンズイミダゾール塩類などがあげられる。
縮合活性化剤として、過塩素酸イミダゾリウムは好ましい。
縮合活性化剤を用いる反応の反応温度としては、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、特に０から４０℃が好ましい。
一般式〔１〕で表される化合物を一般式〔３〕で表される化合物と縮合させてから酸化する際に用いられる酸化剤としては、通常亜リン酸の酸化に用いられるものなら限定されないが、過酸化水素水などの過酸化水素類、過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ過安息香酸などの過酸類、アセトン パーオキシド、２−ブタノン パーオキシドなどのケトン過酸化物類、ｔ−ブチルヒドロパーオキシドなどのアルコール過酸化物類、パーオキシ硫酸カリウムなどの過硫酸類などがあげられる。
酸化剤として、２−ブタノン パーオキシドは好ましい。
前記の酸化剤は、安定性を保持する目的で、溶液として用いることができる。
溶液を調整する際に用いる溶媒としては、酸化剤を溶解し、酸化を阻害しない限り特に限定されないが、水、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、２−ブタノンなどのケトン類、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルフタレートなどのエステル類などが好ましい。
酸化する際の反応温度としては、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、特に０から４０℃が好ましい。
酸化する際の反応溶媒としては、酸化反応に影響を与えない限り、限定されるものではないが、非プロトン性の溶媒が好ましく、特にアセトニトリル、ジクロロメタン、ＴＨＦが好ましい。
一般式〔１〕で表される化合物を一般式〔４〕で表される化合物と縮合する際の縮合剤としては、塩化メタンスルフォニル、塩化トルエンスルフォニル、塩化２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニル、塩化メシチレン−２−スルフォニルなどの塩化スルフォニル類、１−トルエンスルフォニルテトラゾール、１−（メシチレンスルフォニル−２−スルフォニル）テトラゾール、１−（２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニル）テトラゾールなどのスルフォニルテトラゾール類、３−ニトロ−１−トルエンスルフォニル−１，２，４−トリアゾール、３−ニトロ−１−（メシチレンスルフォニル−２−スルフォニル）−１，２，４−トリアゾール、３−ニトロ−１−（２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニル）−１，２，４−トリアゾールなどのスルフォニルトリアゾール類などがあげられる。特に塩化トリイソプロピルベンゼンスルフォニルが好ましい。
縮合の際に塩基を共存させても良い。用いられる塩基としては、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、ルチジン、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、Ｎ−メチルベンズイミダゾールなどがあげられる。特にＮ−メチルイミダゾールが好ましい。
縮合する際の反応温度としては、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、特に０から４０℃が好ましい。
縮合の際には、水分の影響を少なくするために脱水剤を添加して行うこともできる。脱水剤としては、通常反応に用いられるものが使用できるが、特にモルキュラーシーブスが好ましい。
縮合する際には、通常、反応溶媒を用いる。反応溶媒としては、縮合に影響を与えない限り、限定されるものではないが、非プロトン性の溶媒が好ましく、特にアセトニトリル、ジクロロメタン、ＴＨＦが好ましい。
一般式〔３〕および一般式〔４〕中のＲ６基としては、通常用いられる水酸基の保護基であれば特に限定されないが、Ｒ６基を脱保護する反応条件でＲ１あるいはＲ４の水酸基の保護基やＲ５基が脱離しないような保護基を用いることが好ましい。
そのような保護基Ｒ６としては、４，４’−ジメトキシトリチル基などのアラルキル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ビス（トリメチルシロキシ）ジフェニルメトキシシリル基、およびビス（トリメチルシロキシ）シクロドデシルオキシシリル基などのシリル基が挙げられる。
これらの保護基のなかでも、４，４’−ジメトキシトリチル基は好ましい。
Ｒ６基を脱保護する際の反応条件は、使用するＲ６基により異なる。
Ｒ６基がアラルキル基の場合には、酸を用いて脱保護するのが好ましい。そのような酸としては、硫酸、塩酸、トリフルオロ酢酸、過塩素酸、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸などが使用できる。ジクロロ酢酸が好ましい。
Ｒ６基がシリル基の場合には、フルオリドを用いて脱保護するのが好ましい。そのようなフルオリドとしては、ピリジニウムフルオリド、テトラブチルアンモニウムフルオリド、フッ化カリウム、フッ化ナトリウムなどが使用できる。テトラブチルアンモニウムフルオリドが好ましい。
脱保護に用いられる酸は、一般式〔５〕で表わされる化合物の理論生成量に対して、通常、１から４０当量となる量が用いられるが、１０から３０当量が好ましい。
前記のＲ６基を脱保護する工程の反応には、通常、溶媒を用いる。溶媒としては、反応を阻害しない限り限定されないが、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、ＴＨＦ、１，４−ジオキサンなどが好ましい。
前記のＲ６基を脱保護する工程の反応温度は、通常、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、０℃から室温の範囲が好ましい。
一般式〔６〕で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、例えば、下記反応式〔７〕に示したように、一般式〔５〕で表される化合物のＲ５基が２−シアノエチル基の場合には、アリル基を脱保護した後に環化反応を行い、一般式〔５〕で表される化合物のＲ５基がアリル基の場合には、２−シアノエチル基を脱保護した後に環化反応を行う方法があげられる。
２−シアノエチル基の脱保護反応に用いられる試薬は、特に限定されないが、例えば、アンモニアまたはアミン類を用いることができる。
アミン類としては、メチルアミン、エチルアミンなどの１級アミン類、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ピペリジンなどの２級アミン類、トリメチルアミン、トリエチルアミン、１−メチルピペリジンなどの３級アミンが例示される。
アンモニアまたはアミン類で脱保護する際の反応温度としては、−１０℃から使用する溶媒の沸点で行うことが可能で、室温から７０℃の間で行うことが好ましい。
アリル基の脱保護反応に用いられる試薬は、特に限定されないが、０価のパラジウム、２価のパラジウム錯体または２価のパラジウム塩を用いることができる。
０価のパラジウム、２価のパラジウム錯体または２価のパラジウム塩としては、特に限定されないが、例えば、パラジウム炭素、水酸化パラジウム炭素などのパラジウム担体類、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、ジクロロ（１，５−シクロオクタンジエン）パラジウムなどの酸パラジウム塩類、テトラキス（トリフェニルフォスフィン）パラジウム、ビス（トリシクロヘキシルフォスフィン）パラジウムなどのリン錯体類、パラジウム２，４−ペンタンジオネート、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム−クロロホルムなどのジケト錯体類などが好ましいものとして挙げられる。
０価のパラジウム、２価のパラジウム錯体または２価のパラジウム塩で脱保護する際の反応温度としては、−１０℃から使用する溶媒の沸点で行うことが可能で、０℃から５０℃の間で行うことが好ましい。
一般式〔５〕中のＲ５基を脱離させずにアリル基または２−シアノエチル基を脱保護するに際して、一般式〔５〕中のＲ５がアリル基であり、Ｒ１またはＲ４が水酸基の保護基であり、Ｂ１またはＢ４が保護された核酸塩基である場合には、Ｒ１、Ｒ４、Ｂ１およびＢ４のいずれかの保護基は２−シアノエチル基を脱離する反応条件に対して安定であることが好ましい。また、一般式〔５〕中のＲ５が２−シアノエチル基であり、Ｒ１またはＲ４が水酸基の保護基であり、Ｂ１またはＢ４が保護された核酸塩基である場合には、Ｒ１、Ｒ４、Ｂ１およびＢ４のいずれかの保護基はアリル基を脱離する反応条件に対して安定なことが好ましい。
一般式〔５〕中のＲ５が２−シアノエチル基である場合、一般式〔５〕中のＲ１およびＲ４における水酸基の保護基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ジフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ベンゾイル基、トルオイル基などのアシル基類、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのシリル基、トリメチルシリルオキシメチル基、トリエチルシリルオキシメチル基、トリイソプロピルシリルオキシメチル基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル基などのシリルオキシメチル基、２−トリメチルシリルエチルオキシメチル基などのシリル基で置換されたアルコキシアルキル基、ジメトキシメチル基、ジエトキシメチル基、ビス（２−ヒドロキシエチルオキシ）メチル基あるいはビス（２−アセトキシエチルオキシ）メチル基などのオルトエステル基などが挙げられる。
一般式〔５〕中のＲ５が２−シアノエチル基である場合、一般式〔５〕中のＢ１およびＢ４の保護された核酸塩基の保護基としては、例えば、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ジフェニルアセチル基、フェノキシアセチル基、ベンゾイル基、トルオイル基などのアシル基類、ジメチルアミノメチレン基などのアミジン類などが挙げられる。
一般式〔５〕中のＲ５がアリル基である場合、一般式〔５〕中のＲ１およびＲ４における水酸基の保護基としては、例えば、アリル基、アリルオキシカルボニル基などのアリル基類、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのシリル基、トリメチルシリルオキシメチル基、トリエチルシリルオキシメチル基、トリイソプロピルシリルオキシメチル基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシメチル基などのシリルオキシメチル基あるいは２−トリメチルシリルエチルオキシメチル基などのシリル基で置換されたアルコキシアルキル基などが挙げられる。
一般式〔５〕中のＲ５がアリル基である場合、一般式〔５〕中のＢ１およびＢ４の保護された核酸塩基の保護基としては、例えば、アリル基、アリルオキシカルボニル基などのアリル基類が挙げられる。
環化反応には、通常のリン酸エステルの合成方法を用いることができる。
環化反応に用いられる縮合剤としては、特に限定されないが、塩化メタンスルフォニル、塩化トルエンスルフォニル、塩化２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニル、塩化メシチレン−２−スルフォニルなどの塩化スルフォニル類、１−トルエンスルフォニルテトラゾール、１−（メシチレンスルフォニル−２−スルフォニル）テトラゾール、１−（２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニル）テトラゾールなどのスルフォニルテトラゾール類、３−ニトロ−１−トルエンスルフォニル−１，２，４−トリアゾール、３−ニトロ−１−（メシチレンスルフォニル−２−スルフォニル）−１，２，４−トリアゾール、３−ニトロ−１−（２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニル）−１，２，４−トリアゾールなどのスルフォニルトリアゾール類などがあげられる。特に塩化２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルフォニルが好ましい。
環化反応は塩基の共存下に行うこともできる。環化反応に用いられる塩基としては、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、ピリジン、ルチジン、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、Ｎ−メチルベンズイミダゾールなどがあげられる。特にＮ−メチルイミダゾールが好ましい。
環化反応の反応温度としては、−１０℃から溶媒の沸点で可能だが、特に１０から４０℃が好ましい。
環化反応は、水分の影響を少なくするために脱水剤を添加して行うこともできる。環化反応に用いられる脱水剤としては、通常反応に用いられるものが使用できるが、特にモルキュラーシーブスが好ましい。
環化反応には、通常、反応溶媒を用いる。反応溶媒としては、縮合に影響を与えない限り、限定されるものではないが、非プロトン性の溶媒が好ましく、特にアセトニトリル、ジクロロメタン、ＴＨＦが好ましい。
一般式〔２〕で表される化合物の合成方法としては、特に限定されないが、例えば、下記反応式〔８〕に示したように、一般式〔６〕で表される化合物のＢ１、Ｂ４、Ｒ１、Ｒ４およびＲ５の保護基を所望により脱保護する方法があげられる。
各保護基を脱保護する順番については、一部の保護基が残存する段階で精製する必要がある場合や、脱保護する順番により化合物の安定性が異なる場合など、特に考慮する必要がある場合を除き、特に限定されない。工程数を削減する目的で、同じ反応条件を用いて複数の保護基を同時に脱保護することもできる。
一般式〔６〕で表される化合物のＲ５で示される保護基としては、反応式〔５〕や〔６〕においてＲ６基を脱離する反応条件や、一般式〔５〕で表される化合物を環化して一般式〔６〕で表される化合物を合成する反応条件に、一般式〔３〕、〔４〕、〔５〕および〔６〕で表される化合物のＲ５基が安定なことが好ましい。さらに、一般式〔６〕で表される化合物から一般式〔２〕で表される化合物を合成する工程を短縮する目的で、一般式〔６〕で表される化合物におけるＲ１、Ｒ４、Ｂ１あるいはＢ４の保護基を脱保護する反応条件と同じ条件で脱離することができるような保護基を一般式〔６〕で表される化合物のＲ５基として用いることが特に好ましい。このような保護基としては、アリル基もしくは２−シアノエチル基が好ましい。
一般式〔６〕で表される化合物のＲ１、Ｒ４、Ｂ１あるいはＢ４の保護基としては、前記の一般式〔５〕で表される化合物におけるＲ１、Ｒ４、Ｂ１あるいはＢ４と同様なものが好ましい。
例えば、一般式〔６〕中のＲ５がアリル基である場合には、前記の０価のパラジウム、２価のパラジウム錯体または２価のパラジウム塩を用い、これらを用いる前記の反応条件でＲ１、Ｒ４、Ｂ１あるいはＢ４の脱保護とＲ５基の脱離を同時に行うことができる。
このような一般式〔６〕で表される化合物のＲ１、Ｒ４、Ｂ１およびＢ４の保護基としては、前記のアリル基類があげられる。
一般式〔６〕で表される化合物のＲ１あるいはＲ４における水酸基の保護基が、前記一般式〔５〕で表される化合物のＲ１あるいはＲ４におけるシリル基類やシリル基で置換されたアルコキシアルキル類で、Ｂ１あるいはＢ４の保護基が前記のアリル基類の場合には、前記の０価のパラジウム、２価のパラジウム錯体または２価のパラジウム塩を用い、これらを用いる前記の反応条件でＢ１あるいはＢ４の脱保護とＲ５基の脱離を同時に行った後に、Ｒ１あるいはＲ４の脱保護を、前記のフルオリドを用い、これらを用いる前記の反応条件で行うことができる。
また、一般式〔６〕中のＲ５が２−シアノエチル基である場合には、前記のアンモニアまたはアミン類を用い、これらを用いる前記の反応条件でＲ１、Ｒ４、Ｂ１あるいはＢ４の脱保護とＲ５基の脱離を同時に行うことができる。
このような一般式〔６〕で表される化合物のＲ１あるいはＲ４の保膜基としては、前記、一般式〔５〕で表される化合物のＲ１あるいはＲ４におけるアシル基類があげられ、Ｂ１およびＢ４の保護基としては、前記一般式〔５〕で表される化合物のＢ１あるいはＢ４におけるアシル基類あるいはアミジン類があげられる。
一般式〔６〕で表される化合物のＲ１、Ｒ４における水酸基の保護基が、前記シリル基類やシリル基で置換されたアルコキシアルキル類で、Ｂ１およびＢ４の保護基が前記のアシル基類あるいはアミジン類の場合には、前記のアンモニアまたはアミン類を用い、これらを用いる前記の反応条件でＢ１あるいはＢ４の脱保護とＲ５基の脱離を同時に行った後に、Ｒ１あるいはＲ４の脱保護を、前記のフルオリドを用い、これらを用いる前記の反応条件で行うことができる。
一般式〔６〕で表される化合物から一般式〔２〕で表される化合物を合成する際に、一般式〔６〕で表される化合物のＢ１、Ｂ４、Ｒ１、Ｒ４の脱保護およびＲ５基の脱離を行う反応条件としては、一般式〔２〕で表される化合物が安定な条件を用いるのが好ましい。
本発明の一般式〔１〕で表される化合物としては、例えば、Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）シチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−ベンゾイルシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−デオキシグアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２−クロロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシ−２−クロロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−ベンゾイル−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−５−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシ−５−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−５−アザシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシ−５−アザシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−５−フルオロウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシ−５−フルオロウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−デオキシ−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ６−ベンゾイル−２’デオキシ−２’−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、Ｎ４−ベンゾイル−２’−デオキシ−２’−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）などが挙げられる。
本発明の一般式〔５〕で表される化合物としては、例えば、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニルイル］（３’→５’）［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）シチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニルイル］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）ウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニルイル］（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニルイル］（３’→５’）［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）シチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアニルイル］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアニルイル］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアニルイル］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−ベンゾイルシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−アセチルシチジン］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−ベンゾイルシチジン］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−ベンゾイルシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−デオキシグアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアニルイル］（３’→５’）［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２−クロロアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２−クロロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２−フルオロアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイルシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチルシチジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイルアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイルシチジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイルシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−デオキシ−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアニルイル］（３’→５’）［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−２’−フルオロウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、アリル［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニルイル］（３’→５’）［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２’−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニルイル］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−２’−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチル−２’−フルオロシチジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２’−フルオロアデノシン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２’−フルオロアデノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−２’−フルオロシチジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−２’−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−５−フルオロシチジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−５−フルオロシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２−シアノエチル［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−５−アザシチジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−５−アザシチジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２−シアノエチル［２’−デオキシ−５−フルオロウリジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−５−フルオロウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）、２−シアノエチル［２’−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジン］（３’→５’）［２’−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）などが挙げられる。
本発明の一般式〔６〕で表される化合物としては、例えば、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）シチジル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−アセチルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−ベンゾイルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ６−ベンゾイルアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニル］［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニル酸］ジアリルエステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）アデニリル］［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）シチジル酸］ジアリルエステル、環状ビス（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−アセチルシチジリル］［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニリル］［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−アセチルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）ウリジリル］［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ４−ベンゾイルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニリル］［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ６−ベンゾイルアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニル酸］ジアリルエステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシシチジル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイルアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２−クロロアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２−フルオロアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニル］［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシグアニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシアデニリル］［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシシチジル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチルシチジリル］［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニリル］［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシウリジリル］［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイルシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニリル］［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイルアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロシチジル酸］ジアリルエステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチル−２’−フルオロシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−２’−フルオロシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチル−５−フルオロシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−５−フルオロシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチル−５−アザシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−５−アザシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−５−フルオロウリジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−５−トリフルオロメチルウリジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２’−フルオロアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニル］［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−デオキシ−２’−フルオログアニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）ビス［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）［Ｎ６−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロアデニリル］［Ｎ４−（アリルオキシカルボニル）−２’−デオキシ−２’−フルオロシチジル酸］ジアリル エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチル−２’−フルオロシチジリル］［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニリル］［２’−デオキシ−Ｎ４−アセチル−２’−フルオロシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−２’−フルオロウリジリル］［２’−デオキシ−Ｎ４−ベンゾイル−２’−フルオロシチジル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル、環状ビス（３’→５’）［２’−デオキシ−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−２’−フルオログアニリル］［２’−デオキシ−Ｎ６−ベンゾイル−２’−フルオロアデニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステルなどが挙げられる。
前記の一般式〔２〕で表される化合物、一般式〔５〕で表される化合物および一般式〔６〕で表される化合物は、それぞれの化合物の合成工程で得られる反応混合物から、公知の方法、例えば、カラムクロマトグラフィー手法や晶析手法等により分離し、回収することができる。
以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【実施例１】
Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）（化合物〔８〕）の合成）
Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン３’−Ｏ−（アリルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスフォロアミダイト）（Ｏｒｇ．Ｌｅｔｔ．２００１，３，ｐ８１５に記載の方法で合成した。）２．０ｇ（２．０ｍｍｏｌ）、モルキュラーシーブス３Ａ ２００ｍｇの乾燥アセトニトリル溶液に２−シアノエタノール０．１６ｍＬ（２．４ｍｍｏｌ）を添加して３０分間室温で攪拌後、過塩素酸イミダゾリウム０．６７ｇ（４．０ｍｍｏｌ）を加えて３０分間攪拌した。さらに２−ブタノン パーオキシドの１．０Ｍジメチルフタレート／トルエン溶液４ｍＬを加えて５分間攪拌した。モルキュラーシーブス３Ａをろ去後、酢酸エチルを加えて飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄、乾燥して減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン２０ｍＬに溶解し、氷冷攪拌下にジクロロ酢酸３．３ｍＬ（４０ｍｍｏｌ）を滴下して５分間攪拌した。反応溶液を飽和重曹水１００ｍＬに滴下し、有機層を分液後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル４０ｇ、ヘキサン：酢酸エチル（１：１）〜ヘキサン：酢酸エチル：メタノール（１０：１０：１）で精製し、表題化合物１．３８ｇを無色アモルファスとして得た。収率９５％。
ＩＲ（ＣＨ２Ｃｌ２）：ｃｍ−１３４２０，３０４８，２３０５，１７５７，１６０７，１５２４，１４６２，１４１２，１２９４，１１９０，１０３８，７５６；１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．２７（ｓ，３Ｈ），−０．０３（ｓ，３Ｈ），０．７４（ｓ，９Ｈ），２．９４（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），３．８５−３．９７（ｍ，２Ｈ），４．３０−４．４３（ｍ，３Ｈ），４．７０（ｍ，４Ｈ），５．００（ｍ，１Ｈ），５．０８−５．１０（ｍ，２Ｈ），５．２４−５．５２（ｍ，７Ｈ），６．００−６．２０（ｍ，４Ｈ），８．３９（ｓ，１Ｈ）；３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ−４．６９，−４．５４．
【実施例２】
アリル［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニルイル］（３’→５’）［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］（化合物〔９〕）の合成
Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン３’−Ｏ−（アリルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスフォロアミダイト）１．６ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、化合物〔８〕１．１ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、モルキュラーシーブス３Ａ ０．２ｇの乾燥アセトニトリル溶液１５ｍＬを室温で３０分間攪拌後、過塩素酸イミダゾリウム０．５４ｇ（３．２ｍｍｏｌ）を加えて３０分間攪拌した。さらに２−ブタノン パーオキシドの１．０Ｍジメチルフタレート／トルエン溶液３．２ｍＬを加えて５分間攪拌した。モルキュラーシーブス３Ａをろ去後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン２０ｍＬに溶解し、氷冷攪拌下にジクロロ酢酸３．３ｍＬ（４０ｍｍｏｌ）を滴下して５分間攪拌した。反応溶液を飽和重曹水１００ｍＬに滴下し、有機層を分液後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル４０ｇ、ヘキサン：酢酸エチル（１：１）〜ヘキサン：酢酸エチル：メタノール（２０：２０：１）で精製し、表題化合物１．９５ｇ（ジアステレオマー混合物）を無色アモルファスとして得た。収率９４％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．３６−０．０３（ｍ，１２Ｈ），−０．６８−０．７７（ｍ，１８Ｈ），１．７８（ｂｒｓ，１Ｈ），２．７９−２．８１（ｍ，２Ｈ），３．７９−３．９６（ｍ，４Ｈ），４．３０−４．３６（ｍ，４Ｈ），４．４８−４．７１（ｍ，１４Ｈ），４．９９−５．５０（ｍ，１４Ｈ），５．７５−６．１９（ｍ，８Ｈ），７．２６−８．６７（ｍ，４Ｈ）；３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ−１．３２，−１．２４，−１．１１，−１．０５，−０．８８，−０．８１；ＨＲＭＳ（ＭＡＬＤＩ＋）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ５５Ｈ８３Ｎ１１Ｏ１９Ｐ２Ｓｉ２＋（Ｍ＋Ｈ＋）１３１８．４７９７，ｆｏｕｎｄ １３１８．５２６７．
【実施例３】
環状ビス（３’−５’）ビス［Ｎ２−（アリルオキシカルボニル）−Ｏ６−アリル−２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）グアニル酸］ジアリルエステル（化合物〔１０〕：ジアステレオマー〔１０ａ〕および〔１０ｂ〕の混合物）の合成
化合物〔９〕０．６６ｇ（０．５ｍｍｏｌ）のメタノール１０ｍＬ溶液に２８％アンモニア水１ｍＬを滴下し、室温で３０分間攪拌した。減圧濃縮後、さらにトルエン２０ｍＬを加えて減圧濃縮（３回）した。残渣をＴＨＦ１００ｍＬに溶解し、モルキュラーシーブス４Ａを加えて脱水後、Ｎ−メチルイミダゾール０．０８ｍＬ（１．０ｍｍｏｌ）および塩化トリイソプロピルベンゼンスルホニル０．３ｇ（１．０ｍｍｏｌ）を加えて室温で２０時間攪拌した。反応液を減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル４０ｇ、ヘキサン：酢酸エチル（２：１）〜ヘキサン：酢酸エチル：メタノール（３０：３０：１）で精製し、表題化合物０．４７ｇ（ジアステレオマー〔１０ａ〕２７０ｍｇおよび〔１０ｂ〕２００ｍｇ）を無色アモルファスとして得た。収率７５％。
〔１０ａ〕１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．３１，−０．２１，−０．０３，０．０４（４ｓ’ｓ，１２Ｈ），０．７６（ｓ，１８Ｈ），４．０３−４．０９（ｍ，２Ｈ），４．２６−４．３４（ｍ，２Ｈ），４．５４−４．６９（ｍ，８Ｈ），４．７４−５．８６（ｍ，４Ｈ），４．９７−５．１５（ｍ，６Ｈ），５．２１−５．５２（ｍ，１２Ｈ），５．６４−５．６８（ｍ，１Ｈ），５．７４−５．８２（ｍ，３Ｈ），５．９４−６．０１（ｍ，４Ｈ），６．０８−６．１８（ｍ，２Ｈ），７．５３（ｓ，１Ｈ），７．７８（ｓ，１Ｈ），７．８１（ｓ，１Ｈ），８．０３（ｓ，１Ｈ）；３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−２．３１，１．９１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ５２Ｈ７７Ｎ１０Ｏ１８Ｐ２Ｓｉ２＋（Ｍ＋Ｈ＋）１２４７．４４２６，ｆｏｕｎｄ １２４７．４４９６．
〔１０ｂ〕１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．２２，−０．０８（２ｓ’ｓ，１２Ｈ），０．７４（ｓ，１８Ｈ），４．０７（ｍ，２Ｈ），４．４８−４．５１（ｍ，２Ｈ），４．６５−４．６８（ｍ，８Ｈ），４．９６（ｑ，Ｊ＝１１Ｈｚ，２Ｈ），５．０３−５．１３（ｍ，４Ｈ），５．１９−５．５８（ｍ，１６Ｈ），５．７７（ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１Ｈ），５．９３−５．９７（ｍ，４Ｈ），６．１１−６．１７（ｍ，２Ｈ），７．７８（ｓ，２Ｈ），７．８５（ｓ，２Ｈ）；３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ１．５０；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ５２Ｈ７７Ｎ１０Ｏ１８Ｐ２Ｓｉ２＋（Ｍ＋Ｈ＋）１２４７．４４２６，ｆｏｕｎｄ １２４７．４４３５．
【実施例４】
環状ビス（３’→５’）ジグアニル酸（化合物〔１１〕）の合成
化合物〔１０〕５０ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液１．６ｍＬにトリフェニルフォスフィン１６ｍｇ（０．０６０ｍｍｏｌ）、ｎ−ブチルアミン０．０４９ｍＬ（０．４８ｍｍｏｌ）、ギ酸０．０１８ｍＬ（０．４８ｍｍｏｌ）およびＰｄ２［（Ｃ６Ｈ５ＣＨ＝ＣＨ）２ＣＯ］３・ＣＨＣｌ３ １２ｍｇ（０．０１２ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１０分間攪拌した。酢酸エチル１０ｍＬを加えて得た析出物をろ取し、減圧乾燥した。得られた白色粉末にトリエチルアミン／３ＨＦ錯体０．３ｍＬを加え、室温で１２時間攪拌した。反応液３０μＬを０．１Ｍ Ｎａ２ＨＰＯ４水溶液４０μＬと重水５００μＬに溶解し、３１Ｐ ＮＭＲを測定したところ、反応収率７７％であった。測定後、反応液と合わせ、１ｍＭ酢酸アンモニウム水溶液１ｍＬを加えて３０〜４０℃で攪拌した。析出物を遠心分離し、ＨＰＬＣで精製して表題化合物１２ｍｇを得た。収率４０％。
［ＨＰＬＣ条件］
カラム：ＣＯＳＭＯＳＩＬ ５Ｃ１８−ＡＲ−３００（２５φ×２００ｍｍ）
溶離液：Ａ液、１ｍＭ酢酸アンモニア水溶液；Ｂ液、０．２ｍＭ酢酸アンモニア／水−アセトニトリル（２０：８０）溶液
グラジェント条件：
時間（分）０ ８ ５５ ６３
Ｂ％ ０ ０ ６０ １００
検出波長：２５４ｎｍ、流速：１０ｍＬ／分
ＵＶ（５０ｍＭ ＮＨ４ＯＡｃ）λ２５４ｎｍ（ε２３，７００）；１Ｈ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）δ４．０４−４．０６（ｍ，２Ｈ），４．３８−４．４４（ｍ，４Ｈ），５．０８（ｓ，２Ｈ），５．３３（ｓ，２Ｈ），６．１２（ｓ，２Ｈ），８．２５（ｓ，２Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）δ６２．８，７０．９，７３．７，８０．８，９０．６，１１６．４，１３６．９（ｗｅａｋ），１５０．４（ｗｅａｋ），１５４．１，１５７．８；３１Ｐ ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）δ−０．８６；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ−）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２０Ｈ２３Ｎ１０Ｏ１８Ｐ２−（Ｍ−Ｈ−）６８９．０８７６，ｆｏｕｎｄ ６８９．０８５３．
参考例１
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−３’，５’−Ｏ−（ジ−ｔ−ブチルシリル）グアノシン（化合物〔１２〕）の合成
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−３’，５’−Ｏ−（ジ−ｔ−ブチルシリル）グアノシン（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ．Ｌｅｔｔ．２００２，４３，ｐ１９８３に記載の方法で合成した。）１４．３ｇ（２５ｍｍｏｌ）のメタノール溶液１５０ｍＬに、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドジメチルエーテル１１．９ｇ（１３．３ｍＬ，１００ｍｏｌ）を加えて５０℃で５時間攪拌した。冷却後に析出物を濾取し、冷メタノールで洗浄後、減圧乾燥して表題化合物１４．５ｇを白色粉末として得た。収率９８％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ０．１４（ｓ，６Ｈ），０．９３（ｓ，９Ｈ），１．０５（ｓ，９Ｈ），１．０７（ｓ，９Ｈ），３．１３（ｓ，３Ｈ），３．３４（ｓ，３Ｈ），４．００−４．０６（ｍ，１Ｈ），４．１８−４．２１（ｍ，２Ｈ），４．４２（ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ，１Ｈ），４．４９−４．５２（ｍ，１Ｈ），５．９３（ｓ，１Ｈ），７．６０（ｓ，１ｈ），８．５９（ｓ，１Ｈ）．
参考例２
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン（化合物〔１３〕）の合成
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−３’，５’−Ｏ−（ジ−ｔ−ブチルシリル）グアノシン（化合物〔１２〕）１４．８ｇ（２５ｍｍｏｌ）のジクロロメタン１００ｍＬ溶液に、氷冷下、冷ＨＦ−ピリジン２．０ｍＬ（１００ｍｍｏｌ）のピリジン１２ｍＬ溶液を添加し、２時間攪拌した。反応液を水および飽和重曹水で洗浄後、減圧濃縮した。残渣をピリジン５０ｍＬに溶解し、塩化４，４’−ジメトキシトリチル９．３ｇ（２７．５ｍｍｏｌ）を加えて１２時間攪拌した。メタノール５ｍＬを加えて濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解し、水、飽和重曹水、および飽和食塩水で洗浄した。有機層をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル４００ｇ）で精製し、表題化合物１６ｇを無色アモルファスとして得た。収率８６％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．１３（ｓ，３Ｈ），０．０１（ｓ，３Ｈ），０．８３（ｓ，９Ｈ），２．８０（ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ，２Ｈ），３．０２（ｓ，３Ｈ），３．０７（ｓ，３Ｈ），３．３５（ｄｄ，Ｊ＝４．０，１０．５Ｈｚ，２Ｈ），３．７７（ｓ，６Ｈ），４．２０（ｑ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），４．３０（ｑ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１Ｈ），４．６９（ｔ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１Ｈ），５．９７（ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），６．８０−６．８２（ｍ，４Ｈ），７．１８−７．３２（ｍ，１３Ｈ），７．４１−７．４３（ｍ，２Ｈ），７．８０（ｓ，１Ｈ），８．５１（ｓ，１Ｈ），９．４６（ｓ，１Ｈ）．
参考例３
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン３’−Ｏ−（２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスフォロアミダイト）（化合物〔１４〕）の合成
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン（化合物〔１３〕）３．８ｇ（５ｍｍｏｌ）、２，４，６−コリジン４．４ｇ（４．８ｍＬ，３６ｍｍｏｌ）、およびＮ−メチルイミダゾール２０５ｍｇ（０．２ｍＬ，２．５ｍｍｏｌ）のＴＨＦ２５ｍＬ溶液に、氷冷下、２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピル クロロホスフォロアミダイト３．０ｇ（１２．５ｍｍｏｌ）を添加し、室温で１時間攪拌した。酢酸エチルを加え、水、飽和重曹水、および飽和食塩水で洗浄後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン２０ｍＬに溶解し、ヘキサン１Ｌに滴下した。性既出物を濾取し、減圧乾燥して表題化合物３．７ｇ（純度：約９０％）を白色粉末として得た。収率７８％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．１３，−０．１０，０．０２，０．０３（４ｓ，６Ｈ），０．８１，０．８２（２ｓ，９Ｈ），１．１６−１．３０（ｍ，１２Ｈ），２．２４−２．３９（ｍ，２Ｈ），２．９５，３．０７，３．０８，３．０９（４ｓ，６Ｈ），３．２４−３．２８（ｍ，１Ｈ），３．５３−３．６４（ｍ，４Ｈ），３．７８，３．７９，３．８０，３．８１（４ｓ，６Ｈ），４．２７−４．３９（ｍ，２Ｈ），４．６７−４．７４（ｍ，１Ｈ），５．９７，６．０４（２ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），６．７１−６．８５（ｍ，４Ｈ），７．２１−７．４８（ｍ，１３Ｈ），７．８５，７．８８（２ｓ，１Ｈ），８．５０，８．５８（ｓ，１Ｈ），８．６７，８．６９（２ｓ，１Ｈ）；３１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ１４８．８８，１５０．０２．
【実施例５】
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）（化合物〔１５〕）の合成
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン３’−Ｏ−（２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスフォロアミダイト）（化合物〔１４〕）３．８２ｇ（４．０ｍｍｏｌ）、モルキュラーシーブス３Ａ ２００ｍｇの乾燥アセトニトリル（１６ｍＬ）溶液にアリルアルコール０．３３ｍＬ（２７９ｍｇ，４．８ｍｍｏｌ）を添加して３０分間室温で攪拌後、過塩素酸イミダゾリウム１．３５ｇ（８．０ｍｍｏｌ）を加えて３０分間攪拌した。さらに２−ブタノン パーオキシド／ジメチルフタレートの６．７％トルエン溶液８ｍＬを加えて５分間攪拌した。モルキュラーシーブス３Ａをろ去後、酢酸エチルを加えて飽和重曹水および飽和食塩水で洗浄、乾燥して減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン３０ｍＬに溶解し、氷冷攪拌下にジクロロ酢酸６．６ｍＬ（１０．４ｇ，８０ｍｍｏｌ）を滴下して５分間攪拌した。反応溶液を飽和重曹水１００ｍＬに滴下し、有機層を分液後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー〔シリカゲル１００ｇ、メタノール：ジクロロメタン（１：２０）〜（１：１０）〕で精製し、表題化合物２．１５ｇを無色アモルファスとして得た。収率８６％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．２７，−０．２３（２ｓ，３Ｈ），−０．０９（ｓ，３Ｈ），０．７８，０．７９（２ｓ，９Ｈ），２．８０（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，２Ｈ），３．１２（ｓ，３Ｈ），３．１９（ｓ，３Ｈ），３．７６（ｑ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ，１Ｈ），３．８８−３．９１（ｍ，１Ｈ），４．２７−４．３５（ｍ，２Ｈ），４．４６−４．４８（ｍ，１Ｈ），４．６３−４．６７（ｍ，２Ｈ），４．９７（ｍ，１Ｈ），５．０８−５．１７（ｍ，１Ｈ），５．３１−５．３７（ｍ，１Ｈ），５．４１−５．４５（ｍ，１Ｈ），５．６９−５．７２（ｍ，１Ｈ），５．９５−６．０３（ｍ，１Ｈ），７．６３（ｓ，１Ｈ），８．４０（ｓ，１Ｈ），９．３７（ｂｒ，１Ｈ）；３１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−２．３４；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２５Ｈ４０Ｎ７Ｏ８ＰＳｉ＋（Ｍ＋Ｈ＋）ｍ／ｚ ６２６．２５１８，ｆｏｕｎｄ ｍ／ｚ ６２６．２６２８．
【実施例６】
２−シアノエチル［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニルイル］（３’→５’）［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアノシン３’−Ｏ−（アリル２−シアノエチルホスフェート）］（化合物〔１６〕）の合成
２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン３’−Ｏ−（２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスフォロアミダイト）１．７ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、化合物〔１５〕０．９８ｇ（１．６ｍｍｏｌ）、モルキュラーシーブス３Ａ ０．２ｇの乾燥アセトニトリル溶液１０ｍＬを室温で３０分間攪拌後、過塩素酸イミダゾリウム０．５４ｇ（３．２ｍｍｏｌ）を加えて３０分間攪拌した。さらに２−ブタノン パーオキシド／ジメチルフタレートの６．７％トルエン溶液３．２ｍＬを加えて５分間攪拌した。モルキュラーシーブス３Ａをろ去後、減圧濃縮した。残渣をジクロロメタン２０ｍＬに溶解し、氷冷攪拌下にジクロロ酢酸３．３ｍＬ（５．２ｇ，４０ｍｍｏｌ）を滴下して５分間攪拌した。反応溶液を飽和重曹水１００ｍＬに滴下し、有機層を分液後、水層をジクロロメタンで抽出した。有機層を合わせて硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し、濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ、メタノール：ジクロロメタン（１：２０）〜（１：１０）で精製し、表題化合物１．５３ｇ（ジアステレオマー混合物）を無色アモルファスとして得た。収率８２％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−０．２６−０．０３（ｍ，１２Ｈ），−０．７４−０．９６（ｍ，１８Ｈ），２．７２−２．８０（ｍ，４Ｈ），３．０９，３．１１，３．２２（４ｓ，１２Ｈ），３．７０−３．８１（ｍ，２Ｈ），４．１７−４．６４（ｍ，１１Ｈ），４．８８−５．２５（ｍ，４Ｈ），５．３１−５．４４（ｍ，２Ｈ），５．７３−６．００（ｍ，３Ｈ），７．５１−７．８２（ｍ，４Ｈ），８．３７（ｓ，１Ｈ），８．６１（ｓ，１Ｈ），９．２４（ｂｒ，２Ｈ）；３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）δ−１．７８，−１．７２，−１．４５，−１．３２，−１．０４，−０．８３；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４７Ｈ７４Ｎ１４Ｏ１５Ｐ２Ｓｉ２＋（Ｍ＋Ｈ＋）１１９３．４５４５，ｆｏｕｎｄ １１９３．５９７１．
【実施例７】
環状ビス（３’→５’）ビス［２’−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｎ２−（ジメチルアミノメチレン）グアニル酸］ビス（２−シアノエチル）エステル（化合物〔１７〕）の合成
化合物〔１６〕８４８ｍｇ（０．７１ｍｍｏｌ）のアセトン１０ｍＬ溶液に沃化ナトリウム１．０６ｇ（７．１ｍｍｏｌ）を加えて２時間加熱還流した。析出物を濾取し、冷アセトン５０ｍＬで洗浄し、乾燥した。得られた粉末をＴＨＦに懸濁し、Ｎ−メチルイミダゾール０．１１ｍＬ（１１５ｍｇ，１．４ｍｍｏｌ）および塩化トリイソプロピルベンゼンスルホニル４２４ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）を加えて室温で３６時間攪拌した。反応液に水を添加して１時間攪拌後、酢酸エチルで抽出した。減圧濃縮して得た残渣をシリカゲルクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ、メタノール：ジクロロメタン（１：２０）〜（１：１０）で精製し、表題化合物６７６ｍｇを無色アモルファスとして得た。収率８５％。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ−０．１４（ｓ，６Ｈ），０．０９（ｓ，６Ｈ），０．７６（ｓ，１８Ｈ），２．９５（ｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，４Ｈ），３．１４（ｓ，６Ｈ），４．１３−４．２１（ｍ，２Ｈ），４．３５−４．６８（ｍ，１０Ｈ），５．３６，５．３８（２ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，２Ｈ），５．３１−５．４４（ｍ，２ｈ），５．９１−５．９６（ｍ，４Ｈ），７．０８（ｓ，２Ｈ），７．９４（ｓ，２Ｈ），８．６９（ｓ，２Ｈ）；３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）δ１．０２；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ＋）ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４４Ｈ６９Ｎ１４Ｏ１４Ｐ２Ｓｉ２＋（Ｍ＋Ｈ＋）１１３５．４１２６，ｆｏｕｎｄ １１３５．４４５５．
【実施例８】
環状ビス（３’→５’）ジグアニル酸（化合物〔１１〕）の合成
化合物〔１７〕１１６ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）のメタノール溶液８ｍＬにアンモニア水８ｍＬを添加し、５０℃で１２時間攪拌した。反応液を濃縮し、減圧乾燥した。得られた残渣にトリエチルアミン／３ＨＦ錯体１．０ｍＬを加え、室温で１２時間攪拌した。反応液に１Ｍ 酢酸アンモニア緩衝液１０ｍＬを加えて３０〜４０℃で攪拌した。析出物を除去し、得られた溶液をＨＰＬＣで精製して表題化合物６７ｍｇを得た。収率８９％。
［ＨＰＬＣ条件］
カラム：ＣＯＳＭＯＳＩＬ ５Ｃ１８−ＡＲ−３００（２５φ×２００ｍｍ）
溶離液：Ａ液、１ｍＭ酢酸アンモニア水溶液；Ｂ液、０．２ｍＭ酢酸アンモニア／水−アセトニトリル（２０：８０）溶液
グラジェント条件：
時間（分）０ ８ ５５ ６３
Ｂ％ ０ ０ ６０ １００
検出波長：２５４ｎｍ、流速：１０ｍＬ／分
【産業上の利用可能性】
本発明の合成方法は、環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドを収率良く合成でき、工業的製法として有用である。また、本発明の合成方法で得られる環状ビス（３’→５’）ジヌクレオチドは、抗がん剤などの医薬品として有用である。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式〔１〕
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基あるいは水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ１は保護されていても良い核酸塩基を表す。）で表される化合物から、一般式〔２〕
（式中、Ｒ２およびＲ３は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはヒドロキシル基を表し、Ｂ２およびＢ３は各々独立して核酸塩基を表す。）で表される化合物またはその塩を合成する方法。
【請求項２】
一般式〔３〕
（式中、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ４は保護されていても良い核酸塩基を表し、Ｒ５はアリル基または２−シアノエチル基を表し、Ｒ６は水酸基の保護基を表し、Ｒ７およびＲ８は各々独立して炭素数１から４のアルキル基を表すか、またはＲ７およびＲ８が結合して窒素原子を含む環を形成しても良い。）で表される化合物あるいは一般式〔４〕
（式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＢ４は、前記一般式〔３〕中のＲ４、Ｒ５、Ｒ６およびＢ４と同義である。）で表される化合物と、一般式〔１〕
（式中、Ｒ１およびＢ１は、前記請求の範囲１における一般式〔１〕中のＲ１およびＢ１と同義である。）で表される化合物から、一般式〔２〕
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｂ２およびＢ３は、前記請求の範囲１における一般式〔２〕中のＲ２、Ｒ３、Ｂ２およびＢ３と同義である。）で表される化合物またはその塩を合成する方法。
【請求項３】
合成中間体が、一般式〔５〕
（式中、Ｒ１およびＲ４は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ１およびＢ４は各々独立して保護されていても良い核酸塩基を表し、Ｒ５はアリル基または２−シアノエチル基である。）で表される化合物である、請求の範囲１または２のいずれかに記載の合成方法。
【請求項４】
合成中間体が、一般式〔６〕
（式中、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４は、前記請求の範囲における一般式〔５〕中のＲ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４と同義である。）で表される化合物である、請求の範囲１または２のいずれかに記載の合成方法。
【請求項５】
一般式〔１〕において、Ｒ１が水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基であり、一般式〔２〕において、Ｒ２およびＲ３が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはヒドロキシル基である、請求の範囲１に記載の合成方法。
【請求項６】
一般式〔１〕、〔３〕および〔４〕において、Ｒ１およびＲ４が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基であり、一般式〔２〕において、Ｒ２およびＲ３が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはヒドロキシル基である、請求の範囲２に記載の合成方法。
【請求項７】
一般式〔１〕
（式中、Ｒ１は、前記請求の範囲１における一般式〔１〕中のＲ１と同義であり、Ｂ１は保護されていても良い核酸塩基を表す。）で表される化合物。
【請求項８】
一般式〔５〕
（式中、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４は、前記請求の範囲３における一般式〔５〕中のＲ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４と同義である。）で表される化合物。
【請求項９】
一般式〔６〕
（式中、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４は、前記請求の範囲４における一般式〔６〕中のＲ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４と同義である。）で表される化合物。
【請求項１】
一般式〔１〕
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基あるいは水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ１は保護されていても良い核酸塩基を表す。）で表される化合物から、一般式〔２〕
（式中、Ｒ２およびＲ３は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはヒドロキシル基を表し、Ｂ２およびＢ３は各々独立して核酸塩基を表す。）で表される化合物またはその塩を合成する方法。
【請求項２】
一般式〔３〕
（式中、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ４は保護されていても良い核酸塩基を表し、Ｒ５はアリル基または２−シアノエチル基を表し、Ｒ６は水酸基の保護基を表し、Ｒ７およびＲ８は各々独立して炭素数１から４のアルキル基を表すか、またはＲ７およびＲ８が結合して窒素原子を含む環を形成しても良い。）で表される化合物あるいは一般式〔４〕
（式中、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６およびＢ４は、前記一般式〔３〕中のＲ４、Ｒ５、Ｒ６およびＢ４と同義である。）で表される化合物と、一般式〔１〕
（式中、Ｒ１およびＢ１は、前記請求の範囲１における一般式〔１〕中のＲ１およびＢ１と同義である。）で表される化合物から、一般式〔２〕
（式中、Ｒ２、Ｒ３、Ｂ２およびＢ３は、前記請求の範囲１における一般式〔２〕中のＲ２、Ｒ３、Ｂ２およびＢ３と同義である。）で表される化合物またはその塩を合成する方法。
【請求項３】
合成中間体が、一般式〔５〕
（式中、Ｒ１およびＲ４は各々独立して水素原子、ハロゲン原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基または水酸基の保護基で置換されたヒドロキシル基を表し、Ｂ１およびＢ４は各々独立して保護されていても良い核酸塩基を表し、Ｒ５はアリル基または２−シアノエチル基である。）で表される化合物である、請求の範囲１または２のいずれかに記載の合成方法。
【請求項４】
合成中間体が、一般式〔６〕
（式中、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４は、前記請求の範囲における一般式〔５〕中のＲ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４と同義である。）で表される化合物である、請求の範囲１または２のいずれかに記載の合成方法。
【請求項５】
一般式〔１〕において、Ｒ１が水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基であり、一般式〔２〕において、Ｒ２およびＲ３が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはヒドロキシル基である、請求の範囲１に記載の合成方法。
【請求項６】
一般式〔１〕、〔３〕および〔４〕において、Ｒ１およびＲ４が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基であり、一般式〔２〕において、Ｒ２およびＲ３が各々独立して水素原子、フッ素原子、メトキシ基、２−メトキシエトキシ基またはヒドロキシル基である、請求の範囲２に記載の合成方法。
【請求項７】
一般式〔１〕
（式中、Ｒ１は、前記請求の範囲１における一般式〔１〕中のＲ１と同義であり、Ｂ１は保護されていても良い核酸塩基を表す。）で表される化合物。
【請求項８】
一般式〔５〕
（式中、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４は、前記請求の範囲３における一般式〔５〕中のＲ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４と同義である。）で表される化合物。
【請求項９】
一般式〔６〕
（式中、Ｒ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４は、前記請求の範囲４における一般式〔６〕中のＲ１、Ｒ４、Ｒ５、Ｂ１およびＢ４と同義である。）で表される化合物。
【国際公開番号】ＷＯ２００５／００５４５０
【国際公開日】平成１７年１月２０日（２００５．１．２０）
【発行日】平成１８年８月２４日（２００６．８．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−５１１４６６（Ｐ２００５−５１１４６６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００４／００７０００
【国際出願日】平成１６年５月１７日（２００４．５．１７）
【出願人】（０００００５８８７）三井化学株式会社 (2,318)
【Ｆターム（参考）】
【国際公開日】平成１７年１月２０日（２００５．１．２０）
【発行日】平成１８年８月２４日（２００６．８．２４）
【国際特許分類】
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＪＰ２００４／００７０００
【国際出願日】平成１６年５月１７日（２００４．５．１７）
【出願人】（０００００５８８７）三井化学株式会社 (2,318)
【Ｆターム（参考）】
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